JPH10162761A - 走査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法 - Google Patents
走査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法Info
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- JPH10162761A JPH10162761A JP8322893A JP32289396A JPH10162761A JP H10162761 A JPH10162761 A JP H10162761A JP 8322893 A JP8322893 A JP 8322893A JP 32289396 A JP32289396 A JP 32289396A JP H10162761 A JPH10162761 A JP H10162761A
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Abstract
確なオートフォーカスなどの動作を行うことができる走
査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法を実現す
る。 【解決手段】 試料5上に照射される電子ビームの状態
をステップ状に変化させ、このステップ状の変化ごとに
試料の所定の領域を走査し、試料から得られた信号を各
ステップ状の変化ごとに積分し、演算部32において、
得られた積分値の信号強度分布に基づいて、各ステップ
における積分信号強度とスムージング処理した信号との
ばらつきを求め、積分データのSN比に応じた信号と求
められたばらつきによって積分値の積算回数を求め、こ
の積算回数だけ信号強度分布メモリー31において積分
値の積算を行い、この積算データの信号強度分布によ
り、最大値を求める。
Description
トフォーカスやオートスティグマを行う走査電子顕微鏡
における電子ビームの調整方法に関する。
従来の走査電子顕微鏡の一例を示している。1は電子銃
(図示せず)から発生し加速された電子ビームである。
2,3は2段偏向コイルであり、2段偏向コイル2,3
の夫々には、水平と垂直方向の偏向コイルが含まれてい
る。4は対物レンズであり、対物レンズ4によって細く
集束された電子ビームは試料5に照射される。6は試料
5への電子ビームの照射によって発生した、例えば、2
次電子を検出するための検出器である。
イルには、水平走査信号発生回路7から駆動回路8を介
して水平走査信号が供給され、垂直方向偏向コイルに
は、垂直走査信号発生回路9から駆動回路10を介して
垂直走査信号が供給される。水平走査信号発生回路7と
垂直走査信号発生回路9からの走査信号の速度(周期)
は、コンピュータの如き制御回路11によって制御され
る。前記検出器6によって検出された信号は、増幅器1
2を介して水平,垂直走査信号が供給されている陰極線
管13とフィルター回路14に供給される。フィルター
回路14の出力信号は絶対値回路15を介して積分回路
16に供給され、積分回路16によって積分される。積
分回路16の積分値は、AD変換器17によってデジタ
ル信号に変換され、制御回路11内の信号強度分布メモ
リー19に記憶される。
19に記憶された多数の積分値の最大値を検出する最大
値検出ユニット20を有している。更に、制御回路11
は対物レンズ値設定データメモリー21,補助コイル値
設定データメモリー22を有している。対物レンズ値設
定データメモリー21の値は、DA変換器23を介して
対物レンズ駆動回路24に供給される。また、補助コイ
ル値設定データメモリー22の値はDA変換器25を介
して補助コイル26の駆動回路27に供給される。な
お、28は対物レンズ値変換ユニット,29はオートフ
ォーカスユニットである。このような構成の動作は次の
通りである。
走査速度となるよう制御回路11は水平走査信号発生回
路7と垂直走査信号発生回路9を制御し、その結果、所
望の偏向信号が偏向コイル2,3に供給され、電子ビー
ム1は、偏向コイル2,3により偏向を受け、試料5の
所望領域を走査する。電子ビームの試料5への照射に伴
って発生した2次電子は、検出器6によって検出され、
その検出信号は、増幅器12によって増幅された後、走
査信号が供給されている陰極線管13に供給されること
から、陰極線管13には試料の2次電子像が表示され
る。
(a)の補助コイル26の動作曲線、図2(b)の対物
レンズ4の動作曲線を参照しながら説明する。なお、図
2(a),(b)の横軸は時間であり、縦軸は励磁強度
(試料表面とレンズとの間の距離に等しい)である。ま
ず、対物レンズ値設定データメモリー21に図2(b)
に示す初期値ΔZを設定し、この初期値に基づいて対物
レンズ駆動回路24を動作させ、対物レンズ4を励磁す
る。次にオートフォーカススタートユニット29を動作
させ、補助コイル値設定データメモリー22の値を図2
(a)に示すように変化させる。図2(a)では設定値
の変化を便宜上直線状に示したが、具体的には図3
(a)に示すようにステップ状に変化させる。
2,3には試料5上の所望領域を1回走査するための走
査信号が供給される。試料5への電子ビームの照射に基
づいて発生した2次電子は検出器6によって検出され
る。検出信号は増幅器12によって増幅され、フィルタ
ー回路14によって特定の周波数成分をカットした後、
絶対値回路15において負信号が反転される。
給されて信号の積分が行われる。この積分は試料上の所
望領域の1回の2次元走査の期間実行され、その走査が
終了した後、積分値はAD変換器17を介して制御回路
11内の信号強度分布メモリー19に送られて記憶され
る。このような積分動作を補助コイル26のステップ状
の励磁変化ごとに、そして、+Aから−Aまで行うと、
図3(b)に示す分布がメモリー19に記憶されること
になる。
は、図3(b)の分布の最大値を検出し、その時の補助
コイル26への励磁強度を対物レンズ値変換ユニット2
8に供給する。なお、この最大値の励磁の時に電子ビー
ムのフォーカスが合っている。この結果、対物レンズ値
設定データメモリー21の値は初期設定値ΔZにフォー
カスが合っているときの補助コイルの励磁強度分(初期
値ΔZと合焦点位置とのずれ量)ΔZ1が加算された値
となる。対物レンズ4の励磁をΔZ+ΔZ1に設定した
後、再度上記したオートフォーカス動作を実行し、その
時のΔZ+ΔZ1と合焦点値とのずれ量ΔZ2について
は、補助コイル値設定データメモリー29にセットされ
る。このセットされる対物レンズの励磁値ΔZ1と補助
コイルの励磁値ΔZ2とは、図2(a),(b)に示さ
れている。このΔZ1とΔZ2との設定完了によってオ
ートフォーカス動作は終了する。
カス動作において、試料が半導体材料などの電子ビーム
を照射するとチャージアップしやすい試料の場合、試料
に照射する電子ビームのドーズ量が多いと、試料はチャ
ージアップする。このような現象が生じると、サンプリ
ングしている積分値に、フォーカス変化に対する十分な
変化が得られなくなる。
は、図4(a)に示すような信号が得られ、試料にチャ
ージアップが生じると、図4(b)のような信号が得ら
れる。図4(a)のチャージアップのない場合には、フ
ォーカス変化時の信号強度変化が明瞭に現れ、正確なフ
ォーカス位置の検出を行うことができる。しかし、図4
(b)の場合には、フォーカス変化時の信号強度変化が
現れにくく、正確なフォーカス位置検出が困難となる。
プしやすい試料の観察時には、試料への電子ビームのド
ーズ量を減らすようにしている。このドーズ量を減らす
方法としては、プローブ電流を減少させる、電子ビーム
の走査速度を速くする、の2つの方法が用いられる。し
かしながら、いずれの方法も、オートフォーカスで検出
するデータ量としては、減る方向であり、フォーカスピ
ークの検出が依然として困難となる。このような問題は
オートスティグマ動作を行う場合にも発生する。
もので、その目的は、チャージアップしやすい試料であ
っても、正確なオートフォーカスなどの動作を行うこと
ができる走査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法
を実現するにある。
顕微鏡における電子ビームの調整方法は、電子ビームを
試料上に細く集束するととも試料上で電子ビームを2次
元的に走査し、試料から得られた信号を検出し、検出信
号に基づいて試料の走査像を得るようにした走査電子顕
微鏡において、試料上に照射される電子ビームの状態を
ステップ状に変化させ、このステップ状の変化ごとに試
料の所定の領域を走査し、試料から得られた信号を各ス
テップ状の変化ごとに積分し、得られた積分値の信号強
度分布の最大値を求めて、電子ビームの状態をこの最大
値が得られた時の状態に固定するようにした電子ビーム
の調整方法において、前記得られた積分値の信号強度分
布に基づいて、各ステップにおける積分信号強度とスム
ージング処理した信号とのばらつきを求め、積分データ
のSN比に応じた信号と求められたばらつきによって積
分値の積算回数を求め、この積算回数だけ積算された積
分値の信号強度分布により、最大値を求めるようにした
ことを特徴としている。
子ビームの状態をステップ状に変化させ、このステップ
状の変化ごとに試料の所定の領域を走査し、試料から得
られた信号を各ステップ状の変化ごとに積分し、得られ
た積分値の信号強度分布に基づいて、各ステップにおけ
る積分信号強度とスムージング処理した信号とのばらつ
きを求め、積分データのSN比に応じた信号と求められ
たばらつきによって積分値の積算回数を求め、この積算
回数だけ積算された積分値の信号強度分布により、最大
値を求める。
施例を詳細に説明する。図5は、本発明の一実施例であ
る走査電子顕微鏡を示しており、図1の従来装置と同一
ないしは類似部分には同一番号を付し、その詳細な説明
は省略する。検出器6によって検出された信号は、増幅
器12を介して水平,垂直走査信号が供給されている陰
極線管13とフィルター回路14に供給される。フィル
ター回路14の出力信号は絶対値回路15を介して積分
回路16に供給され、積分回路16によって積分され
る。積分回路16の積分値は、AD変換器17によって
デジタル信号に変換され、制御回路11内の信号強度分
布メモリー31に記憶される。
る。信号強度分布メモリー31に記憶された各励磁強度
ステップごとの積分信号は、信号強度分布のスムージン
グ処理と、各サンプリング点における生データとスムー
ジング処理された値とのばらつきを検出する処理と、後
述するばらつきの比を求める処理を行う演算部32に供
給される。
信号の最適積算回数の設定を行い、この設定された積算
回数に基づいて信号強度分布メモリー31における信号
の積算回数を制御する。このような構成の動作は次の通
りである。
レンズ4のフォーカス合わせを行う場合も図1の従来装
置と同様にして行われる。ここで、試料5が半導体材料
のようなチャージアップしやすい試料である場合、垂直
走査信号発生回路7と水平走査信号発生回路9からの走
査信号は、高速走査のモードに切り換えられる。この結
果、試料5は、速い速度で電子ビームにより2次元的に
走査される。
は、検出器6によって検出される。検出信号は増幅器1
2によって増幅され、フィルター回路14によって特定
の周波数成分をカットした後、絶対値回路15において
負信号が反転される。
給されて信号の積分が行われる。この積分は試料上の所
望領域の1回の2次元走査の期間実行され、その走査が
終了した後、積分値はAD変換器17を介して制御回路
11内の信号強度分布メモリー31に送られて記憶され
る。このような積分動作を補助コイル26のステップ状
の励磁変化ごとに、図3(b)に示す分布がメモリー1
9に記憶されることになる。
信号は、演算部32に供給される。演算部32に供給さ
れる信号強度分布のデータは、演算部32においてまず
スムージング処理が施される。図6はスムージング処理
された信号強度分布波形Wと生のサンプリングデータS
1 〜Sn を示している。演算部32はスムージング処理
をした後、各生データごとにスムージングデータとのば
らつき(各サンプリング点での生データ信号強度とスム
ージング信号強度との差)D1 〜Dn を求める。
いて、それらの絶対値の加算を行い、ばらつきの平均値
Aを求める。その後、スムージング処理をした信号につ
いて、最大値P1 と最小値P2 を求め、その差(P1 −
P2 )を求める。この差は、信号レベルLを示してい
る。更に、この信号レベルLとばらつきの平均値Aによ
りばらつきの係数Cを次式により求める。
SN比は(P1 −P2)/P2 によって求められる。こ
の演算後、次の式によって定義されるばらつきの比Rが
求められる。なお、次式でkは定数である。
ークとして検出できるまで、すなわち、SN比が良くな
るまで、1サンプリング点当たりの積算回数値を求め
る。例えば、ばらつきの比が5以上必要となる場合、k
=1とすると、1サンプリング点当たりの積算回数N
は、次の通りとなる。
度分布メモリー31に送られ、積分回路16によって積
分された各フォーカス状態の積分値は、上記積算回数N
だけ積算処理が行われる。なお、この際、演算部32か
らの積算回数Nの信号は、補助コイル値設定データメモ
リー22にも供給され、指定された回数の積算の間、同
じ励磁強度の信号を補助コイル26に供給するように構
成されている。
Nだけ積算されたデータは、演算部32を介して最大値
検出ユニット20に送られ、信号分布の最大値が検出さ
れる。この検出動作は、信号のSN比が高められている
ので、正確に行うことができる。この最大値の得られた
時の補助コイル26への励磁強度は、対物レンズ値変換
ユニット28に供給され、図1の従来装置と同様にフォ
ーカス合わせが実行される。
既に十分なSN比が得られた場合は、そのまま信号強度
分布データはメモリー31から演算部32を介して最大
値検出ユニット20に送られる。
ャージアップしやすい試料に対して、電子ビームの走査
速度を速くしても、最大値の検出をSN比良く行うこと
ができる。なお、図5に示した実施の形態では、オート
フォーカスの動作中に、SN比を改善するための積算回
数を演算するようにしたが、予め、試料の種類によって
上記積算回数を求めて記憶しておき、実際のオートフォ
ーカス動作の時には、観察試料に応じて電子ビームの走
査速度とそれに対応した積算回数とを読みだし、オート
フォーカス動作を行っても良い。
明はこの実施例に限定されない。例えば、2次電子を検
出したが、反射電子を検出してもよい。また、オートフ
ォーカス動作を例に説明したが、本発明はオートフォー
カス動作だけでなく、オートスティグマを行う際にも用
いることができる。オートスティグマの場合には、ステ
ィグメータにより電子ビームの形状をステップ状に変化
させ、各変化ごとに試料の所定の2次元領域を走査す
る。
査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法は、試料上
に照射される電子ビームの状態をステップ状に変化さ
せ、このステップ状の変化ごとに試料の所定の領域を走
査し、試料から得られた信号を各ステップ状の変化ごと
に積分し、得られた積分値の信号強度分布に基づいて、
各ステップにおける積分信号強度とスムージング処理し
た信号とのばらつきを求め、積分データのSN比に応じ
た信号と求められたばらつきによって積分値の積算回数
を求め、この積算回数だけ積算された積分値の信号強度
分布により、最大値を求めるようにした。
ップしやすい試料の場合でも、自動的にオートフォーカ
スやオートスティグマ動作時に、最適な積算回数を設定
して信号の積算を行い、SN比を向上させてそれらの動
作をさせることができる。したがって、正確にフォーカ
ス位置の検出を行うことができる。
図である。
動作を説明するために用いた信号波系図である。
動作を説明するために用いた信号波系図である。
信号変化を示す図である。
図である。
プリングデータを示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 電子ビームを試料上に細く集束するとと
も試料上で電子ビームを2次元的に走査し、試料から得
られた信号を検出し、検出信号に基づいて試料の走査像
を得るようにした走査電子顕微鏡において、試料上に照
射される電子ビームの状態をステップ状に変化させ、こ
のステップ状の変化ごとに試料の所定の領域を走査し、
試料から得られた信号を各ステップ状の変化ごとに積分
し、得られた積分値の信号強度分布の最大値を求めて、
電子ビームの状態をこの最大値が得られた時の状態に固
定するようにした電子ビームの調整方法において、前記
得られた積分値の信号強度分布に基づいて、各ステップ
における積分信号強度とスムージング処理した信号との
ばらつきを求め、積分データのSN比に応じた信号と求
められたばらつきによって積分値の積算回数を求め、こ
の積算回数だけ積算された積分値の信号強度分布によ
り、最大値を求めるようにした走査電子顕微鏡における
電子ビームの調整方法。 - 【請求項2】 電子ビームの調整は、ステップ状に電子
ビームのフォーカスを変化させ、電子ビームのオートフ
ォーカスを行う請求項1記載の走査電子顕微鏡における
電子ビームの調整方法。 - 【請求項3】 電子ビームの調整は、ステップ状に電子
ビームの形状を変化させ、電子ビームのオートスティグ
マを行う請求項1記載の走査電子顕微鏡における電子ビ
ームの調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32289396A JP3364400B2 (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 走査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法ならびに走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32289396A JP3364400B2 (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 走査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法ならびに走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10162761A true JPH10162761A (ja) | 1998-06-19 |
| JP3364400B2 JP3364400B2 (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=18148798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32289396A Expired - Fee Related JP3364400B2 (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 走査電子顕微鏡における電子ビームの調整方法ならびに走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3364400B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010082477A1 (ja) * | 2009-01-15 | 2010-07-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電ビーム装置 |
-
1996
- 1996-12-03 JP JP32289396A patent/JP3364400B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010082477A1 (ja) * | 2009-01-15 | 2010-07-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電ビーム装置 |
| US8478021B2 (en) | 2009-01-15 | 2013-07-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged beam device |
| JP5506699B2 (ja) * | 2009-01-15 | 2014-05-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電ビーム装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3364400B2 (ja) | 2003-01-08 |
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