JPH10208908A - 限流素子およびその製造方法 - Google Patents

限流素子およびその製造方法

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JPH10208908A
JPH10208908A JP603997A JP603997A JPH10208908A JP H10208908 A JPH10208908 A JP H10208908A JP 603997 A JP603997 A JP 603997A JP 603997 A JP603997 A JP 603997A JP H10208908 A JPH10208908 A JP H10208908A
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JP
Japan
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resistor
electrode
current limiting
limiting element
brazing
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Application number
JP603997A
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English (en)
Inventor
Toshiyuki Yoshizawa
利之 吉沢
Takuya Suzuki
卓弥 鈴木
Kenji Kunihara
健二 国原
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】酸化バナジウム系セラミツクスからなる円柱状
の抵抗体の両端に電極をろう材を介してろう付け接合
し、抵抗体表面に低融点ガラスの酸化防止膜を被着して
なる限流素子において、ガラスコートの欠陥を無くし、
長期信頼性に優れる限流素子およびその製造方法を提供
する。 【解決手段】電極3の直径をV2 3 抵抗体1のそれよ
りも大きくとることにより、電極3とV2 3 抵抗体1
との接合部の外周をろう溜まりとして、フイレットを形
成し、界面の濡れ不良を改善し、ガラスコートの空孔や
クラックを防止する。また、電極外周の接合面側にテー
パーを設けたテーパ付き電極6を用いることにより、同
様の効果が得られる。ろう材を電極、V2 3 抵抗体1
の端面に形成しておいてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、正の抵抗温度係数を
持つ(PTC)抵抗体を用いる限流素子に係り、特に長
期にわたる信頼性に優れる限流素子およびその製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、低圧配電系統においても大容量化
が進展し、それに伴い負荷が短絡した際に流れる過電流
も大電流化しており、ブレーカーについても高遮断容量
化が望まれている。このような技術動向に対応して、大
電流、大電力用の過電流保護素子として酸化バナジウム
(以下V2 3 と記す)系セラミックスを主成分とする
PTC抵抗体を用いる限流素子の利用が期待されてい
る。
【0003】V2 3 系セラミックスは100℃〜20
0℃の間で金属から絶縁物に転移する性質を有してお
り、室温付近では比抵抗が10-3Ω・cmと小さいが、
100〜150℃にかけて緩やかに増大し、150℃付
近で二桁程急激に増大し(この急増する温度を転移温度
と称する)、150〜200℃においてピークとなり、
それ以上の温度では低下する性質を有する。
【0004】このような性質を有するV2 3 抵抗体は
過電流が流れた際のジュール熱によって温度が上昇し、
抵抗値が増大することを利用して、その抵抗増大により
過電流を限流することができる。そして、電極を接合し
た限流素子として用いられている。しかし、PTC特性
を有する三酸化バナジウム(V2 3 )は、大気中では
不安定相であるため、正常電流が流れている通常状態に
おける通電による若干の発熱でも容易に酸化が進行し
て、例えばVO2 のようなV2 3 の過酸化物に変質
し、PTC特性が劣化する。PTC特性の劣化は、過電
流保護素子としての機能を著しく低下させるため、V2
3 の酸化を防止することが重要である。
【0005】先に発明者のグループは限流素子の非電極
部表面に酸化防止膜として、亜鉛ガラス等の低融点ガラ
ス粉末のペーストを塗布し、窒素中など中性の雰囲気中
で熱処理して、ガラスを溶融、固化した、ガラスコート
が適当であることを見いだし、提案した。[特許願平8
−128889号(平成8年5月24日出願)]
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、限流素
子製造を重ねるうち、不良発生の幾分かを酸化防止用の
ガラスコートが不完全なものが占めることがわかった。
図3(a)ないし(c)は、その機構の一例を説明する
ための製造工程順に示した断面図である。従来V2 3
抵抗体1の径と、電極3の径とは同じであったが、その
場合、V2 3 抵抗体1の径と、電極3とを接合するろ
う箔2の位置ずれ[図3(a)]等により、電極3の側
面に融けたろう2aが流れ出し、接合界面に部分的な濡
れ不良が発生することがある[同図(b)]。このため
に前述のガラスペーストの熱処理時の固化に伴うガラス
の収縮により、ガラスコート4の凹んだ部分に空孔8や
クラック9が発生する[同図(c)]。このような欠陥
を生じた限流素子は、長期の使用中にV2 3 の酸化が
進み、特性が劣化することになる。
【0007】本発明は、上述の問題点を解決するために
なされ、その目的は、V2 3 抵抗体を覆うガラスコー
トの欠陥を無くし、長期信頼性に優れる限流素子および
その製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題解決のため本発
明は、V2 3 系セラミツクスからなる円柱状のV2
3 抵抗体の両端に電極をろう材を介して真空ろう付け接
合し、V2 3 抵抗体表面に低融点ガラスの酸化防止膜
を被着してなる限流素子において、電極の径が、V2
3 抵抗体の径よりも大きいものとする。
【0009】そのような電極を用いた限流素子とすれ
ば、接合界面の外周に、底角が90度のろう溜まりがで
きる、電極側への流れ出しによる接合界面の濡れ不良が
無くなる。また、溜まったろうの表面がテーパー状(フ
ィレツト)となり、連続的な表面となるため、ガラスコ
ートのクラック等が防止できる。電極外周の接合面側の
少なくとも一部に接合面側が小さいテーパーを設けても
よい。
【0010】電極外周の接合面側にテーパーをつけて
も、上述と同様の効果が得られる。本発明の限流素子の
製造方法としては、径がV2 3 抵抗体の径よりも大き
く、厚さ5〜500μmのろう箔を用いてろう付け接合
するものとする。そのようにすれば、ろう材の位置ずれ
が防止できる。厚さ5μm以下では接合不十分となり、
500μm以上では、ろう材が流れ出る。
【0011】また、接合するV2 3 抵抗体および電極
の端面の少なくとも一方にろう材を1〜10μmの厚さ
にスパッタリングし、そのろう材でろう付け接合するこ
ともできる。上述と同様の効果があり、更に取扱が容易
になる。厚さ1μm以下では接合不十分となり、10μ
m以上では、スパッタに時間を要し、量産に適さない。
【0012】
【発明の実施の形態】次にこの発明の実施例を図面に基
づいて説明する。 [実施例1]図1(c)は、本発明第一の実施例にかか
る限流素子の断面図であり、図1(a)および(b)は
その製造工程途中の断面図である。
【0013】図1(a)において1は、V2 5 または
2 3 と、Cr2 3 、Fe2 3 を原料とし、湿式
ボールミルで12時間混合粉砕し、乾燥した粉末を成形
した後、水素気流中で1500℃、1時間焼成したV2
3 抵抗体であり、組成は、例えば(V0.9965Cr
0.00352 3 +Fe5wt%となるものであり、寸法
はφ12×20mmである。
【0014】2はAg−Cu共晶ろう箔であり、寸法は
φ12×50μmである。3はφ15×5mmのMo電
極である。Cu電極でもよい。V2 3 抵抗体1、Ag
−Cu共晶のろう箔2、Mo電極3を長さ方向に積み重
ね、[図1(a)]、真空中で750℃×5分間焼成
し、電極付けした[図1(b)]。接合界面の濡れ不良
がなく、溶融固化したろう2aにより全周にわたり綺麗
にフィレツトが形成された。
【0015】その後、ZnOを主成分とする低融点ガラ
スペーストを塗布し、窒素中で700℃×10分間焼成
してガラスコート4を形成した[図1(c)]。ガラス
コート4には、目視だけでなく、顕微鏡的にも空孔やク
ラツク等が、観察されなくなった。その結果、ガラスコ
ートの欠陥による不良率は従来の約1/10以下に減少
した。これは、Mo電極3の径をV2 3 抵抗体1のそ
れより大きくし、ろう溜まりを作って接合界面の濡れ不
良やろう流れを無くしたことによる。
【0016】[実施例2]図2(c)は、本発明第二の
実施例にかかる限流素子の断面図であり、図2(a)お
よび(b)はその製造工程途中の断面図である。図2
(a)において、5はV2 3 抵抗体の接合面にスパッ
タ法により1%Ti入りAg−Cu共晶ろう層7を5μ
m形成したV2 3 抵抗体である。
【0017】6はテーパーをつけた電極であり、接合側
の径が12.5mm、電極面側の径が15mmである。
テーパー付き電極6の接合側の径はV2 3 抵抗体1の
それより少しだけ大きい方がよい。また、テーパーの角
度としては、溶けたろうが流れ出てしまわないように接
合面に対してあまり急でなく、45度以下がよい。5、
6を長さ方向に積み重ね[図2(a)]、真空中で75
0℃×5分間焼成し、電極付けした[同図(b)]。接
合界面の濡れ不良がなく、全周にわたり綺麗にフィレツ
トが形成された。しかもろう材の量が制限されるため、
接合面からのろう材のはみ出しも少なくなり、良好な表
面形状が得られる。
【0018】その後低融点ガラスペーストを塗布し、窒
素中で700℃×10分間焼成によりガラスコート4を
形成した[図3(c)]。この例でも、ガラスコート4
に空孔やクラツク等は発生しなかった。Ag−Cu共晶
のろう層7は、接合するMo電極側、或いは両方にスパ
ッタ法で被着しても良い。
【0019】この例では、Ag−Cu共晶ろう層を形成
したV2 3 抵抗体とテーパー付き電極とを同時に使用
したが、両者が必要なわけではなく、テーパー付き電極
と、ろう箔、或いは、Ag−Cu共晶ろう層を形成した
2 3 抵抗体とテーパー無しの電極との組み合わせで
もよい。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、V
2 3 抵抗体径よりも電極径を大きくし、また、電極外
周の接合面側にテーパーを設けることによって、接合部
界面の濡れ不良が改善され、酸化防止膜であるガラスコ
ートの欠陥の発生が防止できるため、長期信頼性に優れ
る限流素子が得られる。
【0021】ろう材を予めV2 3 抵抗体、電極のいず
れか一方または両方の接合面にスパッタしておけば、取
扱も容易であり、ろう材の量が制限されるため、接合面
からのろう材のはみ出しも少なくなり、良好な接合形状
が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)および(b)は本発明実施例1の限流素
子の製造工程途中の断面図、(c)は工程終了後の断面
【図2】(a)および(b)は本発明実施例2の限流素
子の製造工程途中の断面図、(c)は工程終了後の断面
【図3】(a)および(b)は従来の限流素子の製造工
程途中の断面図、(c)は工程終了後の断面図
【符号の説明】
1 V2 3 抵抗体 2 ろう箔 2a 溶融、固化したろう 3 電極 4 ガラスコート 5 Ag−Cu共晶ろう層付きのV2 3 抵抗体 6 テーパー付き電極 7 Ag−Cu共晶ろう層 8 空孔 9 クラック

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】酸化バナジウム系セラミツクスからなる円
    柱状の酸化バナジウム抵抗体の両端に電極をろう付け接
    合し、抵抗体表面に低融点ガラスの酸化防止膜を被着し
    てなる限流素子において、電極の径が、酸化バナジウム
    抵抗体の径よりも大きいことを特徴とする限流素子。
  2. 【請求項2】電極外周の接合面側の少なくとも一部に接
    合面側が小さいテーパーを設けたことを特徴とする請求
    項1記載の限流素子。
  3. 【請求項3】径が酸化バナジウム抵抗体の径よりも大き
    く、厚さ5〜500μmのろう箔を用いてろう付け接合
    することを特徴とする請求項1または2に記載の限流素
    子の製造方法。
  4. 【請求項4】接合する酸化バナジウム抵抗体および電極
    の端面の少なくとも一方にろう層を1〜10μmの厚さ
    にスパッタリングし、そのろう材でろう付け接合するこ
    とを特徴とする請求項1または2に記載の限流素子の製
    造方法。
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