JPH10221820A - 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents
黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 pH10以下の現像液で補充量を大幅に低減
させながら、又、処理時間を大幅に短縮して、ランニン
グ処理した場合にも、黒白ハロゲン化銀写真感光材料、
特に印刷製版用感光材料において写真性能の変動が少な
い処理方法を提供する。 【解決手段】 4級オニウム化合物を含有する黒白ハロ
ゲン化銀写真感光材料を、アスコルビン酸又はその誘導
体の存在下、pH8.0〜10.0の現像液を用いて自
動現像機にて処理するにあたり、該自動現像機の水洗工
程を多段向流方式とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
させながら、又、処理時間を大幅に短縮して、ランニン
グ処理した場合にも、黒白ハロゲン化銀写真感光材料、
特に印刷製版用感光材料において写真性能の変動が少な
い処理方法を提供する。 【解決手段】 4級オニウム化合物を含有する黒白ハロ
ゲン化銀写真感光材料を、アスコルビン酸又はその誘導
体の存在下、pH8.0〜10.0の現像液を用いて自
動現像機にて処理するにあたり、該自動現像機の水洗工
程を多段向流方式とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は黒白ハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法に関し、詳しくは補充量の低減や
迅速処理が可能で写真性能の変動を抑えた、印刷製版分
野に好適な黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
関する。
真感光材料の処理方法に関し、詳しくは補充量の低減や
迅速処理が可能で写真性能の変動を抑えた、印刷製版分
野に好適な黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、地球環境保護を目的としてロンド
ン条約が締結され、日本では1996年1月1日より写
真処理廃液の海洋投棄が禁止された。このため写真業界
では写真処理廃液を極限にまで低減する努力が行なわれ
ており、印刷製版分野においても処理液の補充量の低減
により廃液を減少させる要請が大きく、様々な検討がな
されている。
ン条約が締結され、日本では1996年1月1日より写
真処理廃液の海洋投棄が禁止された。このため写真業界
では写真処理廃液を極限にまで低減する努力が行なわれ
ており、印刷製版分野においても処理液の補充量の低減
により廃液を減少させる要請が大きく、様々な検討がな
されている。
【0003】印刷製版用途のハロゲン化銀写真感光材料
(以下、感光材料とも言う。)は露光後、一般に自動現
像機を用いて現像、定着、水洗又は安定化という工程で
処理され、通常、現像液は、ハイドロキノンに代表され
るジヒドロキシベンゼン系化合物を現像主薬、アミノフ
ェノール類又は3−ピラゾリドン類を補助現像主薬にし
て、保恒剤として亜硫酸塩を含有するアルカリ性溶液で
ある。この現像液は後述の超硬調の画像再現の要請、更
には処理の迅速化とあいまって従来pH10.3以上と
いった高pHであって、酸化劣化し易いことにより必ず
しも安定とは言い難く、現像液の低補充化に耐え得る安
定度を有していない現実がある。
(以下、感光材料とも言う。)は露光後、一般に自動現
像機を用いて現像、定着、水洗又は安定化という工程で
処理され、通常、現像液は、ハイドロキノンに代表され
るジヒドロキシベンゼン系化合物を現像主薬、アミノフ
ェノール類又は3−ピラゾリドン類を補助現像主薬にし
て、保恒剤として亜硫酸塩を含有するアルカリ性溶液で
ある。この現像液は後述の超硬調の画像再現の要請、更
には処理の迅速化とあいまって従来pH10.3以上と
いった高pHであって、酸化劣化し易いことにより必ず
しも安定とは言い難く、現像液の低補充化に耐え得る安
定度を有していない現実がある。
【0004】印刷製版用途のハロゲン化銀写真感光材料
においては、通常、網点画像を用いるために写真特性
上、超硬調の画像再現をなしうる写真技術への要請があ
る。その様な技術として例えば米国特許第4,269,
929号等に見られる様なヒドラジン誘導体を含有する
感光材料が知られている。ところが補充量を低減するた
めに、現像液を安定なpHの低い領域で処方すると、こ
の様な感光材料では超硬調の画像再現が不可能になって
しまう。
においては、通常、網点画像を用いるために写真特性
上、超硬調の画像再現をなしうる写真技術への要請があ
る。その様な技術として例えば米国特許第4,269,
929号等に見られる様なヒドラジン誘導体を含有する
感光材料が知られている。ところが補充量を低減するた
めに、現像液を安定なpHの低い領域で処方すると、こ
の様な感光材料では超硬調の画像再現が不可能になって
しまう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】pH10以下の現像液
で硬調化する技術として特開平6−102633号に記
載されている様なピリジニウム塩等の4級オニウム化合
物を用いる方法が知られている。又、特開平8−440
05号に記載の如く、ヒドラジン誘導体と4級オニウム
化合物とを併用して画像再現と補充量の低減を最適化し
ようとする考え方も知られている。
で硬調化する技術として特開平6−102633号に記
載されている様なピリジニウム塩等の4級オニウム化合
物を用いる方法が知られている。又、特開平8−440
05号に記載の如く、ヒドラジン誘導体と4級オニウム
化合物とを併用して画像再現と補充量の低減を最適化し
ようとする考え方も知られている。
【0006】しかしながら4級オニウム化合物を感光材
料に用い、pH10以下の現像液を用いて補充量を低減
させてランニング処理すると写真性能の変動が生ずる。
特に、処理後の残色や画像保存性が劣化するという問題
があった。例えば、処理後、高温多湿な状態で保存する
と、残色が強くなったり、銀画像濃度が低下するという
問題があった。加えて処理時間を短くして処理すると、
写真性能の変動は更に大きくなる。
料に用い、pH10以下の現像液を用いて補充量を低減
させてランニング処理すると写真性能の変動が生ずる。
特に、処理後の残色や画像保存性が劣化するという問題
があった。例えば、処理後、高温多湿な状態で保存する
と、残色が強くなったり、銀画像濃度が低下するという
問題があった。加えて処理時間を短くして処理すると、
写真性能の変動は更に大きくなる。
【0007】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、pH10以下の現像液で補充量を
大幅に低減させながら、又、処理時間を大幅に短縮し
て、ランニング処理した場合にも、黒白ハロゲン化銀写
真感光材料、特に印刷製版用感光材料において処理後の
残色の様な写真性能の変動が少なく、得られる画像の保
存性に優れる処理方法を提供することにある。
であり、その目的は、pH10以下の現像液で補充量を
大幅に低減させながら、又、処理時間を大幅に短縮し
て、ランニング処理した場合にも、黒白ハロゲン化銀写
真感光材料、特に印刷製版用感光材料において処理後の
残色の様な写真性能の変動が少なく、得られる画像の保
存性に優れる処理方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、4
級オニウム化合物を含有する黒白ハロゲン化銀写真感光
材料を、アスコルビン酸又はその誘導体の存在下、pH
8.0〜10.0の現像液を用いて自動現像機にて処理
するにあたり、該自動現像機の水洗工程を多段向流方式
とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法、前記
現像液が一般式(S)で表される化合物を含有するこ
と、前記現像液が3−ピラゾリドン類又はアミノフェノ
ール類を含有すること、前記自動現像機が現像槽、定着
槽、水洗槽及び乾燥部を有し、前記感光材料が自動現像
機に挿入されてから乾燥部を出るまでの全処理時間(D
ry to Dry)を10〜80秒とすること、処理
される感光材料1m2当たり30〜250mlの範囲で
現像補充液を補充しながら処理すること、によって達成
される。
級オニウム化合物を含有する黒白ハロゲン化銀写真感光
材料を、アスコルビン酸又はその誘導体の存在下、pH
8.0〜10.0の現像液を用いて自動現像機にて処理
するにあたり、該自動現像機の水洗工程を多段向流方式
とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法、前記
現像液が一般式(S)で表される化合物を含有するこ
と、前記現像液が3−ピラゾリドン類又はアミノフェノ
ール類を含有すること、前記自動現像機が現像槽、定着
槽、水洗槽及び乾燥部を有し、前記感光材料が自動現像
機に挿入されてから乾燥部を出るまでの全処理時間(D
ry to Dry)を10〜80秒とすること、処理
される感光材料1m2当たり30〜250mlの範囲で
現像補充液を補充しながら処理すること、によって達成
される。
【0009】即ち本発明者は、補充量を低減して且つ超
硬調の画像再現が可能な、4級オニウム化合物を含有す
る感光材料をアスコルビン酸又はその誘導体を含有する
pH8.0〜10の現像液で処理する系においては、感
光材料中に含まれる染料等の脱色が不十分であったり、
形成される銀画像の安定性が不十分であったりすること
により、高温多湿の様な保存状態では写真性能の変動が
起きると考え、水洗方式を工夫することによりこれらの
点を補償できることを見出し、本発明に至ったものであ
る。
硬調の画像再現が可能な、4級オニウム化合物を含有す
る感光材料をアスコルビン酸又はその誘導体を含有する
pH8.0〜10の現像液で処理する系においては、感
光材料中に含まれる染料等の脱色が不十分であったり、
形成される銀画像の安定性が不十分であったりすること
により、高温多湿の様な保存状態では写真性能の変動が
起きると考え、水洗方式を工夫することによりこれらの
点を補償できることを見出し、本発明に至ったものであ
る。
【0010】以下、本発明について項目毎に詳述する。
【0011】《感光材料》本発明に用いる感光材料は4
級オニウム塩化合物を含有する。
級オニウム塩化合物を含有する。
【0012】本発明に用いる4級オニウム塩化合物は、
分子内に窒素原子又は燐原子の4級カチオン基を有する
化合物であり、好ましくは下記一般式(P)で表される
化合物である。
分子内に窒素原子又は燐原子の4級カチオン基を有する
化合物であり、好ましくは下記一般式(P)で表される
化合物である。
【0013】
【化1】
【0014】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。又、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。但し、R1、R2、R3及びR4
が同時に水素原子となることはない。
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。又、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。但し、R1、R2、R3及びR4
が同時に水素原子となることはない。
【0015】R1〜R4で表される置換基としては、アル
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(ア
リル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパルギル
基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチ
ル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニル
基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル
基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。R1〜
R4が互いに連結して形成しうる環としては、ピペリジ
ン環、モルホリン環、ピペラジン環、キヌクリジン環、
ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、テトラゾール環等が挙げられる。R1〜R4で表さ
れる基はヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、アリー
ル基等の置換基を有してもよい。
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(ア
リル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパルギル
基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチ
ル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニル
基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル
基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。R1〜
R4が互いに連結して形成しうる環としては、ピペリジ
ン環、モルホリン環、ピペラジン環、キヌクリジン環、
ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、テトラゾール環等が挙げられる。R1〜R4で表さ
れる基はヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、アリー
ル基等の置換基を有してもよい。
【0016】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。
及びアルキル基が好ましい。
【0017】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
【0018】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
【0019】
【化2】
【0020】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基が挙げられる。A1、A2、
A3、A4及びA5の好ましい例としては、5〜6員環
(ピリジン、イミダゾール、チアゾール、オキサゾー
ル、ピラジン、ピリミジン等の各環)を挙げることがで
き、更に好ましい例としてピリジン環である。
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基が挙げられる。A1、A2、
A3、A4及びA5の好ましい例としては、5〜6員環
(ピリジン、イミダゾール、チアゾール、オキサゾー
ル、ピラジン、ピリミジン等の各環)を挙げることがで
き、更に好ましい例としてピリジン環である。
【0021】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基である。
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基である。
【0022】R1、R2及びR5は各々、置換或いは無置
換の炭素数1〜20のアルキル基を表す。又、R1及び
R2は同一でも異っていてもよい。置換基としては、
A1、A2、A3、A4及びA5の置換基として挙げた置換
基と同様である。R1、R2及びR5の好ましい例として
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。
換の炭素数1〜20のアルキル基を表す。又、R1及び
R2は同一でも異っていてもよい。置換基としては、
A1、A2、A3、A4及びA5の置換基として挙げた置換
基と同様である。R1、R2及びR5の好ましい例として
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。
【0023】Xp -は分子全体の電荷を均衡させるのに必
要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の
電荷を均衡させるに必要な対イオンの数を表し、分子内
塩の場合にはnpは0である。
要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の
電荷を均衡させるに必要な対イオンの数を表し、分子内
塩の場合にはnpは0である。
【0024】
【化3】
【0025】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
【0026】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシユ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシユ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
【0027】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
【0028】以下、4級オニウム塩化合物の具体例を下
記に挙げるが、これらに限定されるものではない。
記に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0029】
【化4】
【0030】
【化5】
【0031】
【化6】
【0032】
【化7】
【0033】
【化8】
【0034】
【化9】
【0035】
【化10】
【0036】
【化11】
【0037】
【化12】
【0038】
【化13】
【0039】上記4級オニウム塩化合物は公知の方法に
従って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合
物は Chemical Reviews 55 p.
335〜483に記載の方法を参考にできる。
従って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合
物は Chemical Reviews 55 p.
335〜483に記載の方法を参考にできる。
【0040】これら4級オニウム塩化合物の添加量は、
ハロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好
ましくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらは
ハロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感
光材料中に添加できる。
ハロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好
ましくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらは
ハロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感
光材料中に添加できる。
【0041】4級オニウム塩化合物は、単独で用いても
2種以上を適宜併用して用いてもよい。また感光材料の
構成層中のいかなる層に添加してもよいが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤層を有する側の構成層の少なくとも1
層、更にはハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
添加する。
2種以上を適宜併用して用いてもよい。また感光材料の
構成層中のいかなる層に添加してもよいが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤層を有する側の構成層の少なくとも1
層、更にはハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
添加する。
【0042】本発明においては、4級オニウム化合物の
他に硬調化剤としてヒドラジン誘導体を添加することが
できる。
他に硬調化剤としてヒドラジン誘導体を添加することが
できる。
【0043】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
用いるハロゲン化銀のハロゲン組成は塩化銀含有率50
〜85モル%の塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。ハロ
ゲン化銀の平均粒子サイズは0.7μm以下であること
が好ましく、特に0.3〜0.1μmが好ましい。ハロ
ゲン化銀粒子の形状は、平板状、球状、立方体状、14
面体状、正八面体状その他何れの形状でもよい。又、粒
子サイズ分布は狭い方が好ましく、特に平均粒子サイズ
の±40%の粒子サイズ域内に全粒子数の90%、望ま
しくは95%が入るような、いわゆる単分散乳剤が好ま
しい。
用いるハロゲン化銀のハロゲン組成は塩化銀含有率50
〜85モル%の塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。ハロ
ゲン化銀の平均粒子サイズは0.7μm以下であること
が好ましく、特に0.3〜0.1μmが好ましい。ハロ
ゲン化銀粒子の形状は、平板状、球状、立方体状、14
面体状、正八面体状その他何れの形状でもよい。又、粒
子サイズ分布は狭い方が好ましく、特に平均粒子サイズ
の±40%の粒子サイズ域内に全粒子数の90%、望ま
しくは95%が入るような、いわゆる単分散乳剤が好ま
しい。
【0044】ハロゲン化銀粒子を形成する過程又は成長
させる過程の少なくとも1つでカドミウム塩、亜鉛塩、
鉛塩、タリウム塩、ルテニウム塩、オスミウム塩、イリ
ジウム塩又はロジウム塩等の8族遷移金属、或いはこれ
らの元素を含む錯塩を添加することが好ましく、特に好
ましいものは、Rh及びReである。好ましい添加量と
しては、銀1モルあたり10-8〜10-4モルである。
させる過程の少なくとも1つでカドミウム塩、亜鉛塩、
鉛塩、タリウム塩、ルテニウム塩、オスミウム塩、イリ
ジウム塩又はロジウム塩等の8族遷移金属、或いはこれ
らの元素を含む錯塩を添加することが好ましく、特に好
ましいものは、Rh及びReである。好ましい添加量と
しては、銀1モルあたり10-8〜10-4モルである。
【0045】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(RD)
176巻 17643 22〜23頁(1978年12
月)に記載もしくは引用された文献に記載されている。
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(RD)
176巻 17643 22〜23頁(1978年12
月)に記載もしくは引用された文献に記載されている。
【0046】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されているこ
とが好ましい。また増感色素により所望の波長に分光増
感できる。
とが好ましい。また増感色素により所望の波長に分光増
感できる。
【0047】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
は、該感光材料の製造工程、保存中或いは写真処理中の
カブリを防止し、或いは写真性能を安定化させる目的で
カブリ防止剤又は安定剤として知られた多くの化合物を
加えることができる。また写真乳剤及び非感光性の親水
性コロイド層には硬膜剤を含有してよい。更に、塗布助
剤、帯電防止、滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写
真特性改良など種々の目的で種々の公知の界面活性剤を
用いてもよい。
は、該感光材料の製造工程、保存中或いは写真処理中の
カブリを防止し、或いは写真性能を安定化させる目的で
カブリ防止剤又は安定剤として知られた多くの化合物を
加えることができる。また写真乳剤及び非感光性の親水
性コロイド層には硬膜剤を含有してよい。更に、塗布助
剤、帯電防止、滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写
真特性改良など種々の目的で種々の公知の界面活性剤を
用いてもよい。
【0048】写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとして
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
【0049】本発明に用いられる写真乳剤には、寸度安
定性の改良などの目的で、例えばアルキル(メタ)アク
リレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルア
ミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロ
ニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組
合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、α,β
−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレート、ス
チレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とするポリマ
ーを用いることができる。
定性の改良などの目的で、例えばアルキル(メタ)アク
リレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルア
ミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロ
ニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組
合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、α,β
−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレート、ス
チレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とするポリマ
ーを用いることができる。
【0050】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料
は、支持体上に少なくとも1層の導電性層を設けること
が好ましい。導電性層を形成する代表的な方法として
は、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー硬化剤を用
いて形成する方法と金属酸化物を用いて形成する方法が
ある。これらの方法については、例えば特開平3−26
5842号記載の方法を用いることができる。
は、支持体上に少なくとも1層の導電性層を設けること
が好ましい。導電性層を形成する代表的な方法として
は、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー硬化剤を用
いて形成する方法と金属酸化物を用いて形成する方法が
ある。これらの方法については、例えば特開平3−26
5842号記載の方法を用いることができる。
【0051】本発明で処理される感光材料の膨潤百分率
が、30〜250%、更には50〜180%であれば本
発明の効果を一層発揮することができる。ここでいう膨
潤百分率は、感光材料を38℃50%RHで3日間イン
キュベーション処理し、親水性コロイド層の厚み
(d0)を測定し、該感光材料を21℃の蒸留水に3分
間浸漬し、そして再度親水性コロイド層の厚み(d)を
測定して膨潤した厚みからその膨潤の割合を表す。即ち
(d−d0)/d×100である。
が、30〜250%、更には50〜180%であれば本
発明の効果を一層発揮することができる。ここでいう膨
潤百分率は、感光材料を38℃50%RHで3日間イン
キュベーション処理し、親水性コロイド層の厚み
(d0)を測定し、該感光材料を21℃の蒸留水に3分
間浸漬し、そして再度親水性コロイド層の厚み(d)を
測定して膨潤した厚みからその膨潤の割合を表す。即ち
(d−d0)/d×100である。
【0052】本発明に係るハロゲン化銀乳剤には当業界
公知の各種技術、添加剤等を用いることができる。これ
らについては、前記(RD)176巻7643(197
8年12月)及び同号187巻8716(1979年1
1月)に記載されている。
公知の各種技術、添加剤等を用いることができる。これ
らについては、前記(RD)176巻7643(197
8年12月)及び同号187巻8716(1979年1
1月)に記載されている。
【0053】本発明に係る感光材料において、乳剤層、
保護層は単層でもよいし、2層以上からなる重層でもよ
い。重層の場合には間に中間層などを設けてもよい。
保護層は単層でもよいし、2層以上からなる重層でもよ
い。重層の場合には間に中間層などを設けてもよい。
【0054】用いることのできる支持体としては、酢酸
セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレ
ートの様なポリステル、ポリエチレンの様なポリオレフ
ィン、ポリスチレン、バライタ紙、ポリオレフィンを塗
布した紙、ガラス、金属等を挙げることができる。これ
らの支持体は必要に応じて下引加工が施される。
セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレ
ートの様なポリステル、ポリエチレンの様なポリオレフ
ィン、ポリスチレン、バライタ紙、ポリオレフィンを塗
布した紙、ガラス、金属等を挙げることができる。これ
らの支持体は必要に応じて下引加工が施される。
【0055】《現像液》本発明においては、アスコルビ
ン酸又はその誘導体は感光材料及び/又は現像液に含有
されることが好ましく、更に好ましくは現像液に含有さ
れることであり、現像液はpH8.0〜10.0、好ま
しくは8.5〜9.8であることを特徴とする。
ン酸又はその誘導体は感光材料及び/又は現像液に含有
されることが好ましく、更に好ましくは現像液に含有さ
れることであり、現像液はpH8.0〜10.0、好ま
しくは8.5〜9.8であることを特徴とする。
【0056】アスコルビン酸又はその誘導体としては、
下記一般式(A)及び(A−a)から選ばれる化合物が
好ましく用いられる。
下記一般式(A)及び(A−a)から選ばれる化合物が
好ましく用いられる。
【0057】
【化14】
【0058】式中、R8、R9は各々アルキル基、アミノ
基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、これらは
置換基を有してもよく、またR8とR9が互いに結合して
環を形成してもよい。kは0又は1を表し、k=1のと
きXは−CO−又は−CS−を表す。M3、M4は各々水
素原子又はアルカリ金属を表す。
基、アルコキシ基又はアルキルチオ基を表し、これらは
置換基を有してもよく、またR8とR9が互いに結合して
環を形成してもよい。kは0又は1を表し、k=1のと
きXは−CO−又は−CS−を表す。M3、M4は各々水
素原子又はアルカリ金属を表す。
【0059】前記一般式(A)で示される化合物におい
て、R8とR9が互いに結合して環を形成した下記一般式
(A−a)で示される化合物が好ましい。
て、R8とR9が互いに結合して環を形成した下記一般式
(A−a)で示される化合物が好ましい。
【0060】
【化15】
【0061】式中、R10は水素原子、それぞれ置換又は
非置換の、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコ
キシ基、又はスルホ基、カルボキシル基、アミド基、ス
ルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、Y2は
O、S又はNR11を表す。R11はそれぞれ置換又は非置
換の、アルキル基又はアリール基を表す。M3、M4は各
々水素原子又はアルカリ金属を表す。
非置換の、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコ
キシ基、又はスルホ基、カルボキシル基、アミド基、ス
ルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、Y2は
O、S又はNR11を表す。R11はそれぞれ置換又は非置
換の、アルキル基又はアリール基を表す。M3、M4は各
々水素原子又はアルカリ金属を表す。
【0062】一般式(A)又は一般式(A−a)におけ
るアルキル基としては、低級アルキル基が好ましく、た
とえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ基とし
ては無置換のアミノ基或いは低級アルキル基で置換され
たアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては低級アル
コキシ基が好ましく、アリール基としては好ましくはフ
ェニル基或いはナフチル基等であり、これらの基は置換
基を有していてもよく、置換し得る基としてはヒドロキ
シル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、スルホ基、カル
ボキシル基、アミド基、スルホンアミド基等が好ましい
置換基として挙げられる。
るアルキル基としては、低級アルキル基が好ましく、た
とえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ基とし
ては無置換のアミノ基或いは低級アルキル基で置換され
たアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては低級アル
コキシ基が好ましく、アリール基としては好ましくはフ
ェニル基或いはナフチル基等であり、これらの基は置換
基を有していてもよく、置換し得る基としてはヒドロキ
シル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、スルホ基、カル
ボキシル基、アミド基、スルホンアミド基等が好ましい
置換基として挙げられる。
【0063】一般式(A)又は一般式(A−a)で表さ
れる具体的化合物例を以下に示すが、これらに限定され
るものではない。
れる具体的化合物例を以下に示すが、これらに限定され
るものではない。
【0064】
【化16】
【0065】
【化17】
【0066】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸とその塩又はそれらから誘導
される誘導体であり、市販品として入手できるか或いは
容易に公知の合成法により合成することができる。
ン酸或いはエリソルビン酸とその塩又はそれらから誘導
される誘導体であり、市販品として入手できるか或いは
容易に公知の合成法により合成することができる。
【0067】上記のアスコルビン酸或いはエリソルビン
酸類の現像主薬と組み合わせて、3−ピラゾリドン類
(例えば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−エチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メ
チル−3−ピラゾリドン等)やアミノフェノール類(例
えばo−アミノフェノール、p−アミノフェノール、N
−メチル−o−アミノフェノール、N−メチル−p−ア
ミノフェノール、2,4−ジアミノフェノール等)等の
補助現像剤を使用することが好ましい。この場合、3−
ピラゾリドン類やアミノフェノール類の現像主薬は、現
像液1l当たり0.001〜1.4モルの量で用いられ
るのが好ましい。またアスコルビン酸或いはエリソルビ
ン酸類の使用量は現像液1l当たり0.05〜1モル程
度である。アスコルビン酸又はその誘導体を感光材料に
含有する場合の使用量は銀1モル当たり0.01〜5モ
ルである。
酸類の現像主薬と組み合わせて、3−ピラゾリドン類
(例えば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−エチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メ
チル−3−ピラゾリドン等)やアミノフェノール類(例
えばo−アミノフェノール、p−アミノフェノール、N
−メチル−o−アミノフェノール、N−メチル−p−ア
ミノフェノール、2,4−ジアミノフェノール等)等の
補助現像剤を使用することが好ましい。この場合、3−
ピラゾリドン類やアミノフェノール類の現像主薬は、現
像液1l当たり0.001〜1.4モルの量で用いられ
るのが好ましい。またアスコルビン酸或いはエリソルビ
ン酸類の使用量は現像液1l当たり0.05〜1モル程
度である。アスコルビン酸又はその誘導体を感光材料に
含有する場合の使用量は銀1モル当たり0.01〜5モ
ルである。
【0068】本発明においては、ハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類は、環境
及び性能の観点から実質的に用いないことが好ましい。
ルハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類は、環境
及び性能の観点から実質的に用いないことが好ましい。
【0069】本発明の現像液には、下記一般式(S)で
表される化合物を銀スラッジ防止剤として含有させるこ
とが好ましい。
表される化合物を銀スラッジ防止剤として含有させるこ
とが好ましい。
【0070】一般式(S) Z1−SM1 式中Z1は、アルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環基
であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COOM
2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は置
換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換
若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアン
モニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又は、
この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基によ
って置換されているものを表す。M1は水素原子、アル
カリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基(これ
はハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形成して
いてもよい)を表す。
であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COOM
2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は置
換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置換
若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアン
モニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又は、
この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基によ
って置換されているものを表す。M1は水素原子、アル
カリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基(これ
はハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形成して
いてもよい)を表す。
【0071】又、一般式(S)において、Z1で表され
るアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のものであ
って特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のアル
キル基であって上記の置換基の他に置換基を有していて
もよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数6
〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換基の
他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテロ
環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環であ
り、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテロ
原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。但し、ヘテ
ロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換もし
くは無置換のナフチル基を有さない。一般式(S)で表
される化合物のうち、好ましくはZ1が、2個以上の窒
素原子を有するヘテロ環基である化合物である。
るアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のものであ
って特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のアル
キル基であって上記の置換基の他に置換基を有していて
もよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数6
〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換基の
他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテロ
環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環であ
り、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテロ
原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。但し、ヘテ
ロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換もし
くは無置換のナフチル基を有さない。一般式(S)で表
される化合物のうち、好ましくはZ1が、2個以上の窒
素原子を有するヘテロ環基である化合物である。
【0072】アンモニオ基としては好ましくは炭素数2
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(メチル基、エチル基、ベ
ンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシル基
等)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基を表
す。
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(メチル基、エチル基、ベ
ンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシル基
等)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基を表
す。
【0073】一般式(S)で表される化合物で好ましい
ものは下記一般式(S−a)で表される。
ものは下記一般式(S−a)で表される。
【0074】
【化18】
【0075】式中、Zは窒素原子を有する不飽和の5員
ヘテロ環又は、6員ヘテロ環(ピロール環、イミダゾー
ル環、ピラゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピ
ラジン環等)を形成するのに必要な基であり、少なくと
も一つの−SM1基又はチオン基を有する化合物であっ
て、且つヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R11、R12は、水素原子、
−SM1基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有す
るものを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを
含む)、ヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミ
ノ基(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基
(置換基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を
有するものを含む)であり、R11とR12で環を形成して
もよい。形成できる環としては、5員環又は6員環であ
り、好ましくは含窒素ヘテロ環である。M1は、前記一
般式(S)で定義されたM1と同義である。好ましくは
Zは二つ以上の窒素原子を含むヘテロ環化合物を形成す
る基であり、前記−SM1基若しくはチオン基以外の置
換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン
原子、低級アルキル基(置換基を有するものを含む。メ
チル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好まし
い。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下の
ものが好ましい。)、低級アルケニル基(置換基を有す
るものを含む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カ
ルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式
(S−a)において次の一般式AからFで表される化合
物が特に好ましい。
ヘテロ環又は、6員ヘテロ環(ピロール環、イミダゾー
ル環、ピラゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピ
ラジン環等)を形成するのに必要な基であり、少なくと
も一つの−SM1基又はチオン基を有する化合物であっ
て、且つヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R11、R12は、水素原子、
−SM1基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有す
るものを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを
含む)、ヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミ
ノ基(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基
(置換基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を
有するものを含む)であり、R11とR12で環を形成して
もよい。形成できる環としては、5員環又は6員環であ
り、好ましくは含窒素ヘテロ環である。M1は、前記一
般式(S)で定義されたM1と同義である。好ましくは
Zは二つ以上の窒素原子を含むヘテロ環化合物を形成す
る基であり、前記−SM1基若しくはチオン基以外の置
換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン
原子、低級アルキル基(置換基を有するものを含む。メ
チル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好まし
い。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下の
ものが好ましい。)、低級アルケニル基(置換基を有す
るものを含む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カ
ルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式
(S−a)において次の一般式AからFで表される化合
物が特に好ましい。
【0076】
【化19】
【0077】式中、各々R21、R22、R23、R24は各
々、水素原子、−SM1基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル基
等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキ
シ基(置換基を有するものを含む。炭素数5以下のもの
が好ましい。)、ヒドロキシ基、−COOM2、−SO3
M5基、低級アルケニル基(置換基を有するものを含
む。炭素数5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カ
ルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは−
SM1基である。M1、M2、M5は各々水素原子、アルカ
リ金属原子又はアンモニウム基を表す。特に、−SM1
以外の置換基としてはヒドロキシ基、−COOM2、−
SO3M5基、アミノ基等の水溶性基を持つことが好まし
い。
々、水素原子、−SM1基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル基
等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキ
シ基(置換基を有するものを含む。炭素数5以下のもの
が好ましい。)、ヒドロキシ基、−COOM2、−SO3
M5基、低級アルケニル基(置換基を有するものを含
む。炭素数5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カ
ルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは−
SM1基である。M1、M2、M5は各々水素原子、アルカ
リ金属原子又はアンモニウム基を表す。特に、−SM1
以外の置換基としてはヒドロキシ基、−COOM2、−
SO3M5基、アミノ基等の水溶性基を持つことが好まし
い。
【0078】R21、R22、R23、R24で表されるアミノ
基は置換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基
としては低級アルキル基である。アンモニウム基として
は置換又は非置換のアンモニウム基であり、好ましくは
非置換のアンモニウム基である。
基は置換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基
としては低級アルキル基である。アンモニウム基として
は置換又は非置換のアンモニウム基であり、好ましくは
非置換のアンモニウム基である。
【0079】以下に一般式(S)で表される化合物の具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。
体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【0080】
【化20】
【0081】
【化21】
【0082】
【化22】
【0083】
【化23】
【0084】
【化24】
【0085】
【化25】
【0086】一般式(S)で表される化合物の使用量
は、現像液1l中に10-6〜10-1モルであることが好
ましく、更には10-5〜10-2モルであることが好まし
い。
は、現像液1l中に10-6〜10-1モルであることが好
ましく、更には10-5〜10-2モルであることが好まし
い。
【0087】保恒剤として亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カ
リウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリウム
等の亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩を用いることができる。
亜硫酸塩は0.25モル/l以上で用いるのが好まし
い。特に好ましくは0.4モル/l以上である。
リウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリウム
等の亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩を用いることができる。
亜硫酸塩は0.25モル/l以上で用いるのが好まし
い。特に好ましくは0.4モル/l以上である。
【0088】現像液には、アルカリ剤(水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等)及びpH緩衝剤(炭酸塩、燐酸
塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞酸、アルカノールアミン
等)が添加されることが好ましい。pH緩衝剤として
は、炭酸塩が好ましく、その添加量は1l当たり0.5
〜2.5モルが好ましく、更に好ましくは、0.75〜
1.5モルの範囲である。又、必要により溶解助剤(ポ
リエチレングリコール類、それらのエステル、アルカノ
ールアミン等)、増感剤(ポリオキシエチレン類を含む
非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、界
面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(臭化カリウム、臭化
ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズインダゾ
ール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾー
ル、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾール類
等)、キレート化剤(エチレンジアミン四酢酸又はその
アルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、
現像促進剤(米国特許第2,304,025号、特公昭
47−45541号に記載の化合物等)、硬膜剤(グル
タルアルデヒド又はその重亜硫酸塩付加物等)等を添加
することができる。
ム、水酸化カリウム等)及びpH緩衝剤(炭酸塩、燐酸
塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞酸、アルカノールアミン
等)が添加されることが好ましい。pH緩衝剤として
は、炭酸塩が好ましく、その添加量は1l当たり0.5
〜2.5モルが好ましく、更に好ましくは、0.75〜
1.5モルの範囲である。又、必要により溶解助剤(ポ
リエチレングリコール類、それらのエステル、アルカノ
ールアミン等)、増感剤(ポリオキシエチレン類を含む
非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、界
面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(臭化カリウム、臭化
ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズインダゾ
ール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾー
ル、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾール類
等)、キレート化剤(エチレンジアミン四酢酸又はその
アルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、
現像促進剤(米国特許第2,304,025号、特公昭
47−45541号に記載の化合物等)、硬膜剤(グル
タルアルデヒド又はその重亜硫酸塩付加物等)等を添加
することができる。
【0089】《処理方法》本発明の処理方法は上記記載
の感光材料を上記記載の現像液を用いて、自動現像機に
て水洗工程を多段向流方式として(以下、多段向流水洗
方式とも言う。)処理することを特徴とする。ここに多
段向流方式とは、自動現像機の水洗槽を2以上に分割
し、最後尾の槽に水洗水を供給しながら水洗処理を行う
ものである。
の感光材料を上記記載の現像液を用いて、自動現像機に
て水洗工程を多段向流方式として(以下、多段向流水洗
方式とも言う。)処理することを特徴とする。ここに多
段向流方式とは、自動現像機の水洗槽を2以上に分割
し、最後尾の槽に水洗水を供給しながら水洗処理を行う
ものである。
【0090】図1は多段向流水洗方式を採用した自動現
像機の処理工程の説明図である。図1において、1は現
像槽、2は定着槽であって、31、32及び33が3段
の水洗槽である。水洗水は水洗槽33に給水タンク5か
ら配管6を介して配管62から供給され、水洗槽32、
31を経てオーバーフローし、定着槽2に希釈水として
供給され利用される。4は乾燥部、7は除湿機、51は
給水ユニット、11は現像廃液槽、21は定着廃液槽で
ある。
像機の処理工程の説明図である。図1において、1は現
像槽、2は定着槽であって、31、32及び33が3段
の水洗槽である。水洗水は水洗槽33に給水タンク5か
ら配管6を介して配管62から供給され、水洗槽32、
31を経てオーバーフローし、定着槽2に希釈水として
供給され利用される。4は乾燥部、7は除湿機、51は
給水ユニット、11は現像廃液槽、21は定着廃液槽で
ある。
【0091】水洗槽にはエチレンジアミン4酢酸、クエ
ン酸、硼酸等のキレート剤やイソチアゾリン等の殺菌剤
が添加されることが好ましく、キレート剤及び殺菌剤は
それぞれ水洗水1l当たり0.5〜100g程度、好ま
しくは1〜50gで用いる。
ン酸、硼酸等のキレート剤やイソチアゾリン等の殺菌剤
が添加されることが好ましく、キレート剤及び殺菌剤は
それぞれ水洗水1l当たり0.5〜100g程度、好ま
しくは1〜50gで用いる。
【0092】多段向流水洗方式とすることで水洗水の使
用量を低減することが可能で、廃液量の低減のみなら
ず、水洗処理の経済的負担を減少せしめ、ユーザーのラ
ンニングコストの低減ができる。水洗水の補充量として
は、処理される感光材料1m2当たり50〜500ml
が好ましく、更には200〜500mlが好ましい。
用量を低減することが可能で、廃液量の低減のみなら
ず、水洗処理の経済的負担を減少せしめ、ユーザーのラ
ンニングコストの低減ができる。水洗水の補充量として
は、処理される感光材料1m2当たり50〜500ml
が好ましく、更には200〜500mlが好ましい。
【0093】現像廃液は通電して再生することができ
る。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレスウ
ール等の電気伝導体や半導体)を、電解質溶液に陽極
(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない電気伝
導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液槽と電
解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再生す
る。通電しながら本発明に係る感光材料を処理すること
もできる。その際、現像液に添加される各種の添加剤、
例えば現像液に添加することができる保恒剤、アルカリ
剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッジ防
止剤等を追加添加することが出来る。又、現像液に通電
しながら感光材料を処理する方法があり、その際に上記
のような現像液に添加できる添加剤を追加添加できる。
る。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレスウ
ール等の電気伝導体や半導体)を、電解質溶液に陽極
(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない電気伝
導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液槽と電
解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再生す
る。通電しながら本発明に係る感光材料を処理すること
もできる。その際、現像液に添加される各種の添加剤、
例えば現像液に添加することができる保恒剤、アルカリ
剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッジ防
止剤等を追加添加することが出来る。又、現像液に通電
しながら感光材料を処理する方法があり、その際に上記
のような現像液に添加できる添加剤を追加添加できる。
【0094】現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中又
はその隣接層中に含有させ、アルカリ水溶液中で処理し
て現像を行わせる、所謂アクチベータ処理としてもよ
い。又、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中又はそ
の隣接層中に含んだ感光材料を現像液で処理しても良
い。このような現像処理は、チオシアン酸塩による銀塩
安定化処理と組み合わせて、感光材料の迅速処理の方法
の一つとして利用されることが多く、そのような処理液
に適用も可能である。
はその隣接層中に含有させ、アルカリ水溶液中で処理し
て現像を行わせる、所謂アクチベータ処理としてもよ
い。又、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中又はそ
の隣接層中に含んだ感光材料を現像液で処理しても良
い。このような現像処理は、チオシアン酸塩による銀塩
安定化処理と組み合わせて、感光材料の迅速処理の方法
の一つとして利用されることが多く、そのような処理液
に適用も可能である。
【0095】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。
のを用いることができる。
【0096】定着液はチオ硫酸のリチウム、カリウム、
ナトリウム、アンモニウム塩等を含有することが好まし
く、より好ましくはナトリウム塩又はアンモニウム塩で
ある。添加量は定着液1l当たり0.1〜5モル程度、
好ましくは0.5〜2.0モル、更には0.7〜1.8
モルで、最も好ましいのは0.8〜1.5モルである。
ナトリウム、アンモニウム塩等を含有することが好まし
く、より好ましくはナトリウム塩又はアンモニウム塩で
ある。添加量は定着液1l当たり0.1〜5モル程度、
好ましくは0.5〜2.0モル、更には0.7〜1.8
モルで、最も好ましいのは0.8〜1.5モルである。
【0097】定着液にはクエン酸、酒石酸、りんご酸、
琥珀酸及びこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナトリウ
ム塩、アンモニウム塩等、及びこれらの光学異性体等を
含ませてもよい。酒石酸の水素リチウム、水素カリウ
ム、水素ナトリウム、水素アンモニウム、アンモニウム
カリウム、ナトリウムカリウム等でもよい。これらの中
で好ましいものはクエン酸、イソクエン酸、酒石酸、琥
珀酸及びこれらの塩であり、最も好ましくは酒石酸とそ
の塩である。
琥珀酸及びこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナトリウ
ム塩、アンモニウム塩等、及びこれらの光学異性体等を
含ませてもよい。酒石酸の水素リチウム、水素カリウ
ム、水素ナトリウム、水素アンモニウム、アンモニウム
カリウム、ナトリウムカリウム等でもよい。これらの中
で好ましいものはクエン酸、イソクエン酸、酒石酸、琥
珀酸及びこれらの塩であり、最も好ましくは酒石酸とそ
の塩である。
【0098】各処理剤は、液状で補充されても固体状で
補充されてもよい。
補充されてもよい。
【0099】廃液量の低減のために、現像工程と定着工
程に感光材料の面積に比例した一定量の補充をしながら
処理する。現像補充量及び定着補充量はそれぞれ感光材
料1m2当たり300ml以下が好ましく、より好まし
くは30〜250mlである。補充量は、槽内の母液と
同じ液を補充する場合の液の補充量であり、濃縮液を水
で希釈した液で補充する場合の濃縮液と水の合計量であ
り、固体処理剤を水で溶解した液で補充する場合の固体
処理剤容積と水の容積の合計量であり、また固体処理剤
と水を別々に補充する場合の固体処理剤容積と水の容積
の合計量である。
程に感光材料の面積に比例した一定量の補充をしながら
処理する。現像補充量及び定着補充量はそれぞれ感光材
料1m2当たり300ml以下が好ましく、より好まし
くは30〜250mlである。補充量は、槽内の母液と
同じ液を補充する場合の液の補充量であり、濃縮液を水
で希釈した液で補充する場合の濃縮液と水の合計量であ
り、固体処理剤を水で溶解した液で補充する場合の固体
処理剤容積と水の容積の合計量であり、また固体処理剤
と水を別々に補充する場合の固体処理剤容積と水の容積
の合計量である。
【0100】特に現像補充量が感光材料1m2当たり1
20ml以下の場合は、現像補充液は自動現像機の現像
槽内の現像母液と異なった液又は固体処理剤であること
が好ましく、現像補充液に含まれる前記銀スラッジ防止
剤の量は現像母液に含まれる量より多いことが好まし
く、現像補充液に含まれる現像主薬の量は現像母液に含
まれる量の1.2倍〜4倍の量であることが好ましい。
また特に定着補充量が感光材料1m2当たり150ml
以下の場合は、定着補充液は自動現像機のタンク内の定
着母液と異なった液又は固体処理剤であることが好まし
く、定着補充液に含まれるチオ硫酸塩の量は定着母液に
含まれる量より多いことが好ましい。
20ml以下の場合は、現像補充液は自動現像機の現像
槽内の現像母液と異なった液又は固体処理剤であること
が好ましく、現像補充液に含まれる前記銀スラッジ防止
剤の量は現像母液に含まれる量より多いことが好まし
く、現像補充液に含まれる現像主薬の量は現像母液に含
まれる量の1.2倍〜4倍の量であることが好ましい。
また特に定着補充量が感光材料1m2当たり150ml
以下の場合は、定着補充液は自動現像機のタンク内の定
着母液と異なった液又は固体処理剤であることが好まし
く、定着補充液に含まれるチオ硫酸塩の量は定着母液に
含まれる量より多いことが好ましい。
【0101】さて処理剤キットが製造された後使用する
までの間に包装材料から酸素が透過することにより処理
成分が酸化してしまうため、本発明の現像液は、酸素透
過率の低い材料で包装されることが望ましい。酸素透過
率が低い材料としては、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ナイロン(Ny)、塩化ビニリデンコート
のナイロン、エチレン酢酸ビニル(EVA)、塩化ビニ
ール、アルミ箔又は酸化アルミ蒸着膜をこれらのポリマ
ー材質でラミネートした材料、及びこれらの材料を多層
に積層した材料等がある。特に包装材料の酸素透過率が
50ml/atm・m2・25℃・day以下であるこ
とがキット状態での経時安定性に好ましい。
までの間に包装材料から酸素が透過することにより処理
成分が酸化してしまうため、本発明の現像液は、酸素透
過率の低い材料で包装されることが望ましい。酸素透過
率が低い材料としては、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ナイロン(Ny)、塩化ビニリデンコート
のナイロン、エチレン酢酸ビニル(EVA)、塩化ビニ
ール、アルミ箔又は酸化アルミ蒸着膜をこれらのポリマ
ー材質でラミネートした材料、及びこれらの材料を多層
に積層した材料等がある。特に包装材料の酸素透過率が
50ml/atm・m2・25℃・day以下であるこ
とがキット状態での経時安定性に好ましい。
【0102】現像、定着、水洗の温度は10〜45℃の
間であることが好ましく、それぞれが別々に温度調整さ
れていてもよい。
間であることが好ましく、それぞれが別々に温度調整さ
れていてもよい。
【0103】現像時間短縮の要望から感光材料先端が自
動現像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出て来るまで
の全処理時間が10〜80秒であることが好ましい。こ
こでいう全処理時間は、感光材料を処理するのに必要な
全工程時間を含み、具体的には処理に必要な、例えば現
像、定着、漂白、水洗、乾燥等の工程の時間を全て含ん
だ時間、つまりDry to Dryの時間である。更
に好ましくは全処理時間が15〜44秒である。又、1
0m2以上の大量の感光材料を安定にランニング処理す
るためには、現像時間は18秒以下2秒以上であること
が好ましい。
動現像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出て来るまで
の全処理時間が10〜80秒であることが好ましい。こ
こでいう全処理時間は、感光材料を処理するのに必要な
全工程時間を含み、具体的には処理に必要な、例えば現
像、定着、漂白、水洗、乾燥等の工程の時間を全て含ん
だ時間、つまりDry to Dryの時間である。更
に好ましくは全処理時間が15〜44秒である。又、1
0m2以上の大量の感光材料を安定にランニング処理す
るためには、現像時間は18秒以下2秒以上であること
が好ましい。
【0104】自動現像機には60℃以上の伝熱体(60
℃〜130℃のヒートローラー等)或いは150℃以上
(好ましくは250℃以上)の輻射物体(例えばタング
ステン、炭素、タンタル、ニクロム、酸化ジルコニウム
・酸化イットリウム・酸化トリウムの混合物、炭化ケイ
素、二ケイ化モリブデン、クロム酸ランタンなどに直接
電流を通して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネ
ルギーを銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックな
どの放射体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出
するもの)で乾燥するゾーンを持つものが好ましく用い
られる。
℃〜130℃のヒートローラー等)或いは150℃以上
(好ましくは250℃以上)の輻射物体(例えばタング
ステン、炭素、タンタル、ニクロム、酸化ジルコニウム
・酸化イットリウム・酸化トリウムの混合物、炭化ケイ
素、二ケイ化モリブデン、クロム酸ランタンなどに直接
電流を通して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネ
ルギーを銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックな
どの放射体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出
するもの)で乾燥するゾーンを持つものが好ましく用い
られる。
【0105】本発明においては下記に記載された方法及
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
【0106】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号388
(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)頁「0054」〜(21)頁「00
65」 (5)外気温度湿度検出して自動現像機の乾燥風を制御
する方法:特開平1−315745号496(2)頁右
下欄〜501(7)頁右下欄及び特開平2−10805
1号588(2)頁左下欄〜589(3)頁左下欄 (6)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号388
(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)頁「0054」〜(21)頁「00
65」 (5)外気温度湿度検出して自動現像機の乾燥風を制御
する方法:特開平1−315745号496(2)頁右
下欄〜501(7)頁右下欄及び特開平2−10805
1号588(2)頁左下欄〜589(3)頁左下欄 (6)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。
【0107】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0108】実施例1 〈支持体の作成〉 (シンジオタクチックポリスチレンの合成)トルエン2
00gにスチレンを100g、トリイソブチルアルミニ
ウム56g、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン
トリメトキサイド234gを使用して96℃で8時間反
応を行った。水酸化ナトリウムのメタノール溶液で触媒
を分解除去した後、メタノールで3回洗浄してシンジオ
タクチックポリスチレン(SPS)を34g得た。
00gにスチレンを100g、トリイソブチルアルミニ
ウム56g、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン
トリメトキサイド234gを使用して96℃で8時間反
応を行った。水酸化ナトリウムのメタノール溶液で触媒
を分解除去した後、メタノールで3回洗浄してシンジオ
タクチックポリスチレン(SPS)を34g得た。
【0109】(SPSフィルムの作成)得られたSPS
を330℃でTダイからフィルム状に熔融押し出しをお
こない、冷却ドラム上で急冷固化して未遠心フィルムを
得た。このとき、冷却ドラムの引き取り速度を2段階で
行い、厚さ1054μmの未延伸フィルムを135℃で
予熱し、縦延伸(3.1倍)した後、130℃で横延伸
(3.4倍)し、更に250℃で熱固定をおこなった。
その結果、支持体として曲げ弾性率450kg/m
m2、厚さ100μmの2軸延伸フィルムを得た。
を330℃でTダイからフィルム状に熔融押し出しをお
こない、冷却ドラム上で急冷固化して未遠心フィルムを
得た。このとき、冷却ドラムの引き取り速度を2段階で
行い、厚さ1054μmの未延伸フィルムを135℃で
予熱し、縦延伸(3.1倍)した後、130℃で横延伸
(3.4倍)し、更に250℃で熱固定をおこなった。
その結果、支持体として曲げ弾性率450kg/m
m2、厚さ100μmの2軸延伸フィルムを得た。
【0110】(SPSフィルムの下塗り)上記SPSフ
ィルムの両面にシリカ蒸着した後に、スチレン−グリシ
ジルアクリレート及び酸化スズ微粒子を含む下塗層を形
成し帯電防止加工を施した。
ィルムの両面にシリカ蒸着した後に、スチレン−グリシ
ジルアクリレート及び酸化スズ微粒子を含む下塗層を形
成し帯電防止加工を施した。
【0111】〈感光材料の作成〉 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モル当たり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ル当たり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シェ
ル型単分散(変動係数10%)の(100)面を主平面
として有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀
0.2モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒子の乳剤
であった。ついで特開平2−280139号287
(3)頁に記載の変性ゼラチンG−8(ゼラチン中のア
ミノ基をフェニルカルバミルで置換したもの)を使い脱
塩した。
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モル当たり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ル当たり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シェ
ル型単分散(変動係数10%)の(100)面を主平面
として有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀
0.2モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒子の乳剤
であった。ついで特開平2−280139号287
(3)頁に記載の変性ゼラチンG−8(ゼラチン中のア
ミノ基をフェニルカルバミルで置換したもの)を使い脱
塩した。
【0112】脱塩後のEAgは50℃で190mvであ
った。得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸を
添加してpH5.6、EAg123mVに調整して、塩
化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×1
0-6モル添加して温度60℃で最高感度が出るまで化学
熟成を行った。
った。得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸を
添加してpH5.6、EAg123mVに調整して、塩
化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×1
0-6モル添加して温度60℃で最高感度が出るまで化学
熟成を行った。
【0113】熟成終了後、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当た
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当た
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0114】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。混合時にK
3Rh(H2O)Br5を銀1モル当たり2×10-8モル
添加した。このコア粒子に同時混合法を用いてシェルを
付けた。その際K2IrCl6を銀1モル当たり3×10
-7モル添加した。
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。混合時にK
3Rh(H2O)Br5を銀1モル当たり2×10-8モル
添加した。このコア粒子に同時混合法を用いてシェルを
付けた。その際K2IrCl6を銀1モル当たり3×10
-7モル添加した。
【0115】得られた乳剤は平均厚み0.10μm、平
均直径0.42μmのコア/シェル型単分散(変動係数
10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃化銀0.
5モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子乳剤であ
った。次いで変性ゼラチンG−8(前出)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で180mVであった。
均直径0.42μmのコア/シェル型単分散(変動係数
10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃化銀0.
5モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子乳剤であ
った。次いで変性ゼラチンG−8(前出)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で180mVであった。
【0116】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,
N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を
3×10-5モル添加して温度60℃で最高感度が出るま
で化学熟成を行った。
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,
N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を
3×10-5モル添加して温度60℃で最高感度が出るま
で化学熟成を行った。
【0117】熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0118】(レーザー光源用印刷製版スキャナー用ハ
ロゲン化銀写真感光材料の調製)上記の支持体の一方の
下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン
量が0.5g/m2になる様に、その上に下記処方2の
ハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチン
量が0.5g/m2になる様に、更にその上層に中間保
護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が0.3g
/m2になる様に、更にその上層に処方4のハロゲン化
銀乳剤層2を銀量1.4g/m2、ゼラチン量が0.4
g/m2になる様に、更に下記処方5の塗布液をゼラチ
ン量が0.6g/m2になるよう同時重層塗布した。ま
た反対側の下塗層上には下記処方6のバッキング層をゼ
ラチン量が0.6g/m2になる様に、その上に下記処
方7の疎水性ポリマー層を、更にその上に下記処方8の
バッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になる
様に乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得た。
ロゲン化銀写真感光材料の調製)上記の支持体の一方の
下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン
量が0.5g/m2になる様に、その上に下記処方2の
ハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチン
量が0.5g/m2になる様に、更にその上層に中間保
護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が0.3g
/m2になる様に、更にその上層に処方4のハロゲン化
銀乳剤層2を銀量1.4g/m2、ゼラチン量が0.4
g/m2になる様に、更に下記処方5の塗布液をゼラチ
ン量が0.6g/m2になるよう同時重層塗布した。ま
た反対側の下塗層上には下記処方6のバッキング層をゼ
ラチン量が0.6g/m2になる様に、その上に下記処
方7の疎水性ポリマー層を、更にその上に下記処方8の
バッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になる
様に乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得た。
【0119】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−1の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量1.5g/m2になる様に 染料AD−8の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 20mg/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 増感色素d−1 5mg/m2 増感色素d−2 5mg/m2 4級オニウム化合物 表1に示す量 レドックス化合物:RE−1 20mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 エチレンジアミン4酢酸(EDTA) 30mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 処方3(中間層組成) ゼラチン 0.3g/m2 S−1 2mg/m2 処方4(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤B 銀量1.4g/m2になる様に 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 化合物H−1 5mg/m2 造核促進剤Nb−1 40mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料AD−5の固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 造核促進剤Na−1 40mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤:K−1 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 HO(CH2CH2O)68H 50mg/m2 硬膜剤:K−1 20mg/m2
【0120】
【化26】
【0121】
【化27】
【0122】
【化28】
【0123】
【化29】
【0124】なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵
抗値は23℃、20%RHで6×1011Ω/□で、乳
剤側の表面の膜面pHは5.5、膨潤度は175であっ
た。
抗値は23℃、20%RHで6×1011Ω/□で、乳
剤側の表面の膜面pHは5.5、膨潤度は175であっ
た。
【0125】〈処理剤の作製〉
【0126】
【化30】
【0127】
【化31】
【0128】 定着液(使用液1リットル分) 純水 120ml チオ硫酸アンモニウム(10%Na塩:ヘキスト社製) 140g 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 10g 酒石酸 3g 酢酸ナトリウム・3水塩 37.8g 酢酸(90%水溶液) 13.5g 硫酸アルミニウム・18水塩 18g イソエリートP(塩水港精糖) 5g 50%硫酸水溶液及び純水を用い500ml(pH4.
83)に仕上げる。なお使用する際は純水500mlと
上記濃厚液500mlとを混合して用いる。
83)に仕上げる。なお使用する際は純水500mlと
上記濃厚液500mlとを混合して用いる。
【0129】 水洗水(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤Ch 40g 亜硫酸カリウム 35g 炭酸カリウム 50g 8−メルカプトアデニン 0.1g 防黴剤:三愛石油(株)製、サンバック−P 20g 水を加えて 1リットル (自動現像機)水洗槽が単一であるコニカ(株)製自動
現像機GR−26SRと、該自動現像機の水洗工程を図
1に示す様に3段向流方式に改造した自動現像機を使用
した。水洗水補充量は300ml/m2とし、水洗工程
のオーバーフロー液を定着補充用の定着液の希釈に用い
るものとする。尚、感光材料1m2当たり上記現像液1
30ml、上記定着液130mlを補充しながら処理し
た。
現像機GR−26SRと、該自動現像機の水洗工程を図
1に示す様に3段向流方式に改造した自動現像機を使用
した。水洗水補充量は300ml/m2とし、水洗工程
のオーバーフロー液を定着補充用の定着液の希釈に用い
るものとする。尚、感光材料1m2当たり上記現像液1
30ml、上記定着液130mlを補充しながら処理し
た。
【0130】なおこの自動現像機の乾燥ゾーンには遠赤
外線ヒーターを有し、処理液が蒸発しにくいよう現像液
以外の処理槽の液表面の全体を覆うカバーを有してい
る。
外線ヒーターを有し、処理液が蒸発しにくいよう現像液
以外の処理槽の液表面の全体を覆うカバーを有してい
る。
【0131】 尚、定着廃液は特開平6−27623号実施例1に記載
の銀回収装置を用いて銀回収をした後の処理液を再度定
着槽に戻しながら処理を行い、水洗槽からのオーバーフ
ローはコニカ(株)製水垢防止装置〔水きれい〕を用い
て処理を行った。
の銀回収装置を用いて銀回収をした後の処理液を再度定
着槽に戻しながら処理を行い、水洗槽からのオーバーフ
ローはコニカ(株)製水垢防止装置〔水きれい〕を用い
て処理を行った。
【0132】〈評価方法〉得られた現像液を55℃、R
H50%の温湿度条件下で3日間保存したものを用い
て、大日本スクリーン社製SG−747RUにて16μ
mのランダムパターンの網点(FMスクリーン)で網点
が段階的に変化する様に露光したのち、現像処理して性
能を評価した。
H50%の温湿度条件下で3日間保存したものを用い
て、大日本スクリーン社製SG−747RUにて16μ
mのランダムパターンの網点(FMスクリーン)で網点
が段階的に変化する様に露光したのち、現像処理して性
能を評価した。
【0133】上記の条件で処理を行い、ランニング開始
時と感光材料を100m2処理したランニング後の写真
性能を比較した。その際に感光材料の黒化率が50%に
なる様に未露光試料1枚と全面露光試料1枚を交互に処
理した。処理後、得られた試料を50%RH80%の温
湿度条件下で3日間保存した。
時と感光材料を100m2処理したランニング後の写真
性能を比較した。その際に感光材料の黒化率が50%に
なる様に未露光試料1枚と全面露光試料1枚を交互に処
理した。処理後、得られた試料を50%RH80%の温
湿度条件下で3日間保存した。
【0134】(残色性の評価)未露光部を3cm×10
cmにカットし、5枚重ねて残色性を目視評価した。全
く残色の無いものを5ランクとし、残色の度合に応じて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。
cmにカットし、5枚重ねて残色性を目視評価した。全
く残色の無いものを5ランクとし、残色の度合に応じて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。
【0135】(画像保存性の評価)前記保存をする前後
の網点を露光した試料の黒化部の濃度低下を測定した。
濃度の測定にはマクベス濃度計を使用した。また画像部
の色調が茶褐色に変化していく度合も目視で観察し、濃
度低下と色調の変化を総合的に評価した。全く変化の無
いものを5ランクとし、変化の度合に応じて4、3、
2、1とランクを下げ評価した。
の網点を露光した試料の黒化部の濃度低下を測定した。
濃度の測定にはマクベス濃度計を使用した。また画像部
の色調が茶褐色に変化していく度合も目視で観察し、濃
度低下と色調の変化を総合的に評価した。全く変化の無
いものを5ランクとし、変化の度合に応じて4、3、
2、1とランクを下げ評価した。
【0136】以上の結果を表1に示す。
【0137】
【表1】
【0138】実施例2 (明室返し用ハロゲン化銀写真感光材料試料の調製)同
時混合法を用いて塩化銀含有率99モル%、臭化銀含有
率1モル%の平均粒径0.15μmの単分散、立方晶の
塩臭化銀粒子を調製した。混合時にK3Rh(H2O)B
r5を銀1モル当たり7×10-5モル添加した。また常
法による可溶性塩類を除去する脱塩工程の前に4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイン
デン(TAI)を銀1モル当たり0.6g添加した(以
下、特に記載がない場合は、銀1モル当たりの量とす
る)。
時混合法を用いて塩化銀含有率99モル%、臭化銀含有
率1モル%の平均粒径0.15μmの単分散、立方晶の
塩臭化銀粒子を調製した。混合時にK3Rh(H2O)B
r5を銀1モル当たり7×10-5モル添加した。また常
法による可溶性塩類を除去する脱塩工程の前に4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイン
デン(TAI)を銀1モル当たり0.6g添加した(以
下、特に記載がない場合は、銀1モル当たりの量とす
る)。
【0139】この乳剤を60℃に昇温し、TAIを60
mg、チオ硫酸ナトリウム0.75mgを添加し、TA
Iを添加してから60分後に更にTAIを600mg添
加し温度を下げてセットさせた。
mg、チオ硫酸ナトリウム0.75mgを添加し、TA
Iを添加してから60分後に更にTAIを600mg添
加し温度を下げてセットさせた。
【0140】ついで添加物を1m2当たり以下の量にな
る様に加えて塗布液を調製し、実施例1の下塗り済みS
PS支持体の一方の面上に、順次下記の乳剤層塗布液、
保護層下層液を、反対側の面上に下記のバッキング塗布
液をそれぞれ同時塗布した。
る様に加えて塗布液を調製し、実施例1の下塗り済みS
PS支持体の一方の面上に、順次下記の乳剤層塗布液、
保護層下層液を、反対側の面上に下記のバッキング塗布
液をそれぞれ同時塗布した。
【0141】 〈乳剤塗布液〉 NaOH0.5N溶液 4.39ml/m2 化合物 イ 6.53mg/m2 4級オニウム化合物 表2に示す量 キラヤサポニン 107mg/m2 化合物 ロ 18.5mg/m2 化合物 ハ 9.8mg/m2 ゼラチンラテックス 480mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 52.2mg/m2 コロイダルシリカ 20mg/m2 〈保護層下層液〉 ゼラチン 0.5g/m2 染料 ニ の固体分散体(平均粒径0.1μm) 62.0mg/m2 クエン酸 4.1mg/m2 ホルマリン 1.2mg/m2 硬膜剤:K−1 0.6mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 11.0mg/m2 〈保護層上層液〉 ゼラチン 0.3g/m2 化合物 ホ 18.0mg/m2 染料 ニ 48.4mg/m2 化合物 ヘ 105.0mg/m2 化合物 ト 1.25mg/m2 不定形シリカ(平均粒径1.63μm) 15.0mg/m2 不定形シリカ(平均粒径3.5μm) 21.0mg/m2 クエン酸 4.5mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 11.0mg/m2 インライン添加でホルマリン 10mg/m2 〈バッキング塗布液〉 化合物 チ 170mg/m2 染料 ニ 30mg/m2 化合物 リ 45mg/m2 化合物 ヌ 10mg/m2 キラヤサポニン 111mg/m2 化合物 ル 200mg/m2 コロイダルシリカ 200mg/m2 化合物 オ 35mg/m2 化合物 ワ 31mg/m2 化合物 カ 3.1mg/m2 ポリメチルメタアクリレート酸ポリマー(平均粒径5.6μm) 28.9mg/m2 グリオキザール 10.1mg/m2 クエン酸 9.3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 71.1mg/m2 インラインで以下のものを添加 化合物 ヨ 81mg/m2 化合物 タ 88.2mg/m2 酢酸カルシウム 3.0mg/m2 硬膜剤:K−1 10mg/m2
【0142】
【化32】
【0143】
【化33】
【0144】
【化34】
【0145】但し、塗布量は乳剤層の銀量が2.0g/
m2でゼラチン量が1.2g/m2、バッキング層のゼ
ラチン量が2.1g/m2になるよう均一塗布した。
m2でゼラチン量が1.2g/m2、バッキング層のゼ
ラチン量が2.1g/m2になるよう均一塗布した。
【0146】 (処理剤処方) 現像錠剤の作成 D−11 D−12 〈造粒Aパーツの作成〉(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤Ch 8g 8g 炭酸カリウム 33g 33g D−マンニトール(商品名:花王社製) 5g 5g 〈造粒Bパーツの作成〉(使用液1リットル分) 亜硫酸ナトリウム 45g 16g KBr 2.5g 2.5g 炭酸水素カリウム 50g 65g 8−メルカプトアデニン 0.15g 0.15g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.5g 0.5g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g 0.02g ジメゾンS 2.7g 2.7g エリソルビン酸ナトリウム 0 70g ハイドロキノン 25g 0 D−ソルビトール 5g 5g 1−オクタンスルホン酸ナトリウム 2g 2g pHを調整すると 10.2 9.7 比 較 本発明 上記造粒Aパーツ及び造粒Bパーツの素材をそれぞれ市
販のバンダルミル中で30分間混合し、更に市販の攪拌
造粒機にて室温で10分間造粒した後、造粒物を流動槽
乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒物Aパーツ及び造
粒物Bパーツを得た。
販のバンダルミル中で30分間混合し、更に市販の攪拌
造粒機にて室温で10分間造粒した後、造粒物を流動槽
乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒物Aパーツ及び造
粒物Bパーツを得た。
【0147】造粒物Aパーツと造粒物Bパーツを10分
間完全混合し、得られた混合物をマシーナUD・DFE
30・40打錠装置(マシーナ(株)製)を用い、1錠
当たりの充填量D−11を17.8g、D−12を2
1.0gとして1.5トン/m2の圧縮打錠により直径
30mm、厚さ10mmの錠剤10個を得た。
間完全混合し、得られた混合物をマシーナUD・DFE
30・40打錠装置(マシーナ(株)製)を用い、1錠
当たりの充填量D−11を17.8g、D−12を2
1.0gとして1.5トン/m2の圧縮打錠により直径
30mm、厚さ10mmの錠剤10個を得た。
【0148】尚、使用する際は該錠剤10個を容量が1
リットルになるよう純水に溶解して用い、使用液のpH
は調整した。
リットルになるよう純水に溶解して用い、使用液のpH
は調整した。
【0149】〈評価方法〉得られた現像液を55℃、R
H50%の温湿度条件下で3日間保存したものを用い、
実施例1と同様にして性能を評価した。但し、自動現像
機は、固体処理剤である錠剤を直接補充するために実施
例1で使用した自動現像機の上部から錠剤を1個ずつ投
入できるように改造してある。
H50%の温湿度条件下で3日間保存したものを用い、
実施例1と同様にして性能を評価した。但し、自動現像
機は、固体処理剤である錠剤を直接補充するために実施
例1で使用した自動現像機の上部から錠剤を1個ずつ投
入できるように改造してある。
【0150】その際、現像開始前と感光材料を200m
2処理した後の写真性能を比較した。その際に感光材料
の黒化率が20%になるように未露光試料8枚と全面露
光試料2枚を交互に処理した。
2処理した後の写真性能を比較した。その際に感光材料
の黒化率が20%になるように未露光試料8枚と全面露
光試料2枚を交互に処理した。
【0151】得られた結果を表2に示す。
【0152】
【表2】
【0153】
【発明の効果】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処
理方法によれば、印刷製版分野に好適な、超硬調の画像
再現と優れた写真性能を保持しつつ、補充量の低減と迅
速処理が可能である。
理方法によれば、印刷製版分野に好適な、超硬調の画像
再現と優れた写真性能を保持しつつ、補充量の低減と迅
速処理が可能である。
【図1】多段向流水洗方式を採用した自動現像機の処理
工程の説明図である。
工程の説明図である。
【符号の説明】 1 現像槽 2 定着槽 31,32,33 水洗槽 4 乾燥部 5 給水タンク 51 給水ユニット 6,61,62 配管 7 除湿機
Claims (6)
- 【請求項1】 4級オニウム化合物を含有する黒白ハロ
ゲン化銀写真感光材料を、アスコルビン酸又はその誘導
体の存在下、pH8.0〜10.0の現像液を用いて自
動現像機にて処理するにあたり、該自動現像機の水洗工
程を多段向流方式とすることを特徴とする黒白ハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項2】 前記現像液が下記一般式(S)で表され
る化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載の
黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式(S) Z1−SM1 〔式中、Z1はアルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環
基であって、ヒドロキシル基、−SO3M2基、−COO
M2基(ここでM2は水素原子、アルカリ金属原子、又は
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つ又
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。〕 - 【請求項3】 前記現像液が3−ピラゾリドン類を含有
することを特徴とする請求項1又は2に記載の黒白ハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項4】 前記現像液がアミノフェノール類を含有
することを特徴とする請求項1又は2に記載の黒白ハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項5】 前記自動現像機が現像槽、定着槽、水洗
槽及び乾燥部を有し、前記感光材料が自動現像機に挿入
されてから乾燥部を出るまでの全処理時間(Dry t
o Dry)を10〜80秒とすることを特徴とする請
求項1、2、3又は4に記載の黒白ハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。 - 【請求項6】 処理される感光材料1m2当たり30〜
250mlの範囲で現像補充液を補充しながら処理する
ことを特徴とする請求項1、2、3、4又は5に記載の
黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32772597A JPH10221820A (ja) | 1996-12-03 | 1997-11-28 | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32264696 | 1996-12-03 | ||
| JP8-322646 | 1996-12-03 | ||
| JP32772597A JPH10221820A (ja) | 1996-12-03 | 1997-11-28 | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221820A true JPH10221820A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=26570889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32772597A Pending JPH10221820A (ja) | 1996-12-03 | 1997-11-28 | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10221820A (ja) |
-
1997
- 1997-11-28 JP JP32772597A patent/JPH10221820A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20041221 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20051101 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060314 |