JPH10263717A - 半導体装置用リードフレーム - Google Patents

半導体装置用リードフレーム

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Publication number
JPH10263717A
JPH10263717A JP9067550A JP6755097A JPH10263717A JP H10263717 A JPH10263717 A JP H10263717A JP 9067550 A JP9067550 A JP 9067550A JP 6755097 A JP6755097 A JP 6755097A JP H10263717 A JPH10263717 A JP H10263717A
Authority
JP
Japan
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lead frame
semiconductor device
punching
lead
stamping
Prior art date
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Pending
Application number
JP9067550A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoichi Terajima
彰一 寺島
Hiroshi Imai
寛 今井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP9067550A priority Critical patent/JPH10263717A/ja
Publication of JPH10263717A publication Critical patent/JPH10263717A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体装置の耐湿性を向上するとともに、半
導体装置を安価に且つ能率良く製造することができるよ
うに成した半導体装置用リードフレームを提供する。 【解決手段】 打ち抜き加工によって形成された半導体
装置用リードフレームにおいて、側面における打ち抜き
方向の先端縁に面取り加工が施されたことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置用リード
フレームに関するものである。
【0002】
【従来の技術】周知のように、半導体装置用リードフレ
ームは、素子が搭載されてワイヤボンディングが行われ
た後に、水分等が侵入しないようにモールドによって封
止される。
【0003】ところで、リードフレームは主としてスタ
ンピング加工によって形成されるが、スタンピング加工
時にリードフレームの側面における打ち抜き方向の先端
縁に沿ってバリが生じ易く、このバリが有る状態でリー
ドフレームをモールドによって封止すると、リフロー等
の熱応力負荷がかかったときにバリとモールドの間に隙
間が生じ、そこから水分が侵入して素子の性能が低下す
ることがある。
【0004】この問題を解決するために、従来は、リ
ードフレームをバリが発生しにくいFeNiによって形成す
る、モールドキュア時間を長くしてバリとモールドの
間に隙間ができないようにする、水分が多少侵入して
も性能が損なわれないように素子を改善する(例えば、
素子のPN接合の全周にガラスを多く塗布する、素子を
大きくしてガラスの塗布量を多くする)等の対策が採ら
れていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の技術の
場合、はコストが高騰する、は生産能率が低下す
る、は、設備的に困難である、コストが高騰するとい
う問題が有った。
【0006】本発明は、上述した事情に鑑みて創案され
たものであって、その目的は、半導体装置の耐湿性を向
上するとともに、半導体装置を安価に且つ能率良く製造
することができるように成した半導体装置用リードフレ
ームを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、請求項1の発明は、打ち抜き加工によって形成
された半導体装置用リードフレームにおいて、側面にお
ける打ち抜き方向の先端縁に面取り加工が施されたこと
を特徴とするものである。
【0008】また、請求項2の発明は、打ち抜き加工に
よって形成された半導体装置用リードフレームにおい
て、側面における打ち抜き方向の先端縁に曲面加工が施
されたことを特徴とするものである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
を図面を参照しながら説明する。図1は本発明の一実施
形態である半導体装置用リードフレーム1の斜視図、図
2は図1のリードフレーム1のリード部3の幅方向断面
図、図3はリードフレーム1に面取り加工を施す工程の
説明図、図4はリードフレーム1によって形成された半
導体装置の断面図である。
【0010】図1に示す半導体装置用リードフレーム1
は、Cu製のフープ状の素材をスタンピング加工すること
によって形成されたもので、素子搭載部2と、これに連
続し、素子搭載部2に対して幅が縮小したリード部3と
を有している。なお、図1では、説明の都合上、一つの
リードフレーム1のみを切り離した状態で示している
が、実際には、フープ状の素材中に多数のリードフレー
ム1、1、・・・がその幅方向に整列した状態で形成さ
れており、各リードフレーム1、1、・・・はリード部
3を介して素材につながっている。
【0011】図1、2に示すように、リード部3の左右
の側面3a、3aにおける打ち抜き方向(矢印A方向)
の先端縁3b、3bには全長に亘って面取り4、4が形
成されている。打ち抜き後のリードフレーム1の側面に
おける打ち抜き方向の先端縁には、素材につながってい
る部分を除いてバリが生じており、本実施形態では、図
3に示すように、リード部3の左右の側面3a、3aの
先端縁3b、3bを金型6、6によって矢印B方向にス
タンピングすることによってバリ5、5を潰し、面取り
4、4を形成している。
【0012】スタンピング加工と面取り加工が終了した
フープ状のリードフレーム1、1、・・・は半導体製造
装置に装着され、素子搭載部2に素子が搭載されてワイ
ヤボンディングが行われた後にモールドによって封止さ
れ、リード部3において切断され、半導体装置となる。
【0013】得られた半導体装置は、図4に示すよう
に、リード部3の左右の側面における打ち抜き方向の先
端縁に面取り4、4が形成されており、この部分とモー
ルド8とが密着しているため、半導体装置7内部に水分
等が侵入して素子9の性能が損なわれることが無い。
【0014】なお、本発明は上述した実施形態に限定さ
れるものではない。例えば、リードフレームの側面にお
ける打ち抜き方向の先端縁に面取り加工を施す代わりに
アール等の曲面加工を施すようにしても良い。
【0015】また、面取りや曲面は、必ずしもリードフ
レームの側面における打ち抜き方向の先端縁の全長に亘
って形成する必要は無く、半導体装置内部に水分等が侵
入するのを防止することができれば、本実施形態のよう
に、前記先端縁の一部にのみ形成するようにしても良
い。
【0016】本発明は、特に、打ち抜き時にバリが発生
しやすいCu製のリードフレームに適している。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置用リードフレームによれば、打ち抜き加工によって形
成された半導体装置用リードフレームの側面における打
ち抜き方向の先端縁に面取り加工または曲面加工を施し
たことにより、モールドで封止した後にリードフレーム
とモールドの間に隙間が生じず、半導体装置内部に水分
が侵入するのを防止することができるので、半導体装置
の耐湿性が向上する。
【0018】また、本発明の半導体装置用リードフレー
ムは、少ない設備投資で製造することができ、且つ量産
性にも優れているため、半導体装置を安価に且つ能率良
く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態であるリードフレーム1
の斜視図。
【図2】 図1のリードフレーム1のリード部3の幅方
向断面図。
【図3】 リードフレーム1に面取り加工を施す工程を
示す説明図。
【図4】 リードフレーム1によって形成された半導体
装置の断面図。
【符号の説明】
1 リードフレーム 4 面取り

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 打ち抜き加工によって形成された半導体
    装置用リードフレームにおいて、側面における打ち抜き
    方向の先端縁に面取り加工が施されたことを特徴とする
    半導体装置用リードフレーム。
  2. 【請求項2】 打ち抜き加工によって形成された半導体
    装置用リードフレームにおいて、側面における打ち抜き
    方向の先端縁に曲面加工が施されたことを特徴とする半
    導体装置用リードフレーム。
JP9067550A 1997-03-21 1997-03-21 半導体装置用リードフレーム Pending JPH10263717A (ja)

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