JPH1056205A - 化合物半導体発光素子の電極構造 - Google Patents
化合物半導体発光素子の電極構造Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の発光素子の構造では、電極に遮られる
ことにより発光を効率良く素子外部へ取り出すことがで
きない。本発明はこの問題を解決し、発光の取り出し効
率の高い、特に、青色発光の化合物半導体発光素子を提
供することを目的とする。 【解決手段】 化合物半導体発光素子の上面に配置され
た電極が、発光部からの発光を透過する金属電極である
ことを特徴とする化合物半導体の電極構造とすることに
よって、上記問題を解決する。
ことにより発光を効率良く素子外部へ取り出すことがで
きない。本発明はこの問題を解決し、発光の取り出し効
率の高い、特に、青色発光の化合物半導体発光素子を提
供することを目的とする。 【解決手段】 化合物半導体発光素子の上面に配置され
た電極が、発光部からの発光を透過する金属電極である
ことを特徴とする化合物半導体の電極構造とすることに
よって、上記問題を解決する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は化合物半導体発光素
子の電極構造に関し、特に青色発光する化合物半導体発
光素子の電極構造に関する。
子の電極構造に関し、特に青色発光する化合物半導体発
光素子の電極構造に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、II−VI族化合物半導体ZnS、
ZnSe等は青色発光ダイオードをはじめとする高効率
発光素子用の材料である。
ZnSe等は青色発光ダイオードをはじめとする高効率
発光素子用の材料である。
【0003】このII−VI族化合物半導体を用いた発光素
子において、従来用いられている構造の例を図2に示
す。図中、71はハロゲン化学輸送法により成長させた
ZnSバルク単結晶を1000℃の溶融亜鉛中で100
時間熱処理し、低抵抗にしたn型ZnS単結晶基板であ
る。この低抵抗化n型ZnS基板71上に分子線エピタ
キシー(MBE)法、あるいは有機金属熱分解(MOC
VD)法を用いてn型ZnSからなる発光層74、絶縁
性ZnSからなる絶縁層75を順次エピタキシャル成長
させ、上記絶縁層75上に金(Au)を蒸着して正電極
77とし、低抵抗化n型基板71の裏面にインジウム
(In)を用いたオーミック電極を形成し、これを負電
極78として、MIS型発光素子が製作されている。
子において、従来用いられている構造の例を図2に示
す。図中、71はハロゲン化学輸送法により成長させた
ZnSバルク単結晶を1000℃の溶融亜鉛中で100
時間熱処理し、低抵抗にしたn型ZnS単結晶基板であ
る。この低抵抗化n型ZnS基板71上に分子線エピタ
キシー(MBE)法、あるいは有機金属熱分解(MOC
VD)法を用いてn型ZnSからなる発光層74、絶縁
性ZnSからなる絶縁層75を順次エピタキシャル成長
させ、上記絶縁層75上に金(Au)を蒸着して正電極
77とし、低抵抗化n型基板71の裏面にインジウム
(In)を用いたオーミック電極を形成し、これを負電
極78として、MIS型発光素子が製作されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の発光素子の構造では、電極に発光層からの発光が
遮られることにより発光を効率良く発光素子外部へ取り
出すことができない。特に、青色発光素子の場合、素子
としての発光効率が低く、発光の取り出し効率を高める
ことが必要であった。
従来の発光素子の構造では、電極に発光層からの発光が
遮られることにより発光を効率良く発光素子外部へ取り
出すことができない。特に、青色発光素子の場合、素子
としての発光効率が低く、発光の取り出し効率を高める
ことが必要であった。
【0005】本発明は係る点に鑑みてなされたもので、
発光の取り出し効率を高める化合物半導体発光素子の電
極構造を提供することを目的の一つとするものである。
発光の取り出し効率を高める化合物半導体発光素子の電
極構造を提供することを目的の一つとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による化合物半導
体発光素子の電極構造は、化合物半導体発光素子の上面
に配置された電極が、発光層に電流を注入させるととも
に、発光層からの発光を透過する金属電極であることを
特徴とする。
体発光素子の電極構造は、化合物半導体発光素子の上面
に配置された電極が、発光層に電流を注入させるととも
に、発光層からの発光を透過する金属電極であることを
特徴とする。
【0007】この発明における基板としては、低抵抗n
型ZnS、低抵抗n型ZnSeあるいは低抵抗n型Zn
SxSe1-x等からなるものや、絶縁性ZnS、絶縁性Z
nSeあるいは絶縁性ZnSxSe1-x等からなるものが
好ましいものとして挙げられる。また、GaAsやGa
PやGaN、Al2O3あるいはSi等の材料も適用可能
である。
型ZnS、低抵抗n型ZnSeあるいは低抵抗n型Zn
SxSe1-x等からなるものや、絶縁性ZnS、絶縁性Z
nSeあるいは絶縁性ZnSxSe1-x等からなるものが
好ましいものとして挙げられる。また、GaAsやGa
PやGaN、Al2O3あるいはSi等の材料も適用可能
である。
【0008】そして、例えば低抵抗n型ZnS基板(や
低抵抗n型ZnSe基板あるいは低抵抗n型ZnSxS
e1-x基板)としては、ハロゲン化学輸送法により成長
させたZnSバルク単結晶(やZnSeバルク単結晶あ
るいはZnSxSe1-xバルク単結晶)を1000℃の溶
融亜鉛中で約100時間熱処理することにより、低抵抗
化した基板を用いるのが好ましい。
低抵抗n型ZnSe基板あるいは低抵抗n型ZnSxS
e1-x基板)としては、ハロゲン化学輸送法により成長
させたZnSバルク単結晶(やZnSeバルク単結晶あ
るいはZnSxSe1-xバルク単結晶)を1000℃の溶
融亜鉛中で約100時間熱処理することにより、低抵抗
化した基板を用いるのが好ましい。
【0009】この発明における発光部としては、n型Z
nS基板を用いた場合には、n型ZnSあるいはn型Z
nSe等からなる。いわゆるZnS MIS型あるいは
ZnSe MIS型の発光素子を構成する発光層や、一
対のn型ZnSeおよびp型ZnSe等からなる、いわ
ゆるプレーナ構造を含むモノリシック素子構造のpn接
合発光素子を構成する発光層が好ましいものとして挙げ
られる。
nS基板を用いた場合には、n型ZnSあるいはn型Z
nSe等からなる。いわゆるZnS MIS型あるいは
ZnSe MIS型の発光素子を構成する発光層や、一
対のn型ZnSeおよびp型ZnSe等からなる、いわ
ゆるプレーナ構造を含むモノリシック素子構造のpn接
合発光素子を構成する発光層が好ましいものとして挙げ
られる。
【0010】そして、II−VI族化合物半導体からなる導
電層ならびに発光層を作成する上でn型不純物として
は、III族元素のホウ素(B)、アルミニウム(A
l)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、タリウ
ム(Tl)等を、あるいはVII族元素の塩素(Cl)、
臭素(Br)、フッ素(F)、ヨウ素(I)等のうち少
なくとも一つ、あるいは上記のIII族元素とVII族元素と
を少なくとも一つずつ組み合わせたものが用いられる。
一方、p型不純物としては、Ia族元素のリチウム(L
i)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウ
ム(Rb)、セシウム(Cs)等や、Ib族元素の銅
(Cu)、銀(Ag)、金(Au)を、あるいはIII族
元素のタリウム(Tl)やV族元素の窒素(N)、リン
(P)、砒素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス
(Bi)等のうち少なくとも一つ、あるいは上記のIa
族、Ib族ならびにV族の元素と、III族ならびにVII族
とを少なくとも一つずつ組み合わせたものが用いられ
る。
電層ならびに発光層を作成する上でn型不純物として
は、III族元素のホウ素(B)、アルミニウム(A
l)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、タリウ
ム(Tl)等を、あるいはVII族元素の塩素(Cl)、
臭素(Br)、フッ素(F)、ヨウ素(I)等のうち少
なくとも一つ、あるいは上記のIII族元素とVII族元素と
を少なくとも一つずつ組み合わせたものが用いられる。
一方、p型不純物としては、Ia族元素のリチウム(L
i)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウ
ム(Rb)、セシウム(Cs)等や、Ib族元素の銅
(Cu)、銀(Ag)、金(Au)を、あるいはIII族
元素のタリウム(Tl)やV族元素の窒素(N)、リン
(P)、砒素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス
(Bi)等のうち少なくとも一つ、あるいは上記のIa
族、Ib族ならびにV族の元素と、III族ならびにVII族
とを少なくとも一つずつ組み合わせたものが用いられ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】以下図に示す実施例にもとづいて
この発明を詳述する。なお、これによってこの発明は限
定を受けるものではない。図1は本発明の請求項1によ
る第1の実施例の発光素子を模式的に示した断面図であ
る。同図において、1は抵抗率1Ωcmの低抵抗n型Z
nS基板、2は低抵抗n型ZnSからなる第1導電層、
3は第1導電層2よりも高いキャリア濃度をもつ低抵抗
n型ZnSからなる第2導電層、4はn型ZnS発光
層、5は絶縁性ZnSからなる正孔注入用絶縁層、7は
正電極、8は負電極である。
この発明を詳述する。なお、これによってこの発明は限
定を受けるものではない。図1は本発明の請求項1によ
る第1の実施例の発光素子を模式的に示した断面図であ
る。同図において、1は抵抗率1Ωcmの低抵抗n型Z
nS基板、2は低抵抗n型ZnSからなる第1導電層、
3は第1導電層2よりも高いキャリア濃度をもつ低抵抗
n型ZnSからなる第2導電層、4はn型ZnS発光
層、5は絶縁性ZnSからなる正孔注入用絶縁層、7は
正電極、8は負電極である。
【0012】この素子において、第1導電層2、発光層
4、正孔注入用絶縁層5はMBE法を用いて基板1上に
順次エピタキシャル成長させた単結晶半導体層である。
4、正孔注入用絶縁層5はMBE法を用いて基板1上に
順次エピタキシャル成長させた単結晶半導体層である。
【0013】そして、第1導電層2より高いキャリア濃
度を有する第2導電層3は、第1導電層2の成長時に、
成長層表面の一部に光(例えば波長193nmのArF
エキシマレーザ光)を照射することにより形成される。
すなわち、光を照射しながら成長することにより、光照
射部分に不純物元素が高濃度に添加され、非照射部と比
較して約1桁キャリア濃度の高い領域を形成することが
できた。第1導電層2は厚さ5μm、電子濃度1018c
m-3とし、第2導電層3は第1導電層2のほぼ全層にわ
たって形成し、電子濃度を上記の成長法を用いて第1導
電層1の約10倍の1019cm-3程度とした。この場合
抵抗率は第1導電層2が5×10-2Ωcm、第2導電層
3のそれは5×10-3Ωcmであった。
度を有する第2導電層3は、第1導電層2の成長時に、
成長層表面の一部に光(例えば波長193nmのArF
エキシマレーザ光)を照射することにより形成される。
すなわち、光を照射しながら成長することにより、光照
射部分に不純物元素が高濃度に添加され、非照射部と比
較して約1桁キャリア濃度の高い領域を形成することが
できた。第1導電層2は厚さ5μm、電子濃度1018c
m-3とし、第2導電層3は第1導電層2のほぼ全層にわ
たって形成し、電子濃度を上記の成長法を用いて第1導
電層1の約10倍の1019cm-3程度とした。この場合
抵抗率は第1導電層2が5×10-2Ωcm、第2導電層
3のそれは5×10-3Ωcmであった。
【0014】この際、第2導電層3は電流が十分に狭窄
されるように、例えば、300μm×300μmの素子
(チップ)寸法に対して、径d1を50μm程度に設定
する。発光層4は厚さ2μm、電子濃度1017cm-3と
し、正孔注入用の絶縁層5は20〜700Åの厚さとし
た。
されるように、例えば、300μm×300μmの素子
(チップ)寸法に対して、径d1を50μm程度に設定
する。発光層4は厚さ2μm、電子濃度1017cm-3と
し、正孔注入用の絶縁層5は20〜700Åの厚さとし
た。
【0015】そして、正孔注入用の絶縁層5としては、
不純物を添加せずに成長させた絶縁性のZnS、あるい
は上述したn型不純物とV族元素の窒素(N)、リン
(P)、砒素(As)、アンチモン(Sb)等のp型不
純物を同時に添加して成長させた絶縁性ZnSを用いる
ことにより安定した特性が得られた。
不純物を添加せずに成長させた絶縁性のZnS、あるい
は上述したn型不純物とV族元素の窒素(N)、リン
(P)、砒素(As)、アンチモン(Sb)等のp型不
純物を同時に添加して成長させた絶縁性ZnSを用いる
ことにより安定した特性が得られた。
【0016】正電極7は絶縁層5上の第2導電層3の直
上の位置に金(Au)を500〜1000Å蒸着して形
成した。負電極8は、基板1の裏側全面にインジウム−
水銀(In−Hg)を塗布し、高純度水素(H2)中で
約400℃(30sec)加熱することにより形成した
オーミック電極である。
上の位置に金(Au)を500〜1000Å蒸着して形
成した。負電極8は、基板1の裏側全面にインジウム−
水銀(In−Hg)を塗布し、高純度水素(H2)中で
約400℃(30sec)加熱することにより形成した
オーミック電極である。
【0017】以上のZnS MIS型発光素子におい
て、発光層4への高密度の電流を注入することが可能と
なり、従来のZnS MIS型発光素子と比較して5〜
10倍の輝度を有する青色発光が正電極7、絶縁層5な
らびに素子端面を通して観察された。つまり、青色発光
が正電極7を透過することによって、青色発光を化合物
半導体素子の外部への取り出し効率を高めることができ
た。また、電極として発光を透過する金属電極を用いる
ことによって、電極での電位を一定とし、発光層での発
光密度を均一化することができた。
て、発光層4への高密度の電流を注入することが可能と
なり、従来のZnS MIS型発光素子と比較して5〜
10倍の輝度を有する青色発光が正電極7、絶縁層5な
らびに素子端面を通して観察された。つまり、青色発光
が正電極7を透過することによって、青色発光を化合物
半導体素子の外部への取り出し効率を高めることができ
た。また、電極として発光を透過する金属電極を用いる
ことによって、電極での電位を一定とし、発光層での発
光密度を均一化することができた。
【0018】このように実施例によれば、高い発光の取
り出し効率とすることのできる青色発光の化合物半導体
発光素子を実現することが可能となり、各種表示装置あ
るいはプリンタ、ファクシミリ等の高エネルギーかつ高
輝度の光源として極めて有用である。
り出し効率とすることのできる青色発光の化合物半導体
発光素子を実現することが可能となり、各種表示装置あ
るいはプリンタ、ファクシミリ等の高エネルギーかつ高
輝度の光源として極めて有用である。
【0019】
【発明の効果】本発明は、上述のとおり構成されている
ので、次に記載する効果を奏する。請求項1の化合物半
導体発光素子においては、青色発光を金属電極を通して
半導体素子外部に取り出すことができ、さらに、金属電
極は発光層に電流を注入させるのに用いられるため、発
光層で発光した光を化合物半導体発光素子の上面に取り
出すことができる。
ので、次に記載する効果を奏する。請求項1の化合物半
導体発光素子においては、青色発光を金属電極を通して
半導体素子外部に取り出すことができ、さらに、金属電
極は発光層に電流を注入させるのに用いられるため、発
光層で発光した光を化合物半導体発光素子の上面に取り
出すことができる。
【図1】発明の請求項1による実施例を示す構成説明図
である。
である。
【図2】従来例を示す構成説明図である。
1、71 低抵抗n型ZnS基板 2 n型ZnS第1導電層 3 n型ZnS第2導電層 4、74 n型ZnS発光層 5、75 ZnS絶縁層 7、77 正電極 8、78 負電極
Claims (1)
- 【請求項1】 化合物半導体発光素子の上面に配置され
た電極が、発光層に電流を注入させるとともに、発光層
からの発光を透過する金属電極であることを特徴とする
化合物半導体発光素子の電極構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15832497A JP3066344B2 (ja) | 1988-07-21 | 1997-06-16 | 化合物半導体発光素子の電極構造 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18266488A JP2708183B2 (ja) | 1988-07-21 | 1988-07-21 | 化合物半導体発光素子 |
| JP63240556A JPH0287685A (ja) | 1988-07-21 | 1988-09-26 | 化合物半導体発光素子 |
| JP15832497A JP3066344B2 (ja) | 1988-07-21 | 1997-06-16 | 化合物半導体発光素子の電極構造 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18266488A Division JP2708183B2 (ja) | 1988-07-21 | 1988-07-21 | 化合物半導体発光素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1056205A true JPH1056205A (ja) | 1998-02-24 |
| JP3066344B2 JP3066344B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=26501383
Family Applications (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18266488A Expired - Fee Related JP2708183B2 (ja) | 1988-07-21 | 1988-07-21 | 化合物半導体発光素子 |
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