JPH10274843A - セラミックス・グリーンシート及びそのビアホール形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビアホールの形成が極めて容易にかつ精度良
くでき、しかも微細な孔をフォトマスクパターン通りに
確実に形成することのできるセラミックス・グリーンシ
ートのビアホールの形成方法を提供すること。 【解決手段】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤および
感光性樹脂を含有するセラミックス・グリーンシートの
両面から露光してビアホールを形成することから成る、
セラミックス・グリーンシートのビアホールの形成方法
並びにセラミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖にカルボ
キシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重
合体、光重合開始剤を含有するセラミックス・グリーン
シートの両面から露光してビアホールを形成することか
ら成る、セラミックス・グリーンシートのビアホールの
形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は焼成セラミックス基
板などの形成に好適に用いられるセラミックス・グリー
ンシート、およびこのグリーンシートにビアホールを形
成する方法に関するものであり、さらに詳しくは半導体
素子を搭載し、かつそれら相互に配線した高密度実装な
どに好適に用いられる焼成セラミックス基板、特に多層
セラミック基板に好適に用いるセラミックで作製したグ
リーンシート、およびこのグリーンシートにビアホール
を形成する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子部品の高速化、高周波化、小
型化が進むにつれ、それらを実装するためのセラミック
ス基板にも微細なビアホールを高密度に形成することが
要求されている。

【０００３】従来のセラミックス・グリーンシートは特
開平１−２３１７９７号公報や特開平２−１４１４５８
号公報に記載のごとく、通常、セラミックス粉末、有機
バインダー、可塑剤、溶媒および必要に応じて分散剤な
どを適宜配合した後、混合してスラリーとした後、得ら
れたスラリーをドクターブレード法などの公知の方法に
よってグリーンシートを成形する。

【０００４】さらにグリーンシートにビアホールを形成
する方法として従来行われている方法は、超硬で作製さ
れた打ち抜き金型（パンチ）などを用いてパンチングに
よりビアホールを形成を行うものものである。

【０００５】しかしながら、従来の超硬で作製した打ち
抜き金型（パンチ）などを用いてグリーンシートにビア
ホール形成を行う方法では、超硬の強度が低いため細径
を有するパンチの作製が難しく、また細い径のパンチで
打ち抜く際、ビアホールに打ち抜きかすが残り、加工後
の歩留まりが極端に低いなどの問題点から、近年求めら
れている高密度実装に必要な０．１５ｍｍ以下の径のビ
アホール形成が困難である。

【０００６】一方、かかる問題を解決するために特開平
１−１８３４５６号公報において、フォトリソグラフィ
ー技術を用いてビアホールを形成する方法が記載されて
いる。その要旨は次のようである。セラミック無機成分
の粉末に有機バインダー成分を含むセラミックス・グリ
ーンシートであって、前記有機バインダー成分が光ある
いは電子線の照射によって溶媒に対する溶解度が変化す
る有機物を主成分とするセラミックス・グリーンシート
に対して、ビア設計に基づいたマスクパターンが形成さ
れたマスクを介して光または電子線を照射してこの光ま
たは電子線の照射部を変形させ、前記セラミックス・グ
リーンシートのビア部に対する部位のみを溶解する溶媒
を用いて溶出除去してビアホールを形成する方法であ
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ここでビアホ
ールに導体ペーストを埋め込む際に問題となるビアホー
ルの形状に関しては何ら記載されていない。前記方法に
おいてビアホールを形成する場合、一般に、セラミック
無機成分と有機バインダー成分比、光あるいは電子線の
照射量、及び溶媒を用いてビア部を溶出除去する際の溶
媒濃度あるいは溶出除去にかかる時間の調節が非常に難
しく、マスクパターンより得られる所望の部位以外を溶
出してしまうことが多い。このような所望の部位以外が
溶出されて得られたビアホールの形状はビア樽と呼ばれ
る。ビア樽が生じる原因としては、(1) セラミックス・
グリーンシート中のセラミック無機成分、有機バインダ
ー成分及びその他の添加剤によって、光あるいは電子線
が吸収されることにより、グリーンシート下部まで十分
に露光されていないこと、(2) 光あるいは電子線の照射
量不足により、グリーンシートの下部まで十分に露光さ
れていないこと、および(3) 溶媒によるビア部溶出時間
が必要以上に長いこと、があげられる。

【０００８】ビア樽の形状にはいくつかの種類がある
が、例えばネガ型の有機バインダーを用いて片面より露
光した場合、グリーンシートの厚さ方向において、光源
に近い側のシート表面よりも離れるに従って、ビアホー
ル径が広がったビア樽が生じてしまう。

【０００９】以上のようなビア樽を有するグリーンシー
トにおいては、１つのビアホールとそれに隣接するビア
ホールの中心間距離を小さくすることができず、セラミ
ックス基板の高密度化において要求されている０．３ｍ
ｍ以下、特に０．１５ｍｍ以下のビアピッチ（最も隣接
するビアホールの中心間距離）を形成することが困難で
ある。また、ビアホールに導体ペーストを埋め込む際、
埋め込み不足や抜け落ちが起こるため、導電不良あるい
は絶縁不良を起こす。

【００１０】本発明はかかる従来技術の諸欠点を改良
し、ビアホールの形成が極めて容易にかつ精度良くで
き、しかも微細な孔をフォトマスクパターン通りに確実
に形成することのできるセラミックス・グリーンシート
のビアホールの形成方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の目的はセラミッ
クス粉末、紫外線吸光剤、および感光性樹脂とを含有す
るセラミックス・グリーンシートにおいて、シートの両
面から露光し、現像することによりビアホール形成を行
うことにより達成される。

【００１２】すなわち、本発明は、セラミックス粉末、
紫外線吸光剤および感光性樹脂を含有するセラミックス
・グリーンシートの両面から露光してビアホールを形成
することから成る、セラミックス・グリーンシートのビ
アホールの形成方法を提供する。また、本発明は、セラ
ミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖にカルボキシル基と
エチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、光重
合開始剤を含有するセラミックス・グリーンシートの両
面から露光してビアホールを形成することから成る、セ
ラミックス・グリーンシートのビアホールの形成方法を
提供する。さらに、本発明は、セラミックス粉末、紫外
線吸光剤および感光性樹脂を含有し、上記本発明の方法
により形成されたビアホールであってシート表面のビア
ホール径に対し厚み方向のビアホール径の最大値が孔径
差で２５％以内であるビアホールを有するセラミックス
・グリーンシートを提供する。さらに、本発明は、セラ
ミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖にカルボキシル基と
エチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、光重
合開始剤を含有し、請求項１記載の方法により形成され
たビアホールであってシート表面のビアホール径に対し
厚み方向のビアホール径の最大値が孔径差で２５％以内
であるビアホールを有するセラミックス・グリーンシー
トを提供する。

【００１３】すなわち、本発明において、セラミックス
で作製したグリーンシート自体に感光性を付与すること
が重要であり、これによりフォトリソグラフィー技術を
用いてビアホールやスルーホールの形成が容易に精度良
くでき、かつ微細な孔を安価に効率よく形成できるもの
である。さらに、ビアホールの形状を露光条件により、
フォトマスクの形状通りの上下孔径差のないものとし、
ビア樽のないビアホールを形成するための方法である。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明において使用されるセラミ
ックス粉末としては、セラミックス粉末単独、ガラス−
セラミックス複合系、結晶化ガラスなどがあげられる。
平均１次粒子径が１〜１０μｍのものが好ましく適用で
きる。

【００１５】セラミックス粉末単独で用いる場合の例と
しては、アルミナ（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、ジルコニア（ＺｒＯ
₂ ）、マグネシア（ＭｇＯ）、ベリリア（ＢｅＯ）、ム
ライト（3 Ａｌ₂ Ｏ₃ ・2 ＳｉＯ₂ ）、コーディライト
（5 ＳｉＯ₂ ・2 Ａｌ₂ Ｏ₃・2 ＭｇＯ）、スピネル
（ＭｇＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、フォルステライト（2 ＭｇＯ
・ＳｉＯ₂ ）、アノーサイト（ＣａＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・2
ＳｉＯ₂ ）、セルジアン（ＢａＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・2 Ｓｉ
Ｏ₂ ）、シリカ（ＳｉＯ₂ ）、クリノエンスタタイト
（ＭｇＯ・ＳｉＯ₂ ）、窒化アルミ（ＡｌＮ）などの粉
末、あるいは低温焼成セラミックス粉末があげられる。

【００１６】ガラス−セラミックス粉末複合系の例とし
ては、例えばＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃、ＣａＯ、Ｂ₂ Ｏ₃
および必要に応じてＭｇＯおよびＴｉＯ₂ などを含むガ
ラス組成粉末と、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、
ベリリア、ムライト、コーディライト、スピネル、フォ
ルステライト、アノーサイト、セルジアン、シリカおよ
び窒化アルミの群から選ばれる少なくとも一種の無機フ
ィラー粉末との原料混合物があげられる。より好ましく
はセラミックス粉末が酸化物換算表記で ＳｉＯ₂ ３０〜７０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ ５〜２５重量部 ＣａＯ ５〜２５重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ ３〜５０重量部 の組成範囲で、総量が９５重量％以上となるガラス組成
粉末４０〜６０重量％と、アルミナ、ジルコニア、マグ
ネシア、ベリリア、ムライト、コーディライト、スピネ
ル、フォルステライト、アノーサイト、セルジアン、シ
リカおよび窒化アルミの群から選ばれた少なくとも一種
の無機フィラー粉末６０〜４０重量％との原料混合物で
ある。すなわち、ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣａＯ、Ｂ₂
Ｏ、ＭｇＯおよびＴｉＯ₂ の組成範囲はガラス組成粉末
中の割合であり、これらの成分がガラス組成粉末中で総
量９５重量％以上であることが好ましい。残りの５重量
％はＮａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ、ＢａＯ、ＰｂＯ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、
Ｍｎ酸化物、Ｃｒ酸化物、ＮｉＯ、Ｃｏ酸化物などを含
有することができる。

【００１７】ガラス−セラミックス複合系の具体例とし
ては、ＳｉＯ₂ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系ガラス、ＰｂＯ−ＳｉＯ₂
−Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系ガラス、ＣａＯ−ＳｉＯ₂ −
Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系ガラスなどに、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、石
英（ＳｉＯ₂ ）、ＺｒＯ₂ 、コーディライトなどのセラ
ミックス成分を加えたものがあげられる。

【００１８】ガラス組成粉末中のＳｉＯ₂ は３０〜７０
重量％の範囲であることが好ましく、３０重量％未満の
場合はガラス層の強度や安定性が低下し、また誘電率や
熱膨張係数が高くなり所望の値から外れやすい。また７
０重量％より多くなると焼成基板の熱膨張係数が高くな
り、１０００℃以下の焼成が困難となる。

【００１９】Ａｌ₂ Ｏ₃ は５〜２５重量％の範囲で配合
することが好ましい。５重量％未満ではガラス相中の強
度が低下するうえ、１０００℃以下での焼成が困難とな
る。２５重量％を越えるとガラス組成をフリット化する
温度が高くなりすぎる。

【００２０】ＣａＯは５〜２５重量％の範囲で配合する
のが好ましい。５重量％より少なくなると所望の熱膨張
係数が得られなくなり、また１０００℃以下での焼成が
困難となる。２５重量％を越えると誘電率や熱膨張係数
が大きくなり好ましくない。

【００２１】Ｂ₂ Ｏ₃ はガラスフリットを１３００〜１
４５０℃付近の温度で溶解するため、およびＡｌ₂ Ｏ₃
が多い場合でも誘電率、強度、熱膨張係数、焼結密度な
どの電気、機械および熱的特性を損なうことのないよう
にセラミックス焼成温度を８００〜１０００℃の範囲に
制御するために配合することが望ましく、配合量として
は３〜５０重量％の範囲が好ましい。３重量％未満で
は、Ｂ₂ Ｏ₃ が多すぎるとセラミックスの強度が低下し
やすく、また５０重量％を越えると、ガラスの安定化が
低下し、無機フィラー（結晶）とガラスとの反応による
再結晶化が速くなり、また、多層基板とした場合にガラ
ス相が滲み出る現象が起こり好ましくない。

【００２２】無機フィラー粉末は、基板の機械的強度の
向上や熱膨張係数を制御するのに有効であり、特にアル
ミナ、ジルコニア、ムライト、コーディライト、アノー
サイトはその効果が優れている。無機フィラーの割合が
６０重量％を越えると焼結しにくくなり、１０００℃以
下で焼結することが困難になる。また４０重量％未満で
は、熱膨張係数の制御や低誘電率の基板が得られにくく
なる。従って、無機フィラー粉末をこの範囲とすること
によりセラミックスの焼成温度を８００〜１０００℃と
し、強度、誘電率、熱膨張係数、焼結密度、体積固有抵
抗収縮率を所望の特性とすることができる。

【００２３】本発明において、ガラス溶融温度を制御す
るためにＭｇＯを０〜１０重量％の範囲で配合してもよ
い。１０重量％を越えると得られる基板の熱膨張係数が
高くなる。

【００２４】本発明において、結晶化ガラスの生成にお
いて有効な核形成物質としてＴｉＯ₂ は０〜１５重量％
の範囲で配合してもよい。本発明の低温焼成セラミック
ス基板には焼成前には非晶質ガラスと無機フィラーとの
混合物であるが、フィラーの種類によっては非晶質ガラ
スとセラミックスと結晶化ガラスの部分結晶化セラミッ
クスとなっていると推定される。

【００２５】本発明で使用される無機フィラー粉末中、
不純物として０〜５重量％までのＮａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ、Ｂ
ａＯ、ＰｂＯ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｍｎ酸化物、Ｃｒ酸化物、
ＮｉＯ、Ｃｏ酸化物などを含有することができる。

【００２６】ガラス組成粉末の作製法としては、例え
ば、原料であるＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃、ＣａＯ、Ｂ₂ Ｏ₃
、ＭｇＯ、ＴｉＯ₂ などを溶融後、急冷し、ガラスフ
リットにしてから粉砕して０．５〜３μｍの微細な粉末
とする方法がある。原料としては、高純度の炭酸塩、酸
化物、水酸化物などを使用できる。またガラス粉末の種
類や組成によっては９９．９９％以上の超高純度なアル
コキシドや有機金属の原料を使用し、ゾル・ゲル法で均
質に作製した粉末を使用すると低誘電率で、緻密で、高
強度なセラミックス基板が得られるので好ましい。

【００２７】結晶化ガラスの具体例としては、ＭｇＯ−
Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ 系やＬｉ₂ Ｏ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｓｉ
Ｏ₂ 系の結晶化ガラスなどが使用される。結晶化ガラス
は例えばＭｇＯ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ にＢ₂ Ｏ₃ と核
形成物質を加えて、９００〜１０００℃で焼成し、コー
ディライト結晶を析出させ高強度化を図ったものや、Ｌ
ｉ₂ Ｏ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ にＢ₂ Ｏ₃ と核形成物質
を加え、スポジュメンを析出させ、同じく高強度化を図
ったものも使用される。

【００２８】上記において使用するセラミックス粉末の
粒子径および比表面積は作製しようとするグリーンシー
トの厚みや焼成後の収縮率を考慮して選ばれるが、粉末
の場合は０．２〜１０μｍ、比表面積２〜３０ｍ² ／ｇ
を同時に満たすことが好ましい。より好ましい範囲は粒
子径０．５〜３μｍ、比表面積２〜２０ｍ² ／ｇであ
る。粉末粒子径が０．２μｍ未満の場合、または、比表
面積が３０ｍ² ／ｇを越える場合、粉末が細かくなりす
ぎて露光時において光が散乱されて未露光部分を硬化す
るようになる。このため現像時に真円度のあるビアホー
ルが得られなくなる。また焼成後の収縮率が大きくなり
高精度のグリーンシートが得られない。粉末の形状とし
ては、球形であることが好ましく、粒度分布が鋭いと紫
外線露光時に散乱の影響を低く抑制できるので好まし
い。

【００２９】本発明のセラミックス・グリーンシートに
用いられる感光性樹脂組成物としては、従来から公知の
感光性樹脂を用いることができる。これらの感光性樹脂
からなる感光層は活性な光線を照射することにより不溶
化または可溶化する層である。光不溶化型感光性物質の
例としては、（１）１分子に不飽和基などを１つ以上有
する官能性モノマーやオリゴマーを適当なポリマーバイ
ンダーと混合したもの、（２）芳香族ジアゾ化合物、芳
香族ジアド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化
合物を適当なポリマーバインダーと混合したもの、
（３）既存の高分子に感光性の基をペンダントさせるこ
とにより得られる感光性高分子あるいはそれを改質した
もの、（４）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの、などが挙
げられる。

【００３０】また光可溶型感光性物質の例としては、
（１）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類などを適当なポリマーバインダーと
混合したもの、（２）キノンジアゾ類を適当なポリマー
バインダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラッ
ク樹脂のナフトキノン１，２−ジアジド−スルフォン酸
エステル、などがあげられる。

【００３１】特に好ましい感光性樹脂組成物は、側鎖に
カルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル
系共重合体であり、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽
和基を共重合させて形成したアクリル系共重合体にエチ
レン性不飽和基を側差に付加させることによって製造す
ることができる。

【００３２】不飽和カルボン酸の具体的な例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、
マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物
などがあげられる。一方、エチレン性不飽和化合物の具
体的な例としては、メチルアクリレート、メチルメタク
リレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレ
ート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレ
ート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメ
タクリレート、イソーブチルアクリレート、イソブチル
メタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、ｎ−ペンチルメタクリレート、スチレン、ｐ−メチ
ルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン
などがあげられるが、これらに限定されない。これらの
アクリル系主鎖ポリマの主重合成分として前記のエチレ
ン性不飽和化合物の中から少なくともメタクリル酸メチ
ルを含むことによって熱分解性の良好な共重合体を得る
ことができる。

【００３３】側鎖のエチレン不飽和基としてはビニル
基、アリル基、アクリル基、メタクリル基のようなもの
がある。このような側鎖をアクリル系共重合体に付加さ
せる方法としては、アクリル系共重合対中のカルボキシ
ル基にグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物や
アクリル酸クロライドを付加反応させて作る方法があ
る。

【００３４】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。また、アクリル酸クロライド
化合物としては、アクリル酸クロライド、メタクリル酸
クロライド、アリルクロライドなどがあげられる。これ
らのエチレン性不飽和化合物あるいはアクリル酸クロラ
イドの付加量としては、アクリル系共重合対中のカルボ
キシル基に対して０．０５〜１モル当量が好ましく、さ
らに好ましくは０．１〜０．８モル当量である。付加量
が０．０５モル当量未満では感光特性が不良となりパタ
ーンの形成が困難になるため好ましくない。また、付加
量が１モル当量より大きい場合は、未露光部の現像溶解
性が低下したり、塗布膜の硬度が低くなり好ましくな
い。

【００３５】これらの感光性樹脂は、ポリマーバインダ
ーとして作用するものであるが、ポリマーバインダー成
分として非感光性ポリマーを含有することもできる。具
体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラー
ル、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル
重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共
重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレ
ート樹脂などがあげられる。

【００３６】本発明で使用される光重合開始剤の具体的
な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸
メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４
−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレ
ノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジ
メトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトン、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブ
チルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メ
チルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−
イソピロピルチオキサントン、ジエチルチオキサント
ン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジル
−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラ
キノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズゾスベロン、メチレン
アントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，
６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メ
チルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ジブタ
ジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１
−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカル
ボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリ
オン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−
フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ
−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル
−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ
−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、
キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアク
リドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェ
ニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、ト
リフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭化炭
素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、
エオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアス
コルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み
合わせなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。

【００３７】光重合開始剤は、側鎖にカルボニル基とエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体と光反応
性化合物の和に対し、０．５〜５０重量％の範囲で添加
され、より好ましくは、２〜２５重量％である。光重合
開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重
合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくな
りすぎるおそれがある。

【００３８】本発明において、グリーンシートのビアホ
ール形成のために感光性樹脂をセラミックス粉末に紫外
線（ＵＶ）吸光剤を添加することが必須である。紫外線
吸収効果の高い吸光剤を添加することによって高解像度
が得られる。すなわち、通常、セラミックス粉末だけで
は、余計な部分まで光硬化し、現像してもビアホールの
形成ができなくなったり、真円度が大きく低下すること
が起きる。この原因は散乱された紫外光が吸収されてあ
るいは弱められて露光マスクによる遮光部分にまでまわ
り込むことが原因である。したがって、紫外線吸光剤を
添加することによって散乱光のまわり込みがほぼ回避さ
れ、マスク部分の感光性樹脂の硬化を防ぎ、露光マスク
に相当したパターンが形成できるようになる。

【００３９】紫外線吸光剤としては３５０〜４５０ｎｍ
の波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する無機粉末あるいは
有機顔料などが好ましく用いられる。無機粉末として
は、酸化コバルトＣｏ₂ Ｏ₃ 、ＣｏＯ、酸化鉄Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、酸化クロムＣｒ₂ Ｏ₃ 、酸化マンガンＭｎＯ₂ 、酸
化銅Ｃｕ₂ Ｏ、ＣｕＯ、酸化チタンＴｉＯ₂ などの酸化
物、炭化チタンＴｉＣ、炭化タングステンＷＣ、炭化ジ
ルコンＺｒＣ、炭化珪素ＳｉＣ、炭化ニオブＮｂＣなど
の炭化物、チタニウム・ボライドＴｉＢ₂ 、ジルコニウ
ム・ボライドＺｒＢ₂ などの硼化物、窒化チタンＴｉ
Ｎ、窒化ジルコンＺｒＮ、窒化タンタルＴａＮなどの窒
化物、炭素（Ｃ）がある。この中で好ましい無機粉末は
炭素および炭化物で、パターンが滲みなく鋭く形成で
き、しかもビアホールを上下の口径差がなく微細に形成
できる。特に炭素は酸素含有雰囲気下で焼成すると炭化
ガスとして揮発するのでセラミックス基板としての絶縁
や誘電特性の低下を最小限にできるので好ましい。

【００４０】これらの無機粉末は酸化物と窒化物、炭化
物との２種あるいは３種以上の複合粉末としても用いる
ことができるが、セラミックス基板としての絶縁、誘電
体特性を低下させない範囲で選択することが好ましい。
無機粉末の添加量としては、０．０１〜５重量％が好ま
しい。０．０１重量％未満では紫外線吸光剤の添加効果
が減少し、５重量％を越えると基板特性が低下するので
好ましくない。より好ましくは０．０５〜１重量％であ
る。

【００４１】また有機顔料としては、高い吸収光係数を
有する種々の顔料が好ましく使用できるが、具体的に
は、アゾ系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染
料、アントラキノン系染料などが使用できる。添加量と
しては、無機粉末の場合と同様の理由から０．０１〜５
重量％の範囲が好ましい。有機顔料は、炭素と同様に焼
成後、セラミックス基板中に残存しないので吸光剤によ
る基板特性の低下を少なくできる。

【００４２】本発明においてセラミックス粉末あるいは
紫外線吸光剤に含まれるＰｂ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍ
ｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属およびその酸化物が、ペース
ト中に含有する感光性ポリマーのカルボキシル基と反応
してペーストが短時間でゲル化し、塊となりペーストと
して印刷できなくなる場合がある。これは感光性ポリマ
ーと上記の金属や酸化粉末とのイオン架橋反応と推定さ
れるが、このような架橋反応を防止するために、感光性
ポリマーにはもちろんのこと、光重合開始剤あるいは可
塑剤などに悪影響を与えない化合物（安定化剤）を添加
しゲル化を防止することが好ましい。すなわち、ゲル化
反応を引き起こす金属や酸化物粉末との錯体化、あるい
は酸官能基との塩形成などの効果のある化合物で粉末を
表面処理し、セラミックス・グリーンシートを安定化さ
せることが好ましい。

【００４３】上記の要件を満たす安定化剤として、トリ
アゾール化合物が好ましく使用できる。トリアゾール化
合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用す
る。またヘキサメチレンテトラアミン、ナフテン酸リチ
ウム（Ｌｉ）などもゲル化抑制に効果がある。

【００４４】ベンゾトリアゾールを用いてセラミックス
粉末や紫外線吸光剤中の金属および金属酸化物の粉末を
表面処理する方法は、以下の通りである。すなわち、所
定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶
媒に溶解し、これらの粉末が十分に浸ることができるよ
うに溶液中に１〜２４時間浸漬することが好ましい。浸
漬後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥して溶媒を
蒸発させることにより、トリアゾール処理を行った粉末
が得られる。

【００４５】本発明において使用される安定化剤の割合
（安定化剤／セラミックス粉末や紫外線吸光剤中の金属
および金属酸化物）は０．２％〜４重量％が好ましく、
さらに０．４〜３重量％であることが好ましい。０．２
重量％未満ではポリマーの架橋反応を防止するのに効果
がなく、短時間でゲル化しやすい。また４重量％を越え
ると安定化剤の量が多くなりすぎて非酸化性雰囲気中で
のグリーンシートの焼成時においてポリマーバインダー
および安定化剤などの脱バインダーが困難となり、基板
の特性が低下する。

【００４６】本発明においてセラミックス・グリーンシ
ート中に光反応性化合物、増感剤、熱重合禁止剤、可塑
剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止
剤などを添加することも好ましく行われる。

【００４７】光反応性化合物は感度を向上させるために
添加される。本発明で使用される光反応性化合物は光反
応性を有する炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用
いることができ、その具体的な例としてアリルアクリレ
ート、ベンジルアクリレート、ブトキシアクリレート、
ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレング
リコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニル
アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリ
シジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリ
レート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メ
トキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロ
ロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリ
レート、アリルシクロヘキシルジアクリレート、ビスフ
ェノールＡジアクリレート、１，４−ブタンジオールア
クリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロ
ールジアクリレート、メトキシシクロヘキシルジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロ
ピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレートおよび上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニ
ル−２−ピロリドンなどがあげられる、本発明ではこれ
らの光反応性化合物を１種または２種以上使用すること
ができる。

【００４８】側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和
基を有するアクリル系共重合体は、光反応性化合物に対
して、通常、重量比で０．１〜１０倍量用いる。このア
クリル系共重合体の量が少なすぎると、スラリーの粘度
が低くなり、スラリー中での分散の均一性が低下するお
それがある。一方、アクリル系共重合体の量が多すぎれ
ば、未露光部の現像液の溶解性が不良となる。

【００４９】増感剤は、高感度を向上させるために添加
される。増感剤の具体例としては、２，３−ビス（４−
ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン）、２，６
−ビス（ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メ
チルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチル
アミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデン
インダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノ
ン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニレンビニレン）−
イソナフトール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベ
ンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジ
エチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル
−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル
−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノー
ルアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニ
ルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル
−５−ベンゾイルチオ−テトラゾーラゾール、１−フェ
ニル−５−エトキシカルボニルチオ−テトラゾールなど
があげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上
使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開
始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の
セラミックス・グリーンシートに添加する場合、その添
加量は側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体に対して通常０．１〜６０重量
％、より好ましくは０．５〜３０重量％である。増感剤
の量が少なければ光感度を向上させる効果が発揮され
ず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくな
りすぎるおそれがある。

【００５０】熱重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上
させるために添加される。熱重合禁止剤の具体的な例と
しては、ヒドロキノン、Ｎ−ニトロジフェニルアミン、
フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェ
ニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メ
チルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどがあ
げられる。熱重合禁止剤を添加する場合、その添加量
は、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重
合体に対し、通常、０．１〜２０重量％、より好ましく
は、０．５〜１０重量％である。熱重合禁止剤の量が少
なければ、保存時の熱的な安定性を向上させる効果が発
揮されず、熱重合禁止剤の量が多すぎれば、露光部の残
存率が小さくなりすぎるおそれがある。

【００５１】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００５２】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ
−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２
−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４−チビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−
（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）
ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコール
エステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェ
ニルホスファイトなどがあげられる。酸化防止剤を添加
する場合、その添加量は通常、セラミックス粉末、側鎖
にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、ガ
ラスフリットおよび光重合開始剤の総和に対して０．０
１〜５重量％、より好ましくは０．１〜１重量％であ
る。酸化防止剤の量が少なければ保存時のアクリル系共
重合体の酸化を防ぐ効果が得られず、酸化防止剤の量が
多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれが
ある。

【００５３】本発明のセラミックス・グリーンシート形
成用スラリーの好ましい組成としては、次の範囲で選択
するのが好ましい。 (a) セラミックス粉末 ；７０〜９５重量％ (b) 感光性樹脂 ；２５〜１０重量％ (c) 紫外線吸光剤 ；０．０５〜１重量％

【００５４】また、セラミックス・グリーンシートが、
セラミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖にカルボキシル
基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、
光重合開始剤を含有する場合には、セラミックス・グリ
ーンシート形成用スラリーの好ましい組成としては、次
の範囲で選択するのが好ましい。 （ａ）セラミックス粉末 ；７０〜９５重量％ （ｂ）側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合 体（及び光反応性化合物） ；３０〜５重量％ （ｃ）光重合開始剤 ；（ｂ）に対して２〜２５重量％ （ｄ）紫外線吸光剤 ；（ａ）に対して０．０１〜５重量％

【００５５】各成分が上記範囲にあると露光時において
紫外線が良く透過し、光硬化の機能が十分発揮され、後
の現像時における未露光部の残膜の発生をほとんどなく
すことができ、高い真円度を有するビアホールの形成が
できる。また特に（ｂ）成分であるアクリル系共重合体
（及び光反応性化合物を用いる場合にはこれらの合計
量）をこの範囲にすることにより焼成後の焼結体が緻密
になり、高強度のセラミックス基板が得られる利点があ
る。

【００５６】本発明のセラミックス・グリーンシート形
成用のスラリーは、感光性樹脂を有機溶媒に溶解し、こ
の溶液にセラミックス粉末と紫外線吸光剤とを分散させ
ることによって製造することができる。また、セラミッ
クス・グリーンシートが、セラミックス粉末、紫外線吸
光剤、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体、光重合開始剤を含有する場合
には、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体と光開始剤を有機溶媒に溶解
し、この溶液にセラミックス粉末と紫外線吸光剤とを分
散させることによって製造することができる。このとき
使用される有機溶媒は感光性樹脂又は側鎖にエチレン性
不飽和基を有するアクリル系共重合体及び光重合開始剤
の混合物を溶解し得るものであればよい。例えばメチル
セルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、メ
チルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
フォキシド、γ−ブチロラクトン、トルエン、トリクロ
ールエチレン、メチルイソブチルケトン、イソホロンな
どやこれらのうち１種以上を含有する有機溶媒混合物が
用いられる。また、上記光反応性化合物を用いる場合で
あって、該光反応性化合物が感光性樹脂又は側鎖にエチ
レン性不飽和基を有するアクリル系共重合体及び光重合
開始剤の混合物を溶解し得るものである場合には、上記
有機溶媒に代えて該光反応性化合物に上記各成分を溶解
してもよい。なお、この場合でも、粘度調節のために上
記有機溶媒を添加することもできる。

【００５７】紫外線吸光剤の添加方法としては、セラミ
ックス粉末と紫外線吸光剤とを水溶液中で湿式混合後、
乾燥する方法があげられる。より好ましくは、所定の添
加量となるように無機塩の水溶液中にセラミックス粉末
を均質に混合・分散後、乾燥、焼成して混合粉末を作成
する方法である。この方法によってセラミックス粉末の
個々の粉末表面に無機の膜あるいは微細な粉末をコート
したいわゆるカプセル状の粉末が作製できる。例えば紫
外線吸光剤として酸化鉄や酸化コバルトを添加する場
合、塩化鉄や塩化コバルトの水溶液中にセラミックス粉
末を分散させた後、撹拌しながら乾燥させ、４００〜８
００℃で熱処理を行うことによってセラミックス粉末の
表面に酸化鉄や酸化コバルトの皮膜を作製することがで
きる。紫外線吸光剤として炭素を添加する場合はＣＶＤ
（化学的気相沈殿）法などでセラミックス粉末の表面に
均質に炭素の膜を形成することがより好ましい。また、
紫外線吸光剤として有機顔料を添加する場合、有機顔料
を溶解した溶液中にセラミックス粉末を均質に混合、分
散後、乾燥することによってセラミックス粉末の個々の
粒子表面に有機顔料の膜が形成できるので吸光剤の効果
が一層高くなる。

【００５８】さらに必要に応じて、有機溶媒、安定化
剤、増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、酸化防止剤、分散
剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などを添加し、ボー
ルミルあるいはアトライターで例えば１２〜４８時間粉
砕・混合し、スラリーを調整する。

【００５９】また、スラリーの粘度を調整するために必
要に応じて上記の有機溶媒を添加する。好ましい粘度は
１万〜５万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）であり、この範囲
にあるとシートの膜厚の調整が均質にできる。得られた
スラリーをドクターブレードを用いてポリエステルフィ
ルムなどのフィルム上に連続的に厚さ０．０１〜０．５
ｍｍに形成する。ついで８０〜１２０℃の温度で１０分
〜３時間、加熱して溶媒類を蒸発させ、セラミックス・
グリーンシートにする。このシートを所定の形状に切断
する。

【００６０】本発明のセラミックス・グリーンシートの
厚みは通常、５〜５００μｍの範囲であり、好ましくは
５〜３００μｍである。５００μｍを越えると紫外線の
露光に対して十分透過せず、光硬化の効果が薄れる。ま
た、５μｍ未満であるとグリーンシートの取り扱いが難
しくなる。

【００６１】セラミックス・グリーンシートは通常のフ
ォトマスク法を用いて露光される。この際使用される活
性光源としては、例えば紫外線、電子線、Ｘ線などがあ
げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源
としては例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、ハロゲンラン
プ、殺菌灯などが使用できる。これらの中でも超高圧水
銀灯が好適である。露光条件はグリーンシートの厚みな
どによっても異なるが、５〜１００ｍＷ／ｃｍ² の出力
の超高圧水銀灯を用いて１〜３０分間露光を行うことが
好ましい。シートの両面を露光する方法としては、シー
トの上下両面から同時に露光する方法、あるいはシート
の片面から露光した後シートの表裏を反転させ、さらに
反対の面を同様に露光する方法がある。

【００６２】露光後、現像液を使用して現像を行い、光
硬化していない部分を除去し、いわゆるネガ型のパター
ンを形成し、ビアホール径例えば０．００５〜０．２ｍ
ｍの穴をビアホールピッチ例えば０．０１〜５．０ｍｍ
の間隔にあける。現像方法としては、浸漬法やスプレー
法で行うことができる。現像液としては前記の側鎖にエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、光反応
性化合物および光重合開始剤の混合物が溶解可能である
有機溶媒を使用できる。またこの有機溶媒にその溶解力
が失われない範囲で水を添加してもよい。またアクリル
系共重合体の側鎖にカルボキシル基が存在する場合、ア
ルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として、水
酸化ナトリウムや水酸化カルシウム水溶液などのような
金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶
液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいの
で好ましい。有機アルカリの具体例としては、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジル
アンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミンなどがあげられる。アルカリ水溶液
の濃度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは
０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎるれば
未露光部が除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、
露光部の剥離を引き起こし、また腐食させるおそれがあ
り好ましくない。

【００６３】上記した本発明の方法によりビアホールを
形成すると、厚み方向に孔径差の小さなビアホールを形
成することができる。すなわち、本発明の方法によりビ
アホールを形成したセラミックス・グリーンシートは、
シート表面のビアホール径に対し厚み方向のビアホール
径の最大値が孔径差で２５％以内、好ましくは１０％以
内であるビアホールを有する。

【００６４】また、本発明のセラミックス・グリーンシ
ートの厚みについては上記した通りであるが、本発明の
ビアホールの形成方法は、特に厚さの厚いセラミックス
・グリーンシートを作製する場合に威力を発揮する。す
なわち、セラミックス・グリーンシートの厚さが厚い場
合、従来法によりビアホールを形成すると、孔径差が特
に大きくなる。本発明の方法によれば、セラミックス・
グリーンシートの厚さが１００μｍ〜５００μｍと厚い
場合でも、孔径差の小さなビアホールを形成することが
できる。

【００６５】さらに、本発明のセラミックス・グリーン
シートのアスペクト比（シートの厚み／シート表面のビ
アホール径）は特に限定されないが、本発明の方法によ
れば、アスペクト比が１〜４と大きく、かつそれでいて
孔径差の小さなビアホールを有するセラミックス・グリ
ーンシートを得ることができる。また、本発明の方法に
よれば、ビアホールの孔径差が小さいのでビアピッチが
０．３ｍｍ以下と小さなビアホールを有するセラミック
ス・グリーンシートを得ることができる。

【００６６】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、以下の説明で使用量や配合割合はすべて重量
で表す。

【００６７】実施例１〜４ Ａ．セラミックス成分 アルミナ粉末；平均粒子径２．８μｍの球状粉末

【００６８】Ｂ．紫外線吸光剤 有機顔料；アゾ系染料 スダン−IV

【００６９】Ｃ．ポリマーバインダー ４０モル％のメタクリル酸、３０モル％のメチルメタク
リレートおよび３０モル％のスチレンに対して０．４当
量（メタクリル酸に対して４０モル％に相当する）のグ
リシジルアクリレートを付加反応させたポリマー

【００７０】Ｄ．光反応性化合物 トリメチロール・プロパントリ・トリアクリレート

【００７１】Ｅ．光重合開始剤 ２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルホリノプロパノン−１

【００７２】Ｆ．増感剤Ｉ；２，４−ジエチルチオキサ
ンソン 増感剤ＩＩ；ｐ−ジメチルアミノアミノ安息香酸エチル

【００７３】Ｇ．溶媒 メチルエチルケトン、ｎ−ブチルアルコールの９：１混
合溶媒

【００７４】Ｈ．可塑剤 ジブチルフタレート

【００７５】＜グリーンシートの製造＞ ａ．セラミックス粉末の紫外線吸光剤処理 セラミックス粉末、紫外線吸光剤及び分散剤（サンノプ
コ（株）社製ノプコスパース０９２）を所定の組成とな
るように添加し、エバポレーターで１時間撹拌し、紫外
線吸光剤をセラミックス粉末に分散させた。これを２５
０メッシュのフィルターで濾過後、１５０℃まで加熱し
て分散剤を蒸発、除去した。

【００７６】b ．有機ビヒクルの作製 溶媒およびポリマーバインダーを混合し、撹拌しながら
６０℃で加熱し、すべてのポリマを溶解させた。ついで
溶液を室温まで冷却し、光重合開始剤、光反応性化合
物、増感剤、可塑剤を加えて溶解させた。その後この溶
液を撹拌機で真空脱泡した後、２５０メッシュのフィル
ターで濾過し有機ビヒクルを作製した。

【００７７】c ．スラリー調製 スラリーの作製は上記のビヒクルに吸光剤処理したセラ
ミックス粉末を混合し、ボールミルで２０時間湿式混合
し、スラリーを調製した。調製した組成を表１に示す。

【００７８】d ．グリーンシートの作製 成形は紫外線を遮断した室内でポリエステルのキャリア
フィルムとブレードとの間隔を０．１〜０．８ｍｍと
し、成形速度０．２ｍ／ｍｉｎでドクターブレード法に
よって行った。得られたグリーンシートの膜厚を表１に
示す。

【００７９】e ．露光・現像 上記で作製したグリーンシートを１００ｍｍ角に切断し
た後、温度８０℃で１時間乾燥し、溶媒を蒸発させた。
次にビアホールピッチ０．３ｍｍのクロムマスクを用い
て、シートの両面から６．３ｍＷ／ｃｍ２の出力の高圧
水銀灯で紫外線露光した。次に２５℃に保持したモノエ
タノールアミンの０．５重量％水溶液により現像し、そ
の後スプレーを用いて光硬化していないビアホールを水
洗浄した。このときの露光量を表１に示す。

【００８０】f ．ビアホール断面の観察 上記で形成したビアホールの断面を走査型電子顕微鏡で
観察した。得られたシート表面上のビアホール径ｄ₁ お
よびシート厚み方向の孔径差が最大となるビアホール径
ｄ₂ を表１に示す。

【００８１】

【表１】

【００８２】

【発明の効果】本発明は上述の構成を有するため、ビア
ホールやスルーホールの形成が極めて容易にかつ精度良
くでき、しかも微細な孔を確実に安価に形成できる利点
がある。また、この発明により、従来問題とされたグリ
ーンシート厚み方向の孔径差がないビアホールが形成で
きるため、ビアホールピッチ０．３ｍｍ以下の高密度な
セラミック基板を形成できる。さらに、ビアホール内へ
の導体ペーストの埋め込みが容易になり、埋め込み不足
や抜け落ちがなくなる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｃ０４Ｂ 35/00 Ｇ // Ｃ０８Ｌ 101/00 １０８

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤および
   感光性樹脂を含有するセラミックス・グリーンシートの
   両面から露光してビアホールを形成することから成る、
   セラミックス・グリーンシートのビアホールの形成方
   法。
2. 【請求項２】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖
   にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリ
   ル系共重合体、光重合開始剤を含有するセラミックス・
   グリーンシートの両面から露光してビアホールを形成す
   ることから成る、セラミックス・グリーンシートのビア
   ホールの形成方法。
3. 【請求項３】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤および
   感光性樹脂を含有し、請求項１記載の方法により形成さ
   れたビアホールであってシート表面のビアホール径に対
   し厚み方向のビアホール径の最大値が孔径差で２５％以
   内であるビアホールを有するセラミックス・グリーンシ
   ート。
4. 【請求項４】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖
   にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリ
   ル系共重合体、光重合開始剤を含有し、請求項１記載の
   方法により形成されたビアホールであってシート表面の
   ビアホール径に対し厚み方向のビアホール径の最大値が
   孔径差で２５％以内であるビアホールを有するセラミッ
   クス・グリーンシート。
5. 【請求項５】 シート表面のビアホール径に対し厚み方
   向のビアホール径の最大値が孔径差で１０％以内である
   ビアホールを有する請求項３又は４記載のセラミックス
   ・グリーンシート。
6. 【請求項６】 アスペクト比が１〜４であり、かつビア
   ホールピッチが０．３ｍｍ以下である請求項３ないし５
   のいずれか１項に記載のセラミックス・グリーンシー
   ト。
7. 【請求項７】 シートの厚みが１００μｍ〜５００μｍ
   である請求項３ないし６のいずれか１項に記載のセラミ
   ックス・グリーンシート。
8. 【請求項８】 セラミックス粉末が、アルミナ、ジルコ
   ニア、マグネシア、ベリリア、ムライト、コーディライ
   ト、スピネル、フォルステライト、アノーサイト、セル
   ジアン、シリカおよび窒化アルミの群から選ばれた少な
   くとも一種であり、かつ平均１次粒子径が１〜１０μｍ
   である請求項３ないし７のいずれか１項に記載のセラミ
   ックス・グリーンシート。