JPH10152499A - エトポシドの調製方法 - Google Patents
エトポシドの調製方法Info
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- JPH10152499A JPH10152499A JP9310756A JP31075697A JPH10152499A JP H10152499 A JPH10152499 A JP H10152499A JP 9310756 A JP9310756 A JP 9310756A JP 31075697 A JP31075697 A JP 31075697A JP H10152499 A JPH10152499 A JP H10152499A
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- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
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- C12P—FERMENTATION OR ENZYME-USING PROCESSES TO SYNTHESISE A DESIRED CHEMICAL COMPOUND OR COMPOSITION OR TO SEPARATE OPTICAL ISOMERS FROM A RACEMIC MIXTURE
- C12P19/00—Preparation of compounds containing saccharide radicals
- C12P19/44—Preparation of O-glycosides, e.g. glucosides
- C12P19/60—Preparation of O-glycosides, e.g. glucosides having an oxygen of the saccharide radical directly bound to a non-saccharide heterocyclic ring or a condensed ring system containing a non-saccharide heterocyclic ring, e.g. coumermycin, novobiocin
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エトポシドを高収率で得る方法の提供。
【解決手段】 緩衝液中、４′−デメチルエピポドフィ
ロトキシングルコシド４′−ホスフェートとホスファタ
ーゼ酵素とを反応させてリン酸基を酵素的に除去してエ
トポシドを生成する。
ロトキシングルコシド４′−ホスフェートとホスファタ
ーゼ酵素とを反応させてリン酸基を酵素的に除去してエ
トポシドを生成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗悪性腫瘍化合物の新
規な調製方法及びその抗悪性腫瘍化合物の新規な中間体
に関する。更に詳細には、４′−デメチルエピポドフィ
ロトキシングルコシド４′−ホスフェートの調製方法及
びそのホスフェートを調製する中間体化合物に関する。
本発明は特にエトポシドホスフェートの調製方法及びエ
トポシドホスフェートからエトポシドを調製する方法に
関する。
規な調製方法及びその抗悪性腫瘍化合物の新規な中間体
に関する。更に詳細には、４′−デメチルエピポドフィ
ロトキシングルコシド４′−ホスフェートの調製方法及
びそのホスフェートを調製する中間体化合物に関する。
本発明は特にエトポシドホスフェートの調製方法及びエ
トポシドホスフェートからエトポシドを調製する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】エトポシド及びテニポシドは、癌の臨床
治療において広く使用されている４′−デメチルエピポ
ドフィロトキシングルコシド誘導体である。特に、エト
ポシドは合衆国において小細胞肺癌及びこう丸癌の治療
に承認されている。しかしながら、エトポシドは水中に
おける溶解性に限度があり適切な医薬組成物に処方する
ことを困難にする。エトポシドの水溶解性及び投与され
るべきその効力を増大させるために、エトポシドホスフ
ェートはプロドラッグとして調製される。エトポシドホ
スフェートは体内でエトポシドに代謝し、それから体利
用される。水溶性プロドラッグの１例が米国特許第 4,9
04,768号に記載されており、４′−ホスフェート基を有
する４′−デメチルエピポドフィロトキシングルコシド
誘導体の水溶性プロドラッグが開示されている。その中
に開示されている１例はエトポシド４′−ホスフェート
である。エトポシド４′−ホスフェートは、エトポシド
とオキシ塩化リンとを反応させた後加水分解するか又は
エトポシドとジフェニルクロロホスフェートとを反応さ
せた後水素添加してフェニル基を除去することにより調
製される。
治療において広く使用されている４′−デメチルエピポ
ドフィロトキシングルコシド誘導体である。特に、エト
ポシドは合衆国において小細胞肺癌及びこう丸癌の治療
に承認されている。しかしながら、エトポシドは水中に
おける溶解性に限度があり適切な医薬組成物に処方する
ことを困難にする。エトポシドの水溶解性及び投与され
るべきその効力を増大させるために、エトポシドホスフ
ェートはプロドラッグとして調製される。エトポシドホ
スフェートは体内でエトポシドに代謝し、それから体利
用される。水溶性プロドラッグの１例が米国特許第 4,9
04,768号に記載されており、４′−ホスフェート基を有
する４′−デメチルエピポドフィロトキシングルコシド
誘導体の水溶性プロドラッグが開示されている。その中
に開示されている１例はエトポシド４′−ホスフェート
である。エトポシド４′−ホスフェートは、エトポシド
とオキシ塩化リンとを反応させた後加水分解するか又は
エトポシドとジフェニルクロロホスフェートとを反応さ
せた後水素添加してフェニル基を除去することにより調
製される。
【０００３】エピポドフィロトキシングリコシドの調製
は、米国特許第 4,997,931号にも開示されている。４′
−デメチルエピポドフィロトキシングルコシドは、４′
−保護４′−デメチルエピポドフィロトキシンと保護糖
とを縮合することにより調製される。次いで得られた化
合物を誘導化して対応する４′−ホスフェートを生成す
る。エトポシド及びエトポシドホスフェートの従来の調
製方法は、典型的には、フェノールを保護し、保護糖と
カップリングし、次いで保護基を除去することを必要と
する。更に、これらの方法のほとんどにはヒドロキシ基
及びリン酸基に別個の保護基が必要である。別個の保護
基には、それぞれの保護基を除去するために多段階が必
要である。脱保護工程にはたいてい酸性又はアルカリ性
条件が必要であり、これが最終生成物を分解して低収率
となる。エトポシドホスフェートは、通常エトポシドか
ら更にリン酸化及び脱保護工程によって調製される。こ
れらの多段階により、典型的には、所望化合物の全収率
が低下し、エトポシドのグルコシドヒドロキシルの好ま
しくないリン酸化のために化合物の生成に費用がかかり
かつ困難が生じる。
は、米国特許第 4,997,931号にも開示されている。４′
−デメチルエピポドフィロトキシングルコシドは、４′
−保護４′−デメチルエピポドフィロトキシンと保護糖
とを縮合することにより調製される。次いで得られた化
合物を誘導化して対応する４′−ホスフェートを生成す
る。エトポシド及びエトポシドホスフェートの従来の調
製方法は、典型的には、フェノールを保護し、保護糖と
カップリングし、次いで保護基を除去することを必要と
する。更に、これらの方法のほとんどにはヒドロキシ基
及びリン酸基に別個の保護基が必要である。別個の保護
基には、それぞれの保護基を除去するために多段階が必
要である。脱保護工程にはたいてい酸性又はアルカリ性
条件が必要であり、これが最終生成物を分解して低収率
となる。エトポシドホスフェートは、通常エトポシドか
ら更にリン酸化及び脱保護工程によって調製される。こ
れらの多段階により、典型的には、所望化合物の全収率
が低下し、エトポシドのグルコシドヒドロキシルの好ま
しくないリン酸化のために化合物の生成に費用がかかり
かつ困難が生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】新規な保護糖と新規な
保護４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−
４′−ホスフェートとをカップリングすることによる
４′−デメチルエピポドフィロトキシングルコシド４′
−ホスフェート、特にエトポシドホスフェートの調製方
法に関する。更に詳細には、本発明はジ（アリールメチ
ル）保護糖及びテトラアリールメチル保護４′−デメチ
ル−４−エピポドフィロトキシングルコシド４′−ホス
フェート並びにそのエトポシドホスフェートの調製方法
に関する。ヒドロキシ及びリン酸基についてのアリール
メチル保護基は、同一か又は異なってよく、ベンジル又
はＣ1-4 アルキル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、
ハロゲン、アルコキシ、ニトロ、カルボキシル及びその
エステルからなる群より選ばれた１種以上で置換された
置換ベンジルであることが好ましい。ジ（アリールメチ
ル）４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−
４′−ホスフェートは、フェノールとジ（アリールメチ
ル）ホスファイト、テトラハロメタン、第三アミン及び
アシル化触媒とを適切な溶媒中で反応させることにより
調製される。
保護４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−
４′−ホスフェートとをカップリングすることによる
４′−デメチルエピポドフィロトキシングルコシド４′
−ホスフェート、特にエトポシドホスフェートの調製方
法に関する。更に詳細には、本発明はジ（アリールメチ
ル）保護糖及びテトラアリールメチル保護４′−デメチ
ル−４−エピポドフィロトキシングルコシド４′−ホス
フェート並びにそのエトポシドホスフェートの調製方法
に関する。ヒドロキシ及びリン酸基についてのアリール
メチル保護基は、同一か又は異なってよく、ベンジル又
はＣ1-4 アルキル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、
ハロゲン、アルコキシ、ニトロ、カルボキシル及びその
エステルからなる群より選ばれた１種以上で置換された
置換ベンジルであることが好ましい。ジ（アリールメチ
ル）４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−
４′−ホスフェートは、フェノールとジ（アリールメチ
ル）ホスファイト、テトラハロメタン、第三アミン及び
アシル化触媒とを適切な溶媒中で反応させることにより
調製される。
【０００５】本発明の１実施態様による保護糖は2,３−
ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ
−グルコピラノースであり、ジベンジル４′−デメチル
−４−エピポドフィロトキシンホスフェートと溶媒中で
カップリングしてテトラベンジル保護エトポシドホスフ
ェートを生成する。保護エトポシド４′−ホスフェート
を結晶化又は再結晶してＣ−１″−βアノマーを回収す
る。保護基を水素添加又は他の手段によりグリコシド及
びリン酸基から同時に除去してエトポシドホスフェート
を生成する。この全工程は、費用のかかる精製段階なし
でエトポシド４′−ホスフェートを純粋な形で得るのに
効率がよい。保護ジベンジル−４−（2,３−ジ−Ｏ−ベ
ンジル−4,６−Ｏ−エチリジン−β−Ｄ−グルコピラノ
シル）−４′−ジメチル−４−エピポドフィロトキシン
−４′−ホスフェートを反応媒体から容易に結晶化する
か又は再結晶してＣ−１″−β型を実質的に純粋な形で
単離する。所望のアノマーの単離は、通常単一の結晶化
工程で得られる。詳細には、下記式Ｖ：
ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ
−グルコピラノースであり、ジベンジル４′−デメチル
−４−エピポドフィロトキシンホスフェートと溶媒中で
カップリングしてテトラベンジル保護エトポシドホスフ
ェートを生成する。保護エトポシド４′−ホスフェート
を結晶化又は再結晶してＣ−１″−βアノマーを回収す
る。保護基を水素添加又は他の手段によりグリコシド及
びリン酸基から同時に除去してエトポシドホスフェート
を生成する。この全工程は、費用のかかる精製段階なし
でエトポシド４′−ホスフェートを純粋な形で得るのに
効率がよい。保護ジベンジル−４−（2,３−ジ−Ｏ−ベ
ンジル−4,６−Ｏ−エチリジン−β−Ｄ−グルコピラノ
シル）−４′−ジメチル−４−エピポドフィロトキシン
−４′−ホスフェートを反応媒体から容易に結晶化する
か又は再結晶してＣ−１″−β型を実質的に純粋な形で
単離する。所望のアノマーの単離は、通常単一の結晶化
工程で得られる。詳細には、下記式Ｖ：
【０００６】
【化５】
【０００７】を有する化合物の調製方法であって、下記
式ＩＩＩｂ：
式ＩＩＩｂ：
【０００８】
【化６】
【０００９】（式中、Ｒ1 はアリールメチルヒドロキシ
保護基であり、Ｒ2 はアリールメチルであるか又は２つ
のＲ2 は一緒にエチリデンである。）を有する化合物
と、下記式ＩＩ：
保護基であり、Ｒ2 はアリールメチルであるか又は２つ
のＲ2 は一緒にエチリデンである。）を有する化合物
と、下記式ＩＩ：
【００１０】
【化７】
【００１１】（式中、Ｒ3 はアリールメチルであり、Ｒ
1 、Ｒ2 及びＲ3 は同一か又は異なる。）を有する化合
物とをルイス酸の存在下反応媒体中で反応させて、下記
式ＩＶｂ：
1 、Ｒ2 及びＲ3 は同一か又は異なる。）を有する化合
物とをルイス酸の存在下反応媒体中で反応させて、下記
式ＩＶｂ：
【００１２】
【化８】
【００１３】を有する化合物を生成し、化合物ＩＶｂの
Ｃ−１″−βアノマーを選択的に結晶化し、引き続きヒ
ドロキシ及びリン酸保護基を除去し、Ｒ2 がアリールメ
チルヒドロキシ保護基の場合には、化合物ＩＶｂと炭素
原子１〜５個を有するカルボニル又はそのアセタール等
価物とを反応させることを含む方法に関する。更に本発
明の態様は、下記式ＶＩ：
Ｃ−１″−βアノマーを選択的に結晶化し、引き続きヒ
ドロキシ及びリン酸保護基を除去し、Ｒ2 がアリールメ
チルヒドロキシ保護基の場合には、化合物ＩＶｂと炭素
原子１〜５個を有するカルボニル又はそのアセタール等
価物とを反応させることを含む方法に関する。更に本発
明の態様は、下記式ＶＩ：
【００１４】
【化９】
【００１５】を有する化合物の調製方法であって、緩衝
液中下記式Ｖ：
液中下記式Ｖ：
【００１６】
【化１０】
【００１７】を有する化合物を、ホスファターゼ酵素と
反応させてリン酸基を除去し、式ＶＩの該化合物を回収
することを含む方法である。もう１つの態様は、下記式
ＶＩ：
反応させてリン酸基を除去し、式ＶＩの該化合物を回収
することを含む方法である。もう１つの態様は、下記式
ＶＩ：
【００１８】
【化１１】
【００１９】を有する化合物の調製方法であって、下記
式Ｉ：
式Ｉ：
【００２０】
【化１２】
【００２１】を有する化合物をリン酸化剤でリン酸化し
て、下記式ＩＩ：
て、下記式ＩＩ：
【００２２】
【化１３】
【００２３】（Ｒ3 はアリールメチルである。）を有す
る保護４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−
４′−ホスフェートを生成し、式ＩＩの該化合物と下記
式ＩＩＩ：
る保護４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−
４′−ホスフェートを生成し、式ＩＩの該化合物と下記
式ＩＩＩ：
【００２４】
【化１４】
【００２５】を有する保護糖とを反応させて、下記式Ｉ
Ｖ：
Ｖ：
【００２６】
【化１５】
【００２７】（Ｒ1 はアリールメチル保護基である。）
を有する化合物を生成し、式ＩＶのＣ−１″−β型を単
離し、ヒドロキシ及びリン酸保護基を除去して下記式
Ｖ：
を有する化合物を生成し、式ＩＶのＣ−１″−β型を単
離し、ヒドロキシ及びリン酸保護基を除去して下記式
Ｖ：
【００２８】
【化１６】
【００２９】を有する化合物を生成し、式Ｖの該化合物
をホスファターゼ酵素で処理してリン酸基を除去すると
ともに式ＶＩの化合物を生成する方法を提供するもので
ある。
をホスファターゼ酵素で処理してリン酸基を除去すると
ともに式ＶＩの化合物を生成する方法を提供するもので
ある。
【００３０】
【課題を解決するための手段】４′−デメチルエピポド
フィロトキシングルコシド４′−ホスフェート、特にエ
トポシド４′−ホスフェート、その薬学的に許容しうる
塩及び溶媒和物の改良された調製方法に関する。本発明
は、更にアリールメチル保護糖及びエトポシド及びエト
ポシド４′−ホスフェートに対するアリールメチル保護
前駆体の調製に関する。更に結晶化によりアノマーを容
易に分離することができるヒドロキシ及びリン酸保護基
を用いてエトポシドホスフェートを製造する方法に関す
る。更に有利な特徴は、ヒドロキシ及びリン酸保護基が
最終生成物を分解することなく同時に除去することがで
きる容易さである。方法は、反応媒体から結晶化するか
又は適切な溶媒から再結晶することによりアノマー的に
純粋なＣ−１″−β型に容易に分離することができる方
法でアリールメチル、特にベンジル保護エトポシド４′
−ホスフェートを生成する。本全工程は迅速かつ効率が
よく、エトポシド４′−ホスフェートの効果的な調製方
法を提供する。リン酸基はホスファターゼ酵素によって
容易に除去することができ、エトポシド、その薬学的に
許容しうる塩及び溶媒和物の効率のよい調製方法を提供
する。
フィロトキシングルコシド４′−ホスフェート、特にエ
トポシド４′−ホスフェート、その薬学的に許容しうる
塩及び溶媒和物の改良された調製方法に関する。本発明
は、更にアリールメチル保護糖及びエトポシド及びエト
ポシド４′−ホスフェートに対するアリールメチル保護
前駆体の調製に関する。更に結晶化によりアノマーを容
易に分離することができるヒドロキシ及びリン酸保護基
を用いてエトポシドホスフェートを製造する方法に関す
る。更に有利な特徴は、ヒドロキシ及びリン酸保護基が
最終生成物を分解することなく同時に除去することがで
きる容易さである。方法は、反応媒体から結晶化するか
又は適切な溶媒から再結晶することによりアノマー的に
純粋なＣ−１″−β型に容易に分離することができる方
法でアリールメチル、特にベンジル保護エトポシド４′
−ホスフェートを生成する。本全工程は迅速かつ効率が
よく、エトポシド４′−ホスフェートの効果的な調製方
法を提供する。リン酸基はホスファターゼ酵素によって
容易に除去することができ、エトポシド、その薬学的に
許容しうる塩及び溶媒和物の効率のよい調製方法を提供
する。
【００３１】全工程は、後に詳細に論じられるようにエ
トポシドホスフェート又はエトポシドを製造するのに効
率がよい。好ましい実施態様においては、ジベンジル
４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′−
ホスフェートをルイス酸の存在下に2,３−ジベンジル−
4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノース
とカップリングしてジベンジル４−（2,３−ジ−Ｏ−ベ
ンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピ
ラノシル）−４−デメチル−４−エピポドフィロトキシ
ン−４′−ホスフェートのアノマー混合物を生成する。
驚くべきことに、Ｃ−1 ″−βは実質的に純粋な形で溶
液から容易に結晶化されることがわかった。Ｃ−1 ″−
βアノマーは、反応媒体から直接結晶化するか又は適切
な溶媒から再結晶する。次いで、Ｃ−1 ″−βアノマー
を回収及び水素添加してヒドロキシ及びリン酸保護基を
同時に除去する。本明細書で用いられる薬学的に許容し
うる塩なる語は、モノ及びジアルカリ金属塩及びアルカ
リ土類金属塩を包含する。好ましい実施態様において
は、最終化合物はエタノレート溶媒和物である。溶媒和
物はエタノールのような有機溶媒から標準法を用いて結
晶化又は再結晶することにより形成される。アルキリデ
ンなる語は、例えばエチリデン、プロピリデン及びイソ
プロピリデンのような直鎖又は分枝鎖アルキル鎖を包含
する。
トポシドホスフェート又はエトポシドを製造するのに効
率がよい。好ましい実施態様においては、ジベンジル
４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′−
ホスフェートをルイス酸の存在下に2,３−ジベンジル−
4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノース
とカップリングしてジベンジル４−（2,３−ジ−Ｏ−ベ
ンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピ
ラノシル）−４−デメチル−４−エピポドフィロトキシ
ン−４′−ホスフェートのアノマー混合物を生成する。
驚くべきことに、Ｃ−1 ″−βは実質的に純粋な形で溶
液から容易に結晶化されることがわかった。Ｃ−1 ″−
βアノマーは、反応媒体から直接結晶化するか又は適切
な溶媒から再結晶する。次いで、Ｃ−1 ″−βアノマー
を回収及び水素添加してヒドロキシ及びリン酸保護基を
同時に除去する。本明細書で用いられる薬学的に許容し
うる塩なる語は、モノ及びジアルカリ金属塩及びアルカ
リ土類金属塩を包含する。好ましい実施態様において
は、最終化合物はエタノレート溶媒和物である。溶媒和
物はエタノールのような有機溶媒から標準法を用いて結
晶化又は再結晶することにより形成される。アルキリデ
ンなる語は、例えばエチリデン、プロピリデン及びイソ
プロピリデンのような直鎖又は分枝鎖アルキル鎖を包含
する。
【００３２】本発明の１態様においては、本工程は式Ｉ
の４′−デメチルエピポドフィロトキシンをリン酸化し
て式ＩＩの保護ジ（アリールメチル）４′−デメチルエ
ピポドフィロトキシン−４′−ホスフェートを生成する
ものである。リン酸化工程は、４′−デメチルエピポド
フィロトキシンとジ（アリールメチル）ホスファイト、
テトラハロメタン、第三アミン及びアシル化触媒とを反
応させることにより行われることが好ましい。テトラハ
ロメタンは、式ＣＸ4(ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及Ｉからなる
群より選ばれたハロゲンである。）を有する。好ましい
実施態様においては、テトラハロメタンはＣＣｌ4 であ
る。炭素についてのハロゲンは同一か又は異なってよ
い。好ましい実施態様における第三アミンはＮ，Ｎ−ジ
イソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＡ）であるが、適切
な他の第三アミンも用いられる。アシル化触媒は当該技
術において既知の標準触媒とすることができる。好まし
い実施態様においては、アシル化触媒はＮ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）である。反応は下記のよ
うに略述される。
の４′−デメチルエピポドフィロトキシンをリン酸化し
て式ＩＩの保護ジ（アリールメチル）４′−デメチルエ
ピポドフィロトキシン−４′−ホスフェートを生成する
ものである。リン酸化工程は、４′−デメチルエピポド
フィロトキシンとジ（アリールメチル）ホスファイト、
テトラハロメタン、第三アミン及びアシル化触媒とを反
応させることにより行われることが好ましい。テトラハ
ロメタンは、式ＣＸ4(ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及Ｉからなる
群より選ばれたハロゲンである。）を有する。好ましい
実施態様においては、テトラハロメタンはＣＣｌ4 であ
る。炭素についてのハロゲンは同一か又は異なってよ
い。好ましい実施態様における第三アミンはＮ，Ｎ−ジ
イソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＡ）であるが、適切
な他の第三アミンも用いられる。アシル化触媒は当該技
術において既知の標準触媒とすることができる。好まし
い実施態様においては、アシル化触媒はＮ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）である。反応は下記のよ
うに略述される。
【００３３】
【化１７】
【００３４】（式中Ｒ3 はアリールメチルである。） 好ましい実施態様においては、Ｒ3 はベンジルであり、
それにより得られたホスフェートは下記化合物ＩＩａを
有する構造を有する。下記式において、Ｂｎはベンジル
を表す。
それにより得られたホスフェートは下記化合物ＩＩａを
有する構造を有する。下記式において、Ｂｎはベンジル
を表す。
【００３５】
【化１８】
【００３６】また、Ｒ3 はＣ1-4 アルキル、ヒドロキ
シ、フェニル、ベンジル、ハロゲン、アルコキシ、ニト
ロ、カルボキシル及びそのエステルからなる群より選ば
れた１種以上で置換されたベンジル基である。適切な置
換ベンジル基としては、例えば、２−メチルベンジル、
３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、１又は２−
ナフチル、2,３又は４−フェニルベンジル、４−メトキ
シカルボニルベンジル、2,６−ジクロロベンジル、２−
フルオロベンジル及びペンタフルオロベンジルが挙げら
れる。このリン酸化工程は、保護ジ（アリールメチル）
４′−デメチルエピポドフィロトキシン−４′−ホスフ
ェートを高収率で生成する効率のよいかつ容易な工程で
ある。本工程は、実質的に迅速かつ化合物Ｉのフェノー
ルヒドロキシ基に極めて選択的であるワンポット工程で
ある。本工程は４′−デメチルエピポドフィロトキシン
のリン酸化に特に有利であるが、例えばｐ−フルオロフ
ェノール、2,６−ジメトキシフェノール、1,２−ベンゼ
ンジオール及び４−ヒドロキシフェネチルアルコールよ
うなフェノール類に一般的でありかつ極めて選択的であ
る。４−ヒドロキシフェネチルアルコールを用いる方法
は、第一アルコールでほとんどリン酸化を生じなかっ
た。エトポシドをリン酸化すると、予備生成ジベンジル
クロロホスフェートよりグリコシドリン酸化されずに所
望の生成物を得た。
シ、フェニル、ベンジル、ハロゲン、アルコキシ、ニト
ロ、カルボキシル及びそのエステルからなる群より選ば
れた１種以上で置換されたベンジル基である。適切な置
換ベンジル基としては、例えば、２−メチルベンジル、
３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、１又は２−
ナフチル、2,３又は４−フェニルベンジル、４−メトキ
シカルボニルベンジル、2,６−ジクロロベンジル、２−
フルオロベンジル及びペンタフルオロベンジルが挙げら
れる。このリン酸化工程は、保護ジ（アリールメチル）
４′−デメチルエピポドフィロトキシン−４′−ホスフ
ェートを高収率で生成する効率のよいかつ容易な工程で
ある。本工程は、実質的に迅速かつ化合物Ｉのフェノー
ルヒドロキシ基に極めて選択的であるワンポット工程で
ある。本工程は４′−デメチルエピポドフィロトキシン
のリン酸化に特に有利であるが、例えばｐ−フルオロフ
ェノール、2,６−ジメトキシフェノール、1,２−ベンゼ
ンジオール及び４−ヒドロキシフェネチルアルコールよ
うなフェノール類に一般的でありかつ極めて選択的であ
る。４−ヒドロキシフェネチルアルコールを用いる方法
は、第一アルコールでほとんどリン酸化を生じなかっ
た。エトポシドをリン酸化すると、予備生成ジベンジル
クロロホスフェートよりグリコシドリン酸化されずに所
望の生成物を得た。
【００３７】好ましい溶媒はアセトニトリルであるが、
ハロゲン化又は非ハロゲン化溶媒もリン酸化に用いられ
る。テトラハロメタン、特に四塩化炭素は従来法での溶
媒より試薬量でのみ用いられることが好ましい。リン酸
化反応に用いられるテトラハロメタン量は、出発フェノ
ール１当量に対して１当量以上である。更に反応は温和
な条件下室温以下、典型的には約−１０℃以下で行われ
る。更にリン酸化反応はジベンジルクロロホスフェート
（ＤＢＰＣｌ）がその場で生成されるので、実質的に添
加ＤＢＰＣｌなしで行われる。これにより、分離工程で
ＤＢＰＣｌを調製する必要が回避されるとともに得られ
たリン酸化生成物の不純物含量が減少する。典型的に
は、反応は約４５分で完結する。イソプロピルアルコー
ル中で再結晶するような標準法により化合物ＩＩを回収
する。
ハロゲン化又は非ハロゲン化溶媒もリン酸化に用いられ
る。テトラハロメタン、特に四塩化炭素は従来法での溶
媒より試薬量でのみ用いられることが好ましい。リン酸
化反応に用いられるテトラハロメタン量は、出発フェノ
ール１当量に対して１当量以上である。更に反応は温和
な条件下室温以下、典型的には約−１０℃以下で行われ
る。更にリン酸化反応はジベンジルクロロホスフェート
（ＤＢＰＣｌ）がその場で生成されるので、実質的に添
加ＤＢＰＣｌなしで行われる。これにより、分離工程で
ＤＢＰＣｌを調製する必要が回避されるとともに得られ
たリン酸化生成物の不純物含量が減少する。典型的に
は、反応は約４５分で完結する。イソプロピルアルコー
ル中で再結晶するような標準法により化合物ＩＩを回収
する。
【００３８】次いで、化合物ＩＩをルイス酸の存在下に
ヒドロキシ保護グルコピラノースとカップリングする。
好ましい実施態様においては、ルイス酸は三フッ化ホウ
素エーテラートである。他のルイス酸としては、例え
ば、ＡｌＣｌ3 、ＺｎＣｌ2 、Ｅｔ2 ＡｌＣｌ、ＣＦ3
ＳＯ3 Ｈ、ＣＦ3 ＳＯ3 Ａｇ、Ｚｎ（ＣＦ3 ＳＯ3)2 び
ＴＭＳＣＦ3 ＳＯ3 が挙げられる。カップリング反応
は、分子ふるいの存在下に行われる。カップリング反応
は、ハロゲン化又は非ハロゲン化溶媒、最適にはアセト
ニトリル中で行われる。他の溶媒としては、例えば、プ
ロピオニトリル、アセトン、塩化メチレン、クロロホル
ム、1,２−ジクロロエタン及びその混合液が挙げられ
る。好ましいヒドロキシ保護グルコピラノースは、下記
式ＩＩＩを有する。
ヒドロキシ保護グルコピラノースとカップリングする。
好ましい実施態様においては、ルイス酸は三フッ化ホウ
素エーテラートである。他のルイス酸としては、例え
ば、ＡｌＣｌ3 、ＺｎＣｌ2 、Ｅｔ2 ＡｌＣｌ、ＣＦ3
ＳＯ3 Ｈ、ＣＦ3 ＳＯ3 Ａｇ、Ｚｎ（ＣＦ3 ＳＯ3)2 び
ＴＭＳＣＦ3 ＳＯ3 が挙げられる。カップリング反応
は、分子ふるいの存在下に行われる。カップリング反応
は、ハロゲン化又は非ハロゲン化溶媒、最適にはアセト
ニトリル中で行われる。他の溶媒としては、例えば、プ
ロピオニトリル、アセトン、塩化メチレン、クロロホル
ム、1,２−ジクロロエタン及びその混合液が挙げられ
る。好ましいヒドロキシ保護グルコピラノースは、下記
式ＩＩＩを有する。
【００３９】
【化１９】
【００４０】（式中、Ｒ1 はアリールメチルである。)
好ましい実施態様においては、Ｒ1 はグルコピラノース
が下記構造ＩＩＩａを有するようなベンジルである。
好ましい実施態様においては、Ｒ1 はグルコピラノース
が下記構造ＩＩＩａを有するようなベンジルである。
【００４１】
【化２０】
【００４２】更に実施態様においては、Ｒ1 はＣ1-4 ア
ルキル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、ハロゲン、
例えばフルオロ、クロロ、ブロモ及びヨード、アルコキ
シ、ニトロ、カルボン酸及びそのエステルからなる群よ
り選ばれた１種以上で置換される置換ベンジルである。
適切な置換ベンジル基としては、２−メチルベンジル、
３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、１又は２−
ナフチル、2,３又は４−フェニルベンジル、４−メトキ
シカルボニルベンジル、2,６−ジクロロベンジル、２−
フルオロベンジル及びペンタフルオロベンジルが挙げら
れる。典型的には、Ｒ1 はＲ3 と同一である。グルコピ
ラノースは、更に下記式ＩＩＩｂを有する構造を有す
る。
ルキル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、ハロゲン、
例えばフルオロ、クロロ、ブロモ及びヨード、アルコキ
シ、ニトロ、カルボン酸及びそのエステルからなる群よ
り選ばれた１種以上で置換される置換ベンジルである。
適切な置換ベンジル基としては、２−メチルベンジル、
３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、１又は２−
ナフチル、2,３又は４−フェニルベンジル、４−メトキ
シカルボニルベンジル、2,６−ジクロロベンジル、２−
フルオロベンジル及びペンタフルオロベンジルが挙げら
れる。典型的には、Ｒ1 はＲ3 と同一である。グルコピ
ラノースは、更に下記式ＩＩＩｂを有する構造を有す
る。
【００４３】
【化２１】
【００４４】（式中、Ｒ1 は上記の通りであり、２つの
Ｒ2 基は一緒にエチリデンである。）他の実施態様にお
いては、２つのＲ2 基は一緒にプロピリデン又はイソプ
ロピリデンである。化合物ＩＩＩ、ＩＩＩａ及びＩＩＩ
ｂは、米国特許第 4,997,931号に記載されているような
既知の方法によって調製される。アリール保護グルコピ
ラノースは、Ｃ−１−α，βのアノマー混合物として形
成される。たいていのアノマー混合物と異なり、アリー
ルメチルグルコピラノースのＣ−１−βアノマーは結晶
化によりαアノマーから分離することができる。詳細に
は、グルコピラノース化合物ＩＩＩａのアノマー混合物
はヘキサンから結晶化して化合物ＩＩＩａの実質的にア
ノマー的に純粋なＣ−１−β型を得ることができる。更
に、１：１のβ：α開始組成を有するグルコピラノース
化合物ＩＩＩａはβ：α比８５：１５に経時固化する。
化合物ＩＩＩの保護グルコピラノースと化合物ＩＩの保
護４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′
−ホスフェートとのカップリング反応は、ルイス酸の存
在下アセトニトリル中で行われる。
Ｒ2 基は一緒にエチリデンである。）他の実施態様にお
いては、２つのＲ2 基は一緒にプロピリデン又はイソプ
ロピリデンである。化合物ＩＩＩ、ＩＩＩａ及びＩＩＩ
ｂは、米国特許第 4,997,931号に記載されているような
既知の方法によって調製される。アリール保護グルコピ
ラノースは、Ｃ−１−α，βのアノマー混合物として形
成される。たいていのアノマー混合物と異なり、アリー
ルメチルグルコピラノースのＣ−１−βアノマーは結晶
化によりαアノマーから分離することができる。詳細に
は、グルコピラノース化合物ＩＩＩａのアノマー混合物
はヘキサンから結晶化して化合物ＩＩＩａの実質的にア
ノマー的に純粋なＣ−１−β型を得ることができる。更
に、１：１のβ：α開始組成を有するグルコピラノース
化合物ＩＩＩａはβ：α比８５：１５に経時固化する。
化合物ＩＩＩの保護グルコピラノースと化合物ＩＩの保
護４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′
−ホスフェートとのカップリング反応は、ルイス酸の存
在下アセトニトリル中で行われる。
【００４５】
【化２２】
【００４６】化合物ＩＩＩａのヒドロキシ保護グルコピ
ラノースとジベンジル４′−デメチル−４−エピポドフ
ィロトキシン−４′−ホスフェート（ＩＩａ）とのカッ
プリングは、下記式ＩＶａを有するジベンジル４−（2,
３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−Ｄ−グ
ルコピラノシル）−４′−デメチル−４−エピポドフィ
ロトキシン−４′−ホスフェートのＣ−１″−α，βア
ノマー混合物を生成する。
ラノースとジベンジル４′−デメチル−４−エピポドフ
ィロトキシン−４′−ホスフェート（ＩＩａ）とのカッ
プリングは、下記式ＩＶａを有するジベンジル４−（2,
３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−Ｄ−グ
ルコピラノシル）−４′−デメチル−４−エピポドフィ
ロトキシン−４′−ホスフェートのＣ−１″−α，βア
ノマー混合物を生成する。
【００４７】
【化２３】
【００４８】カップリング反応は、三フッ化ホウ素エー
テラートの存在下に迅速かつ容易に進行して化合物ＩＶ
ａのα及びβアノマーを生成する。カップリングの前
に、化合物ＩＩＩ、特にＩＩＩａのβ型を単離すること
は必要ない。ＩＶａαとＩＶａβの最終比は、反応がハ
ロゲン化溶媒中で行われる場合出発化合物ＩＩＩａのア
ノマー組成に依存しない。アセトニトリル中で化合物Ｉ
ＩａとＩＩＩａ（β：α８５：１５）を三フッ化ホウ素
エーテラートの存在下−２０℃でカップリングすると化
合物ＩＶａβとＩＶａαを７２：２８の比で生じる。糖
のアノマー化はハロゲン化溶媒中で極めて迅速に起こる
が、アノマー化はアセトニトリル中では極めて遅いと考
えられる。更に実施態様においては、適切な塩を反応混
合液に加えて溶媒のイオン強度を増大させることができ
る。適切な塩としては、アルカリ及びアルカリ土類金属
過塩素酸塩が含まれる。例えば、アセトニトリルに溶解
した0.５M ＬｉＣｌＯ4 を使用するとＩＶａβ：α比を
８１：１９に増大した。
テラートの存在下に迅速かつ容易に進行して化合物ＩＶ
ａのα及びβアノマーを生成する。カップリングの前
に、化合物ＩＩＩ、特にＩＩＩａのβ型を単離すること
は必要ない。ＩＶａαとＩＶａβの最終比は、反応がハ
ロゲン化溶媒中で行われる場合出発化合物ＩＩＩａのア
ノマー組成に依存しない。アセトニトリル中で化合物Ｉ
ＩａとＩＩＩａ（β：α８５：１５）を三フッ化ホウ素
エーテラートの存在下−２０℃でカップリングすると化
合物ＩＶａβとＩＶａαを７２：２８の比で生じる。糖
のアノマー化はハロゲン化溶媒中で極めて迅速に起こる
が、アノマー化はアセトニトリル中では極めて遅いと考
えられる。更に実施態様においては、適切な塩を反応混
合液に加えて溶媒のイオン強度を増大させることができ
る。適切な塩としては、アルカリ及びアルカリ土類金属
過塩素酸塩が含まれる。例えば、アセトニトリルに溶解
した0.５M ＬｉＣｌＯ4 を使用するとＩＶａβ：α比を
８１：１９に増大した。
【００４９】得られた化合物ＩＶａα，βのアノマー混
合物をメタノールから再結晶して実質的に純粋なＣ−
１″−β型を高収率で得ることができる。メタノール又
は他の溶媒と併用したメタノール中で単一結晶化すると
極性の低いＩＶａβアノマーをほとんど完全に実質的に
ＩＶａαアノマーの混入なく晶出する。カップリング反
応は、通常室温以下で、好ましくは約−１０〜４０℃で
行われる。カップリング反応は低温でゆっくり進行する
が、低温は反応混合液中ＩＩＩａのアノマー化を遅くす
ることによりＩＶａＣ−１″−βアノマーの形成に有利
である。例えば、アセトニトリル中−２０℃でジベンジ
ル４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′
−ホスフェートと2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−
エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノース（β：α８
５：１５）をカップリング反応させると、ＩＶａβとＩ
Ｖａαを７２：２８の比で生じ、−４０℃ではその比は
７４：２６である。プロピオニトリル中−２０℃で同様
にカップリング反応させると、ＩＶａβ：ＩＶａα比５
７：４３となり、−７８℃ではその比は７６：２４であ
る。
合物をメタノールから再結晶して実質的に純粋なＣ−
１″−β型を高収率で得ることができる。メタノール又
は他の溶媒と併用したメタノール中で単一結晶化すると
極性の低いＩＶａβアノマーをほとんど完全に実質的に
ＩＶａαアノマーの混入なく晶出する。カップリング反
応は、通常室温以下で、好ましくは約−１０〜４０℃で
行われる。カップリング反応は低温でゆっくり進行する
が、低温は反応混合液中ＩＩＩａのアノマー化を遅くす
ることによりＩＶａＣ−１″−βアノマーの形成に有利
である。例えば、アセトニトリル中−２０℃でジベンジ
ル４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′
−ホスフェートと2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−
エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノース（β：α８
５：１５）をカップリング反応させると、ＩＶａβとＩ
Ｖａαを７２：２８の比で生じ、−４０℃ではその比は
７４：２６である。プロピオニトリル中−２０℃で同様
にカップリング反応させると、ＩＶａβ：ＩＶａα比５
７：４３となり、−７８℃ではその比は７６：２４であ
る。
【００５０】カップリング反応に好ましい溶媒は、反応
がカップリング反応の標準溶媒に比べて迅速に進行する
のでアセトニトリルである。アセトニトリルはカップリ
ング反応を約２時間で完結させる予測できない特性を有
するが、ジクロロエタン中の反応は約１８時間かかる。
アセトニトリル中のカップリング反応はプロピオニトリ
ルより速い。更に、アセトニトリル中のカップリング反
応はＩＶａβアノマーを多く形成することができる。ジ
ベンジル４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン
−４′−ホスフェートと2,３−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ
−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノースのカップ
リング反応において数種の溶媒を検討した。典型的に
は、β：α比は溶媒の誘電率が高くなるにつれて増大し
た。グルコピラノースについての置換ベンジル保護基の
置換基も、ＩＶａαに対するＩＶａβの形成比に影響す
る。例えば、オルト位におけるかさ高い基は化合物ＩＶ
αに立体障害を生じることにより化合物ＩＶのＣ−１″
−β型に有利であるが、メタ及びパラ置換基はほとんど
障害を生じない。電子引抜基もＣ−１″−βアノマーに
有利である。β：α最大比はペンタフルオロベンジルで
得られ、ＩＶａＣ−１″−β：ＩＶａＣ−１″−α８
０：２０を生じる。
がカップリング反応の標準溶媒に比べて迅速に進行する
のでアセトニトリルである。アセトニトリルはカップリ
ング反応を約２時間で完結させる予測できない特性を有
するが、ジクロロエタン中の反応は約１８時間かかる。
アセトニトリル中のカップリング反応はプロピオニトリ
ルより速い。更に、アセトニトリル中のカップリング反
応はＩＶａβアノマーを多く形成することができる。ジ
ベンジル４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシン
−４′−ホスフェートと2,３−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ
−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノースのカップ
リング反応において数種の溶媒を検討した。典型的に
は、β：α比は溶媒の誘電率が高くなるにつれて増大し
た。グルコピラノースについての置換ベンジル保護基の
置換基も、ＩＶａαに対するＩＶａβの形成比に影響す
る。例えば、オルト位におけるかさ高い基は化合物ＩＶ
αに立体障害を生じることにより化合物ＩＶのＣ−１″
−β型に有利であるが、メタ及びパラ置換基はほとんど
障害を生じない。電子引抜基もＣ−１″−βアノマーに
有利である。β：α最大比はペンタフルオロベンジルで
得られ、ＩＶａＣ−１″−β：ＩＶａＣ−１″−α８
０：２０を生じる。
【００５１】ＩＶａα，βのアノマー混合物は、標準処
理後単一の結晶化工程により実質的に純粋なＣ−１″−
β型を得るために分離される。ＩＶａα，βのアノマー
混合物をメタノールに溶解する。この溶液を加熱還流し
て化合物ＩＶａα，βを完全に溶解する。この溶液を室
温に冷却する。得られた沈澱は、化合物ＩＶａの実質的
に純粋なＣ−１″−β型である。好ましい実施態様にお
いては、化合物ＩＶａのＣ−１″−β型を得る結晶化は
カップリング反応とともに直接行われる。カップリング
反応が完了した後抽出又は標準処理なしで、溶液にメタ
ノールを加え、この溶液を０℃まで温める。次いでこの
溶液を０℃で数時間放置する。得られた固形物は、実質
的に純粋なＩＶａＣ−１″−βであることがわかった。
化合物ＩＶａのＣ−１″−βアノマーを５０：５０のア
ノマー混合物からさえも直接結晶化する能力は、本方法
の重要かつ予想できない利点である。J. March, Advanc
ed Organic Chemistry, 4th Ed., John Wiley & Sons,
New York, 1992, p.121 に報告されているように、極め
てわずかなジアステレオマーを単一の結晶化で分離する
ことができる。
理後単一の結晶化工程により実質的に純粋なＣ−１″−
β型を得るために分離される。ＩＶａα，βのアノマー
混合物をメタノールに溶解する。この溶液を加熱還流し
て化合物ＩＶａα，βを完全に溶解する。この溶液を室
温に冷却する。得られた沈澱は、化合物ＩＶａの実質的
に純粋なＣ−１″−β型である。好ましい実施態様にお
いては、化合物ＩＶａのＣ−１″−β型を得る結晶化は
カップリング反応とともに直接行われる。カップリング
反応が完了した後抽出又は標準処理なしで、溶液にメタ
ノールを加え、この溶液を０℃まで温める。次いでこの
溶液を０℃で数時間放置する。得られた固形物は、実質
的に純粋なＩＶａＣ−１″−βであることがわかった。
化合物ＩＶａのＣ−１″−βアノマーを５０：５０のア
ノマー混合物からさえも直接結晶化する能力は、本方法
の重要かつ予想できない利点である。J. March, Advanc
ed Organic Chemistry, 4th Ed., John Wiley & Sons,
New York, 1992, p.121 に報告されているように、極め
てわずかなジアステレオマーを単一の結晶化で分離する
ことができる。
【００５２】化合物ＩＶのＣ−１″−βアノマーを回収
した後、ヒドロキシ及びリン酸保護基は既知の方法、好
ましくは水素添加により同時に除去される。水素添加脱
保護工程は、エトポシドホスフェートを最少の分解によ
る高収率で十分生成するように進行する。化合物ＩＶ、
ＩＶａ及びＩＶｂは酸及び塩基双方に極めて不安定かつ
感受性である。ヒドロキシ及びリン酸保護基を除去する
酸又は塩基を用いる既存の方法は、通常所望生成物の一
部を分解する。更に、脱保護工程はグルコピラノースか
らエチリデン基を分解することができる。保護基を除去
する既存の方法に比べて、水素添加法は１脱保護工程し
か必要としない、重金属を必要としない及び緩和な中性
条件下で工程が行われて高収率を得るという点で有利で
ある。他の方法のようにエトポシドホスフェートを純粋
な形で得るためにクロマトグラフィーを必要としない。
水素添加は、既知の多数の方法によるものである。典型
的には、水素添加は適切な溶媒又は溶媒混合液中貴金属
触媒の存在下にある。好ましい実施態様においては、水
素添加は化合物ＩＶａＣ−１″−βの５０／５０メタノ
ール／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液中４％パラジ
ウム／炭素を用いて行われる。混合液は水素４０−５０
psigで数時間、典型的には３−６時間水素添加される。
次いで、触媒がろ過により除去され、エトポシドホスフ
ェートがエタノールから再結晶される。ＩＶＣ−１″−
βの式Ｖのエトポシドホスフェートへの脱保護は次の通
りである。
した後、ヒドロキシ及びリン酸保護基は既知の方法、好
ましくは水素添加により同時に除去される。水素添加脱
保護工程は、エトポシドホスフェートを最少の分解によ
る高収率で十分生成するように進行する。化合物ＩＶ、
ＩＶａ及びＩＶｂは酸及び塩基双方に極めて不安定かつ
感受性である。ヒドロキシ及びリン酸保護基を除去する
酸又は塩基を用いる既存の方法は、通常所望生成物の一
部を分解する。更に、脱保護工程はグルコピラノースか
らエチリデン基を分解することができる。保護基を除去
する既存の方法に比べて、水素添加法は１脱保護工程し
か必要としない、重金属を必要としない及び緩和な中性
条件下で工程が行われて高収率を得るという点で有利で
ある。他の方法のようにエトポシドホスフェートを純粋
な形で得るためにクロマトグラフィーを必要としない。
水素添加は、既知の多数の方法によるものである。典型
的には、水素添加は適切な溶媒又は溶媒混合液中貴金属
触媒の存在下にある。好ましい実施態様においては、水
素添加は化合物ＩＶａＣ−１″−βの５０／５０メタノ
ール／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液中４％パラジ
ウム／炭素を用いて行われる。混合液は水素４０−５０
psigで数時間、典型的には３−６時間水素添加される。
次いで、触媒がろ過により除去され、エトポシドホスフ
ェートがエタノールから再結晶される。ＩＶＣ−１″−
βの式Ｖのエトポシドホスフェートへの脱保護は次の通
りである。
【００５３】
【化２４】
【００５４】式Ｖの４′−デメチルエピポドフィロトキ
シングルコシド４′−ホスフェートは、適切なカチオン
源と接触させることによりその薬学的に許容しうる塩に
変換される。例えば、ナトリウム塩はホスフェートを適
切なナトリウム塩基で処理することにより行われ、その
ナトリウム塩の形成がもたらされる。式Ｖの４′−デメ
チルエピポドフィロトキシングルコシド４′−ホスフェ
ートの溶媒和も既知の方法で得られる。エトポシドホス
フェートは、更に水性緩衝液中ホスファターゼ酵素を用
いてリン酸基を除去することによりエトポシドに変換さ
れる。ホスファターゼは、エトポシドホスフェートを完
全にエトポシドに変換することができる。反応は、室温
においてｐＨ約５−１２、好ましくはｐＨ６−９の緩衝
液を含むタンク中行われる。典型的には、エトポシドホ
スフェートは水性緩衝液と混合すると溶媒和の形にあ
る。
シングルコシド４′−ホスフェートは、適切なカチオン
源と接触させることによりその薬学的に許容しうる塩に
変換される。例えば、ナトリウム塩はホスフェートを適
切なナトリウム塩基で処理することにより行われ、その
ナトリウム塩の形成がもたらされる。式Ｖの４′−デメ
チルエピポドフィロトキシングルコシド４′−ホスフェ
ートの溶媒和も既知の方法で得られる。エトポシドホス
フェートは、更に水性緩衝液中ホスファターゼ酵素を用
いてリン酸基を除去することによりエトポシドに変換さ
れる。ホスファターゼは、エトポシドホスフェートを完
全にエトポシドに変換することができる。反応は、室温
においてｐＨ約５−１２、好ましくはｐＨ６−９の緩衝
液を含むタンク中行われる。典型的には、エトポシドホ
スフェートは水性緩衝液と混合すると溶媒和の形にあ
る。
【００５５】エトポシド４′−ホスフェートのエトポシ
ドへの酵素変換は、変換が緩和な条件下エトポシド又は
エトポシド４′−ホスフェートを分解せずに行われるの
で有利である。例えば、不安定なエチリデン基はホスフ
ァターゼ酵素で実質的に影響されない。酵素は、ｐＨ５
−１２、好ましくはｐＨ６−９でホスファターゼ活性を
有する任意の酵素である。適切なホスファターゼ酵素と
しては、酸性及びアルカリ性ホスファターゼが含まれ
る。ホスファターゼは、ウシ及び子ウシ腸粘膜のような
ウシ、細菌又は他のものから得られる。また、ホスファ
ターゼはホスファターゼ活性を有することが既知である
コムギ胚芽リパーゼとすることができる。これらの酵素
は、シグマケミカル社から入手することができる。適切
な緩衝液としては、例えばＭ−トリスｐＨ7.８、Ｍ−ト
リスｐＨ8.７、Ｍ−ホウ酸塩ｐＨ１0.０及びＭ−重炭酸
塩ｐＨ１0.３が挙げられる。エトポシドホスフェートＶ
のエトポシドＶＩへの脱リン酸化は次の通りである。
ドへの酵素変換は、変換が緩和な条件下エトポシド又は
エトポシド４′−ホスフェートを分解せずに行われるの
で有利である。例えば、不安定なエチリデン基はホスフ
ァターゼ酵素で実質的に影響されない。酵素は、ｐＨ５
−１２、好ましくはｐＨ６−９でホスファターゼ活性を
有する任意の酵素である。適切なホスファターゼ酵素と
しては、酸性及びアルカリ性ホスファターゼが含まれ
る。ホスファターゼは、ウシ及び子ウシ腸粘膜のような
ウシ、細菌又は他のものから得られる。また、ホスファ
ターゼはホスファターゼ活性を有することが既知である
コムギ胚芽リパーゼとすることができる。これらの酵素
は、シグマケミカル社から入手することができる。適切
な緩衝液としては、例えばＭ−トリスｐＨ7.８、Ｍ−ト
リスｐＨ8.７、Ｍ−ホウ酸塩ｐＨ１0.０及びＭ−重炭酸
塩ｐＨ１0.３が挙げられる。エトポシドホスフェートＶ
のエトポシドＶＩへの脱リン酸化は次の通りである。
【００５６】
【化２５】
【００５７】下記の限定しない実施例は、本発明の好ま
しい実施態様を示すものである。
しい実施態様を示すものである。
【００５８】
【参考例１】 2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，
β−Ｄ−グルコピラノース（ＩＩＩａα，β） 米国特許第 4,997,931号に開示されている類似化合物の
文献手順を適応させることにより本化合物を調製した。
1H NMR はβ：α５７：４３であるアノマー組成物を示
した。 Rf (40% EtOAc／ヘキサン）: 0.40。 1H NMR (C
DCl3):δ7.39.27 (m,10H), 5.14 (d, 0.5H, J=3.7 Hz),
4.91-4.66 (m, 5.5H), 4.14 (dd, 0.5H, J=5.0, 10.5
Hz), 4.09 (dd, 0.5H, J=5.0, 10.3 Hz), 3.94-3.88
(m, 1H), 3.66 (t, 0.5H, J=9.0 Hz), 3.56-3.25 (m,
3.5H), 3.10 (bs, 1H, 濃度依存OH),1.36 (d, 3H, J=5.
0 Hz) 。13C NMR (CDCl3):δ128.53, 128.42, 128.31,
8.09, 127.95, 127.83, 127.63, 99.50, 97.72, 92.12,
82.94, 81.44, 81.08, 80.89, 79.31, 78.33, 75.23,
75.12, 74.96, 73.81, 68.53, 68.22, 66.22, 62.48,2
0.43。
β−Ｄ−グルコピラノース（ＩＩＩａα，β） 米国特許第 4,997,931号に開示されている類似化合物の
文献手順を適応させることにより本化合物を調製した。
1H NMR はβ：α５７：４３であるアノマー組成物を示
した。 Rf (40% EtOAc／ヘキサン）: 0.40。 1H NMR (C
DCl3):δ7.39.27 (m,10H), 5.14 (d, 0.5H, J=3.7 Hz),
4.91-4.66 (m, 5.5H), 4.14 (dd, 0.5H, J=5.0, 10.5
Hz), 4.09 (dd, 0.5H, J=5.0, 10.3 Hz), 3.94-3.88
(m, 1H), 3.66 (t, 0.5H, J=9.0 Hz), 3.56-3.25 (m,
3.5H), 3.10 (bs, 1H, 濃度依存OH),1.36 (d, 3H, J=5.
0 Hz) 。13C NMR (CDCl3):δ128.53, 128.42, 128.31,
8.09, 127.95, 127.83, 127.63, 99.50, 97.72, 92.12,
82.94, 81.44, 81.08, 80.89, 79.31, 78.33, 75.23,
75.12, 74.96, 73.81, 68.53, 68.22, 66.22, 62.48,2
0.43。
【００５９】
【参考例２】 2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−β−
Ｄ−グルコピラノース（ＩＩＩａβ） アノマー混合物ＩＩＩａα，β（７ｇ）を２５０mlの丸
底フラスコに入れた。ヘキサン（１２５ml）を加え、懸
濁液を加熱還流した。糖は不溶性油状物になり、底に沈
んだ。懸濁液を室温に冷却し、次いで攪拌棒を加え、溶
液を緩やかに一晩攪拌した。けば立った白色結晶が形成
し、他の不純固形物の上のヘキサン中に浮かんだ。上澄
液をブッフネル漏斗に傾瀉することにより結晶を集め
た。不純固形物がフラスコに残った。白色固形物ＩＩＩ
ａβを減圧（２０mmＨｇ）下室温で乾燥した。 1H NMR
(CDCl3):δ7.37-7.27 (m, 10H), 4.90-4.69 (m, 6H),
4.1(dd, 1H, J=4.9, 10.4 Hz), 3.66 (t, 1H, J=9.0 H
z), 3.54 (t, 1H, J=10.2 Hz),3.45 (t, 1H, J=9.3 H
z), 3.37-3.27 (m, 2H), 3.23 (d, 1H, J=5.5 Hz,濃度
依存OH), 1.36 (d, 3H, J=5.1 Hz) 。13C NMR (CDCl3):
δ128.42, 128.29, 1211,127.93, 127.82, 127.63, 99.
45, 97.71, 82.93, 81.06, 80.88, 75.22, 74.96,68.2
1, 66.21, 20.39。
Ｄ−グルコピラノース（ＩＩＩａβ） アノマー混合物ＩＩＩａα，β（７ｇ）を２５０mlの丸
底フラスコに入れた。ヘキサン（１２５ml）を加え、懸
濁液を加熱還流した。糖は不溶性油状物になり、底に沈
んだ。懸濁液を室温に冷却し、次いで攪拌棒を加え、溶
液を緩やかに一晩攪拌した。けば立った白色結晶が形成
し、他の不純固形物の上のヘキサン中に浮かんだ。上澄
液をブッフネル漏斗に傾瀉することにより結晶を集め
た。不純固形物がフラスコに残った。白色固形物ＩＩＩ
ａβを減圧（２０mmＨｇ）下室温で乾燥した。 1H NMR
(CDCl3):δ7.37-7.27 (m, 10H), 4.90-4.69 (m, 6H),
4.1(dd, 1H, J=4.9, 10.4 Hz), 3.66 (t, 1H, J=9.0 H
z), 3.54 (t, 1H, J=10.2 Hz),3.45 (t, 1H, J=9.3 H
z), 3.37-3.27 (m, 2H), 3.23 (d, 1H, J=5.5 Hz,濃度
依存OH), 1.36 (d, 3H, J=5.1 Hz) 。13C NMR (CDCl3):
δ128.42, 128.29, 1211,127.93, 127.82, 127.63, 99.
45, 97.71, 82.93, 81.06, 80.88, 75.22, 74.96,68.2
1, 66.21, 20.39。
【００６０】
【参考例３】 ジベンジル４′−デメチル−４−エピポドフィロトキシ
ン−４′−ホスフェート（ＩＩａ） 炉乾燥した１リットルの３つ口丸底フラスコに滴下漏
斗、攪拌棒、温度計、２隔膜及びＮ2 導入口を取り付け
た。フラスコに４′−デメチルエピポドフィロトキシン
（Ｉ、２5.００ｇ、６2.４５ミリモル）及び無水アセト
ニトリル（３６７ml、0.１７M ）を充填した。懸濁液を
−１０℃冷却した。四塩化炭素（３0.１ml、３１2.２５
ミリモル）を加え、温度を−１０℃に保持した。Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン（２2.８４ml、１３1.１
５ミリモル）を注射器で３分かけて加えた。Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノピリジン（0.７６３ｇ、6.２５ミリモル）
を一度に全部加え、次いでジベンジルホスファイト（２
0.００ml、９0.５５ミリモル）を１５分間かけて加え
た。反応は添加中少し発熱したが、外部を冷却しながら
内部温度を１０℃に保持した。反応を−１０℃で３７分
間攪拌した。この時に出発物質が溶解し、次いで反応物
をＨＰＬＣ処理した。0.５M ＫＨ2 ＰＯ4(１５ml）を加
え、この溶液を室温に温めた。混合液をＥｔＯＡｃ（１
×３５０ml）で抽出し、次いで水洗（２×１００ml）し
た。有機層をＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下で１５０ml
量に濃縮した。２−プロパノール（５００ml）を加え
た。溶媒（２００ml）を減圧下で除去し、この時に固形
物が沈澱した。２−プロパノール（５００ml）を加え、
次いで更に５５０mlの溶媒を減圧下で除去した。最後
に、２−プロパノール（２５０ml）を加え、混合液を固
形物がすべて溶解するまで加熱還流した。黄色溶液を室
温まで、次に０℃まで４時間冷却した。白色固形物を集
め、冷２−プロパノールで２回洗浄し、減圧（４０℃、
２０mmＨｇ）下で乾燥して３7.１５ｇ（９0.１％）を得
た。
ン−４′−ホスフェート（ＩＩａ） 炉乾燥した１リットルの３つ口丸底フラスコに滴下漏
斗、攪拌棒、温度計、２隔膜及びＮ2 導入口を取り付け
た。フラスコに４′−デメチルエピポドフィロトキシン
（Ｉ、２5.００ｇ、６2.４５ミリモル）及び無水アセト
ニトリル（３６７ml、0.１７M ）を充填した。懸濁液を
−１０℃冷却した。四塩化炭素（３0.１ml、３１2.２５
ミリモル）を加え、温度を−１０℃に保持した。Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン（２2.８４ml、１３1.１
５ミリモル）を注射器で３分かけて加えた。Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノピリジン（0.７６３ｇ、6.２５ミリモル）
を一度に全部加え、次いでジベンジルホスファイト（２
0.００ml、９0.５５ミリモル）を１５分間かけて加え
た。反応は添加中少し発熱したが、外部を冷却しながら
内部温度を１０℃に保持した。反応を−１０℃で３７分
間攪拌した。この時に出発物質が溶解し、次いで反応物
をＨＰＬＣ処理した。0.５M ＫＨ2 ＰＯ4(１５ml）を加
え、この溶液を室温に温めた。混合液をＥｔＯＡｃ（１
×３５０ml）で抽出し、次いで水洗（２×１００ml）し
た。有機層をＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下で１５０ml
量に濃縮した。２−プロパノール（５００ml）を加え
た。溶媒（２００ml）を減圧下で除去し、この時に固形
物が沈澱した。２−プロパノール（５００ml）を加え、
次いで更に５５０mlの溶媒を減圧下で除去した。最後
に、２−プロパノール（２５０ml）を加え、混合液を固
形物がすべて溶解するまで加熱還流した。黄色溶液を室
温まで、次に０℃まで４時間冷却した。白色固形物を集
め、冷２−プロパノールで２回洗浄し、減圧（４０℃、
２０mmＨｇ）下で乾燥して３7.１５ｇ（９0.１％）を得
た。
【００６１】HPLC Rt Rf (10% MeOH/CH2Cl2): 0.66 。
1H NMR (CDCl3):δ7.37-7.28 (mH),6.81 (s, 1H), 6.3
9 (s, 1H), 6.30 (s, 2H), 5.90 (dd, 2H, J=1.0, 12.7
Hz),5.28-5.14 (m, 4H), 4.71 (d, 1H, J=3.4 Hz), 4.
53 (d, 1H, J=5.1 Hz), 4.25(dd, 1H, J=8.7, 10.7 H
z), 3.63 (s, 6H), 3.27 (dd, 1H, J=5.2, 14.1 Hz),2.
71-2.61 (m, 1H) 。13C NMR (CDCl3):δ175.27, 151.1
5, 151.11, 148., 147.32, 137.28, 136.04, 135.94, 1
32.19, 131.35, 128.43, 128.30, 128.26, 127.69, 12
7.64, 110.13, 109.32, 107.66, 101.45, 69.62, 69.5
3, 69.46, 67.75,66.17, 56,06, 43.81, 40.39, 38,47
。
1H NMR (CDCl3):δ7.37-7.28 (mH),6.81 (s, 1H), 6.3
9 (s, 1H), 6.30 (s, 2H), 5.90 (dd, 2H, J=1.0, 12.7
Hz),5.28-5.14 (m, 4H), 4.71 (d, 1H, J=3.4 Hz), 4.
53 (d, 1H, J=5.1 Hz), 4.25(dd, 1H, J=8.7, 10.7 H
z), 3.63 (s, 6H), 3.27 (dd, 1H, J=5.2, 14.1 Hz),2.
71-2.61 (m, 1H) 。13C NMR (CDCl3):δ175.27, 151.1
5, 151.11, 148., 147.32, 137.28, 136.04, 135.94, 1
32.19, 131.35, 128.43, 128.30, 128.26, 127.69, 12
7.64, 110.13, 109.32, 107.66, 101.45, 69.62, 69.5
3, 69.46, 67.75,66.17, 56,06, 43.81, 40.39, 38,47
。
【００６２】
【参考例４】 ジベンジル４−（2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−
エチリデン−β−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＶａβ)(アセトニトリル中でカップリング） 攪拌棒、温度計、隔膜及びＮ2 導入口を備えた炉乾燥し
た２５mlの２つ口丸底フラスコにジベンジル４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＩａ、1.００ｇ、1.５１ミリモル）、乾燥４Ａ分
子ふるい（１／１６″ペレット)(2.０ｇ）、2,３−ジ−
Ｄ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グ
ルコース（ＩＩＩａα，β、８５：１５、0.７０２ｇ、
1.８１７ミリモル）及び無水アセトニトリル（１0.０m
l）を充填した。この溶液を均一になるまで攪拌し、次
いで−２０℃まで冷却した。三フッ化ホウ素エーテラー
ト（0.５０ml、4.０８ミリモル）を２分かけて滴下し
た。反応を−２０℃で８０分間保持した。ＢＦ3 を添加
した４５分後に白色固形物が沈澱し始めた。ピリジン
（5.２３ml、６4.７ミリモル）を加えた。懸濁液を室温
に温め、ＣＨ2 Ｃｌ2(１ml）で希釈した。白色固形物が
溶解した。溶液をろ過して残存する固形分を除去した。
溶液を３％ＨＣｌ（７ml）で洗浄し、次いで水相をＣＨ
2 Ｃｌ2(１０mlで逆抽出した。合わせた有機相を水洗
（７ml）し、水相をＣＨ2 Ｃｌ2(１０mlで逆抽出した。
合わせた有機相を最後に飽和ＮａＣｌ（７ml）で洗浄し
た。有機層をＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下で白色／黄
色固形物に濃縮した。粗生成物のＨＰＬＣは、ＩＶａ
β：ＩＶａα比７1.６：２8.４を示した。固形物を攪拌
しながらＣＨ2 Ｃｌ2(１０ml）に溶解した。メタノール
（９０ml）を加えた。まもく固形物が若干析出した。溶
液を攪拌しながら還流まで温め、その時に固形物が溶解
し、次いで２０mlの溶液を留去した。１９mlを集めたの
ち、固形物が結晶化し始めた。混合液を緩やかに攪拌し
ながら５時間室温に冷却した。白色固形物を集め、室温
のメタノールで２回すすいだ。固形物ＩＶａβを減圧
（４０℃、２０mmＨｇ）下で乾燥し、0.８３０ｇ（５3.
３％）を得た。
エチリデン−β−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＶａβ)(アセトニトリル中でカップリング） 攪拌棒、温度計、隔膜及びＮ2 導入口を備えた炉乾燥し
た２５mlの２つ口丸底フラスコにジベンジル４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＩａ、1.００ｇ、1.５１ミリモル）、乾燥４Ａ分
子ふるい（１／１６″ペレット)(2.０ｇ）、2,３−ジ−
Ｄ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グ
ルコース（ＩＩＩａα，β、８５：１５、0.７０２ｇ、
1.８１７ミリモル）及び無水アセトニトリル（１0.０m
l）を充填した。この溶液を均一になるまで攪拌し、次
いで−２０℃まで冷却した。三フッ化ホウ素エーテラー
ト（0.５０ml、4.０８ミリモル）を２分かけて滴下し
た。反応を−２０℃で８０分間保持した。ＢＦ3 を添加
した４５分後に白色固形物が沈澱し始めた。ピリジン
（5.２３ml、６4.７ミリモル）を加えた。懸濁液を室温
に温め、ＣＨ2 Ｃｌ2(１ml）で希釈した。白色固形物が
溶解した。溶液をろ過して残存する固形分を除去した。
溶液を３％ＨＣｌ（７ml）で洗浄し、次いで水相をＣＨ
2 Ｃｌ2(１０mlで逆抽出した。合わせた有機相を水洗
（７ml）し、水相をＣＨ2 Ｃｌ2(１０mlで逆抽出した。
合わせた有機相を最後に飽和ＮａＣｌ（７ml）で洗浄し
た。有機層をＮａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下で白色／黄
色固形物に濃縮した。粗生成物のＨＰＬＣは、ＩＶａ
β：ＩＶａα比７1.６：２8.４を示した。固形物を攪拌
しながらＣＨ2 Ｃｌ2(１０ml）に溶解した。メタノール
（９０ml）を加えた。まもく固形物が若干析出した。溶
液を攪拌しながら還流まで温め、その時に固形物が溶解
し、次いで２０mlの溶液を留去した。１９mlを集めたの
ち、固形物が結晶化し始めた。混合液を緩やかに攪拌し
ながら５時間室温に冷却した。白色固形物を集め、室温
のメタノールで２回すすいだ。固形物ＩＶａβを減圧
（４０℃、２０mmＨｇ）下で乾燥し、0.８３０ｇ（５3.
３％）を得た。
【００６３】Rf (50% EtOAc ヘキサン）: 0.36。 1H N
MR (CDCl3):δ7.38-7.18 (m, 18H)7.00-6.98 (m, 2H),
6.82 (s, 1H), 6.54 (s, 1H), 6.25 (s, 2H), 5.97-5.8
9 (dd, 2H, J=1.0, 26.7 Hz), 5.29-5.18 (m, 4H), 4.8
9-4.85 (m, 2H), 4.77-4.71 (m, 3H), 4.60-4.49 (m, 3
H), 4.39 (t, 1H, J=10.2 Hz), 4.23 (t, 1H, J=8.2 H
z), 4.16 (dd, 1H, J=4.9, 10.4 Hz), 3.63 (s, 6H),
3.55 (t, 1H, J=10.2 Hz), 3.45-3.34 (m, 2H), 3.32-
3.21 (m, 2H), 2.89-2.80 (m, 1H), 1.38 (d, 3H,J=5.0
Hz) 。13C NMR (CDCl3):δ174.74, 151.20, 148.72, 1
47.17, 138.48137.75, 137.0, 136.3, 136.2, 132.02,
128.62, 128.42, 128.30, 128.21, 128.07,127.87, 12
7.70, 127.67, 110.72, 109.18, 107.73, 102.32, 101.
60, 99.55,81.66, 80.95, 75.40, 75.06, 73.45, 69.4
5, 68.19, 67.87, 65.97, 43.87, 41.22, 37.48, 20.40
。所望の生成物ＩＶβのいくらかとともにＣ−１″−
α異性体ＩＶαが母液中に残った（ＩＶβ：ＩＶα１3.
７：８6.３）。
MR (CDCl3):δ7.38-7.18 (m, 18H)7.00-6.98 (m, 2H),
6.82 (s, 1H), 6.54 (s, 1H), 6.25 (s, 2H), 5.97-5.8
9 (dd, 2H, J=1.0, 26.7 Hz), 5.29-5.18 (m, 4H), 4.8
9-4.85 (m, 2H), 4.77-4.71 (m, 3H), 4.60-4.49 (m, 3
H), 4.39 (t, 1H, J=10.2 Hz), 4.23 (t, 1H, J=8.2 H
z), 4.16 (dd, 1H, J=4.9, 10.4 Hz), 3.63 (s, 6H),
3.55 (t, 1H, J=10.2 Hz), 3.45-3.34 (m, 2H), 3.32-
3.21 (m, 2H), 2.89-2.80 (m, 1H), 1.38 (d, 3H,J=5.0
Hz) 。13C NMR (CDCl3):δ174.74, 151.20, 148.72, 1
47.17, 138.48137.75, 137.0, 136.3, 136.2, 132.02,
128.62, 128.42, 128.30, 128.21, 128.07,127.87, 12
7.70, 127.67, 110.72, 109.18, 107.73, 102.32, 101.
60, 99.55,81.66, 80.95, 75.40, 75.06, 73.45, 69.4
5, 68.19, 67.87, 65.97, 43.87, 41.22, 37.48, 20.40
。所望の生成物ＩＶβのいくらかとともにＣ−１″−
α異性体ＩＶαが母液中に残った（ＩＶβ：ＩＶα１3.
７：８6.３）。
【００６４】
【参考例５】 ジベンジル４−（2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−
エチリデン−β−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＶａβ)(ジクロロエタン中でカップリング） 攪拌棒、温度計、２隔膜及びＮ2 導入口を備えた炉乾燥
した２５０mlの３つ口丸底フラスコにジベンジル４′−
デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフ
ェート（ＩＩａ、１4.２９５ｇ、２1.５７ミリモル）、
乾燥４Ａ分子ふるい（１／１６″ペレット)(２8.６
ｇ）、2,３−ジ−Ｄ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン
−α，β−Ｄ−グルコース（ＩＩＩａα，β、１0.０
ｇ、２5.８８ミリモル）及び無水1,２−ジクロロエタン
（１４３ml）を充填した。この溶液を均一になるまで攪
拌し、次いで−２０℃まで冷却した。三フッ化ホウ素エ
ーテラート（7.１５ml、５8.２４ミリモル）を１０分か
けて滴下した。反応を−２０℃で１８分間保持した。ピ
リジン（5.２３ml、６4.７ミリモル）を加え、混合液が
褐色から黄色に変わった。混濁溶液を室温に温め、ＣＨ
2 Ｃｌ2(２００ml）で希し、ろ過して固形分を除去し
た。溶液を３％ＨＣｌ（１００ml）、水（１００ml）、
最後に飽和ＮａＣｌ（１００ml）で洗浄した。有機層を
Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下で黄色油状物に濃縮し
た。還流メタノール（１５００ml）を攪拌しながら加え
た。混合液を室温に冷却し、一晩放置した。白色固形物
を集め、メタノールで２回すすいだ。固形物ＩＶａβを
減圧（４０℃、２０mmＨｇ）下で乾燥し、8.８６ｇ（３
9.８％）を得た。
エチリデン−β−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＶａβ)(ジクロロエタン中でカップリング） 攪拌棒、温度計、２隔膜及びＮ2 導入口を備えた炉乾燥
した２５０mlの３つ口丸底フラスコにジベンジル４′−
デメチル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフ
ェート（ＩＩａ、１4.２９５ｇ、２1.５７ミリモル）、
乾燥４Ａ分子ふるい（１／１６″ペレット)(２8.６
ｇ）、2,３−ジ−Ｄ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン
−α，β−Ｄ−グルコース（ＩＩＩａα，β、１0.０
ｇ、２5.８８ミリモル）及び無水1,２−ジクロロエタン
（１４３ml）を充填した。この溶液を均一になるまで攪
拌し、次いで−２０℃まで冷却した。三フッ化ホウ素エ
ーテラート（7.１５ml、５8.２４ミリモル）を１０分か
けて滴下した。反応を−２０℃で１８分間保持した。ピ
リジン（5.２３ml、６4.７ミリモル）を加え、混合液が
褐色から黄色に変わった。混濁溶液を室温に温め、ＣＨ
2 Ｃｌ2(２００ml）で希し、ろ過して固形分を除去し
た。溶液を３％ＨＣｌ（１００ml）、水（１００ml）、
最後に飽和ＮａＣｌ（１００ml）で洗浄した。有機層を
Ｎａ2 ＳＯ4 で乾燥し、減圧下で黄色油状物に濃縮し
た。還流メタノール（１５００ml）を攪拌しながら加え
た。混合液を室温に冷却し、一晩放置した。白色固形物
を集め、メタノールで２回すすいだ。固形物ＩＶａβを
減圧（４０℃、２０mmＨｇ）下で乾燥し、8.８６ｇ（３
9.８％）を得た。
【００６５】所望の生成物ＩＶβのいくらかとともにＣ
−１″−α異性体ＩＶαが母液中に残った。この残存し
ているカップリング生成物を結晶化及び／又はクロマト
グラフィーで回収した。ＩＶβを結晶化する前の粗生成
物のβ：α比は５４：４６であった。カップリング生成
物の全収率は８１％であった。 ジベンジル４−（2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−
エチリデン−α−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＶａα) Rf (50% EtOAc／ヘキサン）: 0.31。 1H NMR (CDCl3):
δ7.38-7.21 (m, 20,6.87 (s, 1H), 6.26 (s, 2H), 5.9
5 (d, 2H, J=5.8 Hz), 5.29-5.18 (m, 4H), 4.87 (dd,
3H, J=2.3, 11.1 Hz), 4.79-4.74 (m, 2H), 4.68-4.58
(m, 4H), 4.11(t, 1H, J=7.9 Hz), 3.95 (q, 1H, J=10.
6 Hz), 3.86 (t, 1H, J=9.2 Hz), 3.63 (s, 6H), 3.51
(dd, 1H, J=3.6, 9.4 Hz), 3.45 (d, 1H, J=7.2 Hz),
3.45 -3.35 (m, 3H), 2.82-2.75 (m, 1H), 1.32 (d, 3
H, J=5.0 Hz)。13C NMR (CDCl):δ174.91, 151.22, 15
1.18, 148.44, 147.02, 138.56, 137.83, 137.05, 136.
27, 136.18, 132.19, 129.27, 128.59, 128.45, 128.3
4, 128.24, 128.12, 127.96, 127.89, 127.72, 127.69,
110.44, 109.81, 107.85, 101.61, 101.08, 99.59,82.
07, 79.36, 78.59, 76.76, 75.09, 74.69, 69.52, 69.4
6, 69.41, 68.18, 67.04, 62.95, 56.15, 43.82, 41.1
0, 38.41, 20.40。
−１″−α異性体ＩＶαが母液中に残った。この残存し
ているカップリング生成物を結晶化及び／又はクロマト
グラフィーで回収した。ＩＶβを結晶化する前の粗生成
物のβ：α比は５４：４６であった。カップリング生成
物の全収率は８１％であった。 ジベンジル４−（2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−
エチリデン−α−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメ
チル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェー
ト（ＩＶａα) Rf (50% EtOAc／ヘキサン）: 0.31。 1H NMR (CDCl3):
δ7.38-7.21 (m, 20,6.87 (s, 1H), 6.26 (s, 2H), 5.9
5 (d, 2H, J=5.8 Hz), 5.29-5.18 (m, 4H), 4.87 (dd,
3H, J=2.3, 11.1 Hz), 4.79-4.74 (m, 2H), 4.68-4.58
(m, 4H), 4.11(t, 1H, J=7.9 Hz), 3.95 (q, 1H, J=10.
6 Hz), 3.86 (t, 1H, J=9.2 Hz), 3.63 (s, 6H), 3.51
(dd, 1H, J=3.6, 9.4 Hz), 3.45 (d, 1H, J=7.2 Hz),
3.45 -3.35 (m, 3H), 2.82-2.75 (m, 1H), 1.32 (d, 3
H, J=5.0 Hz)。13C NMR (CDCl):δ174.91, 151.22, 15
1.18, 148.44, 147.02, 138.56, 137.83, 137.05, 136.
27, 136.18, 132.19, 129.27, 128.59, 128.45, 128.3
4, 128.24, 128.12, 127.96, 127.89, 127.72, 127.69,
110.44, 109.81, 107.85, 101.61, 101.08, 99.59,82.
07, 79.36, 78.59, 76.76, 75.09, 74.69, 69.52, 69.4
6, 69.41, 68.18, 67.04, 62.95, 56.15, 43.82, 41.1
0, 38.41, 20.40。
【００６６】
【参考例６】本実施例は、同一反応容器で行われるカッ
プリング及び結晶化工程を示すものである。攪拌棒を備
えた５０mlの３つ口丸底フラスコを炉乾燥し、２隔膜を
取り付け、Ｎ2 下で冷却する。ジベンジル４′−デメチ
ル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェート
（1.００２ｇ、1.５１ミリモル）及び2,３−Ｏ−ベンジ
ル−4,６−Ｏ−エチリデングルコピラノース（ＩＩａ
β：α８５：１５、0.７０２ｇ、1.８１ミリモル）を加
えた。固形分を無水アセトニトリル（１0.０ml）に溶解
し、次いでこの溶液を−４０℃まで冷却した。三フッ化
ホウ素エーテラート（0.５０ml、4.１ミリモル）を滴下
した。この溶液を−４０℃で攪拌し、次いでＨＰＬＣ処
理した。反応中生成物が若干沈澱した。６時間後、メタ
ノール（３０ml）を滴下した。懸濁液を攪拌しながら−
３０℃まで温め、次いで０℃で攪拌なしで１７時間放置
した。固形物をブッフネル漏斗で集め、室温のメタノー
ルで２回すすいだ。これにより0.９６６８ｇ（６2.０
％）のＩＶａβをＨＩ１００％で生成した。
プリング及び結晶化工程を示すものである。攪拌棒を備
えた５０mlの３つ口丸底フラスコを炉乾燥し、２隔膜を
取り付け、Ｎ2 下で冷却する。ジベンジル４′−デメチ
ル−４−エピポドフィロトキシン−４′−ホスフェート
（1.００２ｇ、1.５１ミリモル）及び2,３−Ｏ−ベンジ
ル−4,６−Ｏ−エチリデングルコピラノース（ＩＩａ
β：α８５：１５、0.７０２ｇ、1.８１ミリモル）を加
えた。固形分を無水アセトニトリル（１0.０ml）に溶解
し、次いでこの溶液を−４０℃まで冷却した。三フッ化
ホウ素エーテラート（0.５０ml、4.１ミリモル）を滴下
した。この溶液を−４０℃で攪拌し、次いでＨＰＬＣ処
理した。反応中生成物が若干沈澱した。６時間後、メタ
ノール（３０ml）を滴下した。懸濁液を攪拌しながら−
３０℃まで温め、次いで０℃で攪拌なしで１７時間放置
した。固形物をブッフネル漏斗で集め、室温のメタノー
ルで２回すすいだ。これにより0.９６６８ｇ（６2.０
％）のＩＶａβをＨＩ１００％で生成した。
【００６７】
【参考例７】エトポシド−４′−ホスフェート（Ｖ） ４％パラジウム／炭素、５０％湿潤（３１４mg）を５０
／５０ＭｅＯＨ／ＴＨＦ（５０ml）中ジベンジル４−
（2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−β
−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメチル−４−エピ
ポドフィロトキシン−４′−ホスフェート（ＩＶａβ、
７５８mg）の溶液に加えた。この混合液を室温及び４０
−５０psigの水素で３−６時間水素添加した。触媒をろ
別し、ＭｅＯＨですすいだ。ろ液を減圧下（４０−６０
℃、アスピレーター）８−１０ml量まで濃縮した。無水
エタノール（５０ml）を加え、この溶液を再び−１０ml
まで濃縮した。エタノール（２５ml）を再び加え、この
溶液を１０mlまで濃縮した。エトポシド−４′−ホスフ
ェートジエタノール溶媒和物の結晶種を加え、溶液の温
度を約５０℃から１５−２０℃まで３０−６０分かけて
調整した。１５−２０℃で更に３０分保持した後、白色
結晶をろ過により集め、５℃のエタノール（５−１０m
l）で洗浄した。固形物を高真空中２５−４０℃で乾燥
した。ＨＰＬＣにより９9.２面積％純度に定量された４
３６mg（７7.８％）のエトポシド−４′−ホスフェート
ジエタノール溶媒和物（Ｖ）を得た。
／５０ＭｅＯＨ／ＴＨＦ（５０ml）中ジベンジル４−
（2,３−ジ−Ｏ−ベンジル−4,６−Ｏ−エチリデン−β
−Ｄ−グルコピラノシル）−４′−デメチル−４−エピ
ポドフィロトキシン−４′−ホスフェート（ＩＶａβ、
７５８mg）の溶液に加えた。この混合液を室温及び４０
−５０psigの水素で３−６時間水素添加した。触媒をろ
別し、ＭｅＯＨですすいだ。ろ液を減圧下（４０−６０
℃、アスピレーター）８−１０ml量まで濃縮した。無水
エタノール（５０ml）を加え、この溶液を再び−１０ml
まで濃縮した。エタノール（２５ml）を再び加え、この
溶液を１０mlまで濃縮した。エトポシド−４′−ホスフ
ェートジエタノール溶媒和物の結晶種を加え、溶液の温
度を約５０℃から１５−２０℃まで３０−６０分かけて
調整した。１５−２０℃で更に３０分保持した後、白色
結晶をろ過により集め、５℃のエタノール（５−１０m
l）で洗浄した。固形物を高真空中２５−４０℃で乾燥
した。ＨＰＬＣにより９9.２面積％純度に定量された４
３６mg（７7.８％）のエトポシド−４′−ホスフェート
ジエタノール溶媒和物（Ｖ）を得た。
【００６８】
【実施例１】エトポシド（ＶＩ） 磁気攪拌しながら、エトポシド−４′−ホスフェートジ
エタノール溶媒和物（Ｖ、４１０mg）を1.０M トリス緩
衝液（8.０ml）に溶解した。１N ＮａＯＨで8.１〜8.７
に調整した。この溶液を３５℃まで温めた。MilliQ水中
アルカリ性ホスファターゼ（シグマ、カタログ #P6774)
の溶液（2.０ml、２００単位／ml）を加えた。１０分以
内に固形分が沈澱した。必要とされる１N ＮａＯＨを加
えることによりｐＨ8.４−8.８の範囲に維持した。次い
で反応物をＨＰＬＣ処理した。３時間後、混合液を１０
℃まで１５分間冷却した。固形物を真空ろ過により集
め、水洗（５−７ml）し、高真空（２０℃）中１８時間
乾燥した。２４１mg（７６％）のエトポシド（ＶＩ）、
ＨＰＬＣにより９5.５面積％を得た。
エタノール溶媒和物（Ｖ、４１０mg）を1.０M トリス緩
衝液（8.０ml）に溶解した。１N ＮａＯＨで8.１〜8.７
に調整した。この溶液を３５℃まで温めた。MilliQ水中
アルカリ性ホスファターゼ（シグマ、カタログ #P6774)
の溶液（2.０ml、２００単位／ml）を加えた。１０分以
内に固形分が沈澱した。必要とされる１N ＮａＯＨを加
えることによりｐＨ8.４−8.８の範囲に維持した。次い
で反応物をＨＰＬＣ処理した。３時間後、混合液を１０
℃まで１５分間冷却した。固形物を真空ろ過により集
め、水洗（５−７ml）し、高真空（２０℃）中１８時間
乾燥した。２４１mg（７６％）のエトポシド（ＶＩ）、
ＨＰＬＣにより９5.５面積％を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 プールショータム ヴェミシェッティー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 13057 イースト シラキュース スノーボール ラン 7316 (72)発明者 ジョン エル ディロン ジュニア アメリカ合衆国 ニューヨーク州 13041 クレイ シャトー レーン 5505 (72)発明者 ジョン ジェイ ウーシャー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 13057 イースト シラキュース サマーヘヴン ドライヴ 486
Claims (2)
- 【請求項１】 下記式ＶＩ： 【化１】 を有する化合物の調製方法であって、緩衝液中下記式
Ｖ： 【化２】 を有する化合物とホスファターゼ酵素とを反応させてリ
ン酸基を酵素的に除去し、式ＶＩの該化合物を回収する
ことを特徴とする方法。 - 【請求項２】 下記式ＩＩ： 【化３】 （Ｒ3 はアリールメチルである。）を有する化合物の調
製方法であって、下記式Ｉ： 【化４】 を有するフェノールと、ジ（アリールメチル）ホスファ
イト、テトラハロメタン、第三アミン及びアシル化触媒
とを反応させて式ＩＩの保護ホスフェートを生成するこ
とを特徴とする方法。
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|---|---|---|---|
| US08/145517 | 1993-11-04 | ||
| US08/145,517 US5459248A (en) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | Process of preparing etoposide phosphate and etoposide |
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|---|---|
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Family
ID=22513464
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| JP31075697A Expired - Fee Related JP3810906B2 (ja) | 1993-11-04 | 1997-11-12 | エトポシドの調製方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6269821A Expired - Fee Related JP2801152B2 (ja) | 1993-11-04 | 1994-11-02 | エトポシドホスフェート及びエトポシドの調製方法 |
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| DK (1) | DK0652226T3 (ja) |
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| FI (1) | FI115913B (ja) |
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| SG (1) | SG50571A1 (ja) |
| TW (1) | TW420687B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US5459248A (en) * | 1993-11-04 | 1995-10-17 | Bristol-Myers Squibb Company | Process of preparing etoposide phosphate and etoposide |
| ES2191733T3 (es) * | 1995-12-04 | 2003-09-16 | Nippon Kayaku Kk | Procedimiento para producir etoposido. |
| US6207673B1 (en) | 1997-03-12 | 2001-03-27 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Covalent conjugates of topoisomerase I and topoisomerase II inhibitors |
| JP4698775B2 (ja) * | 1997-06-02 | 2011-06-08 | ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニー | エトポシドの製造方法 |
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