JPH10163304A - 薄板用支持器 - Google Patents

薄板用支持器

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JPH10163304A
JPH10163304A JP32323096A JP32323096A JPH10163304A JP H10163304 A JPH10163304 A JP H10163304A JP 32323096 A JP32323096 A JP 32323096A JP 32323096 A JP32323096 A JP 32323096A JP H10163304 A JPH10163304 A JP H10163304A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 隣接する半導体ウエハA同士が接触するのを
防止する。 【解決手段】 半導体ウエハAを多数枚同時に支持する
半導体ウエハキャリア1である。2枚対向して設けられ
る端壁2,3と、各端壁2,3をつないだ状態で対向して
設けられ内側面に多数の半導体ウエハAを相互に一定間
隔を保って支持する水平支持用リブ4を備えた側壁5,
6と、各側壁5,6をつないだ状態で側壁5,6の奥側に
設けられ内側面に多数の半導体ウエハAを相互に一定間
隔を保って支持する両方向支持用リブ7を備えた奥側支
持部8,9とを有して構成した。水平支持用リブ4は、
半導体ウエハAを水平に正確に支持するように、ウエハ
支持面4Aをほぼ水平に形成し、両方向支持用リブ7
を、入口部7Aと奥部7Bとから構成し、入口部7Aを
水平に形成すると共に、奥部7BをV溝状に形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
薄板を複数枚同時に支持し、保管、搬送、洗浄等をまと
めて行う薄板用支持器に関し、特に大型の半導体ウエハ
等の薄板に用いて好適な薄板用支持器に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】薄板を複数枚同時に支持して保管や搬送
等を行う薄板用支持器としては、例えば薄板として半導
体ウエハを用いた半導体ウエハキャリアが知られてい
る。この半導体ウエハキャリアは主に、2枚対向して設
けられる端壁と、各端壁をつないだ状態で対向して設け
られた側壁と、各端壁をつないだ状態で側壁の奥側に設
けられた奥側支持部とを備えて構成されている。
【0003】各側壁と奥側支持部の内側面には、多数の
薄板を相互に一定間隔を保って支持する支持用リブが設
けられている。この支持用リブは、側壁と奥側支持部と
で同様の断面形状を有している。即ち、大型の半導体ウ
エハに対しては、水平状態に正確に支持することが優先
されるため、各支持用リブは全部、その上側面をほぼ水
平面になるように、正確には1°の傾斜角を設けて、形
成されている。各支持用リブの間に基端部は、半導体ウ
エハの出し入れの際に、半導体ウエハと各リブとが互い
に接触しないように、一定間隔を空けて形成されてい
る。例えば、直径30cmの半導体ウエハの場合には、
半導体ウエハがウエハキャリア内に収納されたときに、
半導体ウエハの上側面と支持用リブの下側面との間隔が
6mm程度になるように設定されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前述のよう
に、各側壁と奥側支持部に設けられた支持用リブの基端
部が一定間隔を空けて形成されていると、ウエハキャリ
アを縦に配置したときに、収納された半導体ウエハが、
左右にばらつくことがある。即ち、各半導体ウエハの下
端部は、奥側支持部の基端部でその位置決めがなされる
ことなく、ばらばらに支持される。この状態では、各半
導体ウエハは、ばらばらの角度で各支持用リブに支持さ
れるため、その上部が大きく左右にずれて、最悪の場
合、互いに接触することがあるという問題点がある。
【0005】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
で、水平状態で半導体ウエハ等の薄板を正確に水平に支
持すると共に、垂直状態で薄板を互いに接触することな
く一定間隔を保って支持できる薄板用支持器を提供する
ことを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に第1の発明は、薄板を多数枚同時に支持する薄板用支
持器において、2枚対向して設けられる端壁と、各端壁
をつないだ状態で対向して設けられ内側面に前記多数の
薄板を相互に一定間隔を保って支持する支持用リブを備
えた側壁と、各端壁をつないだ状態で前記側壁の奥側に
設けられ内側面に前記多数の薄板を相互に一定間隔を保
って支持する支持用リブを備えた奥側支持部とを有し、
前記側壁の支持用リブが、薄板を水平に正確に支持する
ように、水平状態での上側面をほぼ水平に形成され、前
記奥側支持部の支持用リブが、入口部と奥部とを有し、
入口部が、前記側壁の支持用リブと共に、前記薄板を水
平に正確に支持するように、水平状態での上側面をほぼ
水平に形成されると共に、奥部が、薄板を垂直に支持す
るときに、各薄板の下端部を位置決めして支持し薄板が
大きく傾斜するのを抑えるように、V溝状に形成された
ことを特徴とする。
【0007】前記構成により、薄板用支持器を水平に配
置して水平状態にするときには、側壁の支持用リブの上
側面と、奥側支持部の支持用リブの入口部の上側面とに
薄板が載置される。これにより、薄板は正確に水平に支
持される。
【0008】薄板用支持器を垂直に配置して垂直状態に
するときには、奥側支持部の支持用リブの奥部で、薄板
が支持される。これにより、薄板の下端部は、奥部のV
溝部に入り込んでその位置が固定される。この結果、薄
板は、その下部をずれないように支持された状態で、上
下方向中央付近が側壁の支持用リブに支持される。これ
により、薄板が大きく傾斜することはなく、隣接する薄
板の上端部が互いに接触するのを防止することができ
る。
【0009】第2の発明は、前記奥側支持部が、棒状ま
たは板状に形成され、前記側壁の奥側に1本または2本
以上設けられたことを特徴とする。
【0010】前記構成により、奥側支持部が薄板を薄板
用支持器に奥側から確実に支持することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面に基づいて説明する。本発明の薄板用支持器は、半導
体ウエハ、記憶ディスク、液晶板等の薄板を複数枚並列
に支持するものである。以下、薄板として半導体ウエハ
を、薄板用支持器として半導体ウエハキャリアを用いた
場合を例に説明する。
【0012】本実施形態の半導体ウエハキャリア1は、
特に30cm程の大型の半導体ウエハを収納するのに適
したキャリアである。図1から図5に示すように、2枚
対向して設けられる端壁2,3と、各端壁2,3をつない
だ状態で対向して設けられ内側面に水平支持用リブ4を
備えた側壁5,6と、各端壁2,3をつないだ状態で側壁
5,6の奥側(図2中の左側)に設けられその内側面
(図2中の右側面)に両方向支持用リブ7を備えた奥側
支持部8,9とを有して構成されている。
【0013】端壁2,3は、ほぼ円盤状に形成されてい
る。一方の端壁3の外側面には、図2、図4及び図6に
示すように、半導体ウエハキャリア1の位置決めを行う
ための位置決め用嵌合部11が形成されている。この位
置決め用嵌合部11は、3つの嵌合片から構成されてい
る。各嵌合片は、V型溝11Aを有して構成され、各溝
11Aがほぼ120°間隔で3方向に配設されている。
なお、突起片12は、半導体ウエハキャリア1の位置決
めのときに、大きくずれるのを防止するストッパーであ
る。
【0014】側壁5,6は、各端壁2,3の張り出し部2
A,3Aに一体に接続されて、各端壁2,3を互いにつな
いでいる。この側壁5,6は、張り出し部2A,3Aに沿
って湾曲して形成されている。正確には、奥側(図2中
の左側)が、半導体ウエハキャリア1内に収納された半
導体ウエハAの外周縁に沿うように大きく湾曲して形成
されている。側壁5,6の入口側(図2中の右側)は、
その端部が開いて形成され、半導体ウエハAの出し入れ
を容易にしている。
【0015】水平支持用リブ4は、多数の半導体ウエハ
Aを相互に一定間隔を保って支持するもので、各側壁
5,6の内側面に沿って形成されている。即ち、全体が
湾曲し、入口側に向けて開いた状態に形成されている。
この水平支持用リブ4は、入口側と奥側とでその断面形
状を異にしている。入口側では、図7に示すように、半
導体ウエハAを水平状態に支持するときに、半導体ウエ
ハAと接触する上側面となるウエハ支持面4Aはほぼ水
平状態に、正確には1°の傾斜を設けて形成されてい
る。下側面4Bは、半導体ウエハAを半導体ウエハキャ
リア1に対して出し入れする際の障害にならないよう
に、多少傾斜して(ウエハ支持面4Aとの間が開くよう
に傾斜して)形成されている。さらに、ウエハ支持面4
A及び下側面4Bの底部4Cは、下側面4B側からウエ
ハ支持面4A側へ向けて、かつ内側へ向けて大きな角度
(例えば、水平に対して60°〜80°程度の角度)に
形成されている。これは、半導体ウエハキャリア1に挿
入された半導体ウエハAが内部で左右にずれても傾斜面
に乗り上げて、半導体ウエハAの水平状態が損なわれな
いようにするためである。
【0016】水平支持用リブ4の奥側では、図8に示す
ように形成されている。即ち、ウエハ支持面13Aは、
前記ウエハ支持面4Aと同様に、ほぼ水平に形成されて
いる。下側面13Bは、前記下側面4Bよりも小さい角
度(水平に対して小さい角度)に形成されている。さら
に、ウエハ支持面13A及び下側面13Bの底部13C
は、入口側と異なり、V溝状に形成されている。これ
は、半導体ウエハキャリア1を縦に配置して、半導体ウ
エハAを垂直に支持する際に、後述する両方向支持用リ
ブ7の奥部7BのV溝と相まって半導体ウエハAの下端
部を位置決めして支持するためである。
【0017】奥側支持部8,9は、各端壁2,3をつない
でこれらを支持すると共に、半導体ウエハキャリア1を
垂直に配置した状態で、半導体ウエハキャリア1の脚部
として機能する。即ち、奥側支持部8,9の外側面は、
載置台に安定して載置されるように、平坦に形成されて
いる。そして、この奥側支持部8,9の内側面に両方向
支持用リブ7が形成されている。この両方向支持用リブ
7は、多数の半導体ウエハAを相互に一定間隔を保って
支持するもので、入口部7Aと奥部7Bとから構成され
ている。入口部7Aのウエハ支持面14Aは、側壁5,
6の水平支持用リブ4のウエハ支持面4Aと相まって、
半導体ウエハAを水平に正確に支持するように、ほぼ水
平状態に、正確には1°の傾斜を設けて形成されてい
る。下側面14Bもウエハ支持面14Aと同様に、ほぼ
水平状態に形成されている。なお、各面14A,14B
の傾斜方向は、それらの面が開くように、互いに逆方向
に設定されている。
【0018】両方向支持用リブ7の奥部7Bは、V溝状
に形成されている。この形状により、半導体ウエハキャ
リア1を垂直に配置して、半導体ウエハAを垂直状態に
支持するときに、その半導体ウエハAの下端部がV溝部
の最奥まではまり込んで位置決めして支持されるように
なっている。これにより、半導体ウエハAは、その下端
部を奥部7Bで支持され、上下方向中央付近を水平支持
用リブ4で支持されて、大きく傾斜しないようになって
いる。
【0019】以上のように構成された半導体ウエハキャ
リア1は、内部に半導体ウエハAを挿入して、保管、搬
送、洗浄等の用に供される。半導体ウエハAを半導体ウ
エハキャリア1内に挿入するときは、まず半導体ウエハ
キャリア1が載置台(図示せず)に正確に位置決めされ
て載置される。具体的には、端壁3の位置決め用嵌合部
11が載置台側に設けられた位置決め用被嵌合部に嵌合
するように載置される。これにより、半導体ウエハキャ
リア1がその位置及び方向を正確に調整されて、載置台
上に載置される。
【0020】次いで、搬送ロボット(図示せず)が、ア
ームに載置した半導体ウエハAを半導体ウエハキャリア
1内に挿入する。このとき、水平支持用リブ4のウエハ
支持面4A及び下側面4Bは外側に向けて開いていると
共にそれらの間隔が広いので、容易に出し入れすること
ができる。さらに、水平支持用リブ4のウエハ支持面4
A及び両方向支持用リブ7のウエハ支持面14Aに確実
に載置され、傾斜面に乗り上げて傾くこともないので、
半導体ウエハAは、正確に水平状態に保たれる。
【0021】一方、半導体ウエハキャリア1は、縦方向
にして載置されたり、搬送されることもある。このとき
には、半導体ウエハAが垂直に支持される。即ち、半導
体ウエハキャリア1が縦に配置されることで、半導体ウ
エハAは、奥側支持部8,9の両方向支持用リブ7に直
接に接触する。これにより、半導体ウエハAの周縁部が
奥部7BのV溝部にはまり込み、位置決め支持される。
さらに、半導体ウエハAの中間位置は、水平支持用リブ
4に支持される。この状態で、半導体ウエハキャリア1
が搬送されたり、処理されたりする。このとき、半導体
ウエハAが多少傾いたり、揺れてたりすることがある
が、その半導体ウエハAは、両方向支持用リブ7でその
下端部が確実に位置決め支持された状態で、水平支持用
リブ4で中間部が支持されているので、半導体ウエハA
が大きく左右に揺れることはなくなる。
【0022】これにより、隣接する半導体ウエハA同士
がその上端部で接触することがなくなり、半導体ウエハ
Aの表面の損傷を確実に防止することがきでるようにな
る。
【0023】[変形例]前記実施形態では、両方向支持
用リブ7を奥側に1本設けたが、2本以上設けてもよ
い。これによっても、前記実施形態同様の効果を奏する
ことができる。
【0024】また、前記実施形態では、奥側支持部8,
9を棒状に形成したが、板状に形成してもよい。
【0025】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の薄板用支
持器によれば、次のような効果を奏することができる。
【0026】側壁の支持用リブの、水平状態での上側面
を、ほぼ水平に形成すると共に、奥側支持部の支持用リ
ブの入口部を水平に形成し、奥部をV溝状に形成したの
で、薄板を垂直状態に確実に支持することができ、隣接
する薄板同士がその上端部で接触するのを確実に防止す
ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体ウエハキャリアを示す側面
図である。
【図2】本発明に係る半導体ウエハキャリアを示す正面
断面図である。
【図3】本発明に係る半導体ウエハキャリアを示す正面
図である。
【図4】本発明に係る半導体ウエハキャリアを示す背面
図である。
【図5】本発明に係る半導体ウエハキャリアを示す平面
図である。
【図6】本発明に係る半導体ウエハキャリアの位置決め
用嵌合部を示す断面図である。
【図7】本発明に係る半導体ウエハキャリアの水平支持
用リブの入口側を示す断面図である。
【図8】本発明に係る半導体ウエハキャリアの水平支持
用リブの奥側を示す断面図である。
【図9】本発明に係る半導体ウエハキャリアの両方向支
持用リブを示す断面図である。
【符号の説明】
1:半導体ウエハキャリア、2,3:端壁、4:水平支
持用リブ、5,6:側壁、7:両方向支持用リブ、8,
9:奥側支持部、11:位置決め用嵌合部。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年3月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】本実施形態の半導体ウエハキャリア1は、
特に30cm程の大型の半導体ウエハを収納するのに適
したキャリアである。この半導体ウエハキャリア1は、
図1から図5及び図10に示すように、2枚対向して設
けられる端壁2, 3と、各端壁2, 3をつないだ状態で
対向して設けられ内側面に水平支持用リブ4を備えた側
壁5, 6と、各端壁2, 3をつないだ状態で側壁5, 6
の奥側(図2中の左側)に設けられその内側面(図2中
の右側面)に両方向支持用リブ7を備えた奥側支持部
8, 9とを有して構成されている。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】端壁2, 3は、ほぼ円盤状に形成されてい
る。一方の端壁3の外側面には、図2、図4、図6及び
図10に示すように、半導体ウエハキャリア1の位置決
めを行うための位置決め用嵌合部11が形成されてい
る。この位置決め用嵌合部11は、3つの嵌合片から構
成されている。各嵌合片は、V型溝11Aを有して構成
され、各溝11Aがほぼ120°間隔で3方向に配設さ
れている。なお、突起片12は、半導体ウエハキャリア
1の位置決めのときに、大きくずれるのを防止するスト
ッパーである。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0017
【補正方法】変更
【補正内容】
【0017】奥側支持部8, 9は、図3及び図4に示す
ように、各端壁2, 3をつないでこれらを支持すると共
に、半導体ウエハキャリア1を垂直に配置した状態で、
半導体ウエハキャリア1の脚部として機能する。即ち、
奥側支持部8, 9の外側面は、載置台に安定して載置さ
れるように、平坦に形成されている。そして、この奥側
支持部8, 9の内側面に両方向支持用リブ7が形成され
ている。この両方向支持用リブ7は、多数の半導体ウエ
ハAを相互に一定間隔を保って支持するもので、図9に
示すように、入口部7Aと奥部7Bとから構成されてい
る。入口部7Aのウエハ支持面14Aは、側壁5, 6の
水平支持用リブ4のウエハ支持面4Aと相まって、半導
体ウエハAを水平に正確に支持するように、ほぼ水平状
態に、正確には1°の傾斜を設けて形成されている。下
側面14Bもウエハ支持面14Aと同様に、ほぼ水平状
態に形成されている。なお、各面14A, 14Bの傾斜
方向は、それらの面が開くように、互いに逆方向に設定
されている。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図10
【補正方法】追加
【補正内容】
【図10】本発明に係る半導体ウエハキャリアを示す斜
視図である。
【手続補正5】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正6】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正7】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図4
【補正方法】変更
【補正内容】
【図4】
【手続補正9】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
【手続補正10】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図6
【補正方法】変更
【補正内容】
【図6】
【手続補正11】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図7
【補正方法】変更
【補正内容】
【図7】
【手続補正12】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図8
【補正方法】変更
【補正内容】
【図8】
【手続補正13】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図9
【補正方法】変更
【補正内容】
【図9】
【手続補正14】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図10
【補正方法】追加
【補正内容】
【図10】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 薄板を多数枚同時に支持する薄板用支持
    器において、 2枚対向して設けられる端壁と、 各端壁をつないだ状態で対向して設けられ内側面に前記
    多数の薄板を相互に一定間隔を保って支持する支持用リ
    ブを備えた側壁と、 各端壁をつないだ状態で前記側壁の奥側に設けられ内側
    面に前記多数の薄板を相互に一定間隔を保って支持する
    支持用リブを備えた奥側支持部とを有し、 前記側壁の支持用リブが、薄板を水平に正確に支持する
    ように、水平状態での上側面をほぼ水平に形成され、 前記奥側支持部の支持用リブが、入口部と奥部とを有
    し、入口部が、前記側壁の支持用リブと共に、前記薄板
    を水平に正確に支持するように、水平状態での上側面を
    ほぼ水平に形成されると共に、奥部が、薄板を垂直に支
    持するときに、各薄板の下端部を位置決めして支持し薄
    板が大きく傾斜するのを抑えるように、V溝状に形成さ
    れたことを特徴とする薄板用支持器。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の薄板用支持器におい
    て、 前記奥側支持部が、棒状または板状に形成され、前記側
    壁の奥側に1本または2本以上設けられたことを特徴と
    する薄板用支持器。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1133437A1 (en) 1998-07-10 2001-09-19 Fluoroware, Inc. Cushioned wafer container
JP2008147535A (ja) * 2006-12-13 2008-06-26 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板用キャリア
KR20140001111A (ko) * 2012-06-26 2014-01-06 가부시기가이샤 디스코 수용 카세트

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1133437A1 (en) 1998-07-10 2001-09-19 Fluoroware, Inc. Cushioned wafer container
KR100843732B1 (ko) * 1998-07-10 2008-07-04 엔테그리스, 아이엔씨. 쿠션을 댄 웨이퍼 컨테이너
EP1133437B1 (en) * 1998-07-10 2014-05-14 Entegris, Inc. Cushioned wafer container
JP2008147535A (ja) * 2006-12-13 2008-06-26 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板用キャリア
KR20140001111A (ko) * 2012-06-26 2014-01-06 가부시기가이샤 디스코 수용 카세트

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