JPH1039472A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法

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JPH1039472A
JPH1039472A JP9104575A JP10457597A JPH1039472A JP H1039472 A JPH1039472 A JP H1039472A JP 9104575 A JP9104575 A JP 9104575A JP 10457597 A JP10457597 A JP 10457597A JP H1039472 A JPH1039472 A JP H1039472A
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JP
Japan
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group
silver halide
processing
fixing
halide photographic
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JP9104575A
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English (en)
Inventor
Shoji Nishio
昌二 西尾
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の上記目的は、現像開始から乾燥終了
までの全処理時間が50秒以下の処理方法において、水
洗又は安定化工程における廃水又は廃液を著しく低減さ
せた作業効率の優れた感光材料の処理方法の提供。 【解決手段】 現像、定着、水洗及び乾燥処理工程を有
する自動現像機により処理されるハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法において、該ハロゲン化銀写真感光材料
がヒドラジン化合物を含有し、かつ水洗工程が2段以上
の多段向流式であり、定着層に隣接する最上流の水洗槽
と定着槽から最も遠い最下流の水洗槽のランニング状態
での定着成分の濃度比率が下記の条件式(1)を満た
し、水洗或いは安定化液の補充量がハロゲン化銀写真感
光材料1m2当たり50〜400ml以下であることを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 条件式(1) 6≦Ci/Cf≦300、かつCf≦2.5% 但し、Ci;最上流の水洗槽の定着成分の濃度 Cf;最下流の水洗槽の定着成分の濃度

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料(以下、感光材料ともいう)の処理方法に関し、
特に現像開始から乾燥の終了までの全処理時間が50秒
以下の処理方法において、水洗工程又はリンス工程にお
ける廃水又は廃液を著しく低減させ、作業効率の優れた
感光材料の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に感光材料は自動現像機を用いて処
理される。近年、多量の感光材料を処理することが多
く、感光材料の全処理時間の短縮が強く要望されてい
る。
【0003】また、1966年から産業廃棄物の海洋投
棄が禁止となり、写真処理廃液は海洋投棄から焼却処理
等の陸上での処理が行われるようになった。当然のこと
ながら廃液の処理コストの高騰及び近年取り上げられて
いる環境問題から写真処理廃液の低減化が最も重要な課
題となっている。
【0004】現像液及び定着液の補充方式による処理に
おいては、補充液の低減化が急速に進んできたが、定着
後の水洗槽においてゼラチン、銀等による汚れが発生し
て感光材料に付着し感光材料に悪影響を及ぼすという問
題が表面化してきた。
【0005】これらを解決する方法として、水洗水量を
増加する方法が考えられるが、水道水の水圧に限度(一
般的には3〜6リットル/分)があり補いきれなく、ま
た環境保全の立場からは逆行してしまう。
【0006】特開昭63−70856号に水洗槽を2槽
以上設けて水洗効率の向上及び水洗槽内の汚れを防止す
る技術が開示されているが、全処理時間の短縮化及び現
像、定着補充量の低減化においては多少の改善は認めら
れるものの不十分であり、水資源の有効活用から水使用
量の低減が強く望まれている。
【0007】製版業界では、感光材料の硬調化が絵柄等
を忠実に再現することから主流になっており、硬調化剤
としてヒドラジン化合物、四級オニウム化合物が用いら
れているが、現像処理時間の短縮及び酸化疲労を防ぐた
めpHを低下させ処理温度を高くするため水洗の汚れが
特に問題となっている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の上記目的は、
現像開始から乾燥終了までの全処理時間が50秒以下の
処理方法において、水洗又はリンス工程における廃水又
は廃液を著しく低下させ、作業効率の優れた感光材料の
処理方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記により達成される、 1.現像、定着、水洗及び乾燥処理工程を有する自動現
像機により処理されるハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法において、該ハロゲン化銀写真感光材料が下記一般
式(1)で表される化合物を含有し、かつ水洗工程が2
段以上の多段向流式であり、定着槽に隣接する最上流の
水洗槽と定着槽から最も遠い最下流の水洗槽のランニン
グ状態での定着成分の濃度比率が下記の条件式(1)を
満たし、水洗或いは安定化液の補充量がハロゲン化銀写
真感光材料1m2当たり50〜400mlであることを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0010】条件式(1) 6≦Ci/Cf≦300、かつCf≦2.5% 但し、Ci;最上流の水洗槽の定着成分の濃度 Cf;最下流の水洗槽の定着成分の濃度
【0011】
【化5】
【0012】式中、Aは脂肪族基、芳香族基又はヘテロ
環基を表し、Bはアシル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリー
ルスルフィニル基、カルバモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル
基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル基、チ
オアシル基、チオカルバモイル基、オキザリル基又はヘ
テロ環基を表し、A1及びA2は、ともに水素原子又は一
方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基又はオキ
ザリル基を表す。
【0013】2.現像、定着、水洗及び乾燥処理工程を
有する自動現像機により処理されるハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法において、該ハロゲン化銀写真感光材
料が下記一般式(2)で表されるオニウム化合物を含有
し、かつ水洗工程が2段以上の多段向流式であり、定着
槽に隣接する最上流の水洗槽と定着槽から最も遠い最下
流の水洗槽のランニング状態での定着成分の濃度比率が
前記の条件式(1)を満たし、水洗或いは安定化液の補
充量がハロゲン化銀写真感光材料1m2当たり50〜4
00ml以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法。
【0014】
【化6】
【0015】式中、Q21 +は窒素原子又は燐原子を表
し、R21、R22、R23及びR24は各々、水素原子又は置
換基を表し、X21 -はアニオンを表す。又、R21〜R24
は互いに連結して環を形成してもよい。
【0016】3.前記ハロゲン化銀写真感光材料のハロ
ゲン化銀乳剤層が2層以上であることを特徴とする1又
は2に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0017】4.前記ハロゲン化銀乳剤層に含まれる分
光増感色素が下記一般式(3)で表される化合物である
ことを特徴とする1、2又は3に記載のハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法。
【0018】
【化7】
【0019】式中、R31、R32、R33及びR34は、各
々、置換又は無置換の脂肪族基を表し、R32及びR34
少なくとも一方は水可溶化基を置換する。V31、V32
33、V34、V35、V36、V37及びV38は各々、水素原
子又は置換基を表し、V31とV32、V32とV33、V33
34、V35とV36、V36とV37及びV37とV38の間で各
々、縮合環を形成してもよく、但し、V31〜V34並びに
35〜V38は各々、加算したハメットσp値の総和が
0.12より大きくなる置換基であり、L31、L32、L
33、L34及びL35は各々、メチン基を表し、M31は分子
内の総電荷を相殺するに必要なイオンを表し、lは分子
内の価数を中和するに必要なイオンの数を表す。
【0020】5.ハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層側
の膨潤百分率が110〜250%であることを特徴とす
る1〜4のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法。
【0021】6.ハロゲン化銀写真感光材料の写真構成
層に含まれるカルシウム化合物の量がカルシウム量とし
てハロゲン化銀写真感光材料1m2当たり15mg以下
であることを特徴とする1〜5のいずれか1項に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0022】7.定着液中のホウ素化合物が1リットル
当たり0.05モル以下で、かつグルコン酸化合物を含
有することを特徴とする1〜6のいずれか1項に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0023】8.定着液に酢酸及びその塩を含有しない
ことを特徴とする1〜7のいずれか1項に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。
【0024】9.現像槽及び/又は定着槽の開口率が
0.05以下であることを特徴とする1〜8のいずれか
1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0025】10.定着液にMg2+イオンとの安定度定
数(LogML)が6以上のキレート剤を含有すること
を特徴とする1〜9のいずれか1項に記載のハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法。
【0026】11.現像液に下記一般式(4)で表され
る化合物を含有することを特徴とする1〜10のいずれ
か1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0027】
【化8】
【0028】式中、R41、R42は各々独立に置換又は無
置換のアルキル基、置換又は無置換のアミノ基、置換又
は無置換のアルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチ
オ基、又はR41とR42が互いに結合して環を形成しても
よい。kは0又は1を表し、k=1のときX41は−CO
−又は−CS−を表す。M41、M42は各々水素原子又は
アルカリ金属原子を表す。
【0029】12.定着液に前記一般式(5)で表され
る化合物を含有することを特徴とする1〜11のいずれ
か1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0030】一般式(5) Z51−SM51 一般式(5)において、Z51はアルキル基、芳香族基若
しくはヘテロ環基であって、ヒドロキシル基、−SO3
52基、−COOM52基(ここでM52は水素原子、アル
カリ金属原子、又は置換若しくは無置換のアンモニウム
イオンを表す)、置換若しくは無置換のアミノ基、置換
若しくは無置換のアンモニオ基からなる群から選ばれる
少なくとも1つ又は、この群より選ばれる少なくとも1
つを有する置換基によって置換されているものを表す。
51は水素原子、アルカリ金属原子、置換若しくは無置
換のアミジノ基(これはハロゲン化水素酸塩若しくはス
ルホン酸塩を形成していてもよい)を表す。
【0031】13.安定化液に前記一般式(5)で表さ
れる化合物を含有することを特徴とする1〜12のいず
れか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
【0032】14.定着液にMg2+イオンとの安定度定
数(LogML)が6以上のキレート剤を含有すること
を特徴とする1〜13のいずれか1項に記載のハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
【0033】15.安定化液成分が固体の状態で供給さ
れることを特徴とする1〜14のいずれか1項に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0034】16.安定化液の廃液を定着液の希釈及び
/又は希釈液として用いることを特徴とする1〜15の
いずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法。
【0035】17.現像及び/又は定着補充液が固体処
理剤から調製されることを特徴とする1〜16のいずれ
か1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0036】以下、本発明を詳述する。
【0037】一般式(1)で表されるヒドラジン化合物
について説明する。
【0038】一般式(1)において、Aは脂肪族基、芳
香族基又はヘテロ環基を表す。
【0039】Aで表される脂肪族基は、好ましくは炭素
数1〜30のものであり、特に好ましくは炭素数1〜2
0の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。例えばメ
チル基、エチル基、t−ブチル基、オクチル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基等が挙げられ、これらはさらに
適当な置換基(例えばアリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スル
ホキシ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイ
ド基等)で置換されてもよい。
【0040】Aで表される芳香族基は、単環又は縮合環
のアリール基が好ましく、例えばベンゼン環又はナフタ
レン環などが挙げられる。
【0041】Aで表されるヘテロ環基としては、単環又
は縮合環の少なくとも窒素、硫黄及び酸素から選ばれる
少なくとも1つのヘテロ原子を含むヘテロ環が好まし
く、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒド
ロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン
環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、
チオフェン環、フラン環などが挙げられる。
【0042】Aとして特に好ましいものは、アリール基
及びヘテロ環基である。
【0043】Aのアリール基及びヘテロ環基は、置換基
を有していてもよい。代表的な置換基としては、アルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル
基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単環又
は縮合環のもの)、アルコキシ基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基又はアルキリデン基
で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは
炭素数1〜40のもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜40のもの)、ウレイド基(好ましくは炭
素数1〜40のもの)、ヒドラジノカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)、ヒドロキシル
基、ホスホアミド基(好ましくは炭素数1〜40のも
の)などが挙げられる。
【0044】また、Aは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つ有することが好ましい。耐拡散
基としてはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用
されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素
数8以上の写真性に対して比較的不活性である例えばア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基
等が挙げられる。
【0045】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号公報に記載
の吸着基等が挙げられる。
【0046】一般式(1)において、Bは、アシル基
(例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、トリフル
オロアセチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチ
ル、メチルチオアセチル、クロロアセチル、ベンゾイ
ル、2−ヒドロキシメチルベンゾイル、4−クロロベン
ゾイル等)、アルキルスルホニル基(例えばメタンスル
ホニル、2−クロロエタンスルホニル等)、アリールス
ルホニル基(例えばベンゼンスルホニル等)、アルキル
スルフィニル基(例えばメタンスルフィニル等)、アリ
ールスルフィニル基(ベンゼンスルフィニル等)、カル
バモイル基(例えばメチルカルバモイル、フェニルカル
バモイル等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキ
シカルボニル、メトキシエトキシカルボニル等)、アリ
ールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル
等)、スルファモイル基(例えばジメチルスルファモイ
ル等)、スルフィナモイル基(例えばメチルスルフィナ
モイル等)、アルコキシスルホニル基(例えばメトキシ
スルホニル等)、チオアシル基(例えばメチルチオカル
ボニル等)、チオカルバモイル基(例えばメチルチオカ
ルバモイル等)、オキザリル基(例えばメチルオキザリ
ル基、エトキザリル基)又はヘテロ環基(例えばピリジ
ン環、ピリジニウム環等)を表す。
【0047】Bとしては、アシル基又はオキザリル基が
特に好ましい。
【0048】一般式(1)において、A1及びA2は、と
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基
(アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル等)、
スルホニル基(メタンスルホニル、トルエンスルホニル
等)又はオキザリル基(エトキザリル等)を表す。
【0049】本発明で用いるヒドラジン誘導体のうち特
に好ましいものは下記一般式(1−a)で表される化合
物である。
【0050】
【化9】
【0051】一般式(1−a)において、R5は脂肪族
基(例えばオクチル基、デシル基)、芳香族基(例えば
フェニル基、2−ヒドロキシフェニル基、クロロフェニ
ル基)又はヘテロ環基(例えばピリジル基、チェニル
基、フリル基)を表し、これらの基はさらに後記のXで
表される置換基で置換されたものが好ましく用いられ
る。Gはカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、
ホスホリル基又はイミノメチレン基を表し、R6は水素
原子又はブロッキング基を表す。Xは置換可能の基を表
し、mは0〜4の整数を表し、mが2以上のときXは同
じであっても異なっていてもよい。
【0052】R5は耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促進
基を少なくとも1つ含むことが好ましい。耐拡散基とし
てはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用される
バラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素数8以
上の写真性に対して比較的不活性である例えばアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェ
ニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げ
られる。あるいは特開平5−61143号記載のアルキ
レンオキシユニットの繰り返し構造を含むものや、4級
アンモニウム塩を含む構造も好んで用いられる。
【0053】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
【0054】一般式(1−a)において、Xで表される
置換可能な基としては、直鎖、分岐若しくは環状のアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基(好ましくは炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル
基、アルキニル基)、アリール基(例えばフェニル
等)、アルコキシ基(好ましくはアルキル部分の炭素数
1〜20のものあるいはアルキレンオキシ繰り返し構造
を有するもの)、アルケニルオキシ基(例えばアリルオ
キシ、ブテニルオキシ等)、アルキニルオキシ基(例え
ばプロパルギルオキシ、ブチニルオキシ等)、アリール
オキシ基(例えばフェノキシ等)、アシルオキシ基(例
えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ベンゾイル
オキシ等)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ、
プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、オクタノイル
アミノ、ベンゾイルアミノ等)、スルホンアミド基(例
えばメタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プ
ロパンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサ
ンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ドデカン
スルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、ウレイ
ド基(例えばメチルウレイド、エチルウレイド、プロピ
ルウレイド、ブチルウレイド、ヘキシルウレイド、シク
ロヘキシルウレイド、オクチルウレイド、ドデシルウレ
イド、オクタデシルウレイド、フェニルウレイド、ナフ
チルウレイド等)、オキサモイルアミノ基(例えばメチ
ルオキサモイルアミノ、エチルオキサモイルアミノ、ブ
チルオキサモイルアミノ、オクチルオキサモイルアミ
ノ、フェニルオキサモイルアミノ等)、ヒドラジノカル
ボニルアミノ基(例えばメチルヒドラジノカルボニルア
ミノ、エチルヒドラジノカルボニルアミノ、ジメチルヒ
ドラジノカルボニルアミノ、ジフェニルヒドラジノカル
ボニルアミノ、フェニルヒドラジノカルボニルアミノ、
フェニルメチルヒドラジノカルボニルアミノ等)、アル
キルアミノ基(例えばメチルアミノ、エチルアミノ、ブ
チルアミノ、オクチルアミノ、ドデシルアミノ等)、ジ
アルキルアミノ基(例えばジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジブチルアミノ、メチルオクチルアミノ等)、ア
ミノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルチオ基
(好ましくはアルキル部分の炭素数1〜20のもの)、
アルケニルチオ基(例えばアリルチオ、ブテニルチオ
等)、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、チオ
ウレイド基(例えばメチルチオウレイド、エチルチオウ
レイド、ブチルチオウレイド、シクロヘキシルチオウレ
イド、オクチルチオウレイド、ドデシルチオウレイド、
フェニルチオウレイド等)、シアノ基、スルホニル基
(例えばメタンスルホニル等)、スルファモイル基(例
えばメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ブ
チルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)、カ
ルバモイル基(例えばメチルカルバモイル、エチルカル
バモイル、ブチルカルバモイル、オクチルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイル等)等を挙げることができ
る。これらの基は、さらに前記一般式(1−a)におい
て、Xで表される置換可能な基と同義の置換基で置換さ
れていてもよい。
【0055】一般式(1−a)において、A1及びA2
一般式(1)におけるA1及びA2と同義である。A1
びA2はともに水素原子であることが好ましい。
【0056】一般式(1−a)において、Gはカルボニ
ル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基また
はイミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基である
ことが好ましい。
【0057】一般式(1−a)において、R6として
は、水素原子、ブロック基としての脂肪族基(例えばメ
チル、エチル、ベンジル、メトキシメチル、トリフルオ
ロメチル、フェノキシメチル、4−メトキシベンゼンス
ルホニルメチル、1−ピリジニオメチル、ヒドロキシメ
チル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル等)、芳
香族基(例えばフェニル、ヒドロキシメチルフェニル、
クロルフェニル等)、ヘテロ環基(例えばピリジル、チ
エニル、フリル、N−メチルピリジニオ等)、アミノ基
(例えばメチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミ
ノ等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ブ
トキシ等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ
等)、−COOR8基及び−CON(R9)(R10)基が
好ましい。ここで、R8は水素原子、アルキル基(例え
ばメチル、エチル、ベンジル、ヒドロキシエチル等)、
アルケニル基(例えばアリル、ブテニル等)、アルキニ
ル基(例えばプロパルギル、ブチニル等)、アリール基
(例えばフェニル、ナフチル等)又はヘテロ環基(例え
ば2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル、N−エ
チルピペリジニル、テトラヒドロフリル、スルホランの
様な飽和ヘテロ環及びピリジル、ピリミジニル、チエニ
ル、フリルの様な不飽和ヘテロ環等)を表し、R9及び
10は各々水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチ
ル、ベンジル、ヒドロキシエチル等)、アルケニル基
(例えばアリル、ブテニル等)、アルキニル基(例えば
プロパルギル、ブチニル等)、アリール基(例えばフェ
ニル、ナフチル等)、ヘテロ環基(例えば2,2,6,
6−テトラメチルピペリジニル、N,N′−ジエチルピ
ラゾリジニル、キヌクリジニル、N−エチルピペリジニ
ル、N−ベンジルピペリジニル、N−ベンジルピロリジ
ニル、テトラヒドロフリル、スルホランの様な飽和ヘテ
ロ環及びピリジル、ピリミジニル、チエニル、フリルの
様な不飽和ヘテロ環基等)、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基(例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ、シ
アノメトキシ等)、アルケニルオキシ基(例えばアリル
オキシ、ブテニルオキシ等)、アルキニルオキシ基(例
えばプロパルギルオキシ、ブチニルオキシ等)、アリー
ルオキシ基(例えばフェノキシ、ナフチルオキシ等)、
ヘテロ環オキシ基(例えばピリジルオキシ、ピリミジル
オキシ等)又はアミノ基(例えばアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ、フェニルアミ
ノ等)を表す。
【0058】R6としては、水素原子、脂肪族基、芳香
族基、−COOR8基及び−CON(R9)(R10)基が
好ましく、−COOR8基及び−CON(R9)(R10
基がより好ましい。
【0059】一般式(1−a)において、最も好ましい
6としては、−COOR8′基及び−CON(R9′)
(R10′)基が挙げられる(R8′はアルキニル基又は
飽和ヘテロ環基を表し、R9′は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表し、R10′はアルケニル基、アルキニル基、
飽和ヘテロ環基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表
す)。
【0060】次に、一般式(1)、(1−a)で表され
る化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【0061】
【化10】
【0062】
【化11】
【0063】
【化12】
【0064】
【化13】
【0065】
【化14】
【0066】
【化15】
【0067】
【化16】
【0068】
【化17】
【0069】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例としては、米国特許5,229,248号の第4〜第
60カラムに記載されている(1)〜(252)であ
る。
【0070】本発明に係るヒドラジン誘導体は、公知の
方法により合成することができ、例えば米国特許5,2
29,248号に記載されたような方法により合成する
ことができる。
【0071】本発明においてヒドラジン誘導体は、支持
体上ハロゲン化銀乳剤層側の親水性コロイド層(ハロゲ
ン化銀乳剤層を含む)に含有させる。好ましくはハロゲ
ン化銀乳剤層及び/又はハロゲン化銀乳剤層に隣接する
親水性コロイド層に含有させる。
【0072】添加量は、硬調化させる量(硬調化量)で
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は異なる
が、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1
モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの範
囲である。
【0073】本発明において、ヒドラジン誘導体による
造核反応を効果的に促進するため造核促進剤を用いるこ
とが好ましい。造核促進剤としては下記一般式(N
a)、(Na2)又は(Nb)で表される化合物が挙げ
られる。
【0074】
【化18】
【0075】一般式(Na)において、R1、R2及びR
3は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アル
ケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和のヘテロ
環を表す。R1、R2及びR3で環を形成してもよい。特
に好ましくは脂肪族の3級アミン化合物である。これら
の化合物は分子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着基
を有するものが好ましい。耐拡散性を有するためには分
子量100以上の化合物が好ましく、さらに好ましくは
分子量300以上であり、前記一般式(1)におけるA
の耐拡散基と同義のものが挙げられる。また、好ましい
吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテル
基、チオン基、チオウレア基等が挙げられる。
【0076】一般式(Na)で表される造核促進剤より
更に好ましい造核促進剤として下記一般式(Na2)で
表される化合物が挙げられる。
【0077】
【化19】
【0078】一般式(Na2)において、R1、R2、R
3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又は飽
和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互いに連
結して環を形成することができる。また、R1とR2とが
同時に水素原子であることはなく、またR3とR4が同時
に水素原子であることはない。XはS、Se又はTe原
子を表す。L1及びL2は各々2価の連結基を表す。具体
的には以下に示す基又はその組み合わせ−CH2−、−
CH=CH−、−C24−、ピリジンジイル、−N(Z
1)−(Z1は水素原子、アルキル基又はアリール基を表
す)、−O−、−S−、−(CO)−、−(SO2
−、−CH2N−及びそれらに適当な置換基(例えばア
ルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基等)を有する基が挙げられ
る。
【0079】また、L1又はL2で表される連結基は、該
連結基中に少なくとも1つ以上の以下の構造を含むこと
が好ましい。
【0080】−CH2CH2O−、−C(CH3)HCH2
O−、−OC(CH3)HCH2O−、−OCH2C(O
H)HCH2− 以下に一般式(Na)又は(Na2)で表される造核促
進剤の具体例を挙げる。
【0081】
【化20】
【0082】
【化21】
【0083】
【化22】
【0084】
【化23】
【0085】本発明において、造核促進剤として下記一
般式(Nb)で表される化合物を用いることができる。
【0086】
【化24】
【0087】一般式(Nb)において、Arは置換若し
くは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換の複素
芳香環を表す。R12は水素原子、置換されていてもよい
アルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換
されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよ
いアリール基を表す。ArとR12は連結基で連結されて
環を形成してもよい。一般式(Nb)で表される造核促
進剤は分子内に耐拡散基又はハロゲン化銀吸着基を有す
るものが好ましい。好ましい耐拡散性を持たせるために
は分子量120以上であることが好ましく、特に好まし
くは300以上である。ハロゲン化銀吸着基としては一
般式(1)におけるハロゲン化銀吸着促進基と同義のも
のが好ましく用いられる。
【0088】一般式(Nb)で表される造核促進剤の具
体的化合物としては以下に示すものが挙げられる。
【0089】
【化25】
【0090】
【化26】
【0091】本発明における水洗水又は安定化液の補充
量が1m2当たり50〜400mlであるこれらの低補
充量で感光材料を処理する場合、最上流の定着成分及び
最下流の定着成分の濃度が条件式(1)を満足する必要
があり、水洗工程を2段以上の多段向流式とて処理する
ことで水洗層中の汚れが著しく良化したことはきわめて
予想しがたいことであった。
【0092】また、定着液中の硼酸塩濃度を0.05モ
ル/リットルの処理条件とすることで本発明の効果を更
に発揮するものである。
【0093】本発明の2段以上の多段向流式とは、現像
時間短縮の要望から水洗効率を向上する目的で水洗槽又
は安定化槽を2層以上の多数槽で構成するものである。
好ましくは2〜6、より好ましくは2〜4槽で構成し、
かつ水洗又は安定化補充液の量を処理する感光材料の単
位面積当たり前浴からの持ち込み量2〜50容量倍、好
ましくは3〜30倍の量で多段向流式で補充するのがよ
い。
【0094】なお、この場合、補充量を感光材料1m2
当たり50〜400ml、特に好ましくは70〜200
mlとするのがよい。
【0095】なお、条件式(1)において、Ciは2段
以上の多段向流式水洗工程において、水洗される感光材
料の搬送方向に対して最上槽の水洗水中に含まれる定着
成分の濃度をいい、Cfは最下槽の水洗水中に含まれる
定着成分の濃度を言う。
【0096】条件式(1)において、Ci/Cfが6以
下では水洗において膜の膨潤が小さくなり300以上下
では膜の膨潤が大きくなり感光材料の乾燥性が劣化す
る。
【0097】また、Cfが2.5%以下では乾燥後の感
光材料に定着臭が残り好ましくない。
【0098】本発明の一般式(2)で表される化合物に
ついて説明する。
【0099】本発明の一般式(2)で表される4級オニ
ウム塩化合物は、分子内に窒素原子又は燐原子の4級カ
チオン基を有する化合物である。
【0100】一般式(2)において、Q21 +は窒素原子
又は燐原子を表し、R21、R22、R23及びR24は各々、
水素原子又は置換基を表し、X21 -はアニオンを表す。
又、R21〜R24は互いに連結して環を形成してもよい。
【0101】R21〜R24で表される置換基としては、ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基
(アリル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパル
ギル基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナ
フチル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニ
ル基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニ
ル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル
基、スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。R
21〜R24が互いに連結して形成しうる環としては、ピペ
リジン環、モルホリン環、ピペラジン環、キヌクリジン
環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリア
ゾール環、テトラゾール環等が挙げられる。R21〜R24
で表される基はヒドロキシル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、
アリール基等の置換基を有してもよい。
【0102】R21、R22、R23及びR24としては、水素
原子及びアルキル基が好ましい。
【0103】X21 -が表すアニオンとしては、ハロゲン
イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−ト
ルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが
挙げられる。
【0104】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
【0105】
【化27】
【0106】式中、A21、A22、A23、A24及びA
25は、含窒素複素環を完成させるための非金属原子群を
表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、
ベンゼン環が縮合しても構わない。A21、A22、A23
24及びA25で構成される複素環は置換基を有してもよ
く、それぞれ同一でも異なっていてもよい。置換基とし
ては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ス
ルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、
カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミ
ド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基が挙げられる。A
21、A22、A23、A24及びA25の好ましい例としては、
5〜6員環(ピリジン、イミダゾール、チオゾール、オ
キサゾール、ピラジン、ピリミジン等の各環)を挙げる
ことができ、更に好ましい例としてピリジン環である。
【0107】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R26)−(R26はアルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合
わせて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、
アルキレン基、アルケニレン基である。
【0108】R21、R22及びR25は各々、置換或いは無
置換の炭素数1〜20のアルキル基を表す。又、R21
びR22は同一でも異っていてもよい。置換基としては、
21、A22、A23、A24及びA25の置換基として挙げた
置換基と同様である。R21、R22及びR25の好ましい例
としては、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基であ
る。更に好ましい例としては、置換或いは無置換のアリ
ール置換アルキル基が挙げられる。
【0109】Xp -は分子全体の電荷を均衡させるのに必
要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の
電荷を均衡させるに必要な対イオンの数を表し、分子内
塩の場合にはnpは0である。
【0110】
【化28】
【0111】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R25
26、R27は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
【0112】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシユ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下いずれも
σP値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらはいずれも一般式
〔T〕の化合物の置換基として有用である。
【0113】nは1あるいは2を表し、XT n-で表され
るアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
【0114】以下、4級オニウム塩化合物の具体例を下
記に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0115】
【化29】
【0116】
【化30】
【0117】
【化31】
【0118】
【化32】
【0119】
【化33】
【0120】
【化34】
【0121】
【化35】
【0122】
【化36】
【0123】
【化37】
【0124】
【化38】
【0125】
【化39】
【0126】上記4級オニウム塩化合物は公知の方法に
従って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合
物は Chemical Reviews 55 p.
335〜483に記載の方法を参考にできる。
【0127】これら4級オニウム塩化合物の添加量は、
ハロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好
ましくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらは
ハロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感
光材料中に添加できる。
【0128】4級オニウム塩化合物は、単独で用いても
2種以上を適宜併用して用いてもよい。また感光材料の
構成層中のいかなる層に添加してもよいが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤層を有する側の構成層の少なくとも1
層、更にはハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
添加する。
【0129】本発明においては、四級オニウム化合物の
他に硬調化剤としてヒドラジン誘導体を添加してもよい
が、添加できるヒドラジン誘導体の量は、4級オニウム
化合物に対してモル比で30%未満、好ましくは10%
未満である。
【0130】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
用いるハロゲン化銀のハロゲン組成は塩化銀含有率50
〜85モル%の塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。ハロ
ゲン化銀の平均粒子サイズは0.7μm以下であること
が好ましく、特に0.3〜0.1μmが好ましい。ハロ
ゲン化銀粒子の形状は、平板状、球状、立方体状、14
面体状、正八面体状その他いずれの形状でもよい。又、
粒子サイズ分布は狭い方が好ましく、特に平均粒子サイ
ズの±40%の粒子サイズ域内に全粒子数の90%、望
ましくは95%が入るような、いわゆる単分散乳剤が好
ましい。
【0131】ハロゲン化銀粒子を形成する過程又は成長
させる過程の少なくとも1つでカドミウム塩、亜鉛塩、
鉛塩、タリウム塩、ルテニウム塩、オスミウム塩、イリ
ジウム塩又はロジウム塩等の8族遷移金属、或いはこれ
らの元素を含む錯塩を添加することが好ましく、特に好
ましいものは、Rh及びReである。好ましい添加量と
しては、銀1モルあたり10-8〜10-4モルである。
【0132】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(RD)
176巻 17643 22〜23頁(1978年12
月)に記載もしくは引用された文献に記載されている。
【0133】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されているこ
とが好ましい。
【0134】本発明の一般式(3)で表される分光増感
色素について説明する。
【0135】本発明の一般式(3)において、R31、R
32、R33及びR34が各々表す脂肪族基としては、例え
ば、炭素原子数1〜10の分岐或いは直鎖のアルキル基
(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ペンチ
ル、イソブチル等の各基)、ビニル基、原子数2〜10
のアルケニル基(例えば、3−ブテニル、2−プロペニ
ル等の各基)或いは炭素原子数3〜10のアラルキル基
(例えば、ベンジル、フェネチル等の各基)が挙げられ
る。R32及びR34の少なくとも一方の基に置換する水可
溶化基としては、例えば、スルホ基、カルボキシ基、ホ
スフォノ基、スルファート基、スルフィノ基等の各酸基
が挙げられる。
【0136】R31、R32、R33及びR34が各々、表す各
脂肪族基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(例えば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルコキシ基(例
えば、メトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基
(例えば、フェノキシ基、p−スルホフェノキシ基
等)、シアノ基、カルバモイル基(例えば、カルバモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テトラメチ
レンカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えば、
スルファモイル基、N,N−3−オキサペンタメチレン
アミノスルホニル基等)、メタンスルホニル基、アルコ
キシカルボニル基(例えば、エトキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基等)、アリール基(例えば、フェニ
ル基、カルボキシフェニル基等)、アシル基(例えば、
アセチル基、ベンゾイル基等)、アシルアミノ基(例え
ば、アセチルアミノ基等)等の置換基で置換されていて
も良く、水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例とし
ては、カルボキシメチル、スルホエチル、スルホプロピ
ル、スルホブチル、スルホペンチル、3−スルホブチ
ル、6−スルホ−3−オキサヘキシル、ω−スルホプロ
ポキシカルボニルメチル、ω−スルホプロピルアミノカ
ルボニルメチル、3−スルフィノブチル、3−ホスフォ
ノプロピル、4−スルホ−3−ブテニル、2−カルボキ
シ−2−プロペニル、O−スルホベンジル、P−スルホ
フェネチル、P−カルボキシベンジル等の各基が挙げら
れる。
【0137】V31、V32、V33、V34、V35、V36、V
37及びV38が各々表す置換基としては加算したハメット
σp値の総和が0.12より大きくなる用に選ばれた電
子供与性の基や電子吸引性の任意の基が挙げられる。具
体的には、シアノ基、カルボキシ基、直鎖或いは分岐の
アルキル基(例えばメチル、エチル、iso−プロピ
ル、t−ブチル、iso−ブチル、t−ペンチル、ヘキ
シル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ等の各基)、アルキルチオ基(例え
ば、メチルチオ基)、例えば、フッ素、塩素、臭素等の
ハロゲン原子、カルバモイル基(例えば、カルバモイ
ル、N−メチルカルバモイル、N,N−ペンタメチレン
カルバモイル等の各基)、スルファモイル基(例えば、
N−メチルスルファモイル、モルフォリノスルホニル、
ピペリジノスルホニル等の各基)、アシルアミノ基(例
えば、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイ
ルアミノ等の各基)、スルホニルアミノ基(例えば、メ
タンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ、m
−クルルベンゼンスルホニルアミノ、ペルフルオロメタ
ンスルホニルアミノ等の各基)、アルコキシカルボニル
基(例えば、メチキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル等の各基)、アルキルスルホニ
ル基(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、
トリフルオロメタンスルホニル等の各基)、アリールス
ルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等の基)、ア
シル基(例えば、アセチル、ベンゾイル等の各基)、ペ
ルフルオロアルキル基(例えば、トリフルオロメチル、
ペンタフルオロエチル等の各基)、ペルフルオロアルコ
キシ基(例えば、トリフルオロメトキシ、ペンタフルオ
ロエトキシ等の各基)、ペルフルオロアルキルチオ基
(例えば、トリフルオロメチルチオ、ペンタフルオロエ
チルチオ等の各基)アリール基(例えば、フェニル、m
−クロロフェニル等の各基)、複素環基(例えば、ピロ
リル、ピリジル、イミダゾリル、フリル、チフェニル等
の各基がある。
【0138】ハメットのσp値はHammett等によ
り安息香酸エチルエステルの加水分解速度に及ぼす値環
基の電子効果から求められた置換基定数であり、各基の
値は例えば、ケミカル・レヴュー(Chemical
Rewies)17,125−136(1935)、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Jou
rnal of Organic Chemistr
y)23巻、420−427(1958)、実験化学講
座14巻(丸善出版社)、フィジカル・オーガニック・
ケミストリー(Physical Organic C
hemistry;Mc Graw Hill Boo
k:1940)、ドラッグデザインVII巻(Drug
design VII Academic Press;N
ew York:1970)、薬物の構造活性相関(南
江堂:1979年)、サブスティテューアント・コンス
タンツ・フォー・コリレイション・アナリシス・イン・
ケミストリー・アンド・バイオロジー(Substit
uent Constants for Correl
ation Analysis in Chemist
ry and Biology;John Wiley
and Sons:1979)等に詳しく記載されて
いる。
【0139】V31、V32、V33、V34、V35、V36、V
37及びV38が各々、表すアリール基、複素環基並びにア
ルキル基は、任意の位置に前述した任意の置換基を有し
ていても良い。V31とV32、V32とV33、V33とV34
35とV36、V36とV37及びV37とV38の間で各々、形
成される縮合環としては5〜7員の飽和炭素環、芳香性
炭素環、複素環等の環基が挙げられ、任意の位置に前述
した任意の置換基を有していても良い。
【0140】L31、L32、L33、L34及びL35で表され
るメチン炭素に置換される基としては、例えば、低級ア
ルキル基(例えば、メチル、エチル等の各基)環状アル
キル基(例えば、シクロプロピル、シクロペンチル等の
各基)、置換アルキル基(例えば、2−メトキシエチ
ル、2−チエニルメチル等の各基)、アラルキル基(例
えば、ベンジル、フェネチル等の各基)、フェニル基
(例えば、フェニル、カルボキシフェニル等の各基)、
複素環基(例えば、チエニル、フリル、イミダゾリル、
等の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキ
シ等の各基)フッ素原子等の基がある。L31はR32又は
32と、L32はR33又はR34と各々、縮合環を形成する
ことができる。M31はカチオンあるいは酸アニオンを表
し、カチオンの具体例としては、プロトン、有機アンモ
ニウムイオン(例えば、トリエチルアンモニウム、トリ
エタノールアンモニウム等の各イオン)、無機カチオン
(例えば、リチウム、ナトリウム、カルシウム等の各カ
チオン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例え
ば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩
素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。
【0141】lは、分子内塩を形成して電荷が中和され
る場合は0となる。
【0142】一般式(3)で表される感光色素の具体例
を以下に示すが、本発明に用いられる感光色素はこれら
の化合物に限定されるものではない。
【0143】
【化40】
【0144】
【化41】
【0145】
【化42】
【0146】
【化43】
【0147】
【化44】
【0148】
【化45】
【0149】
【化46】
【0150】
【化47】
【0151】
【化48】
【0152】
【化49】
【0153】
【化50】
【0154】
【化51】
【0155】
【化52】
【0156】
【化53】
【0157】
【化54】
【0158】
【化55】
【0159】
【化56】
【0160】
【化57】
【0161】
【化58】
【0162】
【化59】
【0163】本発明の化合物は、例えば、エフ・エム・
ハーマ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・
コンパウンズ」(1964,インター・サイエンス・パ
ブリッシャーズ発刊)英国特許第980,234号、米
国特許第3,684,517号、特開昭61−2034
46号明細書等、Ukr.Khim.Zh.,197
7,43(4)381−4に記載された従来公知の方法
を参考にして容易に合成することができる。
【0164】これらの増感色素は単独で用いてもよい
が、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組
み合わせは特に、強色増感の目的でしばしば用いられ
る。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたな
い色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であっ
て、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用
な増感色素、強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色
増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Re
search Disclosure)176巻176
43(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、ある
いは前述の特公昭49−25500、同43−493
3、特開昭59−19032、同59−192242等
に記載されている。本発明の増感色素の含有量はハロゲ
ン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と
程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤の関
係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量を選
択することが望ましく、その選択のための試験の方法は
当業者のよく知るところである。通常は好ましくはハロ
ゲン化銀1モル当たり10-7モルないし1×10-2
ル、特に10-6モルないし5×10-3モルの範囲で用い
られる。
【0165】本発明の感光材料のハロゲン化銀乳剤及び
非感光性の親水性コロイドにはクロム塩、アルデヒド
類、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物、活性ハロゲン化合物、ムコハロゲン酸類、
イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−クロロ−
6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン或いはペプチド
系硬膜剤など無機又は有機の硬膜剤を含有してよい。
【0166】感光性乳剤層及び/又は非感光性の親水性
コロイド層には、塗布助剤、帯電防止、滑り性改良、乳
化分散、接着防止及び写真特性改良など種々の目的で種
々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
【0167】写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとして
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
【0168】本発明に用いられる写真乳剤には、寸度安
定性の改良などの目的で、例えばアルキル(メタ)アク
リレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルア
ミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロ
ニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組
合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、α,β
−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレート、ス
チレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とするポリマ
ーを用いることができる。
【0169】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料は、支持体上に少なくとも1層の導電性層を設ける
ことが好ましい。導電性層を形成する代表的な方法とし
ては、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー硬化剤を
用いて形成する方法と金属酸化物を用いて形成する方法
がある。これらの方法については、例えば特開平3−2
65842号記載の方法を用いることができる。
【0170】本発明で処理される感光材料の膨潤百分率
が110〜250%である。更には130〜180%で
あれば本発明の効果を一層発揮することができる。ここ
でいう膨潤百分率とは、感光材料を38℃50%RHで
3日間インキュベーション処理し、親水性コロイド層の
厚み(d0)を測定し、該感光材料を21℃の蒸留水に
3分間浸漬し、そして再度親水性コロイド層の厚み
(d)を測定して膨潤した厚みからその膨潤の割合を表
す。即ち、(d−d0)/d×100である。
【0171】本発明ではカルシウム含有量として感光材
料1m2当たり15mg以下であることが好ましい。
【0172】感光材料のバインダーとして用いられてい
るゼラチン中には、原料である牛骨などを構成している
リン酸カルシウム塩がカルシウム塩として4000〜8
000ppm含有されている。このようなカルシウム塩
の量は原料のゼラチンの種類、脱灰をはじめとする各種
処理法により異なる。
【0173】例えば石灰処理ゼラチンの場合のカルシウ
ム含量は2000ppm以上で、酸処理ゼラチンの場合
は1000ppm以上であるが、Na+型またはH+型カ
チオン交換樹脂で処理することにより、カチオン含量の
少ない1000ppm以下の脱イオンゼラチンを得るこ
とができる。
【0174】本発明に於いて、感光材料構成層中に含ま
れるカルシウム化合物としてはイオン、塩又は錯塩など
種々の形で存在する全てのものを指す。本発明に於ける
感光材料構成層中のカルシウム含量とは、これらカルシ
ウム化合物のカルシウム量を指し、カルシウム量として
15mg/m2以下であって、好ましくは10mg/m2
以下であり、特に5mg/m2以下であることが好まし
い。感光材料構成層中に含まれるカルシウムの定量は蛍
光X線分析法を用いることが有効である。
【0175】本発明に於いて感光材料構成層中のカルシ
ウム含量を調整する具体的方法としては、例えば下記の
方法が挙げられる。
【0176】(1)感光材料の製造時にカルシウム含量
の少ない原料ゼラチンを用いる (2)感光材料の製造時に、例えばハロゲン化銀乳剤、
乳化液、ゼラチン溶液などをヌーデル水洗、透析法など
により予め脱塩する。
【0177】上記のうち、感光材料の性能安定上からは
(1)の方法が好ましい。ゼラチン中のカルシウムの含
有量は石灰処理ゼラチンの場合は2000ppm以上、
酸処理ゼラチンの場合は1000ppm以上であるが、
Na+型又はH+型カチオン交換樹脂で処理することによ
りカルシウム含有量の低い(1000ppm以下)脱イ
オンゼラチンを得ることができる。また、透過処理等い
ずれの方法によってもカルシウム含有量の少ないゼラチ
ンならば本発明に有利に用いることができる。
【0178】本発明において、これらカルシウム化合物
が含有されるハロゲン化銀写真感光材料の写真構成層と
は、例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、中間層、フィ
ルター層、アンチハレーション層、下塗り層、裏引き層
など感光材料を構成する総ての層を指す。
【0179】本発明に好ましく用いられるハロゲン化銀
乳剤中のハロゲン組成は、特に制限はないが、補充量を
少なくして処理する場合や迅速処理を行う場合は、塩化
銀含有率が60モル%以上の塩臭化銀、塩沃臭化銀乳剤
であることが好ましい。
【0180】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方
が好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイ
ズ域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るよ
うな、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
【0181】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(RD)
17643.22〜23頁(1978年12月)に記載
もしくは引用された文献を参考にすることができる。
【0182】本発明に用いられる感光材料は、下記に記
載された化合物を感光材料中に含有させることが好まし
い。
【0183】(1)染料の固体分散微粒子体 特開平7−5629号公報(3)頁〔0017〕〜(1
6)頁〔0042〕記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目〜309(25)頁右下欄3行目記載の化合物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁〔0036〕
〜(17)頁〔0062〕記載の化合物 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁〔0017〕〜
(13)頁〔0040〕記載の化合物 特開平6−194771号公報(11)頁〔0042〕
〜(22)頁〔0094〕記載の化合物 特開平6−242533号公報(2)頁〔0015〕〜
(8)頁〔0034〕記載の化合物 特開平6−337492号公報(3)頁〔0012〕〜
(34)頁〔0056〕記載の化合物 特開平6−337494号公報(4)頁〔0013〕〜
(14)頁〔0039〕記載の化合物 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁〔0011〕〜
(16)頁〔0066〕記載の化合物 (6)レドックス化合物 特開平4−245243号公報235(7)頁〜250
(22)頁記載の化合物 前述の添加剤およびその他の公知の添加剤については、
例えばリサーチ・ディスクロージャー(RD)No.1
7643(1978年112月)、同No.18716
(1979年11月)及び同No.308119(19
89年12月)に記載された化合物が挙げられる。これ
ら三つのリサーチ・ディスクロージャーに示されている
化合物種類と記載箇所を下記に掲載した。
【0184】
【表1】
【0185】本発明の効果をよりよく発現させるために
は、定着液に硼素化合物が1リットル当たり0.05モ
ル以下で、かつグルコン酸化合物を含有することが好ま
しい。
【0186】グルコン酸によって隠蔽されていないAl
3+下記の化合物とで形成される錯体の吸光度を測定する
ことにより、グルコン酸Al3+とで形成する錯体の安定
度を間接的に表す方法で、吸光度の小さいものほどをA
3+隠蔽能が大きい。具体的には、pH4.85、1.
55モル/リットルの酢酸/酢酸ナトリウム緩衝液、
2.5×10-4モル/リットルのAl3+、2.5×10
-5モル/リットルの化合物A,5×10-3モル/リット
ルの評価化合物の液を調製し、その吸光度を測定する。
この方法において、例えば、従来の使用されてい硼酸は
1.14の値を示すのに対しグルコン酸ナトリウム0.
93、グルコン酸ヘプタナトリウム1.07の値を示
す。
【0187】この方法による吸光度が0.25未満の化
合物は、その単独使用においてAl3+隠蔽能が強すぎる
ため感光材料の処理において充分な硬膜作用を起こし得
ない。一方、1.15を越える化合物はAl3+隠蔽能が
弱すぎるため自動現像機での使用で定着槽に水酸化アル
ミニウムが析出してしまう。これに対し比色法における
吸光度が0.25から1.15の化合物は適度なAl3+
隠蔽能を有し、充分な硬膜力を維持しつつ、充分な安定
性を得ることができる。
【0188】本発明に好ましく用いられるグリコン酸及
びその塩、グルコヘプタン酸及びその塩が好ましい。こ
こで、グリコン酸はラクトン環をまいた無水物でもよ
い。
【0189】また、グルコン酸はアルカリ金属塩または
アンモニウム塩が特に好ましく、これらの化合物は本発
明の定着液において0.005〜0.2モル/リット
ル、好ましくは0.005〜0.1モル/リットルの濃
度で用いられる。これらのグリコン酸及びその塩は単独
で用いても2種以上併用してもよい。
【0190】本発明の処理方法は、上記記載の感光材料
を自動現像機にて処理する現像槽及び/又は定着槽には
空気を遮断するため遮蔽蓋を有する。遮蔽蓋としては発
砲スチロール製浮き蓋又は浮き球を用いることが好まし
く、該遮蔽具を用いての大気との接触面積を開口率と
し、開口率は0.05以下が好ましい。
【0191】本発明の定着液には、水洗槽ローラーに付
着する白濁物を防止するため、Mg2+イオンと安定度定
数(logKML)が6.0以上のキレート化合物剤をし
ようするのが好ましい。好ましい上記キレート化合物剤
としては、下記の化合物又はそれらのアルカリ金属塩が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0192】 (キレート化合物) (logKML) トランス−1,2−シクロヘキサンジアミン−N,N,N′N′ −四酢酸(CYDTA) 10.3 1,2−ジアミノプロパン−N,N,N′N′−四酢酸 5.5 (CYDTA) エチレンジアミン−四酢酸(EDTA) 5.7 トリエチレンテトラミン−N,N,N′N′N″N″ −六酢酸(TTHA) 5.1 ジエチレントリアミン−N,N,N′N′N″−五酢酸× (DTPA) 5.5 N−ヒドロキシエチル−エチレンジアミン−N,N,N′ −三酢酸(EDTA=OH) 7.0 エチレンジアミン−ジ(o−ヒドロキシフェニル酢酸) (EDDHA) 8.0 1,2−ジアミノプロパン−N,N,N′N′−四酢酸 (Me−EDTA) 8.8 使用するキレート化合物の添加量は、水洗水1リットル
当たり50mg〜10gまでで、好ましくは100mg
〜1gがよい。
【0193】本発明の処理方法では、現像液はハイドロ
キノンを含まない系の現像液で処理されてもよい。近
年、作業環境の改善が重要視されており、現像主薬もよ
り安全性の高いものが望まれており、例えば米国特許
5,326,816号ではアスコルビン酸或いはエリソ
ルビン酸類がハイドロキノンに代わる主薬として開示さ
れている。
【0194】本発明の現像処理に使用する現像主薬とし
ては、ジヒドロキシベンゼン類或いは一般式(4)で表
される化合物を用いることが好ましい。
【0195】次に一般式(4)で表される化合物につい
て説明する。
【0196】一般式(4)において、R41、R42は各々
独立に置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換の
アミノ基、置換又は無置換のアルコキシ基、置換又は無
置換のアルキルチオ基、又はR41とR42が互いに結合し
て環を形成してもよい。kは0又は1を表し、k=1の
ときX41は−CO−又は−CS−を表す。M41、M42
各々水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
【0197】一般式(4)において、R41とR42が互い
に結合して環を形成した下記一般式(4−a)で表され
る化合物が好ましい。
【0198】
【化60】
【0199】一般式(4−a)において、R43は水素原
子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のア
リール基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換
のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基を表し、Y41はO又はSを表し、
42はO、S又はNR44を表す。R44は置換又は無置換
のアルキル基、置換又は無置換のアリール基を表す。M
43、M44は各々水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
【0200】前記一般式(4)又は一般式(4−a)に
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、特に炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、アミノ
基としては無置換のアミノ基あるいは低級アルコキシ基
が好ましく、アリーリ基としては好ましくはフェニル基
あるいはナフチル基等であり、これらの基は置換基を有
していてもよく、置換し得る基としてはヒドロキシ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、スルホ基、カルボキシル
基、アミド基、スルホンアミド基等が好ましい置換基と
して挙げられる。また、いずれか1個のOH基の水素原
子はNa原子又はK原子に置換されていてもよい。
【0201】前記一般式(4)又は一般式(4−a)で
表される化合物の具体的化合物を以下に各一般式の置換
基を示すことにより示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【0202】
【化61】
【0203】
【化62】
【0204】これら一般式(4)で表される化合物は、
代表的にはアスコルビン酸あるいはエリソルビン酸とそ
の塩又はそれらから誘導される誘導体であり、市販品と
して入手できるか、あるいは容易に公知の合成法で合成
することができる。
【0205】これら一般式(4)で表される化合物の使
用量は0.2〜0.4モル/リットルであり、好ましく
は0.15〜0.25モル/リットルである。
【0206】本発明に用いられる現像主薬と3−ピラゾ
リドン類(例えば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1
−フェニル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェ
ニル−4,4′−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−4−エチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル
−5−メチル−3−ピラゾリドン等)やアミノフェノー
ル類(例えばo−アミノフェノール、p−アミノフェノ
ール、N−メチル−o−アミノフェノール、N−メチル
−p−アミノフェノール、2,4−ジアミノフェノール
等)の現像主薬を組み合わせて使用することもできる。
【0207】組み合わせて使用する場合は、3−ピラゾ
リドン類やアミノフェノール類の現像主薬は、通常現像
液1リットル当たり0.01〜1.4モルの量で用いら
れるのが好ましい。
【0208】本発明においては、水洗水の汚れを低減す
るという観点から現像液に一般式(5)で表される化合
物を用いるのが好ましい。
【0209】一般式(5)において、Z51で表されるア
ルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のものであって
特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のアルキル
基であって前記置換基の他に置換基を有していてもよ
い。Z51で表される芳香族基は好ましくは炭素数6〜3
2の単環又は縮合環のものであって、前記置換基の他に
置換基を有していてもよい。Z51で表されるヘテロ環基
は、好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環であ
り、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテロ
原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、前記の他に置換基を有していてもよい。但し、ヘテ
ロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換もし
くは無置換のナフチル基を有さない。一般式(5)で表
される化合物のうち、好ましくはZ51が、2個以上の窒
素原子を有するヘテロ環基である化合物である。
【0210】アンモニオ基としては好ましくは炭素数2
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(メチル基、エチル基、ベ
ンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシル基
等)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基を表
す。
【0211】更に一般式(5)で表される化合物の好ま
しいものは下記一般式(5−a)で表される化合物であ
る。
【0212】
【化63】
【0213】一般式(5−a)において、Z52は窒素原
子を有する不飽和の5員のヘテロ環又は、6員のヘテロ
環(ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリ
ミジン環、ピリダジン環、ピラジン環等)を形成するの
に必要な基であり、少なくとも一つの−SM51基又はチ
オン基を有する化合物であって、且つヒドロキシル基、
−COOM51基、−SO351基、置換若しくは無置換
のアミノ基、置換若しくは無置換のアンモニオ基からな
る群から選ばれた少なくとも一つの置換基を有する。式
中、R51、R52は、水素原子、−SM51基、ハロゲン原
子、アルキル基(置換基を有するものを含む)、アルコ
キシ基(置換基を有するものを含む)、ヒドロキシル
基、−COOM51基、−SO351基、アルケニル基
(置換基を有するものを含む)、アミノ基(置換基を有
するものを含む)、カルバモイル基(置換基を有するも
のを含む)、フェニル基(置換基を有するものを含む)
であり、R51とR52で環を形成してもよい。形成できる
環としては、5員環または6員環であり、好ましくは含
窒素ヘテロ環である。M51は、前記一般式(5)で定義
されたM51と同義である。好ましくはZ52は二つ以上の
窒素原子を含むヘテロ環化合物を形成する基であり、前
記−SM51基若しくはチオン基以外の置換基を有してい
てもよく、該置換基としては、ハロゲン原子、低級アル
キル基(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル
基等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコ
キシ基(置換基を有するものを含む。メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ等の炭素数5以下のものが好ましい。)、
低級アルケニル基(置換基を有するものを含む。炭素数
5以下のものが好ましい。)、カルバモイル基、フェニ
ル基等が挙げられる。更に一般式(5−a)において次
の一般式AからFで表される化合物が特に好ましい。
【0214】
【化64】
【0215】一般式A〜Fにおいて、各々R53、R54
55、R56は各々、水素原子、−SM61基、ハロゲン原
子、低級アルキル基(置換基を有するものを含む。メチ
ル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好まし
い。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。炭素数5以下のものが好ましい。)、ヒドロキシ
基、−COOM52、−SO353基、低級アルケニル基
(置換基を有するものを含む。炭素数5以下のものが好
ましい。)、アミノ基、カルバモイル基、フェニル基で
あり、少なくとも一つは−SM51基である。M51
52、M53は各々水素原子、アルカリ金属原子又はアン
モニウム基を表す。特に、−SM51以外の置換基として
はヒドロキシ基、−COOM52、−SO353基、アミ
ノ基等の水溶性基を持つことが好ましい。R53、R54
55、R56で表されるアミノ基は置換又は非置換のアミ
ノ基を表し、好ましい置換基としては低級アルキル基で
ある。アンモニウム基としては置換又は非置換のアンモ
ニウム基であり、好ましくは非置換のアンモニウム基で
ある。
【0216】以下に一般式(5)で表される化合物の具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【0217】
【化65】
【0218】
【化66】
【0219】
【化67】
【0220】
【化68】
【0221】
【化69】
【0222】
【化70】
【0223】
【化71】
【0224】
【化72】
【0225】
【化73】
【0226】一般式(5)で表される化合物の使用量
は、安定化処理液1リットル中に10-6〜10-1モルで
あることが好ましく、更には10-5〜10-2モルである
ことが好ましい。
【0227】本発明においては保恒剤として用いる亜硫
酸塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナト
リウムなどがある。亜硫酸塩は0.10モル/リットル
以上が好ましい。特に好ましくは0.25モル/リット
ル以上である。
【0228】現像液にはアルカリ剤(水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等)及びpH緩衝剤(例えば炭酸
塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、クエン酸、アルカノ
ールアミン等)が添加されることが好ましい。pH緩衝
剤としては炭酸塩が好ましく、その添加量は1リットル
当たり0.5モル以上2.5モル以下が好ましく、更に
好ましくは0.75モル以上1.5モル以下の範囲であ
る。また、必要により溶解助剤(例えばポリエチレング
リコール類及びそれらのエステル、アルカノールアミン
等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含む非イ
オン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、界面活
性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウム、臭
化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンゾインダ
ゾール、ニトロベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾー
ル、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾール類
等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又
はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩
等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,025
号、特公昭47−45541号に記載の化合物等)、硬
膜剤(例えばグルタルアルデヒド又はその重亜硫酸塩付
加物等)、あるいは消泡剤などを添加することができ
る。
【0229】現像液のpHは7.5以上10.5未満に
調整されることが好ましい。更に好ましくはpH8.5
以上10.4以下である。
【0230】また、現像廃液は通電して再生することが
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液
に陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することができる。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用する場合には、用いられ
る現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好ましい。
【0231】現像処理の特殊な形式として、現像主薬を
感光材料中、例えば乳剤層中又はその隣接層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
【0232】本発明の効果をよりよく発現させるために
は、定着液に硼酸塩を0.05モル/リットル以下で使
用することが好ましい。
【0233】本発明の効果をより好く発現させるために
は、定着液中のホウ素化合物が定着液1リットル当たり
0.05モル以下でんかつグルコン酸を含有するもので
ある。
【0234】本発明の安定化液には前記一般式(5)で
表される化合物を含有することが好ましい。
【0235】安定化液としては一般に用いられる組成の
ものを用いることができる。
【0236】定着液は一般に定着剤とその他から成る水
溶液であり、pHは通常3.8〜5.8である。定着剤
としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チ
オ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオシアン酸ナト
リウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニ
ウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定銀錯塩を生成
し得る有機硫黄化合物で定着剤として知られているもの
を用いることができる。
【0237】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
【0238】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
【0239】本発明においては、定着液中のアンモニウ
ムイオン濃度が定着液1リットル当たり0.1モル以下
であることが好ましい。
【0240】アンモニウムイオン濃度は定着液1リット
ル当たり、特に好ましくは0〜0.05モルの範囲であ
る。定着主薬としてはチオ硫酸アンモニウムの代わりに
チオ硫酸ナトリウムを使用してもよく、チオ硫酸アンモ
ニウムとチオ硫酸ナトリウムを併用して使用してもよ
い。
【0241】本発明の処理方法においては、定着液中の
酢酸イオンの濃度が0.33モル/リットル未満である
ことが好ましい。酢酸イオンの種類は任意で定着液中の
酢酸イオンを解離する任意の化合物に対して本発明は適
用できるが、酢酸や酢酸のリチウム塩、カリウム塩、ナ
トリウム塩、アンモニウム塩などが好ましく用いられ、
特にナトリウム塩、アンモニウム塩が好ましい。
【0242】酢酸イオンの濃度は、更に好ましくは定着
液1リットル当たり0.22モル以下、特に好ましくは
0.13モル以下で、これにより酢酸ガスの発生量を高
度に減少させることができる。最も好ましい態様は酢酸
イオンを実質的に含まないものである。
【0243】本発明の定着液はチオ硫酸塩を含有するこ
とが好ましい。チオ硫酸塩としてはリチウム塩、カリウ
ム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩などが好ましく用
いられ、特にナトリウム塩、アンモニウム塩である。
【0244】チオ硫酸塩の添加量は定着液1リットル当
たり0.1〜5モルで、より好ましくは0.5〜2.0
モルであり、さらに好ましくは0.7〜1.8モルであ
る。最も好ましくは0.8〜1.5モルである。
【0245】定着液にはクエン酸、酒石酸、リンゴ酸、
琥珀酸などの塩及びこれらの光学異性体などが含まれ
る。クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、琥珀酸などの塩とし
てはこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、
アンモニウム塩など、酒石酸の水素リチウム、水素カリ
ウム塩、水素ナトリウム塩、水素アンモニウム塩、酒石
酸のアンモニウムカリウム塩、酒石酸のナトリウムカリ
ウム塩などを用いてもよい。これらの中でより好ましい
ものとしてはクエン酸、イソクエン酸、リンゴ酸、琥珀
酸及びこれらの塩である。最も好ましくはリンゴ酸とそ
の塩である。
【0246】本発明の感光材料の処理においては、定着
処理後、水洗及び/又は安定化浴で処理される。安定化
浴としては、画像を安定化させる目的で、膜pHを調整
(処理後の膜面pHを3〜8に)するための無機及び有
機の酸及びその塩又はアルカリ剤(例えば硼酸塩、メタ
硼酸塩、硼砂、燐酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカル
ボン酸、ポリカルボン酸、クエン酸、蓚酸、リンゴ酸、
酢酸等の塩を組み合わせて使用)、アルデヒド類(例え
ばホルマリン、グリオキザール、グルタルアルデヒド
等)、キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又は
そのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩
等)、防黴剤(例えばフェノール、4−クロロフェノー
ル、クレゾール、o−フェニルフェノール、クロロフェ
ン、ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、p−ヒドロキ
シ安息香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾ
イミダゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデ
シル−ベンジル−メチルアンモニウムクロライド、N−
(フルオロジクロロメチルチオ)フタルイミド、2,
4,4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニ
ルエーテル等)、色調調節剤及び/又は残色改良剤(例
えばメルカプト基を置換基として有する含窒素ヘテロ環
化合物、具体的には2−メルカプト−5−スルホン酸ナ
トリウム−ベンゾイミダゾール、1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプト−5−プロピル−1,3,4−トリ
アゾール、2−メルカプトヒポキサンチン等)を含有さ
せる。その中でも安定化浴中には防黴剤が含まれること
が好ましい。
【0247】本発明で好ましく用いられるの固体状安定
化成分は固体状で補充される。固体状安定化成分は、後
記する固体処理剤の製造方法、使用方法を用いることが
できる。補充量としては、感光材料1m2当たり50〜
400mlである。
【0248】又、これらの安定化液は定着液の希釈及び
/又は希釈液として用いることが好ましいい。
【0249】本発明は廃液量の低減の要望から、感光材
料の面積に比例した一定量の現像液および定着液を補充
しながら処理される。その現像液及び定着液の補充量は
それぞれ感光材料1m2当たり30〜200mlであ
る。
【0250】ここでいう現像液補充量および定着液補充
量とは補充される液の量をいう。具体的には、現像母液
及び定着母液と同じ液を補充する場合のそれぞれの液の
補充量であり、現像濃縮液及び定着濃縮液を水で希釈し
た液で補充される場合のそれぞれの濃縮液と水の合計量
であり、固体現像処理剤および固体定着処理剤を水で溶
解した液で補充される場合のそれぞれの固体処理剤容積
と水の容積の合計量であり、また固体現像処理剤および
固体定着処理剤と水を別々に補充する場合のそれぞれの
固体処理剤容積と水の容積の合計量である。固体処理剤
で補充される場合は自動現像機の処理槽に直接投入する
固体処理剤の容積と、別に加える補充水の容積を合計し
た量を表すことが好ましい。その現像補充液および定着
補充液はそれぞれ自動現像機のタンク内の現像母液およ
び定着母液と同じ液でも、異なった液または固形処理剤
でも良い。特に現像液補充量が1m2当たり120ml
以下の場合は、現像補充液は自動現像機のタンク内の現
像母液と異なった液または固体処理剤であることが好ま
しく、現像補充液に含まれるメルカプト基を有する銀ス
ラッジ防止剤の量は現像母液に含まれる量より多いこと
が好ましく、現像補充液に含まれる本発明の一般式
(5)で表される化合物または遷移金属錯塩の量は現像
母液に含まれる量の1.2〜4倍の量であることが好ま
しい。
【0251】また特に定着液補充量が1m2当たり15
0ml以下の場合は、定着現像補充液は自動現像機のタ
ンク内の定着母液と異なった液または固体処理剤である
ことが好ましく、定着補充液に含まれるチオ硫酸塩の量
は定着母液に含まれる量より多いことが好ましい。
【0252】本発明においては、固体処理剤現像剤およ
び定着剤を水に溶解して用いることが好ましい。
【0253】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
【0254】本発明は現像処理時間短縮の要望から自動
現像機を用いて処理される。現像時間はフィルムの先端
が自動現像機のフイルム挿入口から挿入されてから、フ
ィルム排出口から出てくるまでの全処理時間(Dry
to Dry)が10〜50秒であることが好ましい。
【0255】ここで言う全処理時間とは、感光材料を処
理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理に
必要な、例えば現像、定着、水洗又はリンス(安定
化)、乾燥などの全てを含んだ時間、つまりDry t
o Dryのに時間である。
【0256】全処理時間が10秒未満では減感、軟調化
などで満足な写真性能が得られない。さらに好ましくは
全処理時間(Dry to Dry)が15〜上44秒
であることである。また、10m2以上の感光材料を安
定にランニング処理するためには現像時間は2〜18秒
であることが好ましい。
【0257】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は固体
処理剤を用いて連続処理される。ここで言う固体処理剤
とは、粉末処理剤や錠剤、丸薬、顆粒の如き固体処理剤
であり、必要に応じ防湿加工を施したものである。粉末
とは微粒結晶の集合体のことで、顆粒とは、粉末に造粒
工程を加えたもので、粒径50〜5000μmの粒状物
のことをいう。又、錠剤とは粉末又は顆粒を一定の形状
に圧縮成型したもののことを言う。
【0258】写真処理剤を固体化するには、濃厚液また
は微粉ないし粒状写真処理剤と水溶性結着剤を混練し成
型化するか、仮成型した写真処理剤の表面に水溶性結着
剤を噴霧したりすることで被覆層を形成する等、任意の
手段が採用できる。
【0259】好ましい錠剤の製造法としては粉末状の固
体処理剤を造粒した後打錠工程を行い形成する方法であ
る。単に固体処理剤成分を混合し打錠工程により形成さ
れた固体処理剤より溶解性や保存性が改良され結果とし
て写真性能も安定になるという利点がある。
【0260】錠剤形成のための造粒方法は転動造粒、押
し出し造粒、圧縮造粒、解砕造粒、攪拌造粒、流動層造
粒、噴霧乾燥造粒等公知の方法を用いることが出来る。
錠剤形成のためには、得られた造粒物の平均粒径は造粒
物を混合し、加圧圧縮する際、成分の不均一化、いわゆ
る偏析が起こりにくいという点で、100〜800μm
のものを用いることが好ましく、より好ましくは200
〜750μmである。さらに粒度分布は造粒物粒子の6
0%以上が±100〜150μmの偏差内にあるものが
好ましい。次に得られた造粒物を加圧圧縮する際には公
知の圧縮機、例えば油圧プレス機、単発式打錠機、ロー
タリー式打錠機、ブリケッティングマシンを用いること
が出来る。加圧圧縮されて得られる固形処理剤は任意の
形状を取ることが可能であるが、生産性、取扱い性の観
点から又はユーザーサイドで使用する場合の粉塵の問題
からは円筒型、いわゆる錠剤が好ましい。
【0261】さらに好ましくは造粒時、各成分毎例えば
アルカリ剤、還元剤、保恒剤等を分別造粒することによ
って更に上記効果が顕著になる。
【0262】固体処理剤の嵩密度は、その溶解性の観点
と、効果の点から錠剤である場合1.0g/cm3
2.5g/cm3が好ましい。1.0g/cm3より大き
いと得られる固形物の強度の点で好ましく、2.5g/
cm3より小さいと得られる固形物の溶解性の点でより
好ましい。固体処理剤が顆粒又は粉末である場合嵩密度
は0.40〜0.95g/cm3のものが好ましい。
【0263】固体処理剤は現像剤、定着剤、リンス剤等
写真用処理剤に用いられるが、本発明の効果、とりわけ
写真性能を安定化させる効果が大きいのは現像剤であ
る。
【0264】本発明に好ましく用いられる固体処理剤
は、ある処理剤の1部の成分のみ固体化することが好ま
しいが、さらに好ましくは該処理剤の全成分が固体化さ
れていることである。各成分は別々の固体処理剤として
成型され、同一個装されていることが望ましい。又別々
の成分が定期的に包装でくり返し投入される順番に包装
されていることも望ましい。
【0265】処理量情報に応じて各処理槽に補充する処
理剤全てを固体処理剤として投入することが好ましい。
補充水が必要な場合には、処理量情報又は別の補充水制
御情報にもとづき補充水が補充される。この場合処理槽
に補充する液体は補充水のみとすることが出来る。つま
り、補充が必要な処理槽が2種類以上の複数であった場
合に、補充水を共有することによって補充用液体を貯留
するタンクは1つで済み、自動現像機のコンパクト化が
図れる。補充水タンクは外部に外置きでも、自動現像機
に内蔵してもよく、内蔵するのは省スペース等の点から
も好ましい。
【0266】現像剤を固体化する場合、アルカリ剤、還
元剤全てを固体処理剤化し、かつ錠剤の場合には少なく
とも3剤以内最も好ましくは1剤にすることが、本発明
に用いられる固体処理剤の好ましい実施態様である。
又、2剤以上に分けて固体処理剤化した場合は、これら
複数の錠剤や顆粒が同一包装されていることが好まし
い。
【0267】本発明の効果をよりよく発現させるために
は、定着液に硼酸塩の含有量を0.05モル/リットル
以下で使用することが好ましい。
【0268】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。
【0269】定着剤は、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
【0270】チオ硫酸塩の添加量は定着液1リットル当
たり0.1〜5モルで、より好ましくは0.5〜2.0
モルであり、さらに好ましくは0.7〜1.8モルであ
る。最も好ましくは0.8〜1.5モルである。
【0271】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
【0272】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
【0273】本発明においては、定着液中のアンモニウ
ムイオン濃度が定着液1リットル当たり0.1モル以下
であることが好ましい。
【0274】アンモニウムイオン濃度は定着液1リット
ル当たり、特に好ましくは0〜0.05モルの範囲であ
る。定着主薬としてはチオ硫酸アンモニウムの代わりに
チオ硫酸ナトリウムを使用してもよく、チオ硫酸アンモ
ニウムとチオ硫酸ナトリウムを併用して使用してもよ
い。
【0275】本発明の処理方法においては、定着液中の
酢酸イオンの濃度が0.33モル/リットル未満である
ことが好ましい。酢酸イオンの種類は任意で定着液中の
酢酸イオンを解離する任意の化合物に対して本発明は適
用できるが、酢酸や酢酸のリチウム塩、カリウム塩、ナ
トリウム塩、アンモニウム塩などが好ましく用いられ、
特にナトリウム塩、アンモニウム塩が好ましい。
【0276】酢酸イオンの濃度は、更に好ましくは定着
液1リットル当たり0.22モル以下、特に好ましくは
0.13モル以下で、これにより酢酸ガスの発生量を高
度に減少させることができる。最も好ましい態様は酢酸
イオンを実質的に含まないものである。
【0277】定着液にはクエン酸、イソクエン酸、酒石
酸、リンゴ酸、琥珀酸などの塩及びこれらの光学異性体
などが含まれる。クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、琥珀酸
などの塩としてはこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナ
トリウム塩、アンモニウム塩など、酒石酸の水素リチウ
ム、水素カリウム塩、水素ナトリウム塩、水素アンモニ
ウム塩、酒石酸のアンモニウムカリウム塩、酒石酸のナ
トリウムカリウム塩などを用いてもよい。これらの中で
より好ましいものとしてはクエン酸、イソクエン酸、リ
ンゴ酸、琥珀酸及びこれらの塩である。最も好ましくは
リンゴ酸とその塩である。
【0278】本発明の感光材料の処理においては、定着
処理後、水洗及び/又は安定化浴で処理される。安定化
浴としては、画像を安定化させる目的で、膜pHを調整
(処理後の膜面pHを3〜8に)するための無機及び有
機の酸及びその塩又はアルカリ剤(例えば硼酸塩、メタ
硼酸塩、硼砂、燐酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカル
ボン酸、ポリカルボン酸、クエン酸、蓚酸、リンゴ酸、
酢酸等の塩を組み合わせて使用)、アルデヒド類(例え
ばホルマリン、グリオキザール、グルタルアルデヒド
等)、キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又は
そのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩
等)、防黴剤(例えばフェノール、4−クロロフェノー
ル、クレゾール、o−フェニルフェノール、クロロフェ
ン、ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、p−ヒドロキ
シ安息香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾ
イミダゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデ
シル−ベンジル−メチルアンモニウムクロライド、N−
(フルオロジクロロメチルチオ)フタルイミド、2,
4,4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニ
ルエーテル等)、色調調節剤及び/又は残色改良剤(例
えばメルカプト基を置換基として有する含窒素ヘテロ環
化合物、具体的には2−メルカプト−5−スルホン酸ナ
トリウム−ベンゾイミダゾール、1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプト−5−プロピル−1,3,4−トリ
アゾール、2−メルカプトヒポキサンチン等)を含有さ
せる。その中でも安定化浴中には防黴剤が含まれること
が好ましい。これらは液状でも固体状で補充されてもよ
い。固体状で補充される場合は、前述の固体処理剤の製
造方法、使用方法を用いることができる。補充量として
は、感光材料1m2当たり50〜400mlである。
【0279】本発明は廃液量の低減の要望から、感光材
料の面積に比例した一定量の現像液および定着液を補充
しながら処理される。その現像液及び定着液の補充量は
それぞれ感光材料1m2当たり30〜200mlであ
る。
【0280】ここでいう現像液補充量及び定着液補充量
とは補充される液の量をいう。具体的には、現像母液及
び定着母液と同じ液を補充する場合のそれぞれの液の補
充量であり、現像濃縮液及び定着濃縮液を水で希釈した
液で補充される場合のそれぞれの濃縮液と水の合計量で
あり、固体現像処理剤及び固体定着処理剤を水で溶解し
た液で補充される場合のそれぞれの固体処理剤容積と水
の容積の合計量であり、また固体現像処理剤及び固体定
着処理剤と水を別々に補充する場合のそれぞれの固体処
理剤容積と水の容積の合計量である。固体処理剤で補充
される場合は自動現像機の処理槽に直接投入する固体処
理剤の容積と、別に加える補充水の容積を合計した量を
表すことが好ましい。その現像補充液および定着補充液
はそれぞれ自動現像機のタンク内の現像母液および定着
母液と同じ液でも、異なった液または固形処理剤でも良
い。特に現像液補充量が1m2当たり120ml以下の
場合は、現像補充液は自動現像機のタンク内の現像母液
と異なった液または固体処理剤であることが好ましく、
現像補充液に含まれるメルカプト基を有する銀スラッジ
防止剤の量は現像母液に含まれる量より多いことが好ま
しく、現像補充液に含まれる本発明の一般式(1)で表
される化合物または遷移金属錯塩の量は現像母液に含ま
れる量の1.2〜4倍の量であることが好ましい。
【0281】また特に定着液補充量が1m2当たり15
0ml以下の場合は、定着現像補充液は自動現像機のタ
ンク内の定着母液と異なった液または固体処理剤である
ことが好ましく、定着補充液に含まれるチオ硫酸塩の量
は定着母液に含まれる量より多いことが好ましい。
【0282】本発明においては、固体処理剤現像剤およ
び定着剤を水に溶解することもできる。
【0283】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
【0284】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する。処理時間はフィルム先端が自動現
像機に挿入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全
処理時間(Dry to Dry)が50秒以下10秒
以上であることが好ましい。
【0285】ここで言う全処理時間とは黒白写真感光材
料を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には
処理に必要な、例えば現像、定着、水洗又はリンス、乾
燥などの工程の全てを含んだ時間、つまりDry to
Dryの時間である。
【0286】全処理時間が10秒未満では減感、軟調化
などで満足な写真性能が得られない。
【0287】さらに好ましくは全処理時間(Dry t
o Dry)が15秒〜44秒であることである。また
10m2以上の大量の感光材料を安定にランニング処理
するためには、現像時間は18秒以下2秒以上であるこ
とが好ましい。
【0288】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
【0289】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤A1の調製)同時混合法を用いて塩
化銀95モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.0
5μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3Rh(NO)4(H2O)を
銀1モル当たり8×10-8モル、K3OsCl6を銀1モ
ル当たり8×10-6モル添加した。このコア粒子に、同
時混合法を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6
を銀1モル当たり3×10-7モル添加した。
【0290】さらに沃化銀微粒子を用いてKIコンバー
ジョンを用い、得られた乳剤は平均直径0.2μmのコ
ア/シェル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀
(塩化銀90モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭
化銀からなる)立方晶の乳剤であった。
【0291】この乳剤を40℃に冷却し、凝集高分子剤
としてフェニルカルバモイル基で変性(置換率90%)
された変性ゼラチン13.8重量%水溶液1800ml
を添加し、3分間撹拌した、その後、酢酸56重量%水
溶液を添加して乳剤のpHを4.6に調整して3分間撹
拌した後、20分間静置させデカンテーションにより上
澄み液を排水した。
【0292】その後、40℃の蒸留水9.0リットルを
加え、撹拌静置後上澄み液を排水し、さらに蒸留水1
1.25リットルを加えて撹拌静置後、上澄み液を排水
した。
【0293】続いて、ゼラチン水溶液と炭酸ナトリウム
10重量%水溶液を加えてpHが5.80になるように
調整し、50℃で30分間撹拌し再分散した。再分散
後、40℃にてpHを5.80、pAgを8.06に調
整した。脱塩後のこの乳剤のEAgは50℃で190m
Vであった。
【0294】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、p−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3
モルを添加後、銀1モル当たりクロラミンTを350m
g、無機硫黄(S8)を0.6mg、トリクロロオーレ
イト6mgを添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
【0295】熟成終了後、銀1モル当たり4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
を2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル、沃化カリウムを300mg
添加した。
【0296】(ハロゲン化銀乳剤A2、A3の調製)ハ
ロゲン化銀乳剤A1に対し、前記Rh錯体の添加量をそ
れぞれ9×10-8モル/Ag、10×10-8モル/Ag
とした以外は全く同様にしてハロゲン化銀乳剤A2、A
3を調製した。
【0297】(ヒドラジン誘導体を含有する印刷製版ス
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)支持体上
に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.
5g/m2になるように塗布し、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が
1.0g/m2になるように、さらにその上層に下記処
方3のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.5g/m2、ゼ
ラチン量が1.0g/m2になるように、さらに下記処
方4の保護層塗布液をゼラチン量が0.6g/m2にな
るように同時重層塗布した。
【0298】また、反対側の下塗層上には下記処方5の
バッキング層をゼラチン量0.6g/m2になるよう
に、その上に下記処方6のポリマー層を、さらにその上
に下記処方7のバッキング保護層をゼラチン量が0.4
g/m2になるように乳剤層側とカーテン塗布方式で2
00m/minの速さで同時重層塗布することで試料を
得た。
【0299】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン(カルシウム含有量は表2に示した量) 0.5g/m2 染料AD−8(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) 45mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム(平均分子量500000) 10mg/m2 レドックス化合物22 (酢酸エチルに溶解し、ゼラチン溶液中で高速分散しながら酢酸エチルを除去 して結晶を析出させたもの) 60mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A2 銀量1.5g/m2相当量 増感色素 d−1 6mg/m2 増感色素 d−2 3mg/m2 硝酸タリウム 0.5mg/Ag1モル ヒドラジン化合物 例示1−12 2×10-3モル/Ag1モル ヒドラジン化合物 例示1−13 2×10-3モル/Ag1モル 染料 AD−8(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) 45mg/m2 アミン化合物 AM−1 40mg/m2 レドックス化合物22 60mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 0.7mg/m2 サポニン 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 1mg/m2 アスコルビン酸 20mg/m2 EDTA 50mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 処方3(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤A1 銀量1.5g/m2相当量 増感色素 d−1 0.5mg/m2 ヒドラジン化合物 例示1−38 2×10-3モル/Ag1モル ヒドラジン化合物 例示1−39 2×10-3モル/Ag1モル アミン化合物 AM−1 20mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 1.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 1mg/m2 EDTA 50mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体(分子量70000) 10mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 ゼラチンはフタル化ゼラチンを用い、塗布液pHは4.
8であった。
【0300】 処方4(乳剤保護層組成) ゼラチン(カルシウム含有量は表2に示した量) 0.6g/m2 アミン化合物 AM−1 20mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート12mg/m2 レドックス化合物 21 60mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの球状ポリメチルメタクリレート 25mg/m2 平均粒径8μmの不定形シリカ 12.5mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 滑り剤(シリコーンオイル) 4mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 硬膜剤j 30mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 処方5(バッキング層組成) ゼラチン(カルシウム含有量は表2に示した量) 0.6g/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m 化合物i .00mg/m 処方6(ポリマー層組成) ラテックスポリマーf 1.0g/m2 (メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 硬膜剤g 6mg/m2 処方7(バッキング保護層) ゼラチン(カルシウム含有量は表2に示した量) 0.4g/m2 マット剤(平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート) 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)スルホサクシナート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH268−OH 50mg/m2 硬膜剤g 20mg/m2 ポリスチレン酸ナトリウム 10mg/m2 水酸化亜鉛 50mg/m
【0301】
【化74】
【0302】
【化75】
【0303】
【化76】
【0304】 〈処理剤の調製〉 現像液組成 (使用液1リットル当たり) ジエチレントリアミン5酢酸・5ナトリウム 2.5g 亜硫酸ナトリウム 42.5g ハイドロキノン 20g 4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 0.85g 炭酸カリウム 55g ベンゾトリアゾール 0.2g 臭化カリウム 4g エルソルビン酸ナトリウム 6g ジエチレングリコール 40g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g 亜硫酸カリウム 17.5g 8−メルカプトアデニン 0.09g 水と水酸化カリウムを加えて1リットルに仕上げ、pH
10.4にする。
【0305】 定着液組成(使用液1リットル当たり) チオ硫酸アンモニウム 140g 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 表2に示する量 酢酸ナトリウム・3水和物 35g 酢酸(90%水溶液) 14.5g 酒石酸 3g 硫酸アルミニウム 25g 硫酸にて使用液のpHが4.9になるように調整した。
【0306】処理条件 (工程) (温度) (時間) 現像 35℃ 15秒 定着 35℃ 10秒 水洗 28℃ 10秒 乾燥 50℃ 10秒 合計 45秒 コニカ(株)自動現像機はGx−680に水洗部を容量
4リットルの槽を3段取り付け、乾燥部に最も近い下流
側の槽に水洗水が補充できるように改造した。
【0307】また、水洗槽は温度制御できるようにして
定着槽に最も上流側の水洗水温度を35℃に調整を行い
現像処理した。
【0308】上記で調製した試料フイルムを大全サイズ
(610×508mm)に裁断加工した後、上記処理
液、処理条件、表2に示す水洗水量及び上記現像処理条
件で1000枚連続で処理した後、2日間放置後水洗槽
の汚れを目視で5段階評価した。
【0309】評価基準 ランク1:水洗水中のローラーにゼリー状の析出があ
り、その汚れが感光材料に付着して画像に影響を与える
レベル ランク3:水洗水中のローラーにゼリー状の析出が多少
あり、実用上問題あるレベル ランク5:水洗水中の汚れが全くないレベル ランク2、4はそれぞれの中間レベルとした。また実用
的に許容されるレベルは4、5である。
【0310】得られた結果を表2に示す。
【0311】
【表2】
【0312】実施例2 同時混合法を用いて塩化銀98モル%、臭化銀2モル%
の平均粒径0.15μmの単分散、立方晶の塩臭化銀粒
子を調製した。混合時にK3Rh(H2O)Br 5を銀1
モル当たり7×10-5モル添加した。また常法による可
溶性塩類を除去する脱塩工程の前に4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン(TA
I)を銀1モル当たり0.6g添加した(以下、特に記
載がない場合は、銀1モル当たりの量とする)。
【0313】この乳剤を60℃に昇温し、TAIを60
mg、チオ硫酸ナトリウム0.75mgを添加し、TA
Iを添加してから60分後に更にTAIを600mg添
加し温度を下げてセットさせた。
【0314】ついで添加物を感光材料1m2当たり以下
の量になるように加えて塗布液を調製した。
【0315】 〈乳剤塗布液〉 ゼラチン10%溶液(カルシウム含有量は表3に示す) 5.26ml/m2 NaOH0.5N溶液 4.39ml/m2 化合物 イ 6.53mg/m2 テトラゾリウム化合物 T 40mg/m2 キラヤサポニン 107mg/m2 化合物 ロ 18.5mg/m2 化合物 ハ 9.8mg/m2 ゼラチンラテックス 480mg/m2 ポリスチレンスルホン酸Na 52.2mg/m2 〈保護層下層液調製〉 ゼラチン(カルシウム量は表3に示す) 0.5g/m2 化合物 ニ 62.0mg/m2 クエン酸 4.1mg/m2 ホルマリン 1.7mg/m2 ポリスチレンスルホン酸Na 11.0mg/m 〈保護層上層〉 ゼラチン(カルシウム量は表3に示す) 0.
3g/m2 化合物 ホ 18.0mg/m2 化合物 ニ 48.4mg/m2 化合物 ヘ 105.0mg/m2 化合物 ト 1.25mg/m2 不定形シリカ(平均粒1.63ミクロン) 15.0mg/m2 不定形シリカ(平均粒径3.5ミクロン) 21.0mg/m2 クエン酸 4.5mg/m2 ポリスチレンスルホン酸Na 11.0mg/m2 インライン添加でホルマリン 2mg/m2 〈バッキング塗布液〉 化合物 チ 170mg/m2 化合物 ニ 30mg/m2 化合物 リ 45mg/m2 化合物 ヌ 10mg/m2 キラヤサポニン 111mg/m2 化合物 ル 200mg/m2 コロイダルシリカ 200mg/m2 化合物 オ 35mg/m2 化合物 ワ 31mg/m2 化合物 カ 3.1mg/m2 ポリメチルメタアクリレート酸ポリマー(平均粒径5.6ミクロン) 28.9mg/m2 グリオキザール 10.1mg/m2 クエン酸 9.3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸Na 71.1mg/m2 インラインで以下のものを添加 化合物 ヨ 81mg/m 化合物 タ
88.2mg/m2 酢酸カルシウム 3.0mg/m2 ホルマリン 1.7mg/m
【0316】
【化77】
【0317】
【化78】
【0318】
【化79】
【0319】上記塗布液を処理含水量が表3に示す量に
なるようなゼラチン量及び硬膜剤量で調整して塗布し
た。塗布量は乳剤層の銀量が2.0g/m、バッキン
グ層のゼラチン量が2.1g/m2になるよう均一塗布
した。
【0320】得られたこれらの試料フイルムを実施例1
と同様の評価を行い、得られた結果を表3に示す。
【0321】
【表3】
【0322】実施例3 〈支持体の作成〉 (シンジオタクチックポリスチレンの合成)トルエン2
00重量部にスチレンを100重量部、トリイソブチル
アルミニウム56g、ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリメトキサイド234gを使用して96℃で
8時間反応を行った。水酸化ナトリウムのメタノール溶
液で触媒を分解除去した後、メタノールで3回洗浄して
シンジオタクチックポリスチレン(SPS)を34重量
部得た。
【0323】(SPSフィルムの作成)得られたSPS
を330℃でTダイからフィルム状に熔融押し出しをお
こない、冷却ドラム上で急冷固化して未遠心フィルムを
得た。このとき、冷却ドラムの引き取り速度を2段階で
行い、厚さ1054μmの未延伸フィルムを135℃で
予熱し、縦延伸(3.1倍)した後、130℃で横延伸
(3.4倍)し、更に250℃で熱固定をおこなった。
その結果、支持体として曲げ弾性率450kg/m
2、厚さ100μmの2軸延伸フィルムを得た。
【0324】(SPSフィルムの下塗り)上記SPSフ
ィルムの両面にシリカ蒸着した後に、スチレン−グリシ
ジルアクリレート及び酸化スズ微粒子を含む下塗層を形
成し帯電防止加工を施した。
【0325】〈感光材料の作成〉 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モル当たり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ル当たり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シェ
ル型単分散(変動係数10%)の(100)面を主平面
として有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化銀
0.2モル%、残りは臭化銀からなる)平板粒子の乳剤
であった。ついで特開平2−280139号287
(3)頁に記載の変性ゼラチンG−8(ゼラチン中のア
ミノ基をフェニルカルバミルで置換したもの)を使い脱
塩した。
【0326】脱塩後のEAgは50℃で190mvであ
った。得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸を
添加してpH5.6、EAg123mVに調整して、塩
化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×1
-6モル添加して温度60℃で最高感度が出るまで化学
熟成を行った。
【0327】熟成終了後、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当た
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0328】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。混合時にK
3Rh(H2O)Br5を銀1モル当たり2×10-8モル
添加した。このコア粒子に同時混合法を用いてシェルを
付けた。その際K2IrCl6を銀1モル当たり3×10
-7モル添加した。
【0329】得られた乳剤は平均厚み0.10μm、平
均直径0.42μmのコア/シェル型単分散(変動係数
10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃化銀0.
5モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子乳剤であ
った。次いで変性ゼラチンG−8(前出)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で180mVであった。
【0330】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,
N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を
3×10-5モル添加して温度60℃で最高感度が出るま
で化学熟成を行った。
【0331】熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0332】(レーザー光源用印刷製版スキャナー用ハ
ロゲン化銀写真感光材料の調製)上記の支持体の一方の
下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン
量が0.5g/m2になる様に、その上に下記処方2の
ハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチン
量が0.5g/m2になる様に、更にその上層に中間保
護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が0.3g
/m2になる様に、更にその上層に処方4のハロゲン化
銀乳剤層2を銀量1.4g/m2、ゼラチン量が0.4
g/m2になる様に、更に下記処方5の塗布液をゼラチ
ン量が0.6g/m2になるよう同時重層塗布した。ま
た反対側の下塗層上には下記処方6のバッキング層をゼ
ラチン量が0.6g/m2になる様に、その上に下記処
方7の疎水性ポリマー層を、更にその上に下記処方8の
バッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になる
様に乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得た。
【0333】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−8の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量1.5g/m2になる様に 染料AD−8の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 20mg/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 増感色素例示 3−55 5mg/m2 増感色素例示 3−67 5mg/m2 4級オニウム化合物 p−19 100mg/m2 レドックス化合物 21 20mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m 硬膜剤g 5mg/m
2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 エチレンジアミン4酢酸(EDTA) 30mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 処方3(中間層組成) ゼラチン 0.3g/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 2mg/m2 処方4(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤B 銀量1.4g/m2になる様に 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 ヒドラジン化合物H−1 5mg/m2 造核促進剤Nb−1 40mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料AD−8の固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 造核促進剤Na−1 40mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m 界面活性剤h 1mg/
2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤g 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 HO(CH2CH2O)68H 50mg/m2 硬膜剤g 20mg/m2 なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵抗値は23
℃、20%RHで6×1011で、乳剤側の表面の膜面p
Hは5.5、膨潤度は175であった。
【0334】 〈処理剤の作製〉 (処理液処方) 現像液(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤Ch 10g 亜硫酸ナトリウム 45g 炭酸カリウム 50g 8−メルカプトアデニン 0.2g ジエチレングリコール 50g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.3g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.6g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4− メチル−3−ピラゾリドン (ジメゾンS) 1.25g エリソルビン酸ナトリウム 50g ハイドロキノン 30g 臭化カリウム 5.5g ジエチルアミノプロパンジオール 25g 化合物TO−1 0.2g 水を加えて 1リットル pHを調整して 10.3
【0335】
【化80】
【0336】 定着液(使用液1リットル分) 純水 120ml チオ硫酸アンモニウム(10%Na塩:ヘキスト社製) 140g 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 10g 酒石酸 3g 酢酸ナトリウム・3水塩 37.8g 酢酸(90%水溶液) 13.5g 硫酸アルミニウム・18水塩 18g イソエリートP(塩水港精糖) 5g 50%硫酸水溶液及び純水を用い500ml(pH4.
83)に仕上げる。なお使用する際は純水500mlと
上記濃厚液500mlとを混合して用いる。
【0337】 水洗用リンス液(使用液1リットル分) 生分解性キレート剤Ch 40g 亜硫酸カリウム 35g 炭酸カリウム 25g 8−メルカプトアデニン 0.1g 防黴剤:三愛石油(株)製、サンバック−P 20g 水を加えて 1リットル (自動現像機)コニカ(株)製自動現像機GR−26S
Rと、該自動現像機の水洗工程を3段向流方式に改造し
た自動現像機を使用した。水洗水補充量は150ml/
2とし、水洗工程のオーバーフロー液を定着補充用の
定着液の希釈に用いるものとする。尚、感光材料1m2
当たり上記現像液130ml、上記定着液130mlを
補充しながら処理した。
【0338】なおこの自動現像機の乾燥ゾーンには遠赤
外線ヒーターを有し、現像槽の開口率0.04、定着槽
の開口率は0.03になるように浮き玉を浮かべた。
【0339】 尚、定着廃液は特開平6−27623号実施例1に記載
の銀回収装置を用いて銀回収をした後の処理液を再度定
着槽に戻しながら処理を行った。水洗槽内の定着液成分
の調整は、定着−水洗の渡りローラの圧縮力を調整して
行った。
【0340】また、水洗槽は温度制御可能にし、定着槽
に最も近い側の水洗温度を35℃に調整を行い現像処理
した。
【0341】上記で調製した試料フイルムを大全サイズ
(610×508mm)に裁断加工した後、上記処理
液、処理条件、表2に示す水洗水量及び上記現像処理条
件で1000枚連続で処理した後、2日間放置後水洗槽
の汚れを目視で5段階評価した。
【0342】評価基準 ランク1:白い斑点が3枚とも1面にある ランク3:白い斑点が最初の1枚目に一面にあり、2枚
目は半減、3枚目は2枚目の半減したレベル ランク5:白い斑点が最初の1枚目にあるが実用できる
レベル ランク8:白い斑点が最初の1枚目に数個ある ランク10:全く汚れがない 以上1〜10までの評価を行ったが、2、4、6、7、
9はそれぞれの中間レベルである。
【0343】得られた結果を表4に示す。
【0344】
【表4】
【0345】実施例4 〈感光材料の作成〉 (乳剤の調製)同時混合法を用いて塩化銀98モル%、
臭化銀2モル%の平均粒径0.15μmの単分散、立方
晶の塩臭化銀粒子を調製した。混合時に、K3Rh(H2
O)Br5を銀1モル当たり7×10-5モル添加した。
また、常法による可溶性塩類を除去する脱塩工程の前に
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンを銀1モル当たり0.6g添加した。
【0346】(以下、特に記載がない場合は、銀1モル
当たりの量とする) この乳剤を60℃に昇温し、4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを60mg、
チオ硫酸ナトリウム0.75mgを添加し、4−ヒドロ
キシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを添加してから60分後に更に4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを600
mg添加し温度を下げてセットさせた。
【0347】(乳剤塗布液の調製)単位m2当たり以下
の量になるよう塗布液を調製した。
【0348】 ゼラチン10%溶液 5.26ml/m2 NaOH 0.5N溶液 4.39ml/m2 化合物 イ 6.53mg/m2 テトラゾリウム化合物 例示T−7 40mg/m2 キラヤサポニン 107mg/m2 化合物 ロ 18.5mg/m2 化合物 ハ 9.8mg/m2 ゼラチンラテックス 480mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 52.2mg/m2 (保護層下層液調製) ゼラチン 0.5g/m2 化合物 ニ 62.0mg/m2 クエン酸 4.1mg/m2 ホルマリン 1.7mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 11.0mg/m2 (保護層上層液調製) ゼラチン 0.3g/m2 化合物 ホ 18.0mg/m2 化合物 ニ 48.4mg/m2 化合物 ヘ 105.0mg/m2 化合物 ト 1.25mg/m2 不定形シリカ(平均粒1.63ミクロン) 15.0mg/m2 不定形シリカ(平均粒径3.5ミクロン) 21.0mg/m2 クエン酸 4.5mg/m2 ポリスチレンスルホン酸Na 11.0mg/m2 ホルマリン(インライン添加) 10.0mg/m (バッキング塗布液調製) 化合物 チ 170
mg/m2 化合物 ニ 30mg/m2 化合物 リ 45mg/m2 化合物 ヌ 10mg/m2 キラヤサポニン 111mg/m2 化合物 ル 200mg/m2 コロイダルシリカ 200mg/m2 化合物 オ 35mg/m2 化合物 ワ 31mg/m2 化合物 カ 3.1mg/m2 ポリメチルメタアクリレート酸ポリマー(平均粒径5.6μm) 28.9mg/m2 グリオキザール 10.1mg/m2 クエン酸 9.3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 71.1mg/m2 インラインで以下のものを添加 化合物 ヨ 81mg/m2 化合物 タ 88.2mg/m2 酢酸カルシウム 3.0mg/m2 ホルマリン 10mg/m2 〈処理液処方〉 開始現像液 使用液1リットル分 純水 400ml ジエチレントリアミン・5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 18g 炭酸カリウム 120g 8−メルカプトアデニン 0.06g ジエチレングリコール 50g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.55g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 1.4g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g イソエリートP(塩水港精糖) 20g KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(p
H10.05)に仕上げる。なお使用する際は純水50
0mlと上記濃厚液500mlを混合して用いる。
【0349】 現像補充液 使用液1リットル分 純水 400ml ジエチレントリアミン・5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 20.15g 炭酸カリウム 120g 8−メルカプトアデニン 0.06g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.55g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 1.4g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g シクロデキストリン化合物 表1に示す量 KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(p
H10.05)に仕上げる。なお使用する際は純水50
0mlと上記濃厚液500mlを混合して用いる。補充
液のpHは9.8であった。
【0350】 (補充現像錠剤の作成) 造粒Aパーツの作成(使用液1l分) ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 18g 8−メルカプトアデニン 15g 5−メチルベンゾトリアゾール 55g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル−3− ピラゾリドン(ジメゾンS) 2.6g 例示5−18(エリソルビン酸ナトリウム) 60g パインフロー(商品名:松谷化学) 4g 上記素材を市販のバンタムミル中で30分間混合し、更
に市販の撹拌造粒機にて室温で10分間造粒した後、造
粒物を流動槽乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒物A
パーツを得た。
【0351】 造粒Bパーツの作成 (使用液1l分) 炭酸カリウム 155g D−マンニトール(商品名:花王) 5g 水酸化リチウム 3g 上記素材を市販のバンタムミル中で30分間混合し、更
に市販の撹拌造粒機にて室温で10分間造粒した後、造
粒物を流動槽乾燥機にて40℃、2時間乾燥し造粒物B
パーツを得た。
【0352】上記AパーツとBパーツを10分間完全混
合し、得られた混合物をマシーナ(株)製マシーナUD
・DFE30・40打錠装置を用い、1錠あたり表5に
示す充填量にして1.5トン/m2の圧縮打錠により直
径30mm,厚さ10mmの錠剤25個を得た。
【0353】(補充現像液の調製)作製した錠剤25個
を25℃の水1000mlで撹拌溶解し、現像補充液を
調製した。この液のpHは9.8であった。
【0354】定着剤は実施例3で用いたものを使用し
た。
【0355】〈自動現像機〉コニカ(株)社製GR−2
6SRを使用した。自動現像機は実施例3と同じものを
用い、現像補充液を錠剤を用い、補充は、大全サイズ
(610×508mm)の感光材料1枚当たり現像40
ml、定着40mlの補充を行った。
【0356】 ラインスピード(搬送速度) 1968mm/min 得られた結果を表5に示す。
【0357】
【表5】
【0358】実施例5 実施例3で用いた感光材料の増感色素d−1、d−2を
表6に示す増感色素に変更した以外は実施例3と全く同
様の評価を行った。この際のCi=11.5%。Cf=
0.42%、Ci/Cf=27.4である。
【0359】評価の結果を表6に示す。
【0360】
【表6】
【0361】実施例6 実施例3で処方2及び処方5の硬膜剤gの添加量を変化
させ表7記載の膨潤率の感光材料を調製して、実施例3
と全く同様の評価を行った。この際のCi=11.5
%。Cf=0.42%、Ci/Cf=27.4である。
【0362】評価の結果を表7に示す。
【0363】
【表7】
【0364】実施例7 実施例3で現像槽及び定着槽の開口率を発泡スチロール
製浮き球を用いて表8に示す条件にして、実施例3と全
く同様の評価を行った。この際のCi=11.5%。C
f=0.42%、Ci/Cf=27.4である。
【0365】評価の結果を表8に示す。
【0366】
【表8】
【0367】実施例8 実施例3における定着液の処方を表9に示す処方に変え
て実施例3と全く同様の評価を行った。この際のCi=
11.5%。Cf=0.42%、Ci/Cf=27.4
である。
【0368】評価の結果を表10に示す。
【0369】
【表9】
【0370】
【表10】
【0371】実施例9 錠剤型安定化剤の作製 下記、表11処方の素材を市販のバンタムミル中で30
分間混合し、マシーナ(株)製打錠装置UD・DFE3
0.40打錠装置を用いて1錠当たり1.2トン/m2
の圧縮により直径30mm,厚さ10mmの錠剤を作製
した。
【0372】
【表11】
【0373】上記の錠剤を、使用直前に溶解して安定化
液として用いた。処方R−6は、R−5の処方を錠剤化
せずに水に溶解させて安定化液を調製した。これらを用
いて実施例3と同様な評価を行った。この際のCi=1
1.5%。Cf=0.42%、Ci/Cf=27.4で
ある。
【0374】結果を表12に示した。
【0375】
【表12】
【0376】
【発明の効果】本発明により、水洗工程における廃水を
著しく低減させ、現像後の汚れの少ない感光材料の処理
方法が得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 5/26 520 G03C 5/26 520 5/30 5/30 5/305 5/305 5/31 5/31 5/38 5/38 5/395 5/395 G03D 3/00 G03D 3/00 A

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 現像、定着、水洗及び乾燥処理工程を有
    する自動現像機により処理されるハロゲン化銀写真感光
    材料の処理方法において、該ハロゲン化銀写真感光材料
    が下記一般式(1)で表されるヒドラジン化合物を含有
    し、かつ水洗工程が2段以上の多段向流式であり、定着
    槽に隣接する最上流の水洗槽と定着槽から最も遠い最下
    流の水洗槽のランニング状態での定着成分の濃度比率が
    下記の条件式(1)を満たし、水洗或いは安定化液の補
    充量がハロゲン化銀写真感光材料1m2当たり50〜4
    00mlであることを特徴とするハロゲン化銀写真感光
    材料の処理方法。 条件式(1) 6≦Ci/Cf≦300、かつCf≦2.5% 但し、Ci;最上流の水洗槽の定着成分の濃度 Cf;最下流の水洗槽の定着成分の濃度 【化1】 式中、Aは脂肪族基、芳香族基又はヘテロ環基を表し、
    Bはアシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
    ニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニ
    ル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリ
    ールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スルフィ
    ナモイル基、アルコキシスルホニル基、チオアシル基、
    チオカルバモイル基、オキザリル基又はヘテロ環基を表
    し、A1及びA2は、ともに水素原子又は一方が水素原子
    で他方はアシル基、スルホニル基又はオキザリル基を表
    す。
  2. 【請求項2】 現像、定着、水洗及び乾燥処理工程を有
    する自動現像機により処理されるハロゲン化銀写真感光
    材料の処理方法において、該ハロゲン化銀写真感光材料
    が下記一般式(2)で表されるオニウム化合物を含有
    し、かつ水洗工程が2段以上の多段向流式であり、定着
    槽に隣接する最上流の水洗槽と定着槽から最も遠い最下
    流の水洗槽のランニング状態での定着成分の濃度比率が
    前記の条件式(1)を満たし、水洗或いは安定化液の補
    充量がハロゲン化銀写真感光材料1m2当たり50〜4
    00ml以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真
    感光材料の処理方法。 【化2】 式中、Q21 +は窒素原子又は燐原子を表し、R21
    22、R23及びR24は各々、水素原子又は置換基を表
    し、X21 -はアニオンを表す。又、R21〜R24は互いに
    連結して環を形成してもよい。
  3. 【請求項3】 前記ハロゲン化銀写真感光材料のハロゲ
    ン化銀乳剤層が2層以上であることを特徴とする請求項
    1又は2記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  4. 【請求項4】 前記ハロゲン化銀乳剤層に含まれる分光
    増感色素が下記一般式(3)で表される化合物であるこ
    とを特徴とする請求項1、2又は3に記載のハロゲン化
    銀写真感光材料の処理方法。 【化3】 式中、R31、R32、R33及びR34は、各々、置換又は無
    置換の脂肪族基を表し、R32及びR34の少なくとも一方
    は水可溶化基を置換する。V31、V32、V33、V34、V
    35、V36、V37及びV38は各々、水素原子又は置換基を
    表し、V31とV32、V32とV33、V33とV34、V35とV
    36、V36とV37及びV37とV38の間で各々、縮合環を形
    成してもよく、但し、V31〜V34並びにV35〜V38は各
    々、加算したハメットσp値の総和が0.12より大き
    くなる置換基であり、L31、L32、L33、L34及びL35
    は各々、メチン基を表し、M31は分子内の総電荷を相殺
    するに必要なイオンを表し、lは分子内の価数を中和す
    るに必要なイオンの数を表す。
  5. 【請求項5】 ハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層側の
    膨潤百分率が110〜250%であることを特徴とする
    請求項1〜4のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真
    感光材料の処理方法。
  6. 【請求項6】 ハロゲン化銀写真感光材料の写真構成層
    に含まれるカルシウム化合物の量がカルシウム量として
    ハロゲン化銀写真感光材料1m2当たり15mg以下で
    あることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記
    載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  7. 【請求項7】 定着液中のホウ素化合物が1リットル当
    たり0.05モル以下で、かつグルコン酸化合物を含有
    することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記
    載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  8. 【請求項8】 定着液に酢酸及びその塩を含有しないこ
    とを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のハ
    ロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  9. 【請求項9】 現像槽及び/又は定着槽の開口率が0.
    05以下であることを特徴とする請求項1〜8のいずれ
    か1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  10. 【請求項10】 定着液にMg2+イオンとの安定度定数
    (LogML)が6以上のキレート剤を含有することを
    特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のハロゲ
    ン化銀写真感光材料の処理方法。
  11. 【請求項11】 現像液に下記一般式(4)で表される
    化合物を含有することを特徴とする請求項1〜10のい
    ずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
    法。 【化4】 式中、R41、R42は各々独立に置換又は無置換のアルキ
    ル基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換のア
    ルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチオ基、又はR
    41とR42が互いに結合して環を形成してもよい。kは0
    又は1を表し、k=1のときX41は−CO−又は−CS
    −を表す。M41、M42は各々水素原子又はアルカリ金属
    原子を表す。
  12. 【請求項12】 現像液に下記一般式(5)で表される
    化合物を含有することを特徴とする請求項1〜11のい
    ずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
    法。 一般式(5) Z51−SM51 〔式中Z51は、アルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環
    基であって、ヒドロキシル基、−SO352基、−CO
    OM52基(ここでM52は水素原子、アルカリ金属原子、
    又は置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表
    す)、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無
    置換のアンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも
    1つ又は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する
    置換基によって置換されているものを表す。M51は水素
    原子、アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジ
    ノ基(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩
    を形成していてもよい)を表す。〕
  13. 【請求項13】 安定化液に前記一般式(5)で表され
    る化合物を含有することを特徴とする請求項1〜12の
    いずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理
    方法。
  14. 【請求項14】 定着液にMg2+イオンとの安定度定数
    (LogML)が6以上のキレート剤を含有することを
    特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載のハロ
    ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  15. 【請求項15】 安定化液成分が固体の状態で供給され
    ることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記
    載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  16. 【請求項16】 安定化液の廃液を定着液の希釈及び/
    又は希釈液として用いることを特徴とする請求項1〜1
    5のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の
    処理方法。
  17. 【請求項17】 現像及び/又は定着補充液が固体処理
    剤から調製されることを特徴とする請求項1〜16のい
    ずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
    法。
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