JPH10177253A - 自動現像機における感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 - Google Patents
自動現像機における感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置Info
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 自動現像機を用いて繰り返して使用される現
像液でPS版を処理する際、長期間に亘り該自動現像機
を停止した場合でも、現像液の活性度の変動がなく、安
定した現像処理が達成されるPS版の自動現像機におけ
る処理方法及び該PS版の処理装置を提供する。 【解決手段】 感光性平版印刷版を繰り返し使用される
現像液で現像する自動現像機の稼働停止時から再稼働時
迄の現像液の活性度の低下を、該現像液の補充液を添加
して補償する自動現像機を用いた感光性平版印刷版の処
理方法において、自動現像機の停止時間に応じて補充液
量の割合を少なくすることを特徴とする自動現像機にお
ける感光性平版印刷版の処理方法。
像液でPS版を処理する際、長期間に亘り該自動現像機
を停止した場合でも、現像液の活性度の変動がなく、安
定した現像処理が達成されるPS版の自動現像機におけ
る処理方法及び該PS版の処理装置を提供する。 【解決手段】 感光性平版印刷版を繰り返し使用される
現像液で現像する自動現像機の稼働停止時から再稼働時
迄の現像液の活性度の低下を、該現像液の補充液を添加
して補償する自動現像機を用いた感光性平版印刷版の処
理方法において、自動現像機の停止時間に応じて補充液
量の割合を少なくすることを特徴とする自動現像機にお
ける感光性平版印刷版の処理方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版を
自動現像機を用いて現像処理を行う際、該自動現像機の
稼働を停止している期間中における現像液の補充方法及
び現像処理装置に関する。
自動現像機を用いて現像処理を行う際、該自動現像機の
稼働を停止している期間中における現像液の補充方法及
び現像処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、自動現像機を用いて感光性平版印
刷版(以下単にPS版ともいう)を繰り返し使用される
現像液で現像処理する場合には、現像処理による現像液
の活性度の低下及び経時による現像液の活性度の低下
(即ち空気中の炭酸ガスを吸収することによる活性度の
低下)を、補充液を添加することにより補償する方法が
とられている。
刷版(以下単にPS版ともいう)を繰り返し使用される
現像液で現像処理する場合には、現像処理による現像液
の活性度の低下及び経時による現像液の活性度の低下
(即ち空気中の炭酸ガスを吸収することによる活性度の
低下)を、補充液を添加することにより補償する方法が
とられている。
【0003】又、自動現像機の停止時(電源が入ってい
ない状態)における現像液の経時疲労に対する補充は、
単位時間当たり一定量の補充液を補充する方式、例え
ば自動現像機の停止時間(hr)×単位時間当たりの補
充液量(ml/hr)や、単位時間当たりの補充液量
に、現像液温度や室温などを加味した係数を乗じたもの
を補充する方式などが行われている。
ない状態)における現像液の経時疲労に対する補充は、
単位時間当たり一定量の補充液を補充する方式、例え
ば自動現像機の停止時間(hr)×単位時間当たりの補
充液量(ml/hr)や、単位時間当たりの補充液量
に、現像液温度や室温などを加味した係数を乗じたもの
を補充する方式などが行われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方式では停止時間が長くなった場合に現像液の活性度
を一定に保つことが難しく、その結果補充が行われた直
後では、現像液の活性度が元のレベルに対してかなり高
くなるので現像処理が不安定になってしまうという欠点
があった。
の方式では停止時間が長くなった場合に現像液の活性度
を一定に保つことが難しく、その結果補充が行われた直
後では、現像液の活性度が元のレベルに対してかなり高
くなるので現像処理が不安定になってしまうという欠点
があった。
【0005】本発明者等は、鋭意検討の結果、前記自動
現像機の停止時における前記補充液量に関して、更に改
良が必要であることに気付き本発明を完成したのであ
る。
現像機の停止時における前記補充液量に関して、更に改
良が必要であることに気付き本発明を完成したのであ
る。
【0006】本発明は上記実情に鑑みて提案されたもの
であり、その目的とするところは、自動現像機を用いて
繰り返して使用される現像液でPS版を処理する際、長
期間に亘り該自動現像機を停止した場合でも、現像液の
活性度の変動がなく、安定した現像処理が達成されるP
S版の自動現像機における処理方法及び該PS版の処理
装置を提供することにある。
であり、その目的とするところは、自動現像機を用いて
繰り返して使用される現像液でPS版を処理する際、長
期間に亘り該自動現像機を停止した場合でも、現像液の
活性度の変動がなく、安定した現像処理が達成されるP
S版の自動現像機における処理方法及び該PS版の処理
装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
以下の構成により達成される。
以下の構成により達成される。
【0008】1.感光性平版印刷版を繰り返し使用され
る現像液で現像する自動現像機の稼働停止時から再稼働
時迄の現像液の活性度の低下を、該現像液の補充液を添
加して補償する自動現像機における感光性平版印刷版の
処理方法において、自動現像機の停止時間に応じて補充
液量の割合を少なくすることを特徴とする自動現像機に
おける感光性平版印刷版の処理方法。
る現像液で現像する自動現像機の稼働停止時から再稼働
時迄の現像液の活性度の低下を、該現像液の補充液を添
加して補償する自動現像機における感光性平版印刷版の
処理方法において、自動現像機の停止時間に応じて補充
液量の割合を少なくすることを特徴とする自動現像機に
おける感光性平版印刷版の処理方法。
【0009】2.下記一般式(I)で表される補充液量
Hを補充することを特徴とする前記1に記載の自動現像
機における感光性平版印刷版の処理方法。
Hを補充することを特徴とする前記1に記載の自動現像
機における感光性平版印刷版の処理方法。
【0010】一般式(I) 補充液量H=T×A×C T:自動現像機の停止時間(hr) A:単位時間当たりの補充液量(ml/hr) C:停止時間に対する変動係数(自動現像機の停止時間
に応じて減少) 3.感光性平版印刷版を自動的に搬送し、補充液を補充
して繰り返し使用される現像液で現像する自動現像機に
おける感光性平版印刷版の処理装置において、前記一般
式(I)で表される補充液量で補充する手段を有するこ
とを特徴とする自動現像機における感光性平版印刷版の
処理装置。
に応じて減少) 3.感光性平版印刷版を自動的に搬送し、補充液を補充
して繰り返し使用される現像液で現像する自動現像機に
おける感光性平版印刷版の処理装置において、前記一般
式(I)で表される補充液量で補充する手段を有するこ
とを特徴とする自動現像機における感光性平版印刷版の
処理装置。
【0011】本発明は、自動現像機におけるPS版の処
理方法及び処理装置の改良であり、該自動現像機の停止
時間中の現像液の活性度の低下(主として空気中の炭酸
ガスの吸収による活性度の低下)を補償するための補充
液量を該自動現像機の停止時間に対応(ほぼ比例)して
減少する変動係数(C)で補正した点に特長がある。
理方法及び処理装置の改良であり、該自動現像機の停止
時間中の現像液の活性度の低下(主として空気中の炭酸
ガスの吸収による活性度の低下)を補償するための補充
液量を該自動現像機の停止時間に対応(ほぼ比例)して
減少する変動係数(C)で補正した点に特長がある。
【0012】即ち、本発明に用いられるPS版の処理方
法及び処理装置では、自動現像機の停止時間中の現像液
の活性度の低下を補償するための補充液量をH(ml)
としたとき、補充液量H(ml)=自動現像機の停止時
間T(hr)×単位時間当たりの補充液量A(ml/h
r)×停止時間に対する変動係数C(自動現像機の停止
時間に対応して減少)で表される。
法及び処理装置では、自動現像機の停止時間中の現像液
の活性度の低下を補償するための補充液量をH(ml)
としたとき、補充液量H(ml)=自動現像機の停止時
間T(hr)×単位時間当たりの補充液量A(ml/h
r)×停止時間に対する変動係数C(自動現像機の停止
時間に対応して減少)で表される。
【0013】上記変動係数(C)は従来の、補充液量H
(ml)=自動現像機の停止時間T(hr)×単位時間
当たりの補充液量A(ml/hr)に基ずくPS版の処
理方法の欠点を改良するために導入されたものであり、
該変動係数を導入して補充液を補充することにより、自
動現像機を長期間停止した後、現像を再開した場合でも
現像液の活性度の変動がなく、安定した現像処理を達成
することができる。
(ml)=自動現像機の停止時間T(hr)×単位時間
当たりの補充液量A(ml/hr)に基ずくPS版の処
理方法の欠点を改良するために導入されたものであり、
該変動係数を導入して補充液を補充することにより、自
動現像機を長期間停止した後、現像を再開した場合でも
現像液の活性度の変動がなく、安定した現像処理を達成
することができる。
【0014】本発明者等は特定の処理装置を用いて、P
S版の種類、現像液の種類、該処理装置の停止時間等を
変化させて、他数回の実験を繰り返して、上記変動係数
(C)をもとめた。なお、上記のようにして得られた変
動係数(C)は、0<C≦1.0の範囲で任意の値をと
ることができる。
S版の種類、現像液の種類、該処理装置の停止時間等を
変化させて、他数回の実験を繰り返して、上記変動係数
(C)をもとめた。なお、上記のようにして得られた変
動係数(C)は、0<C≦1.0の範囲で任意の値をと
ることができる。
【0015】本発明に用いられる現像液及び補充液は、
保存中空気と接触することにより、炭酸ガスを吸収して
アルカリ性が低下し、かつ活性度が低下する特性を有す
るものであり、好ましくはpHが8.0以上、より好ま
しくはpHが12以上のものである。
保存中空気と接触することにより、炭酸ガスを吸収して
アルカリ性が低下し、かつ活性度が低下する特性を有す
るものであり、好ましくはpHが8.0以上、より好ま
しくはpHが12以上のものである。
【0016】次に、本発明に用いられる現像液及び補充
液の具体的な構成について以下に説明する。
液の具体的な構成について以下に説明する。
【0017】〔現像液、補充液〕本発明に用いられる代
表的な現像液及び補充液は、水を主たる溶媒とする(現
像液の溶媒の50重量%以上が水である)アルカリ性の
溶液であり、該現像液及び補充液の組成は、o−キノン
ジアジド化合物又はジアゾ樹脂を感光成分とするPS版
の現像に通常用いられる現像液及び補充液であることが
でき、アルカリ剤の外に、例えば有機還元剤、有機溶
剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、有機酸等を含有
することができる。更に、現像剤の現像性を高めるた
め、その他の公知の添加剤を添加することができる。
表的な現像液及び補充液は、水を主たる溶媒とする(現
像液の溶媒の50重量%以上が水である)アルカリ性の
溶液であり、該現像液及び補充液の組成は、o−キノン
ジアジド化合物又はジアゾ樹脂を感光成分とするPS版
の現像に通常用いられる現像液及び補充液であることが
でき、アルカリ剤の外に、例えば有機還元剤、有機溶
剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、有機酸等を含有
することができる。更に、現像剤の現像性を高めるた
め、その他の公知の添加剤を添加することができる。
【0018】〈アルカリ剤〉上記現像液及び補充液が含
有するアルカリ剤としては、主としてアルカリ金属珪酸
塩が用いられ、具体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、珪酸リチウム等であり、これらの単独又は組み合わ
せであってもよいが、好ましくは珪酸カリウムである。
有するアルカリ剤としては、主としてアルカリ金属珪酸
塩が用いられ、具体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、珪酸リチウム等であり、これらの単独又は組み合わ
せであってもよいが、好ましくは珪酸カリウムである。
【0019】なお、現像液及び補充液中のアルカリ金属
のモル濃度[M]に対する二酸化珪素のモル濃度[Si
O2]の比[SiO2]/[M]が、好ましくは0.15
〜1.0、より好ましくは0.25〜0.75である。
又、現像液又は補充液中の総重量に対する二酸化珪素の
含有重量比が、好ましくは0.5〜5.0重量%、より
好ましくは1.0〜4.0重量%である。
のモル濃度[M]に対する二酸化珪素のモル濃度[Si
O2]の比[SiO2]/[M]が、好ましくは0.15
〜1.0、より好ましくは0.25〜0.75である。
又、現像液又は補充液中の総重量に対する二酸化珪素の
含有重量比が、好ましくは0.5〜5.0重量%、より
好ましくは1.0〜4.0重量%である。
【0020】現像液及び補充液中のアルカリ金属のモル
濃度[M]に対する二酸化珪素のモル濃度[SiO2]
の比、及び現像液又は補充液中の総重量に対する二酸化
珪素の含有重量比が上記範囲の場合は、自動現像機を用
いてPS版を繰り返して現像を行う過程で現像液の劣化
が少なく、現像液中における不溶物の発生が少なく、又
スプレーのノッズルの目詰まりが少ないなどの利点を生
ずる。
濃度[M]に対する二酸化珪素のモル濃度[SiO2]
の比、及び現像液又は補充液中の総重量に対する二酸化
珪素の含有重量比が上記範囲の場合は、自動現像機を用
いてPS版を繰り返して現像を行う過程で現像液の劣化
が少なく、現像液中における不溶物の発生が少なく、又
スプレーのノッズルの目詰まりが少ないなどの利点を生
ずる。
【0021】又、本発明に用いられる現像液及び補充液
には、必要に応じて上記アルカリ金属珪酸塩の外に他の
アルカリ剤を併用することができる。
には、必要に応じて上記アルカリ金属珪酸塩の外に他の
アルカリ剤を併用することができる。
【0022】このようなアルカリ剤としては、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第3燐酸
カリウム、第3燐酸ナトリウム、第3燐酸リチウム、第
2燐酸ナトリウム、第2燐酸アンモニウム、第3燐酸ア
ンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、珪酸アンモニウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸アンモニウム、アンモニア水のような無機ア
ルカリ剤、及びモノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機
アミン化合物が挙げられ、これらを単独もしくは組み合
わせて使用することができる。
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第3燐酸
カリウム、第3燐酸ナトリウム、第3燐酸リチウム、第
2燐酸ナトリウム、第2燐酸アンモニウム、第3燐酸ア
ンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、珪酸アンモニウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸アンモニウム、アンモニア水のような無機ア
ルカリ剤、及びモノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機
アミン化合物が挙げられ、これらを単独もしくは組み合
わせて使用することができる。
【0023】〈還元剤〉又、本発明に用いられる現像液
及び補充液には、必要に応じて水溶性又はアルカリ可溶
性の有機又は無機還元剤を含有させることができる。上
記水溶性又はアルカリ可溶性の有機又は無機還元剤とし
ては、例えばハイドロキノン、メトール、メトキシキノ
ン等のフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェノ
ールヒドラジン等のアミン化合物、亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素カリ
ウム、亜硫酸水素ナトリウム等の亜硫酸塩、亜燐酸ナト
リウム、亜燐酸カリウム、亜燐酸水素ナトリウム、亜燐
酸水素カリウム、亜燐酸二水素ナトリウム、亜燐酸二水
素カリウム、亜燐酸水素二ナトリウム、亜燐酸水素二カ
リウム等の亜燐酸塩、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カ
リウム、亜ジチオン酸ナトリウム、亜ジチオン酸カリウ
ム、ヒドラジン等を挙げることができる。ここで、現像
液の総重量に対する上記水溶性又はアルカリ可溶性の有
機又は無機還元剤の含有割合は、0.01〜10重量%
が好ましい。
及び補充液には、必要に応じて水溶性又はアルカリ可溶
性の有機又は無機還元剤を含有させることができる。上
記水溶性又はアルカリ可溶性の有機又は無機還元剤とし
ては、例えばハイドロキノン、メトール、メトキシキノ
ン等のフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェノ
ールヒドラジン等のアミン化合物、亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素カリ
ウム、亜硫酸水素ナトリウム等の亜硫酸塩、亜燐酸ナト
リウム、亜燐酸カリウム、亜燐酸水素ナトリウム、亜燐
酸水素カリウム、亜燐酸二水素ナトリウム、亜燐酸二水
素カリウム、亜燐酸水素二ナトリウム、亜燐酸水素二カ
リウム等の亜燐酸塩、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カ
リウム、亜ジチオン酸ナトリウム、亜ジチオン酸カリウ
ム、ヒドラジン等を挙げることができる。ここで、現像
液の総重量に対する上記水溶性又はアルカリ可溶性の有
機又は無機還元剤の含有割合は、0.01〜10重量%
が好ましい。
【0024】〈有機溶剤〉又、本発明に用いられる現像
液及び補充液には、必要に応じて有機溶剤を含有させる
こともできる。上記有機溶剤としては、例えばエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、プロピレングリコールのようなグリコール類、
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエー
テル類、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノ
ール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブ
タノール、2,2−ジフェニルブタノール、1,2−フ
ェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、
o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジ
ルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベン
ジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシク
ロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−
メチルシクロヘキサノール、n−アミルアルコール、メ
チルアミルアルコールのようなアルコール類、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレ
ングリコールモノブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸
エチル、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなエステ
ル類、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン
類、キシレン、エチルベンゼンのようなアルキル置換芳
香族炭化水素、メチレンジクロライド、エチレンジクロ
ライド、モノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水
素等が挙げられる。
液及び補充液には、必要に応じて有機溶剤を含有させる
こともできる。上記有機溶剤としては、例えばエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、プロピレングリコールのようなグリコール類、
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエー
テル類、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノ
ール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブ
タノール、2,2−ジフェニルブタノール、1,2−フ
ェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、
o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジ
ルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベン
ジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシク
ロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−
メチルシクロヘキサノール、n−アミルアルコール、メ
チルアミルアルコールのようなアルコール類、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレ
ングリコールモノブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸
エチル、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなエステ
ル類、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン
類、キシレン、エチルベンゼンのようなアルキル置換芳
香族炭化水素、メチレンジクロライド、エチレンジクロ
ライド、モノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水
素等が挙げられる。
【0025】〈界面活性剤〉又、本発明に用いられる現
像液及び補充液には、必要に応じて界面活性剤を含有さ
せることもできる。該界面活性剤の好ましいものとして
アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界
面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。
像液及び補充液には、必要に応じて界面活性剤を含有さ
せることもできる。該界面活性剤の好ましいものとして
アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界
面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。
【0026】上記アニオン界面活性剤としては、例えば
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムのようなアルキ
ルベンゼンスルホン酸塩類(好ましくはアルキルがC8
〜C18)や、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、ジナフタレンジスルホン酸のようなアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類(好ましくはアルキルがC3〜C
10)、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、
ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ラウリル
アルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアル
コールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコー
ルサルフェートのアンモニウム塩などの高級アルコール
(C6〜C22)の硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール
燐酸エステル塩類(例えばセチルアルコール燐酸エステ
ルのナトリウム塩)、ナトリウムスルホコハク酸ジオク
チルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエ
ステルのような二塩基性脂肪酸(C2〜C18)エステル
のスルホン酸塩類、アルキル(C11〜C17)アミドスル
ホン酸塩類(例えばC17H33CON(CH3)CH2SO
3Na)或いは特願平8−80059号明細書に記載さ
れているもの等が挙げられる。
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムのようなアルキ
ルベンゼンスルホン酸塩類(好ましくはアルキルがC8
〜C18)や、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、ジナフタレンジスルホン酸のようなアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類(好ましくはアルキルがC3〜C
10)、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、
ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ラウリル
アルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアル
コールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコー
ルサルフェートのアンモニウム塩などの高級アルコール
(C6〜C22)の硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール
燐酸エステル塩類(例えばセチルアルコール燐酸エステ
ルのナトリウム塩)、ナトリウムスルホコハク酸ジオク
チルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエ
ステルのような二塩基性脂肪酸(C2〜C18)エステル
のスルホン酸塩類、アルキル(C11〜C17)アミドスル
ホン酸塩類(例えばC17H33CON(CH3)CH2SO
3Na)或いは特願平8−80059号明細書に記載さ
れているもの等が挙げられる。
【0027】又、上記ノニオン界面活性剤としては、例
えば特開昭59−84241号、同62−168160
号、同62−175758号の各号公報及び特願平6−
190163号、同8−80059号の各号明細書に記
載されているものが挙げられる。
えば特開昭59−84241号、同62−168160
号、同62−175758号の各号公報及び特願平6−
190163号、同8−80059号の各号明細書に記
載されているものが挙げられる。
【0028】又、上記カチオン界面活性剤としては、特
開昭62−175757号公報及び特願平6−1901
63号明細書に記載されているものが挙げられる。
開昭62−175757号公報及び特願平6−1901
63号明細書に記載されているものが挙げられる。
【0029】又、上記両性界面活性剤としては、N−ア
ルキル−N,N,N−トリス(カルボキシメチル)アン
モニウム(アルキル:C12〜C18)のようなイミダゾリ
ン誘導体や、N−アルキル−N−カルボキシメチル−
N,N−ジヒドロキシエチルアンモニウム(アルキル:
C12〜C18)のようなベタイン型化合物、アルキルアミ
ノカルボン酸型の化合物、或いは特公平1−57895
号公報に開示されている有機ホウ素化合物等が挙げられ
る。
ルキル−N,N,N−トリス(カルボキシメチル)アン
モニウム(アルキル:C12〜C18)のようなイミダゾリ
ン誘導体や、N−アルキル−N−カルボキシメチル−
N,N−ジヒドロキシエチルアンモニウム(アルキル:
C12〜C18)のようなベタイン型化合物、アルキルアミ
ノカルボン酸型の化合物、或いは特公平1−57895
号公報に開示されている有機ホウ素化合物等が挙げられ
る。
【0030】上記アニオン界面活性剤、ノニオン界面活
性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤等は単独も
しくは2種以上を組み合わせて使用することができ、使
用時の現像液、又は補充液の総重量に対して、好ましく
は0.003〜5重量%、より好ましくは0.1〜3重
量%の範囲で含有させる。
性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤等は単独も
しくは2種以上を組み合わせて使用することができ、使
用時の現像液、又は補充液の総重量に対して、好ましく
は0.003〜5重量%、より好ましくは0.1〜3重
量%の範囲で含有させる。
【0031】〈消泡剤〉又、本発明に用いられる現像液
及び補充液には、更に消泡剤を含有させることができ
る。好適な消泡剤としては、米国特許3,250,72
7号、同3,545,970号、英国特許1,382,
901号、同1,387,713号の各号明細書に記載
されている化合物が挙げられる。これらの中でも有機シ
ラン化合物が好ましい。
及び補充液には、更に消泡剤を含有させることができ
る。好適な消泡剤としては、米国特許3,250,72
7号、同3,545,970号、英国特許1,382,
901号、同1,387,713号の各号明細書に記載
されている化合物が挙げられる。これらの中でも有機シ
ラン化合物が好ましい。
【0032】〈硬水軟化剤〉又、本発明に用いられる現
像液及び補充液には、硬水軟化剤(キレート剤)を含有
させることができる。例えば、Na2P2O7、Na3P3
O3、Na3P3O9、Na2O4P(NaO3P)PO3Na
2、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリウム)等のポリ燐酸
塩、エチレンジアミンテトラ酢酸及びそのカリウム塩、
そのナトリウム塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸及
びそのカリウム塩、そのナトリウム塩、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸及びそのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸及び
そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ニトリロトリ酢酸
及びそのカリウム塩、そのナトリウム塩、1,2−ジア
ミノシクロヘキサンテトラ酢酸及びそのカリウム塩、そ
のナトリウム塩、1,3−ジアミノ−2−プロパノール
テトラ酢酸及びそのカリウム塩、そのナトリウム塩等の
アミノポリカルボン酸塩や、エチレンジアミンテトラ
(メチレンホスホン酸)及びそのカリウム塩、そのナト
リウム塩のような有機スルホン酸塩等を挙げることがで
きる。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度及
びその使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使
用量としては、使用時の現像液又は補充液中に、好まし
くは0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜1
重量%の範囲内で含有させられる。
像液及び補充液には、硬水軟化剤(キレート剤)を含有
させることができる。例えば、Na2P2O7、Na3P3
O3、Na3P3O9、Na2O4P(NaO3P)PO3Na
2、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリウム)等のポリ燐酸
塩、エチレンジアミンテトラ酢酸及びそのカリウム塩、
そのナトリウム塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸及
びそのカリウム塩、そのナトリウム塩、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸及びそのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸及び
そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ニトリロトリ酢酸
及びそのカリウム塩、そのナトリウム塩、1,2−ジア
ミノシクロヘキサンテトラ酢酸及びそのカリウム塩、そ
のナトリウム塩、1,3−ジアミノ−2−プロパノール
テトラ酢酸及びそのカリウム塩、そのナトリウム塩等の
アミノポリカルボン酸塩や、エチレンジアミンテトラ
(メチレンホスホン酸)及びそのカリウム塩、そのナト
リウム塩のような有機スルホン酸塩等を挙げることがで
きる。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度及
びその使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使
用量としては、使用時の現像液又は補充液中に、好まし
くは0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜1
重量%の範囲内で含有させられる。
【0033】〈有機酸〉又、本発明に用いられる現像液
及び現像補充液には、有機酸を含有させることができ
る。この有機酸には炭素原子数6〜20の脂肪族カルボ
ン酸及びベンゼン環又はナフタレン環にカルボキシル基
が置換した芳香族カルボン酸が包含される。上記脂肪族
カルボン酸としては炭素数6〜20のアルカン酸が好ま
しく、具体例としてはカプロン酸、エナンチル酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは
CnH2n+1COOH(n:6〜12)である。また、脂
肪族カルボン酸は、不飽和脂肪酸でも枝分かれした炭素
鎖を有する脂肪酸でもよく、その他にリンゴ酸、クエン
酸、マロン酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸、シュウ
酸、乳酸等が挙げられる。
及び現像補充液には、有機酸を含有させることができ
る。この有機酸には炭素原子数6〜20の脂肪族カルボ
ン酸及びベンゼン環又はナフタレン環にカルボキシル基
が置換した芳香族カルボン酸が包含される。上記脂肪族
カルボン酸としては炭素数6〜20のアルカン酸が好ま
しく、具体例としてはカプロン酸、エナンチル酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは
CnH2n+1COOH(n:6〜12)である。また、脂
肪族カルボン酸は、不飽和脂肪酸でも枝分かれした炭素
鎖を有する脂肪酸でもよく、その他にリンゴ酸、クエン
酸、マロン酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸、シュウ
酸、乳酸等が挙げられる。
【0034】なお、上記脂肪族カルボン酸は、ナトリウ
ム塩、カリウム塩又はアンモニウム塩として用いてもよ
い。
ム塩、カリウム塩又はアンモニウム塩として用いてもよ
い。
【0035】上記芳香族カルボン酸の具体的な化合物と
しては、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安
息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息
香酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息
香酸、p−アミノ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息
香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒド
ロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,
5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ
−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、
2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2
−ナフトエ酸等が挙げられる。
しては、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安
息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息
香酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息
香酸、p−アミノ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息
香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒド
ロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,
5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ
−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、
2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2
−ナフトエ酸等が挙げられる。
【0036】なお、上記芳香族カルボン酸はナトリウム
塩、カリウム塩又はアンモニウム塩として用いてもよ
い。
塩、カリウム塩又はアンモニウム塩として用いてもよ
い。
【0037】上記脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸
の含有量は使用時の現像液及び補充液中に、好ましくは
0.1〜30重量%含有させることができる。
の含有量は使用時の現像液及び補充液中に、好ましくは
0.1〜30重量%含有させることができる。
【0038】又、現像液、及び補充液には現像性能を高
めるために以下のような添加剤を加えることができる。
例としては、特開昭58−75152号公報に記載のN
aCl、KCl、KBr等の中性塩、特開昭59−12
1336号公報に記載の[Co(NH3)]6Cl3等の
錯体、特開昭56−142528号公報に記載のビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル
酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭
58−59444号公報に記載の塩化リチウム等の無機
リチウム化合物、特公昭50−34442号公報に記載
の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭5
9−75255号公報に記載のSi、Ti等を含む有機
金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報に記載
の有機ホウ素化合物が挙げられる。更に又、現像液及び
補充液には他の公知の添加剤を添加することができる。
めるために以下のような添加剤を加えることができる。
例としては、特開昭58−75152号公報に記載のN
aCl、KCl、KBr等の中性塩、特開昭59−12
1336号公報に記載の[Co(NH3)]6Cl3等の
錯体、特開昭56−142528号公報に記載のビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル
酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭
58−59444号公報に記載の塩化リチウム等の無機
リチウム化合物、特公昭50−34442号公報に記載
の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭5
9−75255号公報に記載のSi、Ti等を含む有機
金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報に記載
の有機ホウ素化合物が挙げられる。更に又、現像液及び
補充液には他の公知の添加剤を添加することができる。
【0039】本発明に用いられる補充液は2液以上に分
割して現像液へ加えるてもよく、又予め上記2液以上の
液を混合して現像液へ加えてもよい。例えば補充液を濃
縮液とし、現像液に補充する際、予め水で希釈したもの
を加える様にしてもよい。又、上記補充液のpHは現像
液以上であることが好ましく、現像液のpHより0.5
以上高いことがより好ましい。
割して現像液へ加えるてもよく、又予め上記2液以上の
液を混合して現像液へ加えてもよい。例えば補充液を濃
縮液とし、現像液に補充する際、予め水で希釈したもの
を加える様にしてもよい。又、上記補充液のpHは現像
液以上であることが好ましく、現像液のpHより0.5
以上高いことがより好ましい。
【0040】〔PS版〕本発明の処理方法に適用される
PS版としては、公知のポジ型PS版、ネガ型PS版及
びコンピューター用ネガ型PS版(CTP)の何れもが
有用であるり、例えばポジ型PS版としては特願平5−
15499号、同6−190163号、同6−3338
05号、同7−2218986号、及び同7−3376
87号の各号明細書に記載されるPS版が好ましい。
又、ネガ型PS版としては特開平2−220062号、
同2−219060号、同2−217859号、同2−
189544号、特開昭64−56442号、同62−
78544号、特公平3−56622号の各号公報、特
願平4−176228号、同6−3313805号、同
7−221986号の各号明細書に記載のPS版が好ま
しい。
PS版としては、公知のポジ型PS版、ネガ型PS版及
びコンピューター用ネガ型PS版(CTP)の何れもが
有用であるり、例えばポジ型PS版としては特願平5−
15499号、同6−190163号、同6−3338
05号、同7−2218986号、及び同7−3376
87号の各号明細書に記載されるPS版が好ましい。
又、ネガ型PS版としては特開平2−220062号、
同2−219060号、同2−217859号、同2−
189544号、特開昭64−56442号、同62−
78544号、特公平3−56622号の各号公報、特
願平4−176228号、同6−3313805号、同
7−221986号の各号明細書に記載のPS版が好ま
しい。
【0041】なお、上記CTPについては、特願平7−
231444号明細書及び特開平3−87833号公報
に記載のものが特に好ましく用いられる。
231444号明細書及び特開平3−87833号公報
に記載のものが特に好ましく用いられる。
【0042】〔処理方法〕本発明の自動現像機を用いた
PS版の処理方法としては、特にポジ型PS版専用処
理、又はポジ型PS版とネガ型PS版の共通処理が可能
な処理方法とするのが好ましい。
PS版の処理方法としては、特にポジ型PS版専用処
理、又はポジ型PS版とネガ型PS版の共通処理が可能
な処理方法とするのが好ましい。
【0043】上記処理方法では、像露光されたPS版を
挿入する挿入部A、現像を行う現像部B、水洗、洗浄す
るリンス部C、ガム引きを行うガム処理部D、乾燥を行
う乾燥部E等の工程を経由して搬送されて印刷版が形成
される。
挿入する挿入部A、現像を行う現像部B、水洗、洗浄す
るリンス部C、ガム引きを行うガム処理部D、乾燥を行
う乾燥部E等の工程を経由して搬送されて印刷版が形成
される。
【0044】ここで、上記現像部Bの現像方式として
は、公知の何れの現像方式のものであってもく、例え
ば、特開昭57−64237及び特開平6−23604
1の各号公報に記載される浸漬現像方式、特開昭58−
95349号公報に記載されるシャワー現像方式及び特
開昭62−288845号公報に記載されるスリット現
像方式等の現像方式を用いることができ、それらの何れ
であってもよい。
は、公知の何れの現像方式のものであってもく、例え
ば、特開昭57−64237及び特開平6−23604
1の各号公報に記載される浸漬現像方式、特開昭58−
95349号公報に記載されるシャワー現像方式及び特
開昭62−288845号公報に記載されるスリット現
像方式等の現像方式を用いることができ、それらの何れ
であってもよい。
【0045】又、上記リンス部Cは、現像処理されたP
S版に付着した現像液成分及び感光層溶出成分を除去
し、清浄にする工程であり、複数のリンス液槽を設けて
複数回のリンス処理を行うようにしてもよい。
S版に付着した現像液成分及び感光層溶出成分を除去
し、清浄にする工程であり、複数のリンス液槽を設けて
複数回のリンス処理を行うようにしてもよい。
【0046】又、上記ガム処理部Dは、現像されたPS
版に付着したアルカリ性の現像液成分を除去し、上記P
S版の親水性を高めると共に、傷や汚れを防ぐ皮膜を形
成して版面を保護するためにガム引きを行う工程であ
り、該ガム液は、例えばデンプン、ゼラチン、カルボキ
シメチルセルロース、水溶性樹脂等の水溶性高分子化合
物、水、その他必要により界面活性剤、酸、水溶性塩
類、親油性物質、湿潤剤、有機溶剤及び防腐、防黴剤等
が含有される。
版に付着したアルカリ性の現像液成分を除去し、上記P
S版の親水性を高めると共に、傷や汚れを防ぐ皮膜を形
成して版面を保護するためにガム引きを行う工程であ
り、該ガム液は、例えばデンプン、ゼラチン、カルボキ
シメチルセルロース、水溶性樹脂等の水溶性高分子化合
物、水、その他必要により界面活性剤、酸、水溶性塩
類、親油性物質、湿潤剤、有機溶剤及び防腐、防黴剤等
が含有される。
【0047】〔処理装置〕以下本発明の処理装置に付い
て説明する。
て説明する。
【0048】本発明の自動現像機を用いてPS版を処理
する処理装置は、PS版を挿入する挿入部A、現像を行
う現像部B、水洗、洗浄するリンス部C、ガム引きを行
うガム処理部D、乾燥を行う乾燥部E、その他現像液、
リンス液、ガム引き液等の処理液の循環装置を有する自
動現像機、及び該自動現像機の現像部Bへ補充液を、補
充液量H(ml)=自動現像機の停止時間T(hr)×
単位時間当たりの補充液量A(ml/hr)×停止時間
に対する変動係数C(0<C≦1.0)を満足するよう
に制御して補充する手段を有する。
する処理装置は、PS版を挿入する挿入部A、現像を行
う現像部B、水洗、洗浄するリンス部C、ガム引きを行
うガム処理部D、乾燥を行う乾燥部E、その他現像液、
リンス液、ガム引き液等の処理液の循環装置を有する自
動現像機、及び該自動現像機の現像部Bへ補充液を、補
充液量H(ml)=自動現像機の停止時間T(hr)×
単位時間当たりの補充液量A(ml/hr)×停止時間
に対する変動係数C(0<C≦1.0)を満足するよう
に制御して補充する手段を有する。
【0049】上記補充液を補充する手段としては例え
ば、現像機の種類、PS版の種類及び現像液の種類別に
実験的に変動係数Cを求め、該変動係数Cに基づく補充
液量H(ml)のデーターをメモリーに書き込み、該デ
ーターに基づいて現像部Bへの補充液の補給がなされ
る。
ば、現像機の種類、PS版の種類及び現像液の種類別に
実験的に変動係数Cを求め、該変動係数Cに基づく補充
液量H(ml)のデーターをメモリーに書き込み、該デ
ーターに基づいて現像部Bへの補充液の補給がなされ
る。
【0050】以下本発明の自動現像機を用いてPS版を
処理する処理装置の一例を図1に基づいて説明する。
処理する処理装置の一例を図1に基づいて説明する。
【0051】図1は浸漬現像方式の自動現像機処理装置
の概要断面図であり、該処理装置では、PS版を挿入す
る挿入部A、現像を行う現像部B、洗浄を行うリンス部
C、ガム引きを行うガム処理部D、乾燥を行う乾燥部E
等を含む自動現像機に、自動現像機の停止時間中に生ず
る現像液の疲労を補償するための日間補充液の補充制御
部Fが設けられている。
の概要断面図であり、該処理装置では、PS版を挿入す
る挿入部A、現像を行う現像部B、洗浄を行うリンス部
C、ガム引きを行うガム処理部D、乾燥を行う乾燥部E
等を含む自動現像機に、自動現像機の停止時間中に生ず
る現像液の疲労を補償するための日間補充液の補充制御
部Fが設けられている。
【0052】挿入部AはPS版の挿入を案内する挿入台
1、PS版を反射光で検出する光学センサ2、PS版を
ニップして搬送するニップ搬送ローラ3A、3Bを備え
ている。現像部Bは、上記PS版をニップ搬送ローラ3
A、3B、搬送ローラ4により、現像槽5に入れた現像
液中を湾曲して搬送するようになっており、現像槽5中
での浸漬現像中に現像液をPS版の感光層面に噴射させ
る処理液吐出ノズル6A、6B、該処理液噴出ノズル6
A、6Bへ現像液を送るマグネットポンプ7、PS版の
表面を擦って現像を促進させるブラシローラ8、PS版
を支持する版押さえローラ9、現像液の温度を所定の温
度範囲に維持するためのヒータ10、濃縮現像補充液を
入れる濃縮現像補充液タンク14、濃縮現像の補充液を
現像槽5に送るベローズポンプ12、希釈水を入れる希
釈水タンク15、希釈水を現像槽5に送るベローズポン
プ13、現像槽5からオーバーフローした現像液を現像
槽5へ戻すベローズポンプ11、現像廃液タンク18、
PS版の現像処理に応じた補充液量の制御を行う制御手
段50から主として構成されている。
1、PS版を反射光で検出する光学センサ2、PS版を
ニップして搬送するニップ搬送ローラ3A、3Bを備え
ている。現像部Bは、上記PS版をニップ搬送ローラ3
A、3B、搬送ローラ4により、現像槽5に入れた現像
液中を湾曲して搬送するようになっており、現像槽5中
での浸漬現像中に現像液をPS版の感光層面に噴射させ
る処理液吐出ノズル6A、6B、該処理液噴出ノズル6
A、6Bへ現像液を送るマグネットポンプ7、PS版の
表面を擦って現像を促進させるブラシローラ8、PS版
を支持する版押さえローラ9、現像液の温度を所定の温
度範囲に維持するためのヒータ10、濃縮現像補充液を
入れる濃縮現像補充液タンク14、濃縮現像の補充液を
現像槽5に送るベローズポンプ12、希釈水を入れる希
釈水タンク15、希釈水を現像槽5に送るベローズポン
プ13、現像槽5からオーバーフローした現像液を現像
槽5へ戻すベローズポンプ11、現像廃液タンク18、
PS版の現像処理に応じた補充液量の制御を行う制御手
段50から主として構成されている。
【0053】リンス部Cは、水洗水を入れる水洗水槽2
0、マグネットポンプ21、処理液吐出ノズル6A、6
B、ニップ搬送ローラ3A、3Bから主として構成され
ている。ガム処理部Dは、ガム液を入れるガム液槽3
0、マグネットポンプ31、処理液吐出ノズル6A、6
B、ニップ搬送ローラ3A、3B、濃縮ガム補充液タン
ク16、該濃縮ガム補充液をガム液槽30に送るベロー
ズポンプ33、希釈水タンク17、希釈水をガム液槽3
0に送るベローズポンプ32、PS版の処理に応じて補
充を行う補充回路(図示せず)から主として構成されて
いる。なお、図中、※1と※1、※2と※2とはそれぞ
れ配管で接続されている。
0、マグネットポンプ21、処理液吐出ノズル6A、6
B、ニップ搬送ローラ3A、3Bから主として構成され
ている。ガム処理部Dは、ガム液を入れるガム液槽3
0、マグネットポンプ31、処理液吐出ノズル6A、6
B、ニップ搬送ローラ3A、3B、濃縮ガム補充液タン
ク16、該濃縮ガム補充液をガム液槽30に送るベロー
ズポンプ33、希釈水タンク17、希釈水をガム液槽3
0に送るベローズポンプ32、PS版の処理に応じて補
充を行う補充回路(図示せず)から主として構成されて
いる。なお、図中、※1と※1、※2と※2とはそれぞ
れ配管で接続されている。
【0054】同図において、濃縮ガム補充液と希釈水は
別個にガム液槽30に送られ、ガム液槽30内で混合さ
れてガム補充液となるが、ガム液槽30とは別に槽を設
け、該槽内で予め濃縮ガム補充液と希釈水を混合してガ
ム補充液とし、このガム補充液をガム液槽30に送るよ
うに構成することもできる。
別個にガム液槽30に送られ、ガム液槽30内で混合さ
れてガム補充液となるが、ガム液槽30とは別に槽を設
け、該槽内で予め濃縮ガム補充液と希釈水を混合してガ
ム補充液とし、このガム補充液をガム液槽30に送るよ
うに構成することもできる。
【0055】乾燥部Eは、乾燥風吐出ノズル40A、4
0B、ニップ搬送ローラ3A、3Bから主として構成さ
れている。
0B、ニップ搬送ローラ3A、3Bから主として構成さ
れている。
【0056】上記自動現像機の挿入部Aに設けた光学セ
ンサ2は、自動現像機の幅方向にわたって等間隔に多数
個配設されており、これらの光学センサ2は現像の進行
に伴って、現像部Bに挿入されるPS版の表面からの反
射光を検出し、この検出信号を制御手段50で積分演算
し、得られた積分信号に基づき、積分された面積に比例
する所要の補充量が補充されるようにベローズポンプ1
2、13、32、33の作動を制御するように構成され
ている。
ンサ2は、自動現像機の幅方向にわたって等間隔に多数
個配設されており、これらの光学センサ2は現像の進行
に伴って、現像部Bに挿入されるPS版の表面からの反
射光を検出し、この検出信号を制御手段50で積分演算
し、得られた積分信号に基づき、積分された面積に比例
する所要の補充量が補充されるようにベローズポンプ1
2、13、32、33の作動を制御するように構成され
ている。
【0057】また、上記自動現像機の日間補充液の補充
制御部Fにおける濃縮現像補充液を入れる濃縮現像補充
液タンク14、濃縮現像補充液を現像槽5に送るベロー
ズポンプ12、希釈水を入れる希釈水タンク15、及び
希釈水を現像槽5に送るベローズポンプ13は、通常前
記現像進行中の現像液の疲労を補償する補充液の制御手
段50により制御される前記濃縮現像補充液タンク1
4、前記ベローズポンプ12、前記希釈水タンク15、
及び前記ベローズポンプ13と共用とされるが、必要に
応じて、別構成としてもよい。
制御部Fにおける濃縮現像補充液を入れる濃縮現像補充
液タンク14、濃縮現像補充液を現像槽5に送るベロー
ズポンプ12、希釈水を入れる希釈水タンク15、及び
希釈水を現像槽5に送るベローズポンプ13は、通常前
記現像進行中の現像液の疲労を補償する補充液の制御手
段50により制御される前記濃縮現像補充液タンク1
4、前記ベローズポンプ12、前記希釈水タンク15、
及び前記ベローズポンプ13と共用とされるが、必要に
応じて、別構成としてもよい。
【0058】上記自動現像機の停止時間中の補充液の補
充は、予め多数回の実験に基づき、現像液の種類、PS
版の種類、自動現像機が停止していた時間別に測定され
た変動係数C及び補充液量のデーター群を格納したメモ
リー60及び制御機構61を介して行われる。即ち自動
現像機の停止時間に対応した変動係数C及び補充液量が
メモリー60からのプログラム信号に基づきベローズポ
ンプ12及び希釈水を入れる希釈水タンク15のベロー
ズポンプ13を制御機構61を介して制御して過不足の
ない適量の補充液が補充される。
充は、予め多数回の実験に基づき、現像液の種類、PS
版の種類、自動現像機が停止していた時間別に測定され
た変動係数C及び補充液量のデーター群を格納したメモ
リー60及び制御機構61を介して行われる。即ち自動
現像機の停止時間に対応した変動係数C及び補充液量が
メモリー60からのプログラム信号に基づきベローズポ
ンプ12及び希釈水を入れる希釈水タンク15のベロー
ズポンプ13を制御機構61を介して制御して過不足の
ない適量の補充液が補充される。
【0059】以下本発明の自動現像機を用いてPS版を
処理する処理装置の他の例を図2に基づいて説明する。
処理する処理装置の他の例を図2に基づいて説明する。
【0060】図2はシャワー現像方式の自動現像機処理
装置の概要断面図であり、該処理装置では、挿入部A′
においてPS版71を図上左端から感光層面を上にして
挿入し、現像処理する現像部B′、水洗、洗浄するリン
ス部C′及びガム引きするガム処理部D′を、搬送ロー
ラ対75、搬送ローラ76等の搬送手段で搬送路Pに沿
って右方向へ水平状に搬送されながら感光層に現像液そ
の他の処理液が付与されて処理されるものである。
装置の概要断面図であり、該処理装置では、挿入部A′
においてPS版71を図上左端から感光層面を上にして
挿入し、現像処理する現像部B′、水洗、洗浄するリン
ス部C′及びガム引きするガム処理部D′を、搬送ロー
ラ対75、搬送ローラ76等の搬送手段で搬送路Pに沿
って右方向へ水平状に搬送されながら感光層に現像液そ
の他の処理液が付与されて処理されるものである。
【0061】現像部B′では、現像液タンク78内の現
像液がポンプ79aでノズルパイプ81aへ送られ、ノ
ズルパイプ81aから噴射されてPS版71の感光層に
付与される。現像液を付与された感光層は回転ブラシ8
2aで擦られて溶出現像され、スキージローラ83aで
スキージされてリンス部C′へ送られる。
像液がポンプ79aでノズルパイプ81aへ送られ、ノ
ズルパイプ81aから噴射されてPS版71の感光層に
付与される。現像液を付与された感光層は回転ブラシ8
2aで擦られて溶出現像され、スキージローラ83aで
スキージされてリンス部C′へ送られる。
【0062】現像部B′は、搬送路Pの下方に現像槽8
4を有し、ノズルパイプ81aから噴射され現像槽84
内に流下した現像液は現像液タンク78に戻り、循環し
て使用されるようになっている。この循環して使用され
る現像液の疲労を回復させるため、現像液タンク78内
の現像液は、濃縮現像補充液タンク86内の濃縮現像補
充液をポンプ79bで現像槽84へ送って補充するよう
になっている。更にまた、循環使用によって疲労の限度
に達した現像液タンク78内の現像液を廃液タンク89
へバルブ90を開いて排出できるようになっている。
4を有し、ノズルパイプ81aから噴射され現像槽84
内に流下した現像液は現像液タンク78に戻り、循環し
て使用されるようになっている。この循環して使用され
る現像液の疲労を回復させるため、現像液タンク78内
の現像液は、濃縮現像補充液タンク86内の濃縮現像補
充液をポンプ79bで現像槽84へ送って補充するよう
になっている。更にまた、循環使用によって疲労の限度
に達した現像液タンク78内の現像液を廃液タンク89
へバルブ90を開いて排出できるようになっている。
【0063】上記のような現像部B′において、現像部
後部のローラであるスキージローラ83aにはその周面
に、現像開始液タンク87内の現像開始液をポンプ79
cでノズルパイプ81bから供給し、また希釈水タンク
88内の希釈水をポンプ79dでノズルパイプ81cか
ら供給して洗浄可能の構造になっている。
後部のローラであるスキージローラ83aにはその周面
に、現像開始液タンク87内の現像開始液をポンプ79
cでノズルパイプ81bから供給し、また希釈水タンク
88内の希釈水をポンプ79dでノズルパイプ81cか
ら供給して洗浄可能の構造になっている。
【0064】現像開始液及び希釈水で洗浄されたスキー
ジローラ83aでスキージされたPS版71は、リンス
部C′において、リンス液タンク91内のリンス液(水
洗液を包含する)がポンプ79eでノズルパイプ81d
から供給され、ブラシローラ82bで擦られた後、スキ
ージローラ83bでスキージされて次の処理工程である
ガム引き部D′へ搬送される。ノズルパイプ81dから
噴射されリンス槽92内に流下したリンス液はリンス液
タンク91へ戻り循環使用される。
ジローラ83aでスキージされたPS版71は、リンス
部C′において、リンス液タンク91内のリンス液(水
洗液を包含する)がポンプ79eでノズルパイプ81d
から供給され、ブラシローラ82bで擦られた後、スキ
ージローラ83bでスキージされて次の処理工程である
ガム引き部D′へ搬送される。ノズルパイプ81dから
噴射されリンス槽92内に流下したリンス液はリンス液
タンク91へ戻り循環使用される。
【0065】ガム引き部D′では、ガム液タンク93内
のガム液がポンプ79fで送られてノズルパイプ81e
から搬送されているPS版71の上面に付与された後、
スキージローラ83cでスキージされて自動現像機外へ
搬出される。ノズルパイプ81eから噴射されガム引き
槽94内に流下したガム液はガム液タンク93へ戻り循
環使用される。
のガム液がポンプ79fで送られてノズルパイプ81e
から搬送されているPS版71の上面に付与された後、
スキージローラ83cでスキージされて自動現像機外へ
搬出される。ノズルパイプ81eから噴射されガム引き
槽94内に流下したガム液はガム液タンク93へ戻り循
環使用される。
【0066】上記図2の自動現像機の場合も、現像進行
中は、例えば図1の自動現像機の制御手段50と同様の
制御機構による制御下に現像液の補充液が補充される。
中は、例えば図1の自動現像機の制御手段50と同様の
制御機構による制御下に現像液の補充液が補充される。
【0067】また、上記自動現像機には、該自動現像機
の停止時間中に生ずる現像液の疲労を補償するための補
充液の補充を制御する制御部F′が設けられている。上
記制御部F′による制御下に補充液の補充を行うための
濃縮現像補充液を入れる濃縮現像補充タンク86、濃縮
現像の補充液を現像槽84に送るベローズポンプ79
b、希釈水を入れる希釈水タンク88、及び希釈水を噴
射ノズル81cに送るベローズポンプ79dは、通常前
記現像進行中の現像液の疲労を補償する補充液の濃縮現
像補充タンク86、ベローズポンプ79b、希釈水タン
ク88、及び前記ベローズポンプ79dと共用とされる
が、必要に応じて、別構成としてもよい。
の停止時間中に生ずる現像液の疲労を補償するための補
充液の補充を制御する制御部F′が設けられている。上
記制御部F′による制御下に補充液の補充を行うための
濃縮現像補充液を入れる濃縮現像補充タンク86、濃縮
現像の補充液を現像槽84に送るベローズポンプ79
b、希釈水を入れる希釈水タンク88、及び希釈水を噴
射ノズル81cに送るベローズポンプ79dは、通常前
記現像進行中の現像液の疲労を補償する補充液の濃縮現
像補充タンク86、ベローズポンプ79b、希釈水タン
ク88、及び前記ベローズポンプ79dと共用とされる
が、必要に応じて、別構成としてもよい。
【0068】上記自動現像機の停止時間中の日間補充液
の補充は、前記図1の自動現像機の場合と同様、予め多
数回の実験に基づき、現像液の種類、PS版の種類、及
び自動現像機が停止していた時間に対応して測定された
変動係数C及び補充液量のデーター群を格納したメモリ
ー100及び制御機構101を介して行われる。即ち自
動現像機の停止時間に対応した変動係数C及び補充液量
がメモリー100からの制御信号により、濃縮現像補充
液を現像槽84に送るベローズポンプ79b、及び希釈
水を噴射ノズル81cに送るベローズポンプ79dを制
御して過不足のない適量の補充液が補充される。
の補充は、前記図1の自動現像機の場合と同様、予め多
数回の実験に基づき、現像液の種類、PS版の種類、及
び自動現像機が停止していた時間に対応して測定された
変動係数C及び補充液量のデーター群を格納したメモリ
ー100及び制御機構101を介して行われる。即ち自
動現像機の停止時間に対応した変動係数C及び補充液量
がメモリー100からの制御信号により、濃縮現像補充
液を現像槽84に送るベローズポンプ79b、及び希釈
水を噴射ノズル81cに送るベローズポンプ79dを制
御して過不足のない適量の補充液が補充される。
【0069】
【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明する
が本発明の実施の態様がこれにより限定されるものでは
ない。
が本発明の実施の態様がこれにより限定されるものでは
ない。
【0070】〔ポジ型印刷版(試料1〜4)の作製〕 〈支持体Aの調製〉厚さ0.3mmのアルミニウム版
(材質1050、調質H16)を、85℃に保たれた1
0%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処
理を行った後水洗した。この脱脂したアルミニウム版
を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間浸漬
し、デスマット処理した後水洗した。次いでこのアルミ
ニウム版を、2.0%の硝酸水溶液中において、温度3
0℃、電流密度80A/dm2の条件で30秒間粗面化
した。その後、70℃に保たれた1%水酸化ナトリウム
水溶液中に10秒間浸漬した後水洗した。次いで、25
℃に保たれた10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬した後
水洗した。次いで30%硫酸水溶液中で、温度35℃、
電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行
った後水洗した。その後、80℃に保たれた0.1%ポ
リビニルホスホン酸水溶液中に30秒間浸漬した後、8
0℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体を得た。
(材質1050、調質H16)を、85℃に保たれた1
0%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処
理を行った後水洗した。この脱脂したアルミニウム版
を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間浸漬
し、デスマット処理した後水洗した。次いでこのアルミ
ニウム版を、2.0%の硝酸水溶液中において、温度3
0℃、電流密度80A/dm2の条件で30秒間粗面化
した。その後、70℃に保たれた1%水酸化ナトリウム
水溶液中に10秒間浸漬した後水洗した。次いで、25
℃に保たれた10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬した後
水洗した。次いで30%硫酸水溶液中で、温度35℃、
電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行
った後水洗した。その後、80℃に保たれた0.1%ポ
リビニルホスホン酸水溶液中に30秒間浸漬した後、8
0℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体を得た。
【0071】このように処理されたアルミニウム支持体
の裏面に、JIS3号珪酸ナトリウム水溶液(10g/
l)を塗布し、80℃で3分間乾燥し、裏面に被覆層を
有するアルミニウム支持体Aを作製した。被覆層は乾燥
重量として10mg/m2となるように塗設して支持体
Aを得た。
の裏面に、JIS3号珪酸ナトリウム水溶液(10g/
l)を塗布し、80℃で3分間乾燥し、裏面に被覆層を
有するアルミニウム支持体Aを作製した。被覆層は乾燥
重量として10mg/m2となるように塗設して支持体
Aを得た。
【0072】〈支持体Bの調製〉上記支持体Aのポリビ
ニルホスホン酸水溶液に代えて、カルボキシメチルセル
ロース水溶液を用いた他は同様にして支持体Bを作製し
た。
ニルホスホン酸水溶液に代えて、カルボキシメチルセル
ロース水溶液を用いた他は同様にして支持体Bを作製し
た。
【0073】次に、下記4種類の組成の感光性組成物塗
布液1〜4を上記アルミニウム支持体A又はBの表面に
塗布し、80℃で2分間乾燥し、表1に示す組み合わせ
で4種類のポジ型PS版(試料1〜4)を得た。このと
きの感光性組成物の塗布後の乾燥重量は2.0g/m2
であった。
布液1〜4を上記アルミニウム支持体A又はBの表面に
塗布し、80℃で2分間乾燥し、表1に示す組み合わせ
で4種類のポジ型PS版(試料1〜4)を得た。このと
きの感光性組成物の塗布後の乾燥重量は2.0g/m2
であった。
【0074】 〈感光性組成物1の調製〉 下記構造の高分子化合物1 0.20g ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン 0.20g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が 10/54/36でMwが4000) 6.70g ピロガロールアセトン樹脂(Mw:3000)とo−ナフトキノンジアジド −5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%)1.50g ポリエチレングリコール#2000 0.20g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製) 0.09g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−S −トリアジン 0.15g フッ素系界面活性剤FC−430(住友3M(株)社製) 0.05g cis−1,2シクロヘキサンジカルボン酸 0.20g メチルエチルケトン/プロピレングリコールモノメチルエーテル=3/7 100ml
【0075】
【化1】
【0076】 〈感光性組成物2の調製〉 下記構造の高分子化合物2 0.50g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が 10/54/36でMwが3500) 6.50g ピロガロールアセトン樹脂(Mw:2000)とo−ナフトキノンジアジド −5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%)1.70g ポリエチレングリコール#2000 0.20g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−S −トリアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)社製) 0.03g cis−1、2シクロヘキサンジカルボン酸 0.15g メチルセロソルブ/エチルセロソルブ=3/7 100ml
【0077】
【化2】
【0078】 〈感光性組成物3の調製〉 上記高分子化合物2 6.50g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が 5/57/38でMwが4000) 1.20g ピロガロールアセトン樹脂(Mw:2000)とo−ナフトキノンジアジド −5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%)1.40g p−クレゾールとホルムアルデヒドの縮合樹脂(Mw:1500)と o−ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロリドの縮合物 (エステル化率40%) 0.30g ポリエチレングリコール#2000 0.20g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)社製) 0.06g エチルバイオレット 0.02g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−S −トリアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)社製) 0.03g cis−1,2シクロヘキサンジカルボン酸 0.20g メチルセロソルブ/エチルセロソルブ=3/7 100ml 〈感光性組成物4の調製〉 m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(Mw:1700) 0.30g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(m−クレゾール/ p−クレゾールのモル比が60/40でMw:3000) 1.10g ピロガロールアセトン樹脂とo−ナフトキノンジアジド−5 −スルホニルクロリドの縮合物(米国特許第3,635,709号明細書 の実施例に記載されているもの) 0.45g テトラヒドロ無水フタル酸 0.10g 安息香酸 0.02g オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)社製) 0.04g 4−[p−N−(p−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニル]−2,6 −ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン 0.02g メガファックF177(大日本インキ化学工業(株)社製) 0.02g メチルエチルケトン 15.0g プロピレングリコールモノメチルエーテル 10.0g 〔ネガ型PS版(試料5、6)の作製〕 〈支持体Cの調製〉厚さ0.30mmの1S材のアルミ
ニウム板を3%水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、こ
れを11.5g/l塩酸浴中で浴温25℃、80A/d
m2の電流密度で15秒間電解研磨を行い、水洗後30
%硫酸浴中で30℃11.5A/dm2の条件で15秒
間陽極酸化を行った。次に1%メタ珪酸ナトリウム水溶
液に85℃で30秒間浸漬し、水洗、乾燥してネガ型P
S版用支持体Cを得た。
ニウム板を3%水酸化ナトリウム水溶液にて脱脂し、こ
れを11.5g/l塩酸浴中で浴温25℃、80A/d
m2の電流密度で15秒間電解研磨を行い、水洗後30
%硫酸浴中で30℃11.5A/dm2の条件で15秒
間陽極酸化を行った。次に1%メタ珪酸ナトリウム水溶
液に85℃で30秒間浸漬し、水洗、乾燥してネガ型P
S版用支持体Cを得た。
【0079】次に、下記調製方法により得られた2種類
の感光性組成物塗布液5、6を上記アルミニウム支持体
C表面に塗布し、85℃で3分間乾燥して、表1に示す
組み合わせで2種類のネガ型PS版(試料5、6)を得
た。このときの感光性組成物の塗布後の乾燥重量は1.
6g/m2であった。
の感光性組成物塗布液5、6を上記アルミニウム支持体
C表面に塗布し、85℃で3分間乾燥して、表1に示す
組み合わせで2種類のネガ型PS版(試料5、6)を得
た。このときの感光性組成物の塗布後の乾燥重量は1.
6g/m2であった。
【0080】〈ジアゾ化合物−1の合成〉p−ジアゾジ
フェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミリモル)を氷
冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反応液に
1.5g(50ミリモル)のパラホルムアルデヒドをゆ
っくり滴下した。この際、反応温度が10℃を超えない
ように注意して添加し、その後、2時間氷冷下撹拌を続
けた。
フェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミリモル)を氷
冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反応液に
1.5g(50ミリモル)のパラホルムアルデヒドをゆ
っくり滴下した。この際、反応温度が10℃を超えない
ように注意して添加し、その後、2時間氷冷下撹拌を続
けた。
【0081】この反応混合物を氷冷下、500mlのエ
タノールに滴下し、生じた沈殿を濾過し、次いでエタノ
ールで洗浄後、この沈殿物を100mlの純水に溶解
し、得られた溶液に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃
厚水溶液を加えた。生じた沈殿物を濾過した後エタノー
ルで洗浄し、これを150mlの純水に溶解した。
タノールに滴下し、生じた沈殿を濾過し、次いでエタノ
ールで洗浄後、この沈殿物を100mlの純水に溶解
し、得られた溶液に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃
厚水溶液を加えた。生じた沈殿物を濾過した後エタノー
ルで洗浄し、これを150mlの純水に溶解した。
【0082】得られた溶液に8gのヘキサフルオロリン
酸アンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加え、生じた
沈殿を濾取し水洗した後、30℃で1昼夜乾燥してジア
ゾ化合物−1を得た。
酸アンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加え、生じた
沈殿を濾取し水洗した後、30℃で1昼夜乾燥してジア
ゾ化合物−1を得た。
【0083】このジアゾ化合物−1をGPC(ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー)により分子量を測定
したところ、5量体以上が約50モル%含まれていた。
ミエーションクロマトグラフィー)により分子量を測定
したところ、5量体以上が約50モル%含まれていた。
【0084】〈ジアゾ化合物−2の合成〉p−ヒドロキ
シ安息香酸3.5g(0.025モル)及び4−ジアゾ
ジフェニルアミン硫酸塩2.20g(0.025モル)
を氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後に
2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09モル)をゆ
っくり添加した。この際、反応温度が10℃を超えない
ように注意して添加していった。その後、2時間氷冷下
撹拌を続け、得られた反応混合物を氷冷下、1lのエタ
ノールに注入し、生じた沈殿を濾過し、エタノールで洗
浄後、この沈殿物を200mlの純水に溶解した。
シ安息香酸3.5g(0.025モル)及び4−ジアゾ
ジフェニルアミン硫酸塩2.20g(0.025モル)
を氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後に
2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09モル)をゆ
っくり添加した。この際、反応温度が10℃を超えない
ように注意して添加していった。その後、2時間氷冷下
撹拌を続け、得られた反応混合物を氷冷下、1lのエタ
ノールに注入し、生じた沈殿を濾過し、エタノールで洗
浄後、この沈殿物を200mlの純水に溶解した。
【0085】この液に10.5gの塩化亜鉛を溶解した
冷濃厚水溶液を加え、生じた沈殿を濾過した後エタノー
ルで洗浄し、これを300mlの純水に溶解した。次い
で、この液に13.7gのヘキサフルオロリン酸アンモ
ニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加え、生じた沈殿を濾
別し水洗した後、30℃で1昼夜乾燥してジアゾ化合物
−2を得た。
冷濃厚水溶液を加え、生じた沈殿を濾過した後エタノー
ルで洗浄し、これを300mlの純水に溶解した。次い
で、この液に13.7gのヘキサフルオロリン酸アンモ
ニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加え、生じた沈殿を濾
別し水洗した後、30℃で1昼夜乾燥してジアゾ化合物
−2を得た。
【0086】このジアゾ化合物−2をGPCにより分子
量を測定したところ、重量平均分子量で約2000であ
った。
量を測定したところ、重量平均分子量で約2000であ
った。
【0087】〈親油性高分子化合物−1の合成〉N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド10.0
g、アクリロニトリル25g、エチルアクリレート60
g、メタクリル酸5g及びアゾビスイソブチロニトリル
2.0gをアセトン−メタノール1:1混合溶液120
mlに溶解し、窒素置換した後60℃で8時間加熱し
た。
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド10.0
g、アクリロニトリル25g、エチルアクリレート60
g、メタクリル酸5g及びアゾビスイソブチロニトリル
2.0gをアセトン−メタノール1:1混合溶液120
mlに溶解し、窒素置換した後60℃で8時間加熱し
た。
【0088】反応終了後、反応液を水5lに撹拌下注
ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して高分子化合物−1を
90g得た。
ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して高分子化合物−1を
90g得た。
【0089】この親油性高分子化合物−1をGPCによ
り分子量の測定をしたところ、重量平均分子量は630
00であった。
り分子量の測定をしたところ、重量平均分子量は630
00であった。
【0090】 〈感光性組成物5の調製〉 親油性高分子化合物−1 5.0g ジアゾ化合物−1 0.5g ジュリマーAC−10L(日本純薬(株)社製) 0.3g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)社製) 0.2g 界面活性剤(レオドールMO−60) 0.1g 下記構造の樹脂P 0.05g メチルセロソルブ 70ml
【0091】
【化3】
【0092】 〈感光性組成物6の調製〉 親油性高分子化合物−1 5.0g ジアゾ化合物−2 0.5g ジュリマーAC−10L(日本純薬(株)社製) 0.3g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)社製) 0.2g 界面活性剤(レオドールMO−60) 0.1g 樹脂P 0.05g メチルセロソルブ 70ml
【0093】
【表1】
【0094】次に実施例に用いられる図1の自動現像機
(自動現像機1)及び図2の自動現像機(自動現像機
2)に用いられる現像液1〜3及び現像補充液1〜3を
下記に示す。
(自動現像機1)及び図2の自動現像機(自動現像機
2)に用いられる現像液1〜3及び現像補充液1〜3を
下記に示す。
【0095】 〔現像液1〕 A珪酸カリウム(SiO2:26wt%、K2O:13wt%) 100重量部 水酸化カリウム 78重量部 エチレンジアミン4酢酸 17重量部 PEG#1000(日本油脂(株)社製) 2重量部 水 1521重量部 〔現像補充液1〕 〈濃縮現像補充液(4倍濃縮液)〉 A珪酸カリウム(SiO2:26wt%、K2O:13wt%) 100重量部 水酸化カリウム 78重量部 水 14重量部 上記濃縮現像補充液(4倍濃縮液)の1体積に対して水
3体積を加えて希釈することにより、現像補充液1が得
られる。
3体積を加えて希釈することにより、現像補充液1が得
られる。
【0096】 〔現像液2〕 A珪酸カリウム(SiO2:26wt%、K2O:13wt%) 100重量部 水酸化カリウム 29重量部 水 448重量部 〔現像補充液2〕 〈濃縮現像補充液(4倍濃縮液)〉 A珪酸カリウム(SiO2:26wt%、K2O:13wt%) 100重量部 水酸化カリウム 58重量部 水 20重量部 上記濃縮現像補充液(4倍濃縮液)の1体積に対して水
3体積を加えて希釈することにより、現像補充液2が得
られる。
3体積を加えて希釈することにより、現像補充液2が得
られる。
【0097】〔現像液3〕 〈濃縮現像母液(6倍濃縮液)〉 水 130重量部 フェニルプロピレングリコール 10重量部 プロピレングリコール 20重量部 p−tert−ブチル安息香酸 40重量部 エマルゲン147(花王(株)社製、非イオン性界面活性剤) 1重量部 ペレックスNB−L(花王(株)社製、アニオン性界面活性剤) 10重量部 50%亜硫酸カリウム水溶液 170重量部 50%グルコン酸水溶液 20重量部 トリエタノールアミン 50重量部 珪酸カリウム水溶液(SiO2含有26重量%、K2O含有13重量%) 550重量部 50%水酸化カリウム水溶液 220重量部 エチレンジアミンテトラ酢酸 3重量部 濃縮現像母液(6倍濃縮液)の1体積に対して水5体積
を加えて希釈することにより、現像液3が得られる。
を加えて希釈することにより、現像液3が得られる。
【0098】〔現像補充液3〕 〈濃縮現像補充液(4倍濃縮液)〉 水 210重量部 フェニルプロピレングリコール 10重量部 プロピレングリコール 20重量部 p−tert−ブチル安息香酸 40重量部 エマルゲン147(花王(株)社製、非イオン性界面活性剤) 5重量部 ペレックスNB−L(花王(株)社製、アニオン性界面活性剤) 10重量部 50%亜硫酸カリウム水溶液 200重量部 50%グルコン酸水溶液 20重量部 トリエタノールアミン 50重量部 珪酸カリウム水溶液(SiO2含有26重量%、K2O含有13重量%) 400重量部 50%水酸化カリウム水溶液 350重量部 エチレンジアミンテトラ酢酸 3重量部 濃縮現像補充液(4倍濃縮液)の1体積に対して水3体
積を加えて希釈することにより、現像補充液3が得られ
る。
積を加えて希釈することにより、現像補充液3が得られ
る。
【0099】(実施例1〜31及び比較例1〜5) 〈試料1〜6に対するグレイスケール露光〉まず、試料
1〜6のPS版に対して網点の絵柄を有する原稿(ポジ
又はネガ)フイルム及び感度測定用ステップタブレット
(イーストマン・コダック(株)社製、No2,濃度差
0.15ずつ21段階のグレイスケール)を密着して、
2kW/メタルハライドランプを光源として8.0mW
/cm2の条件で70cmの距離から60秒間露光し
た。
1〜6のPS版に対して網点の絵柄を有する原稿(ポジ
又はネガ)フイルム及び感度測定用ステップタブレット
(イーストマン・コダック(株)社製、No2,濃度差
0.15ずつ21段階のグレイスケール)を密着して、
2kW/メタルハライドランプを光源として8.0mW
/cm2の条件で70cmの距離から60秒間露光し
た。
【0100】〈グレイスケール露光後の現像〉次に現像
液1〜3及び現像補充液1〜3を図1の自動現像機処理
装置(自動現像機1)及び図2の自動現像機処理装置
(自動現像機2)に仕込み、露光済みの試料1〜6のP
S版の初期の感度が維持できるよう、例えば自動現像機
1の制御部50による制御下に現像補充液を補充しなが
ら、30℃で12秒間現像処理した。
液1〜3及び現像補充液1〜3を図1の自動現像機処理
装置(自動現像機1)及び図2の自動現像機処理装置
(自動現像機2)に仕込み、露光済みの試料1〜6のP
S版の初期の感度が維持できるよう、例えば自動現像機
1の制御部50による制御下に現像補充液を補充しなが
ら、30℃で12秒間現像処理した。
【0101】〈自動現像機停止期間中の現像補充液補充
テスト(実施例1〜31及び比較例1〜5)〉現像液1
〜3、現像補充液1〜3及び自動現像機1、自動現像機
2を用いて自動現像機停止期間中に生ずる現像液の疲
労、劣化に伴う現像性能の低下を補償するための現像補
充液の補充方法に関する以下の処理テストを行った。
テスト(実施例1〜31及び比較例1〜5)〉現像液1
〜3、現像補充液1〜3及び自動現像機1、自動現像機
2を用いて自動現像機停止期間中に生ずる現像液の疲
労、劣化に伴う現像性能の低下を補償するための現像補
充液の補充方法に関する以下の処理テストを行った。
【0102】即ち、PS版、現像液、現像補充液及び用
いられる自動現像機を表2及び表3の如く組み合わせて
36種類(実施例1〜31及び比較例1〜5)の処理テ
ストを行った。
いられる自動現像機を表2及び表3の如く組み合わせて
36種類(実施例1〜31及び比較例1〜5)の処理テ
ストを行った。
【0103】上記36種類の処理において、ポジ型P
S版1種類を処理する場合は1日に菊全サイズで200
版、ポジ型PS版2種類を処理する場合は、各菊全サ
イズ100版ずつ、ポジ型PS版とネガ型PS版の両
方を処理する場合には、1日にポジ型PS版を菊全サイ
ズで160版、ネガ型PS版を菊全サイズで40版ずつ
処理するようにした。更に、上記実施例1〜31及び比
較例1〜5の試料に対応する36種類の処理は何れも、
約1.5ケ月を要して5000版を処理するようにし
た。また細かい処理順序はランダムとなるようにした。
S版1種類を処理する場合は1日に菊全サイズで200
版、ポジ型PS版2種類を処理する場合は、各菊全サ
イズ100版ずつ、ポジ型PS版とネガ型PS版の両
方を処理する場合には、1日にポジ型PS版を菊全サイ
ズで160版、ネガ型PS版を菊全サイズで40版ずつ
処理するようにした。更に、上記実施例1〜31及び比
較例1〜5の試料に対応する36種類の処理は何れも、
約1.5ケ月を要して5000版を処理するようにし
た。また細かい処理順序はランダムとなるようにした。
【0104】また、本発明は、現像処理の合間の自動現
像機の停止時間中の現像性能の補償を行う方法に特徴が
あり、本実施例では自動現像機の停止時間T(hr)に
対して、単位時間当たりの現像補充液の液量(以後単に
日間補充量ともいう)A(ml/hr)×変動係数(自
動現像機の停止時間に応じて減少)Cの現像補充液の液
量を自動現像機の再稼働時に補充するようにした。
像機の停止時間中の現像性能の補償を行う方法に特徴が
あり、本実施例では自動現像機の停止時間T(hr)に
対して、単位時間当たりの現像補充液の液量(以後単に
日間補充量ともいう)A(ml/hr)×変動係数(自
動現像機の停止時間に応じて減少)Cの現像補充液の液
量を自動現像機の再稼働時に補充するようにした。
【0105】なお、各実施例及び比較例別の現像補充液
の日間補充液量A(ml/hr)を表2及び表3に示し
た。
の日間補充液量A(ml/hr)を表2及び表3に示し
た。
【0106】
【表2】
【0107】
【表3】
【0108】また、各実施例及び比較例別の自動現像機
の停止時間に対する変動係数Cの値を表4に示した。
の停止時間に対する変動係数Cの値を表4に示した。
【0109】
【表4】
【0110】上記自動現像機による処理テストの間に、
表3の自動現像機の停止時間T(hr)に対する表2の
日間補充量A(ml/hr)×表3の変動係数Cにより
算出される現像液補充量H(ml)を自動現像機の再稼
働時に補充し、現像液が均一に拡散された時点での各P
S版試料のクリア(ポジ型PS版)又はベタ(ネガ型P
S版)感度(S1)と、自動現像機の停止直前のクリア
又はベタ感度(S2)とを評価し、その差(S1−S2)
を変動幅として表5及び表6に示した。
表3の自動現像機の停止時間T(hr)に対する表2の
日間補充量A(ml/hr)×表3の変動係数Cにより
算出される現像液補充量H(ml)を自動現像機の再稼
働時に補充し、現像液が均一に拡散された時点での各P
S版試料のクリア(ポジ型PS版)又はベタ(ネガ型P
S版)感度(S1)と、自動現像機の停止直前のクリア
又はベタ感度(S2)とを評価し、その差(S1−S2)
を変動幅として表5及び表6に示した。
【0111】
【表5】
【0112】
【表6】
【0113】なお、比較例では自動現像機の停止時間に
対する変動係数Cを表4に示すように全て1.00とし
て処理し(停止時間に関係なく常に一定として処理
し)、該変動係数C以外は実施例と同様に処理し、実施
例と同じ評価を行った。
対する変動係数Cを表4に示すように全て1.00とし
て処理し(停止時間に関係なく常に一定として処理
し)、該変動係数C以外は実施例と同様に処理し、実施
例と同じ評価を行った。
【0114】表5及び6から明らかなごとく、本発明内
の実施例1〜31は、自動現像機の停止時間が長くなっ
てもクリア感度(※についてはベタ感度)の変動幅が小
さく、それだけ現像特性が安定していることがわかる。
一方、本発明外の比較例1〜5は自動現像機の停止時間
が長くなるほどクリア感度(※についてはベタ感度)の
変動幅が大きく、実用上問題があることが明らかであ
る。
の実施例1〜31は、自動現像機の停止時間が長くなっ
てもクリア感度(※についてはベタ感度)の変動幅が小
さく、それだけ現像特性が安定していることがわかる。
一方、本発明外の比較例1〜5は自動現像機の停止時間
が長くなるほどクリア感度(※についてはベタ感度)の
変動幅が大きく、実用上問題があることが明らかであ
る。
【0115】
【発明の効果】従来、PS版の自動現像機による現像処
理において、停止時間が長くなった場合に現像液の活性
度を一定に保つことが難しく、その結果補充が行われた
直後では、現像液の活性度が元のレベルに対してかなり
高くなるので現像処理が不安定になってしまうという欠
点があった。
理において、停止時間が長くなった場合に現像液の活性
度を一定に保つことが難しく、その結果補充が行われた
直後では、現像液の活性度が元のレベルに対してかなり
高くなるので現像処理が不安定になってしまうという欠
点があった。
【0116】本発明により、自動現像機を用いて繰り返
して使用される現像液でPS版を処理する際、長期間に
亘り該自動現像機を停止した場合でも、現像液の活性度
の変動がなく、安定した現像処理が達成されるPS版の
自動現像機における処理方法及び該PS版の処理装置を
提供することができる。
して使用される現像液でPS版を処理する際、長期間に
亘り該自動現像機を停止した場合でも、現像液の活性度
の変動がなく、安定した現像処理が達成されるPS版の
自動現像機における処理方法及び該PS版の処理装置を
提供することができる。
【図1】本発明の浸漬現像方式の自動現像機処理装置の
概要断面図。
概要断面図。
【図2】本発明のシャワー現像方式の自動現像機処理装
置の概要断面図。
置の概要断面図。
A,A′ 挿入部 B,B′ 現像部 C,C′ リンス部 D,D′ ガム処理部 E 乾燥部 F,F′ 日間補充液の補充制御部 1 挿入台 2 光学センサ 3A,3B ニップ搬送ローラ 4,76 搬送ローラ 5,84 現像槽 12,13,79a,79b,79c,79d ベロー
ズポンプ 14,86 濃縮現像補充液タンク 15,88 希釈水タンク 50 制御手段 71 PS版 81a,81b,81c ノズルパイプ 83a,83b,83c スキージローラ
ズポンプ 14,86 濃縮現像補充液タンク 15,88 希釈水タンク 50 制御手段 71 PS版 81a,81b,81c ノズルパイプ 83a,83b,83c スキージローラ
フロントページの続き (72)発明者 渡辺 光治 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内
Claims (3)
- 【請求項1】 感光性平版印刷版を繰り返し使用される
現像液で現像する自動現像機の稼働停止時から再稼働時
迄の現像液の活性度の低下を、該現像液の補充液を添加
して補償する自動現像機における感光性平版印刷版の処
理方法において、自動現像機の停止時間に応じて補充液
量の割合を少なくすることを特徴とする自動現像機にお
ける感光性平版印刷版の処理方法。 - 【請求項2】 下記一般式(I)で表される補充液量H
を補充することを特徴とする請求項1に記載の自動現像
機における感光性平版印刷版の処理方法。 一般式(I) 補充液量H=T×A×C T:自動現像機の停止時間(hr) A:単位時間当たりの補充液量(ml/hr) C:停止時間に対する変動係数(自動現像機の停止時間
に応じて減少) - 【請求項3】 感光性平版印刷版を自動的に搬送し、補
充液を補充して繰り返し使用される現像液で現像する自
動現像機における感光性平版印刷版の処理装置におい
て、前記一般式(I)で表される補充液量で補充する手
段を有することを特徴とする自動現像機における感光性
平版印刷版の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33676196A JPH10177253A (ja) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | 自動現像機における感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33676196A JPH10177253A (ja) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | 自動現像機における感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10177253A true JPH10177253A (ja) | 1998-06-30 |
Family
ID=18302468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33676196A Pending JPH10177253A (ja) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | 自動現像機における感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10177253A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003084449A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性平版印刷版の製版方法 |
-
1996
- 1996-12-17 JP JP33676196A patent/JPH10177253A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003084449A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性平版印刷版の製版方法 |
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