JPH1039499A - 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 - Google Patents
光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 488nmまたは532nm付近の波長域で
書込が出来、解像度、感度の良好な画像を形成できる光
重合組成物、光開始剤、上記波長域の光により高感度に
発生するラジカル発生方法、上記の波長域に高い感光性
を有し、かつ保存安定性に優れた感光材料及びそれを用
いた平版印刷版の作成方法の提供。 【解決手段】 ラジカル発生剤及び下記一般式(1)、
(2)または(3)で表される色素を含有する光開始
剤。 〔式中、R1、R2は水素原子又は一価の置換基、Xは
酸素原子又は硫黄原子、L1、L2、L3、L4、L5
は窒素原子またはメチン基、B1、B2、B3は5員又
は6員の芳香族環残基又はヘテロ環残基を表す。〕
書込が出来、解像度、感度の良好な画像を形成できる光
重合組成物、光開始剤、上記波長域の光により高感度に
発生するラジカル発生方法、上記の波長域に高い感光性
を有し、かつ保存安定性に優れた感光材料及びそれを用
いた平版印刷版の作成方法の提供。 【解決手段】 ラジカル発生剤及び下記一般式(1)、
(2)または(3)で表される色素を含有する光開始
剤。 〔式中、R1、R2は水素原子又は一価の置換基、Xは
酸素原子又は硫黄原子、L1、L2、L3、L4、L5
は窒素原子またはメチン基、B1、B2、B3は5員又
は6員の芳香族環残基又はヘテロ環残基を表す。〕
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な増感色素とラ
ジカル発生剤を用いた光開始剤、光重合組成物、ラジカ
ル発生方法、平版印刷版作成用感光材料および平版印刷
版の作成方法、に関し、更に詳しくは、増感色素として
バルビツール酸又はチオバルビツール酸系のメチン、ア
ゾ、アゾメチンおよびジメチン増感色素とラジカル発生
剤を用いた光開始剤、ラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する化合物を可視光線の露光により短時間
に重合させ、例えば、インキ、感光性印刷版、フォトレ
ジスト、ダイレクト刷版材料、製版用プルーフ材料、ホ
ログラム材料、封止剤、接着剤、光造形材料等の分野に
おいて、良好な物性を持った硬化物を得るための光重合
組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料
および平版印刷版の作成方法に関する。
ジカル発生剤を用いた光開始剤、光重合組成物、ラジカ
ル発生方法、平版印刷版作成用感光材料および平版印刷
版の作成方法、に関し、更に詳しくは、増感色素として
バルビツール酸又はチオバルビツール酸系のメチン、ア
ゾ、アゾメチンおよびジメチン増感色素とラジカル発生
剤を用いた光開始剤、ラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する化合物を可視光線の露光により短時間
に重合させ、例えば、インキ、感光性印刷版、フォトレ
ジスト、ダイレクト刷版材料、製版用プルーフ材料、ホ
ログラム材料、封止剤、接着剤、光造形材料等の分野に
おいて、良好な物性を持った硬化物を得るための光重合
組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料
および平版印刷版の作成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体レーザ、YAGレーザは、
安定性、小型、メンテナンスの容易性などの点から、画
像記録用としてレーザとして用いられることが多くなっ
てきている。これらのレーザは低波長化がすすんでお
り、特に、YAG(1064nm)のSHGを用いたレ
ーザ(532nm)などが実用化されている。
安定性、小型、メンテナンスの容易性などの点から、画
像記録用としてレーザとして用いられることが多くなっ
てきている。これらのレーザは低波長化がすすんでお
り、特に、YAG(1064nm)のSHGを用いたレ
ーザ(532nm)などが実用化されている。
【0003】半導体レーザやYAGレーザなどのレーザ
を用いて像様露光を行うことでラジカル重合させて露光
部を硬化し、未露光部との物性を変化させて現像により
画像形成する方法が知られている。
を用いて像様露光を行うことでラジカル重合させて露光
部を硬化し、未露光部との物性を変化させて現像により
画像形成する方法が知られている。
【0004】画像形成を行うためにはレーザ光源の波長
に適した感材を選択する必要があり、ラジカル重合の開
始剤として、ラジカル発生剤は数多く研究されている
が、いずれも、単独では紫外部にしか吸収をもたないも
のが多く、通常は光源の波長にあわせた増感色素を組み
合わせて用いる。
に適した感材を選択する必要があり、ラジカル重合の開
始剤として、ラジカル発生剤は数多く研究されている
が、いずれも、単独では紫外部にしか吸収をもたないも
のが多く、通常は光源の波長にあわせた増感色素を組み
合わせて用いる。
【0005】488nmのアルゴンレーザや532nm
のW−YAGレーザの光源に対応した増感色素とラジカ
ル発生剤の組み合わせ(以下開始剤系)も、さまざまな
ものが知られている。
のW−YAGレーザの光源に対応した増感色素とラジカ
ル発生剤の組み合わせ(以下開始剤系)も、さまざまな
ものが知られている。
【0006】たとえば、米国特許第2,850,445
号にはある種の光還元性染料が効果的な増感色素として
記載されている。また、特公昭44−20189号には
染料とアミンの複合開始系、特公昭45−37377号
にはビイミダゾールとラジカル発生剤および染料の系、
特公昭47−2528号、特開昭54−155292号
にはビイミダゾールとジアルキルアミノベンジリデンケ
トンの系、特開昭58−15503号にはケト置換クマ
リン化合物と活性ハロゲン化物の系、特開昭54−15
102号には置換トリアジンとメロシアニン色素の系が
提案されているが、いずれも、感度が低く、保存性が悪
いなどの問題があった。
号にはある種の光還元性染料が効果的な増感色素として
記載されている。また、特公昭44−20189号には
染料とアミンの複合開始系、特公昭45−37377号
にはビイミダゾールとラジカル発生剤および染料の系、
特公昭47−2528号、特開昭54−155292号
にはビイミダゾールとジアルキルアミノベンジリデンケ
トンの系、特開昭58−15503号にはケト置換クマ
リン化合物と活性ハロゲン化物の系、特開昭54−15
102号には置換トリアジンとメロシアニン色素の系が
提案されているが、いずれも、感度が低く、保存性が悪
いなどの問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の問
題点を改良すべく為されたものである。即ち、本発明の
第1の目的は、488nmまたは532nm付近で書込
が出来、解像度、感度の良好な画像を形成できる光重合
組成物を提供することにある。本発明の第2の目的は、
保存性の良好な光重合組成物の提供にある。本発明の第
3の目的は、488nmまたは532nm付近の光によ
り高感度にラジカルを発生するラジカル発生方法の提供
にある。第4の目的は488nmまたは532nm付近
の波長域に高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた
平版印刷版作成用の感光材料及びそれを用いた平版印刷
版の作成方法を提供することにある。第5の目的は高感
度の光開始剤を提供することにある。
題点を改良すべく為されたものである。即ち、本発明の
第1の目的は、488nmまたは532nm付近で書込
が出来、解像度、感度の良好な画像を形成できる光重合
組成物を提供することにある。本発明の第2の目的は、
保存性の良好な光重合組成物の提供にある。本発明の第
3の目的は、488nmまたは532nm付近の光によ
り高感度にラジカルを発生するラジカル発生方法の提供
にある。第4の目的は488nmまたは532nm付近
の波長域に高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた
平版印刷版作成用の感光材料及びそれを用いた平版印刷
版の作成方法を提供することにある。第5の目的は高感
度の光開始剤を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、特定のバルビツール酸又はチオバルビツール酸メ
チン系、バルビツール酸又はチオバルビツール酸アゾ
系、バルビツール酸又はチオバルビツール酸アゾメチン
系並びにバルビツール酸又はチオバルビツール酸ジメチ
ン系色素を従来用いられているラジカル発生剤と組み合
わせた488nmまたは532nmの可視光を吸収しラ
ジカル発生能を有する開始剤系が、高感度でかつ保存性
すぐれるという予期せざる結果を見い出し本発明を完成
するに至った。
結果、特定のバルビツール酸又はチオバルビツール酸メ
チン系、バルビツール酸又はチオバルビツール酸アゾ
系、バルビツール酸又はチオバルビツール酸アゾメチン
系並びにバルビツール酸又はチオバルビツール酸ジメチ
ン系色素を従来用いられているラジカル発生剤と組み合
わせた488nmまたは532nmの可視光を吸収しラ
ジカル発生能を有する開始剤系が、高感度でかつ保存性
すぐれるという予期せざる結果を見い出し本発明を完成
するに至った。
【0009】本発明の上記目的は以下の構成により達成
される。
される。
【0010】1.ラジカル発生剤及び下記一般式
(1)、(2)または(3)で表される色素を含有する
ことを特徴とする光開始剤。
(1)、(2)または(3)で表される色素を含有する
ことを特徴とする光開始剤。
【0011】
【化2】
【0012】式中、R1、R2は水素原子又は一価の置
換基を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、L1、
L2、L3、L4、L5は窒素原子またはメチン基を表し、
B1、B2、B3は5員又は6員の芳香族環残基又はヘテ
ロ環残基を表す。
換基を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、L1、
L2、L3、L4、L5は窒素原子またはメチン基を表し、
B1、B2、B3は5員又は6員の芳香族環残基又はヘテ
ロ環残基を表す。
【0013】2.重合促進剤としてアミン化合物又はイ
オウ化合物を含有することを特徴とする前記1に記載の
光開始剤。
オウ化合物を含有することを特徴とする前記1に記載の
光開始剤。
【0014】3.エチレン性不飽和結合を有する化合物
及び前記1又は2に記載の光開始剤を含有することを特
徴とする光重合組成物。
及び前記1又は2に記載の光開始剤を含有することを特
徴とする光重合組成物。
【0015】4.ラジカル発生剤が有機過酸化物、オニ
ウム塩、ハロゲン化トリアジン、鉄アレーン錯体、ビス
イミダゾール、チタノセン化合物又は有機過酸化物体か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴と
する前記1又は2に記載の光開始剤。
ウム塩、ハロゲン化トリアジン、鉄アレーン錯体、ビス
イミダゾール、チタノセン化合物又は有機過酸化物体か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴と
する前記1又は2に記載の光開始剤。
【0016】5.ラジカル発生剤が有機過酸化物、オニ
ウム塩、ハロゲン化トリアジン、鉄アレーン錯体、ビス
イミダゾール、チタノセン化合物又は有機過酸化物体か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴と
する前記3に記載の光重合組成物。
ウム塩、ハロゲン化トリアジン、鉄アレーン錯体、ビス
イミダゾール、チタノセン化合物又は有機過酸化物体か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴と
する前記3に記載の光重合組成物。
【0017】6.チタノセン化合物及び前記一般式
(2)または一般式(3)で表される色素を含有するこ
とを特徴とする光開始剤。
(2)または一般式(3)で表される色素を含有するこ
とを特徴とする光開始剤。
【0018】7.チタノセン化合物及び前記一般式
(2)または一般式(3)で表される色素を含有するこ
とを特徴とする光重合組成物。
(2)または一般式(3)で表される色素を含有するこ
とを特徴とする光重合組成物。
【0019】8.前記1〜4の何れか1項に記載の光開
始剤を488nmまたは532nmの波長のレーザー光
で露光することを特徴とするラジカル発生方法 。
始剤を488nmまたは532nmの波長のレーザー光
で露光することを特徴とするラジカル発生方法 。
【0020】9.親水性支持体上に少なくとも感光性層
及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感
光材料において、該感光性層はエチレン性不飽和結合を
少なくとも1つ有する化合物、バインダー成分、前記
3、5又は7に記載の光重合組成物を含有していること
を特徴とする平版印刷版作成用感光材料。
及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感
光材料において、該感光性層はエチレン性不飽和結合を
少なくとも1つ有する化合物、バインダー成分、前記
3、5又は7に記載の光重合組成物を含有していること
を特徴とする平版印刷版作成用感光材料。
【0021】10.親水性支持体上に少なくとも感光性
層及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用
感光材料であり、該感光性層はエチレン性不飽和結合を
少なくとも1つ有する化合物、バインダー成分、前記
3、5又は7に記載の光重合組成物を含有していること
を特徴とする平版印刷版作成用感光性材料を用いる平版
印刷版の作成方法において、該感光層に488nm又は
532nmの波長のレーザー光で像様に走査露光を行な
った後、保護層及び感光性層の未露光部を溶出除去する
ことを特徴とする平版印刷版の作成方法。
層及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用
感光材料であり、該感光性層はエチレン性不飽和結合を
少なくとも1つ有する化合物、バインダー成分、前記
3、5又は7に記載の光重合組成物を含有していること
を特徴とする平版印刷版作成用感光性材料を用いる平版
印刷版の作成方法において、該感光層に488nm又は
532nmの波長のレーザー光で像様に走査露光を行な
った後、保護層及び感光性層の未露光部を溶出除去する
ことを特徴とする平版印刷版の作成方法。
【0022】以下、本発明を更に詳細に述べる。
【0023】まず、前記一般式(1)、(2)及び
(3)で表される増感色素について詳述する。
(3)で表される増感色素について詳述する。
【0024】一般式(1)、(2)及び(3)中の
B1、B2およびB3は5員、6員の2価の芳香族環残基
又はヘテロ環残基を表し、具体的には下記一般式(4)
で表される。
B1、B2およびB3は5員、6員の2価の芳香族環残基
又はヘテロ環残基を表し、具体的には下記一般式(4)
で表される。
【0025】
【化3】
【0026】一般式(4)において、R17は各々水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、−O
R18、−SR18、−NR19R20を表し、R18、R19、R
20は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Y
は酸素原子又は硫黄原子を表し、pは0〜4の整数を表
し、qは0〜3の整数を表し、rは0〜2の整数を表
す。p、q、rがそれぞれ2以上の時、複数あるR17は
それぞれ同じでも異なってもよく、また環を形成しても
良い。
子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、−O
R18、−SR18、−NR19R20を表し、R18、R19、R
20は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Y
は酸素原子又は硫黄原子を表し、pは0〜4の整数を表
し、qは0〜3の整数を表し、rは0〜2の整数を表
す。p、q、rがそれぞれ2以上の時、複数あるR17は
それぞれ同じでも異なってもよく、また環を形成しても
良い。
【0027】一般式(1)、(2)、(3)及び(4)
におけるR1、R2、R17、R18、R19、R20で表される
アルキル基としては、炭素数1〜12の鎖状又は環状の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、ベンジル、フェ
ネチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘ
キシル、オクチル、ノニル、シクロプロピル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル等の各基)が好ましく、置換基
を有していてもよい。
におけるR1、R2、R17、R18、R19、R20で表される
アルキル基としては、炭素数1〜12の鎖状又は環状の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、ベンジル、フェ
ネチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘ
キシル、オクチル、ノニル、シクロプロピル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル等の各基)が好ましく、置換基
を有していてもよい。
【0028】R1、R2、R17、R18、R19、R20で表さ
れるアリール基は、炭素数6〜12のアリール基(例え
ば、フェニル、ナフチル)が好ましく、置換基を有して
いてもよい。
れるアリール基は、炭素数6〜12のアリール基(例え
ば、フェニル、ナフチル)が好ましく、置換基を有して
いてもよい。
【0029】R1、R2で表される複素環残基は、5又は
6員の複素環残基(例えば、オキサゾリル環、ベンゾオ
キサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジ
ン環、フラン環、チオフエン環、スルホラン環、ビラゾ
ール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等の残
基)が好ましく、置換基を有していてもよい。
6員の複素環残基(例えば、オキサゾリル環、ベンゾオ
キサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジ
ン環、フラン環、チオフエン環、スルホラン環、ビラゾ
ール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等の残
基)が好ましく、置換基を有していてもよい。
【0030】R1、R2で表されるアルケニル基は、炭素
数2〜12のアルケニル基(例えば、ビニル、アリル、
1−プロペニル、2−ペンテニル、1,3−ブタジエニ
ル等の各基)が好ましい。
数2〜12のアルケニル基(例えば、ビニル、アリル、
1−プロペニル、2−ペンテニル、1,3−ブタジエニ
ル等の各基)が好ましい。
【0031】L1、L2、L3、L4、L5は窒素原子また
はメチン基を表し、該メチン基は、無置換でも置換して
いても良い。
はメチン基を表し、該メチン基は、無置換でも置換して
いても良い。
【0032】上記した各基が有していてもよい置換基
は、例えば、カルボン酸基、炭素数1〜12のスルホン
アミド基(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンス
ルホンアミド、ブタンスルホンアミド、n−オクタンス
ルホンアミド等の各基)、炭素数0〜12のスルファモ
イル基(例えば、無置換のスルファモイル、メチルスル
ファモイル、フェニルスルファモイル、ブチルスルファ
モイル等の各基)、炭素数2〜12のスルホニルカルバ
モイル基(例えば、メタンスルホニルカルバモイル、プ
ロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスルホニルカ
ルバモイル等の各基)、炭素数1〜12のアシルスルフ
ァモイル基(例えば、アセチルスルファモイル、プロピ
オニルスルファモイル、ピバロイルスルファモイル、ベ
ンゾイルスルファモイル等の各基)、炭素数1〜12の
鎖状又は環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、
イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、2−ヒドロキシエチ
ル、4−カルボキシブチル、2−メトキシエチル、ベン
ジル、フェネチル、4−カルボキシベンジル、2−ジエ
チルアミノエチル等の各基)、炭素数2〜12のアルケ
ニル(例えば、ビニル、アクリル等の各基)、炭素数1
〜12のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
ブトキシ等の各基)、ハロゲン原子(例えば、F、C
l、Br等の各原子)、炭素数0〜12のアミノ基(例
えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、カルボキシエチルアミノ等の各基)、炭素数2〜1
2のエステル基(例えば、メトキシカルボニル基)、炭
素数l〜12のアミド基(例えば、アセチルアミノ、ペ
ンズアミド等の各基)、炭素数1〜12のカルバモイル
基(例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイ
ル、エチルカルバモイル等の各基)、炭素数6〜12の
アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、4−カルボ
キシフェニル、3−カルボキシフェニル、3,5−ジカ
ルボキシフェニル、4−メタンスルホンアミドフェニ
ル、4−ブタンスルホンアミドフェニル等の各基)、炭
素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ、4−カルボキシフェノキシ、4−メチルフェノキ
シ、ナフトキシ等の各基)、炭素数1〜8のアルキルチ
オ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ
等の各基)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等の各基)、炭素数1
〜10のアシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、プ
ロパノイル等の各基)、炭素数1〜10のスルホニル基
(例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等の
各基)、炭素数1〜10のウレイド基(例えば、ウレイ
ド、メチルウレイド等の各基)、炭素数2〜10のウレ
タン基(例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシ
カルボニルアミノ等の各基)、シアノ基、水酸基、ニト
ロ基、複素環残基(例えば、5−カルボキシベンゾオキ
サゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピ
ロール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、ピリミジン環等の残基)等を挙げることができる。
は、例えば、カルボン酸基、炭素数1〜12のスルホン
アミド基(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンス
ルホンアミド、ブタンスルホンアミド、n−オクタンス
ルホンアミド等の各基)、炭素数0〜12のスルファモ
イル基(例えば、無置換のスルファモイル、メチルスル
ファモイル、フェニルスルファモイル、ブチルスルファ
モイル等の各基)、炭素数2〜12のスルホニルカルバ
モイル基(例えば、メタンスルホニルカルバモイル、プ
ロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスルホニルカ
ルバモイル等の各基)、炭素数1〜12のアシルスルフ
ァモイル基(例えば、アセチルスルファモイル、プロピ
オニルスルファモイル、ピバロイルスルファモイル、ベ
ンゾイルスルファモイル等の各基)、炭素数1〜12の
鎖状又は環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、
イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、2−ヒドロキシエチ
ル、4−カルボキシブチル、2−メトキシエチル、ベン
ジル、フェネチル、4−カルボキシベンジル、2−ジエ
チルアミノエチル等の各基)、炭素数2〜12のアルケ
ニル(例えば、ビニル、アクリル等の各基)、炭素数1
〜12のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
ブトキシ等の各基)、ハロゲン原子(例えば、F、C
l、Br等の各原子)、炭素数0〜12のアミノ基(例
えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、カルボキシエチルアミノ等の各基)、炭素数2〜1
2のエステル基(例えば、メトキシカルボニル基)、炭
素数l〜12のアミド基(例えば、アセチルアミノ、ペ
ンズアミド等の各基)、炭素数1〜12のカルバモイル
基(例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイ
ル、エチルカルバモイル等の各基)、炭素数6〜12の
アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、4−カルボ
キシフェニル、3−カルボキシフェニル、3,5−ジカ
ルボキシフェニル、4−メタンスルホンアミドフェニ
ル、4−ブタンスルホンアミドフェニル等の各基)、炭
素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ、4−カルボキシフェノキシ、4−メチルフェノキ
シ、ナフトキシ等の各基)、炭素数1〜8のアルキルチ
オ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ
等の各基)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等の各基)、炭素数1
〜10のアシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、プ
ロパノイル等の各基)、炭素数1〜10のスルホニル基
(例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等の
各基)、炭素数1〜10のウレイド基(例えば、ウレイ
ド、メチルウレイド等の各基)、炭素数2〜10のウレ
タン基(例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシ
カルボニルアミノ等の各基)、シアノ基、水酸基、ニト
ロ基、複素環残基(例えば、5−カルボキシベンゾオキ
サゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピ
ロール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、ピリミジン環等の残基)等を挙げることができる。
【0033】次に本発明の増感色素の化合物例を挙げ
る。
る。
【0034】
【化4】
【0035】
【化5】
【0036】
【化6】
【0037】本発明の増感色素は従来公知の方法により
準じて合成できるが以下に合成例を挙げる。
準じて合成できるが以下に合成例を挙げる。
【0038】合成例1(例示色素D−5の合成)
【0039】
【化7】
【0040】エタノール30ml中にN,N′−ジエチ
ルバルビツール酸1.84g(化合物(1))とN,
N′−ジメチルチオフェンアルデヒド(化合物(2))
1.71gを入れ、加熱還流下1時間撹拌した。析出物
を濾取し、エタノール-アセトンで洗浄し、乾燥して例
示色素D−5を2.18gを得た。nmr、massス
ペクトルにより目的物であることを確認した。
ルバルビツール酸1.84g(化合物(1))とN,
N′−ジメチルチオフェンアルデヒド(化合物(2))
1.71gを入れ、加熱還流下1時間撹拌した。析出物
を濾取し、エタノール-アセトンで洗浄し、乾燥して例
示色素D−5を2.18gを得た。nmr、massス
ペクトルにより目的物であることを確認した。
【0041】合成例2(例示色素D−22の合成)
【0042】
【化8】
【0043】100mlナスフラスコ中に2−メチル−
5−エトキシベンズチアゾール20gとトシル酸n−プ
ロピルをいれ150℃で1時間加熱撹拌した。一晩放置
して放冷後、アセトンを加えて結析し、化合物(3)を
40g得た。化合物(3)40gとジフェニルホルムア
ミジン22gを200mlのナスフラスコに入れ、13
0℃で10分間加熱撹拌した。次に無水酢酸60mlを
加え、さらに10分間加熱撹拌した。放冷後、イソプロ
ピルエーテル中に反応液を加えて、生じた沈殿を濾取し
て化合物(4)を16g得た。
5−エトキシベンズチアゾール20gとトシル酸n−プ
ロピルをいれ150℃で1時間加熱撹拌した。一晩放置
して放冷後、アセトンを加えて結析し、化合物(3)を
40g得た。化合物(3)40gとジフェニルホルムア
ミジン22gを200mlのナスフラスコに入れ、13
0℃で10分間加熱撹拌した。次に無水酢酸60mlを
加え、さらに10分間加熱撹拌した。放冷後、イソプロ
ピルエーテル中に反応液を加えて、生じた沈殿を濾取し
て化合物(4)を16g得た。
【0044】100mlナスフラスコ中に化合物(4)
6.0g、N−ノルマルブチル−N−(3−メトキシ)
エチルバルビツール酸(化合物(5))3.1g、ピリ
ジン20ml、トリエチルアミン1mlを加えて加熱撹
拌し、次に無水酢酸3mlを加えた。100℃で30分
間加熱撹拌した後、反応液を1規定塩酸水溶液100m
lに加え、酢酸エチル80mlで抽出した。この酢酸エ
チル相を10%重曹水溶液で洗浄した後、減圧濃縮し、
生じた沈殿を濾取した。アセトニトリルから再結晶し、
3.0gの例示色素D−22を得た。nmr、mass
スペクトルにより目的物であることを確認した。
6.0g、N−ノルマルブチル−N−(3−メトキシ)
エチルバルビツール酸(化合物(5))3.1g、ピリ
ジン20ml、トリエチルアミン1mlを加えて加熱撹
拌し、次に無水酢酸3mlを加えた。100℃で30分
間加熱撹拌した後、反応液を1規定塩酸水溶液100m
lに加え、酢酸エチル80mlで抽出した。この酢酸エ
チル相を10%重曹水溶液で洗浄した後、減圧濃縮し、
生じた沈殿を濾取した。アセトニトリルから再結晶し、
3.0gの例示色素D−22を得た。nmr、mass
スペクトルにより目的物であることを確認した。
【0045】次にラジカル発生剤について説明する。
【0046】ラジカル発生剤として、好ましくはハロゲ
ン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチル
トリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合
物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノ
ン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフ
ィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物、過酸化物、鉄アレーン錯体、チタノセン化合
物などが挙げられる。
ン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチル
トリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合
物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノ
ン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフ
ィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物、過酸化物、鉄アレーン錯体、チタノセン化合
物などが挙げられる。
【0047】過酸化物としては、特開昭59−1504
号ならびに特開昭61−240807号記載の有機過酸
化物を用いることができる。
号ならびに特開昭61−240807号記載の有機過酸
化物を用いることができる。
【0048】具体的な化合物としては、メチルエチルケ
トンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキ
サイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシク
ロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノン
パーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド、アセ
チルパーオキサイド、プロピオニルパーオキサイド、イ
ソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイ
ド、3,5,5−トリメチルヘキサノイル、デカノイル
パーオキサイド、ウラロイルパーオキサイド、ベンゾイ
ルパーキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロ
ロベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、アセチルシクロヘキサンスルホニ
ルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類、t
ert−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパ
ーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキ
サイド、p−メタンヒドロパーオキサイド、2,5−ジ
メチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、
1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサ
イドなどのヒドロパーオキサイド類、ジ−tert−ブ
チルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキ
サイド、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシイ
ソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサン、n−ブチル−4,4′−ビス(te
rt−ブチルパーオキシ)ブタンなどのパーオキシケタ
ール類、tert−ブチルパーオキシアセテート、te
rt−ブチルパーオキシイソブチレート、tert−ブ
チルパーオキシオクトエート、tert−ブチルパーオ
キシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカ
ネート、tert−ブチルパーオキシ−3,5,5−ト
リメチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシ
ベンゾエートジ−tert−ブチルパーオキシフタレー
ト、tert−ブチルパーオキシイソフタレート、te
rt−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル
−2,5−ジベンゾイルパーオキシヘキサンなどのアル
キルパーエステル類、ジ−2−エチルヘキシルパーオキ
シジカーボネート、ジーイソプロピルパーオキシジカー
ボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネー
ト、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジー
メトキシイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−2
−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ビス−
(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジ
カーボネートなどのパーオキシカーボネート類、コハク
酸パーオキシキサイドに代表される水溶性パーオキサイ
ド類が挙げられる。
トンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキ
サイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシク
ロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノン
パーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド、アセ
チルパーオキサイド、プロピオニルパーオキサイド、イ
ソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイ
ド、3,5,5−トリメチルヘキサノイル、デカノイル
パーオキサイド、ウラロイルパーオキサイド、ベンゾイ
ルパーキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロ
ロベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、アセチルシクロヘキサンスルホニ
ルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類、t
ert−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパ
ーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキ
サイド、p−メタンヒドロパーオキサイド、2,5−ジ
メチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、
1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサ
イドなどのヒドロパーオキサイド類、ジ−tert−ブ
チルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキ
サイド、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシイ
ソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサン、n−ブチル−4,4′−ビス(te
rt−ブチルパーオキシ)ブタンなどのパーオキシケタ
ール類、tert−ブチルパーオキシアセテート、te
rt−ブチルパーオキシイソブチレート、tert−ブ
チルパーオキシオクトエート、tert−ブチルパーオ
キシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカ
ネート、tert−ブチルパーオキシ−3,5,5−ト
リメチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシ
ベンゾエートジ−tert−ブチルパーオキシフタレー
ト、tert−ブチルパーオキシイソフタレート、te
rt−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル
−2,5−ジベンゾイルパーオキシヘキサンなどのアル
キルパーエステル類、ジ−2−エチルヘキシルパーオキ
シジカーボネート、ジーイソプロピルパーオキシジカー
ボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネー
ト、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジー
メトキシイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−2
−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ビス−
(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジ
カーボネートなどのパーオキシカーボネート類、コハク
酸パーオキシキサイドに代表される水溶性パーオキサイ
ド類が挙げられる。
【0049】好ましくは、特に、下記の構造の有機過酸
化物を用いることができる。
化物を用いることができる。
【0050】
【化9】
【0051】本発明で好ましく用いることができる鉄ア
レーン錯体としては下記の構造のものがあげられる。
レーン錯体としては下記の構造のものがあげられる。
【0052】
【化10】
【0053】本発明で好ましく用いることができるチタ
ノセン化合物としては、特に限定されないが、例えば特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号各公報等に記載されている各種チタノセン化合物から
適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ
シクロペンタジエニル−Ti−ジクロライド、ジシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタ
フルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−
1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−
1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオ
ロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエニル−Ti−
ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イ
ル、ジメチルペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ
フルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イ
ル)−フェニ−1−イル(以下、Ti−1という) これらの中で、特に好ましいものは、下記の構造である
Ti−1である。
ノセン化合物としては、特に限定されないが、例えば特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号各公報等に記載されている各種チタノセン化合物から
適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ
シクロペンタジエニル−Ti−ジクロライド、ジシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタ
フルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−
1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−
1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオ
ロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエニル−Ti−
ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イ
ル、ジメチルペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ
フルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イ
ル)−フェニ−1−イル(以下、Ti−1という) これらの中で、特に好ましいものは、下記の構造である
Ti−1である。
【0054】
【化11】
【0055】本発明では以下のオニウム塩を好ましく用
いることができる。
いることができる。
【0056】オニウム塩としては、ヨードニウム塩、ス
ルフォニウム塩、ホスフォニウム塩、スタンノニウム塩
などがあげられる。
ルフォニウム塩、ホスフォニウム塩、スタンノニウム塩
などがあげられる。
【0057】特公昭55−39162号、特開昭59−
14023号及び「マクロモレキュルス(Macrom
olecules)、第10巻、第1307頁(197
7年)記載の各種オニウム化合物を用いることができ
る。ヨードニウム塩としては、好ましくは、ジアリール
ヨードニウム塩を用いることもできる。
14023号及び「マクロモレキュルス(Macrom
olecules)、第10巻、第1307頁(197
7年)記載の各種オニウム化合物を用いることができ
る。ヨードニウム塩としては、好ましくは、ジアリール
ヨードニウム塩を用いることもできる。
【0058】また、オニウム塩としては、ジフェニルヨ
ードニウム塩、ジトリルヨードニウム塩、フェニル(p
−メトキシフェニル)ヨードニウム塩、ビス(m−ニト
ロフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−tert−ブ
チルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−シアノフェ
ニル)ヨードニウム塩等のクロリド、ブロミド、四フッ
化ホウ素塩、六フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フ
ッ化ヒ素塩、六フッ化アントモン塩、過塩素酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、p−ト
リフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩、n−ブチルト
リフェニルホウ素塩等も挙げられる。
ードニウム塩、ジトリルヨードニウム塩、フェニル(p
−メトキシフェニル)ヨードニウム塩、ビス(m−ニト
ロフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−tert−ブ
チルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−シアノフェ
ニル)ヨードニウム塩等のクロリド、ブロミド、四フッ
化ホウ素塩、六フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フ
ッ化ヒ素塩、六フッ化アントモン塩、過塩素酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、p−ト
リフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩、n−ブチルト
リフェニルホウ素塩等も挙げられる。
【0059】本発明では2,4,5−トリアリールイミ
ダゾール2量体を好ましく用いることができる。
ダゾール2量体を好ましく用いることができる。
【0060】特開昭55−127550号、特開昭60
−202437号に記載されている下記の構造のものを
用いることが好ましい。
−202437号に記載されている下記の構造のものを
用いることが好ましい。
【0061】
【化12】
【0062】本発明のラジカル発生剤の添加量は、ラジ
カル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、エチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物100重
量部に対して0.01〜10重量部が好ましい。
カル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、エチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物100重
量部に対して0.01〜10重量部が好ましい。
【0063】支持体としては、紙、合成紙(たとえばポ
リプロピレンを主成分とする合成紙)、樹脂のフィルム
あるいはシート、さらには樹脂を2層以上積層してなる
プラスチックフィルムまたはシート、あるいは各種高分
子材料、金属、セラミックもしくは木材パルプやセルロ
ースパルプ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等
に、樹脂層を積層したフィルムまたはシートなどを挙げ
ることができる。
リプロピレンを主成分とする合成紙)、樹脂のフィルム
あるいはシート、さらには樹脂を2層以上積層してなる
プラスチックフィルムまたはシート、あるいは各種高分
子材料、金属、セラミックもしくは木材パルプやセルロ
ースパルプ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等
に、樹脂層を積層したフィルムまたはシートなどを挙げ
ることができる。
【0064】このような樹脂のフィルムあるいはシート
を構成する樹脂としては、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイ
ロン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルス
ルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバ
ン酸、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フッ
素樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
を構成する樹脂としては、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイ
ロン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルス
ルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバ
ン酸、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フッ
素樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
【0065】本発明を平版印刷版作成用として用いる場
合の感光性層を設ける支持体としては、アルミニウム、
亜鉛、銅、鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、アルミニウム、鉄等がメッキまたは蒸着された
金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂
が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた
紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられ
る。これらの内好ましいのは、アルミニウム板である。
本発明の支持体としては、砂目立て処理、陽極酸化処理
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されたアル
ミニウム板を用いることがより好ましい。これらの処理
には公知の方法を用いることができる。砂目立て処理の
方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチ
ングする方法が挙げられる。機械的方法としては、例え
ば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによ
る研磨法、バフ研磨法が挙げられる。アルミニウム材の
組成等に応じて上述の各種方法を単独あるいは組合せて
用いることができる。好ましいのは、電解エッチングに
よる方法である。
合の感光性層を設ける支持体としては、アルミニウム、
亜鉛、銅、鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、アルミニウム、鉄等がメッキまたは蒸着された
金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂
が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた
紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられ
る。これらの内好ましいのは、アルミニウム板である。
本発明の支持体としては、砂目立て処理、陽極酸化処理
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されたアル
ミニウム板を用いることがより好ましい。これらの処理
には公知の方法を用いることができる。砂目立て処理の
方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチ
ングする方法が挙げられる。機械的方法としては、例え
ば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによ
る研磨法、バフ研磨法が挙げられる。アルミニウム材の
組成等に応じて上述の各種方法を単独あるいは組合せて
用いることができる。好ましいのは、電解エッチングに
よる方法である。
【0066】電解エッチングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝
酸等の酸の単独ないし2種以上混合した浴で行われる。
砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の
水溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗す
る。
酸等の酸の単独ないし2種以上混合した浴で行われる。
砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の
水溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗す
る。
【0067】陽極酸化処理には、電解液として、硫酸、
クロム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用いアルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg
/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/d
m2である。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム
板を燐酸クロム酸溶液に浸積し、酸化皮膜を溶解し、板
の皮膜溶解前後の重量変化測定等から求められる。
クロム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用いアルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg
/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/d
m2である。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム
板を燐酸クロム酸溶液に浸積し、酸化皮膜を溶解し、板
の皮膜溶解前後の重量変化測定等から求められる。
【0068】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体例
として挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対
して、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン等の金属
塩水溶液による下引処理を施すこともできる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体例
として挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対
して、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン等の金属
塩水溶液による下引処理を施すこともできる。
【0069】支持体の厚さは通常3〜1000μmがよ
く、8〜300μmがより好ましい。
く、8〜300μmがより好ましい。
【0070】感光層に用いられるバインダー樹脂として
は、公知の種々のポリマーを使用することができる。具
体的なバインダーの詳細は、米国特許4,072,52
7号に記載されており、より好ましくは特開昭54−9
8613号公報に記載されているような芳香族性水酸基
をを有する単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)
メタクリルアミド、o−、m−、又はp−ヒドロキシス
チレン、o−、m−、又はp−ヒドロキシフェニルメタ
クリレート等と他の単量体との共重合物、米国特許第
4,123,276号明細書中に記載されているような
ヒドロキシエチルアクリレート単位又はヒドロキシエチ
ルメタクリレートを含むポリマー、シェラック、ロジン
等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,
751,257号明細書中に記載されているようなポリ
アミド樹脂、米国特許第3,660,097号明細書中
に記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポリビ
ニルアルコールのフタレー化樹脂、ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸
セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセル
ロース樹脂が挙げられる。
は、公知の種々のポリマーを使用することができる。具
体的なバインダーの詳細は、米国特許4,072,52
7号に記載されており、より好ましくは特開昭54−9
8613号公報に記載されているような芳香族性水酸基
をを有する単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)
メタクリルアミド、o−、m−、又はp−ヒドロキシス
チレン、o−、m−、又はp−ヒドロキシフェニルメタ
クリレート等と他の単量体との共重合物、米国特許第
4,123,276号明細書中に記載されているような
ヒドロキシエチルアクリレート単位又はヒドロキシエチ
ルメタクリレートを含むポリマー、シェラック、ロジン
等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,
751,257号明細書中に記載されているようなポリ
アミド樹脂、米国特許第3,660,097号明細書中
に記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポリビ
ニルアルコールのフタレー化樹脂、ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸
セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセル
ロース樹脂が挙げられる。
【0071】バインダー樹脂としては前述の樹脂の中か
ら、1種または2種以上のものを組み合わせて用いるこ
とができる。
ら、1種または2種以上のものを組み合わせて用いるこ
とができる。
【0072】中でも塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニ
ル共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリ
ロニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好まし
い。
ル共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリ
ロニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好まし
い。
【0073】これらのバインダーは、1種又は2種以上
を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分
散の形で使用してもよい。バインダーの使用量として
は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、又、単層構
成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体1
m2当たり1.0〜20gが好ましい。
を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分
散の形で使用してもよい。バインダーの使用量として
は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、又、単層構
成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体1
m2当たり1.0〜20gが好ましい。
【0074】次にエチレン性不飽和結合を有する化合物
について詳述する。
について詳述する。
【0075】本発明のエチレン性不飽和二重結合を有す
る化合物とは、光重合性組成物が活性光線の照射を受け
た場合、光開始剤の作用により付加重合し、硬化するよ
うなエチレン性不飽和二重結合であって、例えば該エチ
レン性不飽和二重結合の単量体、又は側鎖もしくは主鎖
にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体である。
尚、本発明における単量体の意味するところは、所謂高
分子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量
体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するもの
である。
る化合物とは、光重合性組成物が活性光線の照射を受け
た場合、光開始剤の作用により付加重合し、硬化するよ
うなエチレン性不飽和二重結合であって、例えば該エチ
レン性不飽和二重結合の単量体、又は側鎖もしくは主鎖
にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体である。
尚、本発明における単量体の意味するところは、所謂高
分子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量
体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するもの
である。
【0076】重合可能な化合物としては公知のモノマー
が特に制限なく使用することができる。具体的モノマー
としては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステルおよ
びその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリ
レート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に
代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノ
ールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリ
レート等の2官能アクリル酸エステルおよびその誘導体
あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタ
コネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合
物、あるいはトリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロ
ガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステ
ルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメ
タクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエー
ト等に代えた化合物等を挙げることができる。
が特に制限なく使用することができる。具体的モノマー
としては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステルおよ
びその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリ
レート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に
代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノ
ールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリ
レート等の2官能アクリル酸エステルおよびその誘導体
あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタ
コネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合
物、あるいはトリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロ
ガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステ
ルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメ
タクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエー
ト等に代えた化合物等を挙げることができる。
【0077】また適当な分子量のオリゴマーにアクリル
酸、またはメタアクリル酸を導入し、光重合性を付与し
た、いわゆるプレポリマーと呼ばれるものも好適に使用
できる。
酸、またはメタアクリル酸を導入し、光重合性を付与し
た、いわゆるプレポリマーと呼ばれるものも好適に使用
できる。
【0078】この他に特開昭58−212994号、同
61−6649号、同62−46688号、同62−4
8589号、同62−173295号、同62−187
092号、同63−67189号、特開平1−2448
91号公報等に記載の化合物などを挙げることができ、
さらに「11290の化学商品」化学工業日報社、p.
286〜p.294に記載の化合物、「UV・EB硬化
ハンドブック(原料編)」高分子刊行会、p.11〜6
5に記載の化合物なども本発明においては好適に用いる
ことができる。
61−6649号、同62−46688号、同62−4
8589号、同62−173295号、同62−187
092号、同63−67189号、特開平1−2448
91号公報等に記載の化合物などを挙げることができ、
さらに「11290の化学商品」化学工業日報社、p.
286〜p.294に記載の化合物、「UV・EB硬化
ハンドブック(原料編)」高分子刊行会、p.11〜6
5に記載の化合物なども本発明においては好適に用いる
ことができる。
【0079】これらの中で、分子内に2個以上のアクリ
ル基またはメタクリル基を有する化合物が本発明におい
ては好ましく、さらに分子量が10,000以下、より
好ましくは5,000以下のものが好ましい。また本発
明ではこれらのモノマーあるいはプレポリマーのうち1
種または2種以上を混合して用いることができる。
ル基またはメタクリル基を有する化合物が本発明におい
ては好ましく、さらに分子量が10,000以下、より
好ましくは5,000以下のものが好ましい。また本発
明ではこれらのモノマーあるいはプレポリマーのうち1
種または2種以上を混合して用いることができる。
【0080】上記エチレン性不飽和基を有する化合物は
本発明において感光層中に好ましくは20〜80重量
部、より好ましくは30〜70重量部含有される。
本発明において感光層中に好ましくは20〜80重量
部、より好ましくは30〜70重量部含有される。
【0081】本発明の感光性層には目的を損なわない範
囲であれば、増感剤、重合促進剤、熱重合禁止剤、熱溶
融性化合物、酸素補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せ
しめることは任意である。
囲であれば、増感剤、重合促進剤、熱重合禁止剤、熱溶
融性化合物、酸素補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せ
しめることは任意である。
【0082】増感剤としては特開昭64−13140号
に記載のトリアジン系化合物、特開昭64−13141
号に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、特
開昭64−13143号に記載の有機過酸化物、特公昭
45−37377号明や米国特許第3,652,275
号に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙
げられる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和結合を
有する重合可能な化合物とバインダーの合計量100重
量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.01〜
5重量部程度添加される。
に記載のトリアジン系化合物、特開昭64−13141
号に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、特
開昭64−13143号に記載の有機過酸化物、特公昭
45−37377号明や米国特許第3,652,275
号に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙
げられる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和結合を
有する重合可能な化合物とバインダーの合計量100重
量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.01〜
5重量部程度添加される。
【0083】重合促進剤としては、アミン化合物やイオ
ウ化合物(チオール、ジスルフィド等)に代表される重
合促進剤や連鎖移動触媒等を添加することが可能であ
る。
ウ化合物(チオール、ジスルフィド等)に代表される重
合促進剤や連鎖移動触媒等を添加することが可能であ
る。
【0084】本発明の光重合性組成物に添加可能な重合
促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、N−
フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N、N−ジ
エチルアニリン等のアミン類、米国特許第4,414,
312号や特開昭64−13144号記載のチオール
類、特開平2−29161号記載のジスルフィド類、米
国特許第3,558,322号や特開昭64−1704
8号記載のチオン類、特開平2−21560号記載のo
−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジ
ンチオン類があげられる。特に好ましくはアミン化合物
としてはN、N−ジエチルアニリンであり、イオウ化合
物としては2−メルカプトベンゾチアゾールである。
促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、N−
フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N、N−ジ
エチルアニリン等のアミン類、米国特許第4,414,
312号や特開昭64−13144号記載のチオール
類、特開平2−29161号記載のジスルフィド類、米
国特許第3,558,322号や特開昭64−1704
8号記載のチオン類、特開平2−21560号記載のo
−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジ
ンチオン類があげられる。特に好ましくはアミン化合物
としてはN、N−ジエチルアニリンであり、イオウ化合
物としては2−メルカプトベンゾチアゾールである。
【0085】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、
カテコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル
−p−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量10
0重量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.0
1〜5重量部程度添加される。
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、
カテコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル
−p−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量10
0重量部に対して、10重量部以下、好ましくは0.0
1〜5重量部程度添加される。
【0086】酸素クエンチャーとしてはN,Nジアルキ
ルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,77
2,541号の第11カラム58行目から第12カラム
35行目に記載の化合物が挙げられる。
ルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,77
2,541号の第11カラム58行目から第12カラム
35行目に記載の化合物が挙げられる。
【0087】可塑剤としては、フタル酸エステル類、ト
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸
エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、
エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル
類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類などが挙
げられる。
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸
エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、
エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル
類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類などが挙
げられる。
【0088】熱溶融性化合物としては、常温で固体であ
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等のエステル類、ジフ
ェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類、カ
ンファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類、バ
ニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド
類、ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類、マルガ
リン酸等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコ
ール、パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ス
テアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ベヘニルアミ
ン等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜ロ
ウ、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エス
テルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミ
ドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタ
リンワックスなどのワックス類、エステルガム、ロジン
マレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導
体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロ
ペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロ
ラクトン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに
代表される高分子化合物などを挙げることができる。
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等のエステル類、ジフ
ェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類、カ
ンファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類、バ
ニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド
類、ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類、マルガ
リン酸等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコ
ール、パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ス
テアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ベヘニルアミ
ン等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜ロ
ウ、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エス
テルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミ
ドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタ
リンワックスなどのワックス類、エステルガム、ロジン
マレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導
体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロ
ペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロ
ラクトン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに
代表される高分子化合物などを挙げることができる。
【0089】更に必要に応じて感光性層に酸化防止剤、
フィラー、帯電防止剤などを添加しても良い。前記酸化
防止剤としては、クロマン系化合物、クラマン系化合
物、フェノール系化合物、ハイドロキノン誘導体、ヒン
ダードアミン誘導体、スピロインダン系化合物、硫黄系
化合物、リン系化合物などが挙げられ、特開昭59−1
82785号、同60−130735号、同61−15
9644号、特開平1−127387号、「11290
の化学商品」化学工業日報社、p.862〜868等に
記載の化合物、および写真その他の画像記録材料に耐久
性を改善するものとして公知の化合物を挙げることがで
きる。
フィラー、帯電防止剤などを添加しても良い。前記酸化
防止剤としては、クロマン系化合物、クラマン系化合
物、フェノール系化合物、ハイドロキノン誘導体、ヒン
ダードアミン誘導体、スピロインダン系化合物、硫黄系
化合物、リン系化合物などが挙げられ、特開昭59−1
82785号、同60−130735号、同61−15
9644号、特開平1−127387号、「11290
の化学商品」化学工業日報社、p.862〜868等に
記載の化合物、および写真その他の画像記録材料に耐久
性を改善するものとして公知の化合物を挙げることがで
きる。
【0090】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を挙げることができる。この無機微粒子としてはシ
リカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫
酸バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活
性白土、アルミナ等を挙げることができ、有機樹脂粒子
としてはフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリ
ル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止
剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活
性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電
性微粒子などのほか「11290の化学商品」化学工業
日報社、p.875〜p.876などに記載の化合物な
ども好適に用いることができる。
粒子を挙げることができる。この無機微粒子としてはシ
リカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫
酸バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活
性白土、アルミナ等を挙げることができ、有機樹脂粒子
としてはフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリ
ル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止
剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活
性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電
性微粒子などのほか「11290の化学商品」化学工業
日報社、p.875〜p.876などに記載の化合物な
ども好適に用いることができる。
【0091】本発明において、感光性層は単層で形成さ
れても良いし、二層以上の複数層で構成されても良い。
また複数層で構成する場合は組成の異なる感光性層で構
成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光性層
を含んでいてもよい。
れても良いし、二層以上の複数層で構成されても良い。
また複数層で構成する場合は組成の異なる感光性層で構
成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光性層
を含んでいてもよい。
【0092】本発明において、感光性層の厚みは0.2
〜10μmが好ましく、より好ましくは0.5〜5μm
である。
〜10μmが好ましく、より好ましくは0.5〜5μm
である。
【0093】感光性層は形成成分を溶媒に分散あるいは
溶解して塗工液を調製し、この塗工液を前記中間層上に
直接積層塗布し乾燥するか又は後述するカバーシート上
に塗布し乾燥して形成される。
溶解して塗工液を調製し、この塗工液を前記中間層上に
直接積層塗布し乾燥するか又は後述するカバーシート上
に塗布し乾燥して形成される。
【0094】上記塗工法に用いる溶媒としては、水、ア
ルコール類(例えばエタノール、プロパノール)、セロ
ソルブ類(例えばメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ)、芳香族類(例えばトルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン)、ケトン類(例えばアセトン、メチルエチルケ
トン)、エステル系溶剤(例えば酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなど)、エーテル類(例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサン)、塩素系溶剤(例えばクロロホルム、トリク
ロルエチレン)、アミド系溶剤(例えばジメチルホルム
アミド、N−メチルピロリドン)、ジメチルスルホキシ
ド等が挙げられる。
ルコール類(例えばエタノール、プロパノール)、セロ
ソルブ類(例えばメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ)、芳香族類(例えばトルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン)、ケトン類(例えばアセトン、メチルエチルケ
トン)、エステル系溶剤(例えば酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなど)、エーテル類(例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサン)、塩素系溶剤(例えばクロロホルム、トリク
ロルエチレン)、アミド系溶剤(例えばジメチルホルム
アミド、N−メチルピロリドン)、ジメチルスルホキシ
ド等が挙げられる。
【0095】前記塗工には、従来から公知のグラビアロ
ールによる面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布法、ワ
イヤーバー塗布法、ロール塗布法等を採用することがで
きる。
ールによる面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布法、ワ
イヤーバー塗布法、ロール塗布法等を採用することがで
きる。
【0096】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもので
はない。
するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもので
はない。
【0097】(実施例1) [支持体の作成]厚さ0.24mmのアルミニウム板
(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5%
水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間脱脂処理を行
なった後水洗した。この脱脂したアルミニウム板を、2
5℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中
和した後水洗した。次いで、このアルミニウム板を1.
0重量部の塩酸水溶液において、温度25℃、電流密度
100A/dm2の条件で交流電流により60秒間電解
粗面化を行なった後、60℃に保たれた5%水酸化ナト
リウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行なっ
た。デスマット処理を行なった粗面化アルミニウム板を
40%燐酸溶液中で、温度30℃、電流密度4A/dm
2の条件で6分間陽極酸化処理を行ない、更に硅酸ソー
ダで封孔処理を行なって支持体を作成した。
(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5%
水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間脱脂処理を行
なった後水洗した。この脱脂したアルミニウム板を、2
5℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中
和した後水洗した。次いで、このアルミニウム板を1.
0重量部の塩酸水溶液において、温度25℃、電流密度
100A/dm2の条件で交流電流により60秒間電解
粗面化を行なった後、60℃に保たれた5%水酸化ナト
リウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行なっ
た。デスマット処理を行なった粗面化アルミニウム板を
40%燐酸溶液中で、温度30℃、電流密度4A/dm
2の条件で6分間陽極酸化処理を行ない、更に硅酸ソー
ダで封孔処理を行なって支持体を作成した。
【0098】[感光層の作成]上記支持体上に下記処方
の感光層を支持体に対して付き量約1.3g/m2とな
るように塗布した。感光層は塗布後に、80℃で3分間
乾燥した。
の感光層を支持体に対して付き量約1.3g/m2とな
るように塗布した。感光層は塗布後に、80℃で3分間
乾燥した。
【0099】 色素(D−5) 0.20重量部 ラジカル発生剤(BTTB) 0.40重量部 M450(ペンタエリスリトールテトラアクリレート :東亜合成(株)社製) 4.47重量部 フッ素系界面活性剤(メガファックF179:大日本インキ社製) 0.10重量部 重合禁止剤( スミライザーGS:住友化学社製) 0.02重量部 メチルエチルケトン 45重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部 銅フタロシアニン系顔料(0.3μm) 0.58重量部 [保護層処方]上記感光層上に、下記、処方の保護層を
支持体に対して付き量約1.3g/m2となるように塗
布した。感光層は塗布後に、80℃で3分間乾燥した。
支持体に対して付き量約1.3g/m2となるように塗
布した。感光層は塗布後に、80℃で3分間乾燥した。
【0100】 ポリビニルアルコール (ゴーセノールGL−05) 9.9重量部 フッ素系界面活性剤 (メガファックF120:大日本インキ社製) 0.1重量部 水 90.0重量部 (実施例2〜20)実施例1の色素とラジカル開始剤を
表1のように代えて実施例2〜20を作成した。尚、チ
タノセン化合物Ti−1は日本チバガイギー(株)社製
CGI784を用いた。
表1のように代えて実施例2〜20を作成した。尚、チ
タノセン化合物Ti−1は日本チバガイギー(株)社製
CGI784を用いた。
【0101】(実施例21)実施例1の感光層を下記の
処方に代えた以外は同様に作成した 色素(D−22) 0.20重量部 ラジカル発生剤(BTTB) 0.40重量部 M450(ペンタエリスリトールテトラアクリレート :東亜合成(株)社製) 4.47重量部 重合促進剤1(鉄アレーン錯体) 0.45重量部 重合促進剤2(メルカプトベンゾオキサゾール) 0.083重量部 フッ素系界面活性剤(メガファックF179:大日本インキ社製) 0.10重量部 重合禁止剤( スミライザーGS:住友化学社製) 0.02重量部 メチルエチルケトン 45重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部 銅フタロシアニン系顔料(0.3μm) 0.58重量部 (実施例22〜30)同様に実施例21の色素、ラジカ
ル発生剤、重合促進剤1、重合促進剤2を下表のように
変更し、感光性樹脂組成物を作成した。チタノセン化合
物Ti−1は日本チバガイギー(株)社製CGI784
を用いた。
処方に代えた以外は同様に作成した 色素(D−22) 0.20重量部 ラジカル発生剤(BTTB) 0.40重量部 M450(ペンタエリスリトールテトラアクリレート :東亜合成(株)社製) 4.47重量部 重合促進剤1(鉄アレーン錯体) 0.45重量部 重合促進剤2(メルカプトベンゾオキサゾール) 0.083重量部 フッ素系界面活性剤(メガファックF179:大日本インキ社製) 0.10重量部 重合禁止剤( スミライザーGS:住友化学社製) 0.02重量部 メチルエチルケトン 45重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 45重量部 銅フタロシアニン系顔料(0.3μm) 0.58重量部 (実施例22〜30)同様に実施例21の色素、ラジカ
ル発生剤、重合促進剤1、重合促進剤2を下表のように
変更し、感光性樹脂組成物を作成した。チタノセン化合
物Ti−1は日本チバガイギー(株)社製CGI784
を用いた。
【0102】
【化13】
【0103】
【表1】
【0104】表1中の鉄アレーン錯体は化10中の化合
物(4)である。
物(4)である。
【0105】このようにして作成した光重合型平版印刷
版について、明室プリンター[大日本スクリーン(株)
社製 P−627−HA]を用い露光後、下記現像液を
用いて30℃、30秒浸漬して未露光部の感光層を溶出
したものを、水洗後乾燥して画像を作成し確認した。
版について、明室プリンター[大日本スクリーン(株)
社製 P−627−HA]を用い露光後、下記現像液を
用いて30℃、30秒浸漬して未露光部の感光層を溶出
したものを、水洗後乾燥して画像を作成し確認した。
【0106】 現像液処方 A珪酸カリウム(日本化学工業社製: 400重量部 SiO2=26%,K2O=13.5%) 水酸化カリウム(50%水溶液) 195重量部 N−フェニルエタノールアミン 6重量部 プロピレングリコール 50重量部 p−t−ブチル安息香酸 150重量部 亜硫酸カリウム 300重量部 ノニオン活性剤(エマルゲン147:花王社製) 5重量部 グルコン酸(50%水溶液) 100重量部 トリエタノールアミン 25重量部 水 11500重量部 pH=12.5に調整する。
【0107】得られた各平版印刷版について以下の特性
を評価した。結果を表2に示す。
を評価した。結果を表2に示す。
【0108】《汚れの評価》Ugraプレートコントロ
ールウェッジPCW82(ミカ電子社製)による画像
を、連続諧調ウェッジが3段となるような露光量で作成
し、印刷機(ハイデルGTO)で、コート紙、印刷イン
キ(東洋インキ製造社製:ハイプラスM紅)及び湿し水
(コニカ(株)社製:SEU−3の2.5%水溶液)を
用いて印刷を行い、印刷初期段階(1000枚程の時
点)での印刷物の非画像部の汚れを目視で4段階評価し
た。
ールウェッジPCW82(ミカ電子社製)による画像
を、連続諧調ウェッジが3段となるような露光量で作成
し、印刷機(ハイデルGTO)で、コート紙、印刷イン
キ(東洋インキ製造社製:ハイプラスM紅)及び湿し水
(コニカ(株)社製:SEU−3の2.5%水溶液)を
用いて印刷を行い、印刷初期段階(1000枚程の時
点)での印刷物の非画像部の汚れを目視で4段階評価し
た。
【0109】 ◎:全く汚れがなかった ○:僅かに汚れがあった △:×ほど全面に汚れは出ていないが実用上問題になる
程度の汚れが出た×:全面に汚れが出た 実用上使用できるのは◎と○である。
程度の汚れが出た×:全面に汚れが出た 実用上使用できるのは◎と○である。
【0110】《感度評価》作成した平版印刷用原版を、
保護層側が光源側になるようにドラムに巻き付け、ドラ
ムを回転しながら100mW高調波YAGレーザ(DP
Y315M,LD励起SHG,YAGレーザー(532
nm):ADLAS社製)を用いて露光した。レーザー
光強度はガウス分布していると考え、ドラムの回転数を
一定にしてレーザー光強度の1/e2に相当する所の線
幅と形成された画像の線幅が等しい所の光強度(μW/
cm2)を求め、照射時間との積からエネルギー値を求
めた。又、488nmはアルゴンレーザーを用いて露光
した。
保護層側が光源側になるようにドラムに巻き付け、ドラ
ムを回転しながら100mW高調波YAGレーザ(DP
Y315M,LD励起SHG,YAGレーザー(532
nm):ADLAS社製)を用いて露光した。レーザー
光強度はガウス分布していると考え、ドラムの回転数を
一定にしてレーザー光強度の1/e2に相当する所の線
幅と形成された画像の線幅が等しい所の光強度(μW/
cm2)を求め、照射時間との積からエネルギー値を求
めた。又、488nmはアルゴンレーザーを用いて露光
した。
【0111】《保存性評価》露光・現像処理する前の各
試料で作成した版を、55℃/20%RHでの強制劣化
を3日間行った後、上記と同様に露光・現像を行い、非
画線部の抜け性により保存後の現像性の評価とした。
又、上記と同様に印刷評価も行った。
試料で作成した版を、55℃/20%RHでの強制劣化
を3日間行った後、上記と同様に露光・現像を行い、非
画線部の抜け性により保存後の現像性の評価とした。
又、上記と同様に印刷評価も行った。
【0112】得られた結果を以下に示す。
【0113】
【表2】
【0114】
【発明の効果】実施例で実証した如く、本発明により、
488nm又は532nm付近の光で書込ができ、解像
度、感度の良好な画像を形成できる光開始剤、ラジカル
発生方法、光重合性組成物を提供することができ、これ
を用いて高感度かつ保存安定性に優れた平版印刷版作成
用感光材料が作製でき、かつ本発明による平版印刷版の
作成方法により高感度で保存性に優れた印刷物を得るこ
とができる。
488nm又は532nm付近の光で書込ができ、解像
度、感度の良好な画像を形成できる光開始剤、ラジカル
発生方法、光重合性組成物を提供することができ、これ
を用いて高感度かつ保存安定性に優れた平版印刷版作成
用感光材料が作製でき、かつ本発明による平版印刷版の
作成方法により高感度で保存性に優れた印刷物を得るこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/20 505 G03F 7/20 505
Claims (10)
- 【請求項1】 ラジカル発生剤及び下記一般式(1)、
(2)または(3)で表される色素を含有することを特
徴とする光開始剤。 【化1】 〔式中、R1、R2は水素原子又は一価の置換基を表
し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表し、L1、L2、
L3、L4、L5は窒素原子またはメチン基を表し、B1、
B2、B3は5員又は6員の芳香族環残基又はヘテロ環残
基を表す。〕 - 【請求項2】 重合促進剤としてアミン化合物又はイオ
ウ化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載の
光開始剤。 - 【請求項3】 エチレン性不飽和結合を有する化合物及
び請求項1又は2に記載の光開始剤を含有することを特
徴とする光重合組成物。 - 【請求項4】 ラジカル発生剤が有機過酸化物、オニウ
ム塩、ハロゲン化トリアジン、鉄アレーン錯体、ビスイ
ミダゾール、チタノセン化合物又は有機過酸化物体から
選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴とす
る請求項1又は2に記載の光開始剤。 - 【請求項5】 ラジカル発生剤が有機過酸化物、オニウ
ム塩、ハロゲン化トリアジン、鉄アレーン錯体、ビスイ
ミダゾール、チタノセン化合物又は有機過酸化物体から
選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴とす
る請求項3に記載の光重合組成物。 - 【請求項6】 チタノセン化合物及び前記一般式(2)
または一般式(3)で表される色素を含有することを特
徴とする光開始剤。 - 【請求項7】 チタノセン化合物及び前記一般式(2)
または一般式(3)で表される色素を含有することを特
徴とする光重合組成物。 - 【請求項8】 請求項1〜4の何れか1項に記載の光開
始剤を488nmまたは532nmの波長のレーザー光
で露光することを特徴とするラジカル発生方法 。 - 【請求項9】 親水性支持体上に少なくとも感光性層及
び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感光
材料において、該感光性層はエチレン性不飽和結合を少
なくとも1つ有する化合物、バインダー成分、請求項
3、5又は7に記載の光重合組成物を含有していること
を特徴とする平版印刷版作成用感光材料。 - 【請求項10】 親水性支持体上に少なくとも感光性層
及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感
光材料において、該感光性層はエチレン性不飽和結合を
少なくとも1つ有する化合物、バインダー成分、請求項
3、5又は7に記載の光重合組成物を含有していること
を特徴とする平版印刷版作成用感光材料を用いる平版印
刷版の作成方法において、該感光層に488nm又は5
32nmの波長のレーザー光で像様に走査露光を行なっ
た後、保護層及び感光性層の未露光部を溶出除去するこ
とを特徴とする平版印刷版の作成方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19467596A JP3470253B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 |
| US08/896,847 US5965324A (en) | 1996-07-24 | 1997-07-18 | Light sensitive composition and method for manufacturing planographic printing plate employing the same |
| EP97112609A EP0821276B1 (en) | 1996-07-24 | 1997-07-23 | Light sensitive composition and method for manufacturing planographic printing plate employing the same |
| DE69712273T DE69712273D1 (de) | 1996-07-24 | 1997-07-23 | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lithographische Druckplatte unter Verwendung derselben |
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|---|---|---|---|
| JP19467596A JP3470253B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1039499A true JPH1039499A (ja) | 1998-02-13 |
| JP3470253B2 JP3470253B2 (ja) | 2003-11-25 |
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ID=16328433
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| JP19467596A Expired - Fee Related JP3470253B2 (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 |
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|---|---|
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| DE (1) | DE69712273D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740466B1 (en) | 1999-11-15 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition and recording material using the same |
| WO2010035697A1 (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| US7659046B2 (en) * | 2002-04-10 | 2010-02-09 | Eastman Kodak Company | Water-developable infrared-sensitive printing plate |
| US7074546B2 (en) | 2002-06-24 | 2006-07-11 | Konica Corporation | Light sensitive planographic printing plate precursor and its processing method |
| US7084191B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-08-01 | Avery Dennison Corporation | Ink composition resistant to solvent evaporation |
| US7521155B2 (en) * | 2003-06-10 | 2009-04-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Volume hologram layer and volume hologram transfer foil |
| JP4125669B2 (ja) * | 2003-12-22 | 2008-07-30 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム製造方法 |
| US20150018262A1 (en) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | Zep Ip Holding Llc | Aluminum-Safe Surface Presoak Cleaner and Process |
| CN111630072A (zh) * | 2018-01-31 | 2020-09-04 | 3M创新有限公司 | 光不稳定的巴比妥酸酯化合物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4713401A (en) * | 1984-12-20 | 1987-12-15 | Martin Riediker | Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes |
| US4636459A (en) * | 1985-03-06 | 1987-01-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| CA1308852C (en) * | 1987-01-22 | 1992-10-13 | Masami Kawabata | Photopolymerizable composition |
| JP2552550B2 (ja) * | 1989-07-24 | 1996-11-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| JP2632069B2 (ja) * | 1990-04-17 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| ES2088536T3 (es) * | 1991-01-29 | 1996-08-16 | Nat Starch Chem Invest | Composiciones fotopolimerizables. |
| JP2860737B2 (ja) * | 1992-09-29 | 1999-02-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| JPH0867866A (ja) * | 1994-06-20 | 1996-03-12 | Canon Inc | 光重合剤及び/又は光架橋剤に対する可視光増感剤、感光性組成物及びホログラム記録媒体 |
| US5738974A (en) * | 1994-09-05 | 1998-04-14 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate |
| JPH0943843A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP19467596A patent/JP3470253B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-18 US US08/896,847 patent/US5965324A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-23 DE DE69712273T patent/DE69712273D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-23 EP EP97112609A patent/EP0821276B1/en not_active Expired - Lifetime
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| US6740466B1 (en) | 1999-11-15 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition and recording material using the same |
| WO2010035697A1 (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5965324A (en) | 1999-10-12 |
| EP0821276B1 (en) | 2002-05-02 |
| DE69712273D1 (de) | 2002-06-06 |
| EP0821276A1 (en) | 1998-01-28 |
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