JPH10153856A - ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 - Google Patents
ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版Info
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- JPH10153856A JPH10153856A JP8311931A JP31193196A JPH10153856A JP H10153856 A JPH10153856 A JP H10153856A JP 8311931 A JP8311931 A JP 8311931A JP 31193196 A JP31193196 A JP 31193196A JP H10153856 A JPH10153856 A JP H10153856A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
ードに優れ、平版印刷版として使用した際にも優れた耐
溶剤性と耐刷性を示す感光性樹脂組成物を得る。 【解決手段】 本発明の第一の構成としての、1.5重
量%以下の未反応遊離フェノール類を含有するノボラッ
ク樹脂(A)とο−ナフトキノンジアジド化合物(B)
とを含有することを特徴とする感光性組成物。本発明の
第二の構成としての、前記した感光性組成物を金属支持
体上に設けたことを特徴とするポジ型感光性平版印刷
版。
Description
回路やフォトマスクの製造に適する感光性組成物に関す
るものである。更に詳しくは、現像ラチチュードに優れ
た感光性組成物及び感光性平版印刷版に関する。
3−225343号公報等には、臭気等の環境上の問題
の改良を目的として、ο−ナフトキノンジアジド化合物
と4.5〜2.0重量%の未反応遊離フェノール類を含
むノボラック樹脂を含有する感光性組成物をアルミニウ
ム支持体上に設けたポジ型感光性平版印刷版が記載され
ている。しかしながら、上記した公報に記載された、ο
−ナフトキノンジアジド化合物と4.5〜2.0重量%
の未反応遊離フェノール類を含むノボラック樹脂を含有
する感光性組成物から得られる塗膜は、いずれも現像ラ
チチュードが狭いという欠点があった。
たポジ型感光性組成物は、その機械的強度が向上し、こ
れを平版印刷版に使用すると耐刷力が著しく向上する効
果がある。しかし、従来の技術では、このような高分子
量のノボラック樹脂は一般に感度の低下を引き起こす傾
向があった。これを改良するためにアルカリ溶解性の良
好なフェノール−ホルムアルデヒド樹脂やm−クレゾー
ル−ホルムアルデヒド樹脂を使用したとしても感度は向
上するが現像ラチチュードが低下するため、実用性に乏
しかった。
を損なうことなく、現像ラチチュードに優れ、平版印刷
版として使用した際にも優れた耐溶剤性と耐刷性を示す
感光性樹脂組成物を得ることにある。
離フェノール類の含有率が異なるノボラック樹脂を種々
合成し、感光性組成物を調製して物性を評価したとこ
ろ、1.5重量%以下の未反応遊離フェノール類を含有
するノボラック樹脂を用いた感光性組成物が、1.5重
量%を越える未反応遊離フェノール類を含有するノボラ
ック樹脂を含んだ感光性組成物に比べて、現像ラチチュ
ードが広くなることを見い出し、本発明を完成するに至
った。
以下の未反応遊離フェノール類を含有するノボラック樹
脂(A)とο−ナフトキノンジアジド化合物(B)とを
含有することを特徴とする感光性組成物である。
ック樹脂(A)として、少なくともm−クレゾールノボ
ラック樹脂(a1)及び/又はフェノールノボラック樹
脂(a2)を含有するポジ型感光性組成物である。
ラック樹脂の重量平均分子量が、10,000〜30,
000であるポジ型感光性組成物である。
ンジアジド化合物(B)が2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンのο−ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステルであるポジ型感光性組成物である。
物100重量部当たり、m−クレゾールノボラック樹脂
(a1)を40〜70重量部、フェノールノボラック樹
脂(a2)を10〜30重量部、ο−ナフトキノンジア
ジド化合物(B)を15〜30重量部含有するポジ型感
光性組成物である。
物を金属支持体上に設けたことを特徴とするポジ型感光
性平版印刷版である。
造方法で使用される1.5重量%以下の未反応遊離フェ
ノール類を含有するノボラック樹脂及びその他の成分
と、本発明で使用する感光性組成物の調製方法及び本発
明の平版印刷版の製造方法について詳細に説明する。
は、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂(フェ
ノ−ルノボラック樹脂)、m−クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂(m−クレゾールノボラック樹脂)、p−ク
レゾール−ホルムアルデヒド樹脂(p−クレゾールノボ
ラック樹脂)、o−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
(o−クレゾールノボラック樹脂)、m−/p−混合ク
レゾール−ホルムアルデヒド樹脂(m−/p−クレゾー
ルノボラック樹脂)、フェノール/クレゾール(m−、
p−、またはm−/p−混合のいずれでもよい)混合−
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂(フェノールノボラック樹脂)、レゾルシン−ホル
ムアルデヒド樹脂(レゾルシンノボラック樹脂)の如き
ノボラック樹脂類を挙げることができる。
として使用したフェノール類の未反応物が含まれるが、
この未反応遊離フェノール類の含有率が1.5重量%以
下のノボラック樹脂を用いた感光性組成物は、現像ラチ
チュードが非常に広くなり、本発明に好適に使用するこ
とが出来る。
ノール類の含有率は、0%が理想的であるが、現像ラチ
チュードが広くなる効果は、1.5重量%以下までは得
ることが出来る。未反応遊離フェノール類の含有率がこ
れより多くなると本発明の効果は得られない。従って、
未反応遊離フェノール類の含有率が1.5重量%以下の
ノボラック樹脂は、本発明で好適に使用することが出来
ると言える。
ノール−ホルムアルデヒド樹脂やm−クレゾ−ル−ホル
ムアルデヒド樹脂はアルカリ溶解性が高いため、これを
使用したポジ型感光性組成物は、一般に高感度になる傾
向がある。しかし、未反応のフェノール類が多い場合に
は現像ラチチュードが狭くなるので、例えば、現像液の
濃度が高い場合等には画線部(未露光部)の膜減りが大
きくなる傾向もあった。
類の含有率が1.5重量%以下であり、現像ラチチュー
ドが広くなるので、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂
やm−クレゾ−ル−ホルムアルデヒド樹脂を使用した高
感度のポジ型感光性組成物において、例えば、現像液の
濃度が高い場合でも画線部(未露光部)の膜減りはわず
かである。
たポジ型感光性平版印刷版は、その機械的強度が向上
し、これを平版印刷版に使用すると耐刷力が著しく向上
する効果がある。この高分子量ノボラック樹脂が、アル
カリ溶解性の高いノボラック樹脂類であり、かつ、未反
応遊離フェノール類の含有率が1.5重量%以下であれ
ば、感度、現像ラチチュードも良好であり、かつ、耐刷
性に優れる平版印刷版が得られる。
性の高い樹脂を使用したことによる。しかし、これによ
り従来は現像ラチチュードが低下していたが、未反応遊
離フェノール類の含有率が1.5重量%以下のノボラッ
ク樹脂であれば、現像ラチチュードの低下は抑制でき
る。
の高いノボラック樹脂類としては、フェノール−ホルム
アルデヒド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂、レゾルシン−ホルムアルデヒド樹脂等を挙げること
ができる。
の重量平均分子量は2,000〜40,000であり、
更に、平版印刷版の耐刷性を向上させる場合には重量平
均分子量が10,000〜30,000であることが好
ましい。
類の含有率が1.5重量%以下のノボラック樹脂は単独
でも複数の種類を混合しても本発明で好適に使用するこ
とができる。
り、m−クレゾールノボラック樹脂(a1)を40〜7
0重量部、フェノールノボラック樹脂(a2)を10〜
30重量部、ο−ナフトキノンジアジド化合物(B)を
15〜30重量部含有を含有するポジ型感光性組成物
は、本発明で好適に使用できる例として挙げることがで
きる。
重量%以下のノボラック樹脂は、塩酸、硫酸、硝酸、蓚
酸、リン酸の如き酸触媒の存在下でフェノール類とホル
ムアルデヒドを重縮合させ、更に未反応のモノマー類を
減圧下で留去することにより得ることができる。また、
高分子量のノボラック樹脂は反応時間を長くすることに
より合成可能である。
ンジアジド化合物としては、特公昭43−28403号
公報に記載されている1,2−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂との
エステル、米国特許第3,046,120号および同第
3,188,210号明細書中に記載されている1,2
−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドとフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル等の公知のο
−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることが出来る。
アジド化合物としては、数多くの特許に記載されている
ものも挙げることが出来る。例えば、特開昭47−53
03号、同昭48−63802号、同昭48−6380
3号、同昭48−96575号、同昭49−38701
号、同昭48−13354号、特公昭37−18015
号、同昭41−11222号、同昭45−9610号、
同昭49−17481号公報等の各明細書中に記載され
ているものを挙げることができる。
ノンジアジド化合物は分子量1,000以下のポリヒド
ロキシ化合物と1,2−ナフトキノンジアジドスルホン
酸クロライドとの反応により得られる化合物である。こ
のような化合物の具体例は、特開昭51−139402
号、同58−150948号、同58−203434
号、同59−165053号、同60−121445
号、同60−134235号、同60−163043
号、同61−118744号、同62−10645号、
同62−10646号、同62−153950号、同6
2−178562号等の明細書に記載されているものを
挙げることができる。ここで、2,3,4−トリヒドロ
キシベンゾフェノンと1,2−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸クロライドのエステル化物は、本発明で特に好
適に使用できる例として挙げることが出来る。
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸ク
ロライドを0.2〜1.2当量反応させることが好まし
く、0.3〜1.0当量反応させることが更に好まし
い。
化合物は、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステル基の位置および導入量の種々異なるものの混合物
となるが、ヒドロキシル基がすべて1,2−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルで転換された化合物がこ
の混合物中に占める割合(完全にエステル化された化合
物の含有量)は5モル%以上であることが好ましく、更
に好ましくは20〜100モル%である。
のアルカリ可溶性バインダー樹脂を併用することも可能
である。その例としては、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−
クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合ク
レゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾ
ール(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでも
よい)混合−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン−ホルムアルデヒド樹
脂、t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂の如
きノボラック樹脂類またはレゾール樹脂類のうち、未反
応遊離フェノール類の含有率が1.5重量%以上である
もの、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、モノメタクリロイルハイドロキノン、ο−ヒドロキ
シスチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペ
ニルフェノール、m−イソプロペニルフェノール、アク
リル酸、メタクリル酸、N−(4−スルファモイルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−フェニルスルホニルメタ
クリルアミド、N−フェニルスルホニルマレイミド等を
少なくとも1種以上含有する樹脂、特開昭63−127
237号公報記載の活性メチレン基含有樹脂の如きビニ
ル重合系樹脂類、特開昭63−124047号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂、特開昭63−
261350号公報記載のN−スルホニルアミド基、N
−スルホニルウレイド基、N−アミノスルホニルアミド
基を有するポリウレタン樹脂、特開平2−77748号
公報記載の活性イミド基含有ポリウレタン樹脂の如きポ
リウレタン樹脂類、特開平1−6947号公報記載のヒ
ドロキシポリアミドの如きポリアミド類、特開平6−2
36029号公報記載のフェノール性水酸基を有するポ
リエステル樹脂の如きポリエステル類等を挙げることが
できる。
体上に塗布することによりポジ型平版印刷版として使用
することができる。
種の添加剤を加えることができる。例えば、塗布性を向
上させるために界面活性剤、塗膜の物性改良のために可
塑剤、画線部のインキ着肉性を高めるために疎水性基を
有する感脂化剤、感度を高めるために環状酸無水物、露
光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤、画像着色剤
として染料やその他のフィラーなどを加えることができ
る。
57号公報、特開昭62−226143号公報等に記載
されているフッ素系界面活性剤等が挙げられる。可塑剤
としては、例えば、ジエチルフタレート、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレート、リン酸トリブチル、リ
ン酸トリオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ
(2−クロロエチル)、クエン酸トリブチル等が挙げら
れる。
3,279号明細書に記載されているように、例えばp
−オクチルフェノールノボラック,p−t−ブチルフェ
ノールノボラック等の疎水性基を有するノボラック樹脂
を挙げることができる。環状酸無水物としては、米国特
許4,115,128号明細書に記載されているように
無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−△4−テトラ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水
マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、α−フェニル無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等があ
る。これらの環状酸無水物を全感光性組成物中の1〜1
5重量%含有させることにより感度を最大3倍程度に高
めることができる。
剤としては、例えば露光により酸を放出する感光性化合
物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げ
ることができる。具体的には特開昭50−36209号
公報、特開昭53−8128号公報に記載されているο
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと
塩形成性有機染料との組合せや特開昭53−36223
号、同54−74728号、同60−3626号、同6
1−143748号、同61−151644号、同63
−58440号公報に記載されているトリハロメチル化
合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができ
る。
料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性有機
染料を含めて好適な染料として油溶性染料及び塩基染料
を挙げることができる。具体的には、オイルイエロー#
101、オイルイエロー#130、オイルピンク#31
2、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイル
ブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラック
BS、オイルブラックT−505(以上、オリエント化
学工業株式会社製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、ローダミンB(CI4517
0B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチ
レンブルー(CI52015)等を挙げることができ
る。
によって異なるが、一般に感光性組成物の固形分の0〜
30重量%の範囲が好ましい。
に溶解して支持体上に塗布することができる。溶媒とし
ては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロ
エタン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、モノ
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、四塩化炭素の如き
ハロゲン系溶剤:ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンの如き脂肪族または
脂環族または芳香族炭化水素系溶媒:テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジエチルエーテルの如きエーテル系溶
媒:酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテートの如きエステル系溶媒:アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
の如きケトン系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノ
ール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、シクロヘキサノー
ルの如きアルコール系溶媒:アセトニトリル、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドンの如き含窒素系溶媒:ジメチ
ルスルホキシド等が挙げられ、上記溶媒は単独または2
種以上混合して使用することもでき、場合によっては、
更に水との混合溶媒も使用し得る。
は、例えばディップ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、
スプレー塗布、ホワラー塗布、スピナー塗布、エアナイ
フ塗布、ドクターナイフ塗布等周知の塗布方法によっ
て、支持体に塗布される。
亜鉛、銅、ステンレス、鉄等の金属板:ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ル、ポリエチレン等のプラスチックフィルム:合成樹脂
を溶融塗布あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙、プラス
チックフィルムに金属層を真空蒸着、ラミネートなどの
技術により設けた複合材料:その他、印刷版の支持体と
して使用されている各種の材料が挙げられる。
する支持体の場合は、砂目立て処理、陽極酸化処理、親
水化処理などの表面処理がなされていることが好まし
い。感光性組成物の塗布量としては、乾燥重量で通常約
0.5〜5g/m2 である。また、耐刷力をより向上さ
せるためには2.5〜4.0g/m2 がより好ましい。
持体上に感光層を設けた感光性平版印刷版が得られる。
周知の方法により使用することができる。例えば、この
感光性平版印刷版にポジ型フィルムを密着させ、超高圧
水銀灯、メタルハライドランプ等で露光し、メタ珪酸ソ
ーダ、メタ珪酸カリ、リン酸ソーダ、苛性ソーダ等のア
ルカリ水溶液により現像され、印刷版として使用され
る。
るが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
g)、p−クレゾール(80g)、37%ホルムアルデ
ヒド水溶液(105g)及び蓚酸(2.5g)の混合物
を加熱し、105℃で3時間攪拌した。その後、175
℃に昇温して水を留去し、200℃/100mmHgで
残留モノマー類を留去した。以上の製法により得られた
樹脂の重量平均分子量は6,000であった。
ク樹脂は、表1に示すフェノール類モノマーを使用して
合成例1と同様に方法でホルムアルデヒドとの重縮合物
を合成した。表1に合成例1〜5のノボラック樹脂の性
状を示す。
法で未反応遊離フェノール類の含有率が2.0%のm−
クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂を合成した。その性
状を表1に併記した。
て下記表2の組成比率の感光液(感光性組成物)をそれ
ぞれ調整した。
の樹脂。 注3:保土谷化学工業(株)製の塩基性油溶性染料。
ミニウム板を水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、これ
を20%塩酸浴中で、電解研磨処理して中心線平均粗さ
(Ra)0.6μmの砂目板を得た。ついで、20%硫
酸浴中、電流密度2A/dm2 で陽極酸化処理して、
2.7g/m2 の酸化皮膜を形成し、水洗乾燥し、アル
ミニウム支持体を得た。このようにして得られたアルミ
ニウム支持体上に上記の組成の感光液(感光性組成物)
をロールコーターを用いて塗布し、110℃、3分間乾
燥して感光性平版印刷版を得た。この乾燥塗膜量は2.
0g/m2 であった。
成例1で合成した樹脂を合成例(1〜5)の樹脂の代わ
りに使用して、実施例(1〜5)と同一の方法により平
版印刷版を作成し、その現像ラチチュードを比較した結
果を表3に併記した。
り行った。上記の方法により得られた各感光性平版印刷
版にグレースケール(光学濃度差0.15)を真空密着
させ、3kWのメタルハライドランプで1mの距離から
露光した。これを、大日本スクリーン(株)製自動現像
機PD−912を使用し、大日本インキ化学工業(株)
が販売するポリクロームジャパン(株)製現像液PD−
1を所定の割合の水で希釈して30℃で12秒間現像処
理を行った。現像液PD−1の希釈率としては6倍希釈
と15倍希釈の2種類のを調製し、それぞれの希釈率の
現像液で現像を行って得られた画像のクリア段数の差を
求め、差が少ない方が現像ラチチュードが広いと判定し
た。その結果を表3に示す。
のクリア段数 B欄:現像液PD−1を水で15倍に希釈して現像した
際のクリア段数 A−B欄:A欄とB欄のクリア段数の差 (注2)実施例5における合成例4と合成例5の比率は
3:1である。
比較例1の平版印刷版より現像液の濃度変化によるクリ
ア段数の変化が少なく、現像ラチチュードが広いことが
分かった。また、実施例2,3,4はm−クレゾール−
ホルムアルデヒド樹脂を使用した例であるが、順に未反
応遊離m−クレゾールが少なくなっている。従って、未
反応遊離m−クレゾールが少ない方が、現像液の濃度変
化に対するクリア段数の変化が小さく、現像ラチチュー
ドが更に広くなることが分かる。
ファボリット印刷機に取り付け、印刷インキ「カルトン
紅」(大日本インキ化学工業(株)製)、湿し水「N
A−108W」(大日本インキ化学工業(株)製)の1
00倍希釈液を用いて印刷を行い、適正な印刷物が得ら
れる最終印刷枚数から判定した。その結果、実施例2,
3,4,5及び比較例1は高分子量(16,000〜1
7,000)のノボラック樹脂を使用しているが、何れ
も良好な耐刷力を示した(200,000枚刷了)。従
って、実施例2〜5は現像ラチチュードが向上するだけ
でなく、耐刷力も良好であることが分かった。
塗膜は、現像ラチチュードに優れ、平版印刷版として使
用した際にも優れた耐溶剤性と耐刷性を示した。特に、
高分子量のアルカリ溶解性の良好なノボラック樹脂の場
合には、現像特性を低下させることなく良好な耐刷性を
得ることが判明した。
Claims (6)
- 【請求項1】 1.5重量%以下の未反応遊離フェノー
ル類を含有するノボラック樹脂(A)と、ο−ナフトキ
ノンジアジド化合物(B)を含有することを特徴とする
ポジ型感光性組成物。 - 【請求項2】 ノボラック樹脂(A)として、少なくと
もm−クレゾールノボラック樹脂(a1)及び/又はフ
ェノールノボラック樹脂(a2)を含有する請求項1記
載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項3】 ノボラック樹脂の重量平均分子量が、1
0,000〜30,000である請求項1又は2に記載
のポジ型感光性組成物。 - 【請求項4】 ο−ナフトキノンジアジド化合物(B)
が2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンのο−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステルである請求項1
〜3のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項5】 感光性組成物100重量部当たり、m−
クレゾールノボラック樹脂(a1)を40〜70重量
部、フェノールノボラック樹脂(a2)を10〜30重
量部、ο−ナフトキノンジアジド化合物(B)を15〜
30重量部含有する請求項1〜4のいずれかに記載のポ
ジ型感光性組成物。 - 【請求項6】 金属支持体上に請求項1,2,3,4,
又はに5記載の感光性組成物を設けたことを特徴とする
ポジ型感光性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8311931A JPH10153856A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8311931A JPH10153856A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10153856A true JPH10153856A (ja) | 1998-06-09 |
Family
ID=18023161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8311931A Pending JPH10153856A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10153856A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100572182B1 (ko) | 2003-02-24 | 2006-04-18 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 포토레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의형성방법 |
| CN110895382A (zh) * | 2018-09-13 | 2020-03-20 | 新应材股份有限公司 | 正型光阻组成物及图案化聚酰亚胺层的形成方法 |
-
1996
- 1996-11-22 JP JP8311931A patent/JPH10153856A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100572182B1 (ko) | 2003-02-24 | 2006-04-18 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 포토레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의형성방법 |
| CN110895382A (zh) * | 2018-09-13 | 2020-03-20 | 新应材股份有限公司 | 正型光阻组成物及图案化聚酰亚胺层的形成方法 |
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