JPH1062903A - 写真用支持体の製造方法及びその製造方法による支持体を使用したハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

写真用支持体の製造方法及びその製造方法による支持体を使用したハロゲン化銀写真感光材料

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JPH1062903A
JPH1062903A JP22220596A JP22220596A JPH1062903A JP H1062903 A JPH1062903 A JP H1062903A JP 22220596 A JP22220596 A JP 22220596A JP 22220596 A JP22220596 A JP 22220596A JP H1062903 A JPH1062903 A JP H1062903A
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layer
fluorine
slip agent
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silver halide
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JP22220596A
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Kenichi Nakamura
謙一 中村
Yoshihiro Saito
祐弘 斉藤
Hidetoshi Kobayashi
英俊 小林
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】磁気記録層を有する写真用支持体の製造方法、
及びその製造方法で作成した支持体を用いた磁気ヘッド
の汚れを防止し、磁気情報エラーのないハロゲン化銀写
真感光材料を提供する。 【解決手段】支持体の一方の側にバッキング層として少
なくとも磁気記録層及び滑り剤の混合溶媒分散物を塗布
してなる滑り剤含有層を有するハロゲン化銀写真感光材
料用支持体の製造方法において、該混合溶媒が水、少な
くとも一種の低沸点水混和性有機溶媒、及び少なくとも
一種の高沸点有機溶媒からなるバッキング層付きハロゲ
ン化銀写真感光材料用支持体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、環境汚染が低減で
き、引火・防爆・有機溶媒の回収等の設備投資が軽減で
き、磁気ヘッドの汚れ、磁気情報の入出力エラーなどの
耐傷性が向上し、ヘイズを低減するバッキング層付ハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法、その製造方
法で製造される支持体およびその支持体を使用したハロ
ゲン化銀写真感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】滑り剤であるカルナウバワックスは優れ
た滑り性を与えるが、カルナウバワックスを含め同類に
属する長鎖の脂肪族炭化水素基を有する酸のエステル化
合物は、その優れた特性を最大限に発現させるためには
溶解、分散、塗布等の使用法にいくつかの問題点を有し
ていた。滑り剤である高級脂肪酸またはその誘導体の分
散物を使用し、その分散媒として水、低沸点水混和性有
機溶媒および高沸点水混和性有機溶媒;水および水混和
性有機溶媒;水および/または水混和性有機溶媒を使用
することが、例えば、特開平4−116638号(文献
1)、同4−001750号、同3−219238号公
報に記載されている。しかし、塗布層のヘイズはまだ十
分に低いものとすることができず、ワックス粒子の融着
不良(ワックスと磁気記録層あるいはワックス粒子同志
の融着不良)によると考えられる耐傷性が劣っている。
【0003】この耐傷性の問題は、バッキング層に磁気
記録層を有する感光材料を取り扱う上で磁気記録層に情
報の入出力時に大きな問題となるもので、スペースロス
に起因する入出力エラーを発生することである。スペー
スロスの原因としては、主にバッキング層に塗設した滑
り剤や磁気記録層の摩耗粉、感材を取り扱う時に付着す
るゴミ、感材屑、雰囲気中のほこり等が挙げられ、これ
らがフィルム走行時に磁気ヘッド表面に付着・堆積して
汚れることによりフィルムと磁気ヘッドとの間の空隙を
大きくしてスペースロスを生じ、磁気入出力エラーが発
生することが挙げられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的の
第1は、ワックス分散物使用時の融着不良に因る耐傷性
の劣化を改良し、磁気ヘッドの汚れを防止して磁気情報
の入出力エラーを低減すること、目的の第2はヘイズを
少なくし、優れた透明性を与えること、目的の第3は環
境汚染および引火性、爆発性を抑制し、防爆や溶媒回収
の設備コストを軽減するバッキング層付ハロゲン化銀写
真感光材料用支持体の製造方法、その製造方法を用いる
バッキング層付支持体およびその支持体を使用するハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、上記課題は下記の手段によって達成できた。即
ち、 (1)支持体の一方の側にバッキング層として少なくと
も磁気記録層及び滑り剤の混合溶媒分散物を塗布してな
る滑り剤含有層を有するハロゲン化銀写真感光材料用支
持体の製造方法において、該混合溶媒が水、少なくとも
一種の低沸点水混和性有機溶媒、及び少なくとも一種の
高沸点有機溶媒からなることを特徴とするバッキング層
付きハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法。
【0006】(2)滑り剤が一般式(I)で表される化
合物であることを特徴とする(1)に記載のバッキング
層付きハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法。 一般式(I) (R1)p −(COO)q −(R2)r 式中、R1 は炭素数6〜60、R2 は炭素数1〜60の
置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状を含むアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基および置換もしくは無
置換のアリール基である。p、qおよびrはそれぞれ1
〜6の整数を表す。
【0007】(3) 滑り剤含有層の上に少なくとも1
種のフッ素含有界面活性剤をオーバーコートすることを
特徴とする(1)または(2)に記載のバッキング層付
きハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法。
【0008】(4) 滑り剤含有層の上に少なくとも1
種のフッ素含有界面活性剤と少なくとも1種の非フッ素
含有界面活性剤をオーバーコートすることを特徴とする
(1)または(2)に記載のバッキング層付きハロゲン
化銀写真感光材料用支持体の製造方法。
【0009】(5) フッ素含有界面活性剤の少なくと
も1種がカチオン性界面活性剤であることを特徴とする
(3)または(4)に記載のバッキング層付きハロゲン
化銀写真感光材料用支持体の製造方法。
【0010】(6) (1)ないし(5)のいずれか1
つの製造方法により製造されるバッキング層付きハロゲ
ン化銀写真感光材料用支持体。
【0011】(7) (6)に記載のバッキング層付き
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体を使用するハロゲン
化銀写真感光材料。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳述する。
初めに、バッキング層について説明する。本発明で言う
バッキング層とは、支持体の一方の面に下塗り層を施し
た上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層が設
けられた(以下、感光性層と略称する)側とは支持体を
挟んで反対側に設けられた層を総称してバッキング層と
言う。このバッキング層は感光性層と同様に下塗り層を
設けた上に塗設された層であってもよく、下塗り層がな
く表面処理された支持体上に直接塗設されていてもよ
い。また、下塗り層は支持体とバッキング層の接着を良
化するために2層以上から成っていてもよい。但し、本
発明ではバッキング層というときは、下塗り層を有して
いてもこの下塗り層を除いた層を総称して言う。バッキ
ング層は、感光材料の写真性能に付加して要求される種
々の機能を与えることを主目的として設けられる。種々
の機能とは、例えば、スタチックマークの発生防止、感
光材料の製造・取り扱い上の接着防止や滑り性付与、カ
ール防止、支持体側から感光性層に入る不要な光のカッ
ト、さらには感光材料の製造や撮影条件などの情報を記
録する等であり、これらの機能を与えるためには帯電防
止剤、マット剤、滑り剤、カール防止剤、光吸収剤、フ
ィルター染料、紫外線吸収剤と呼称される化合物や強磁
性体微粒子などが用いられ、これらの化合物等を担持す
るためのバインダー、硬化剤、可塑剤、界面活性剤、塗
布助剤等が併せて用いられる。上記の種々の機能を与え
るために設けられるバッキング層は、感光材料に要求さ
れる付加機能に応じて上記のいくつかの化合物を含有せ
しめる。これらの化合物は1つの層に含有するものであ
ってもよいが、付与する機能に応じて2層以上とするこ
とが好ましい。また、付与する同一機能の層を2層以上
設けてもよく、付与する機能層の間に中間層を設けるこ
ともできる。本発明においては、本発明の課題達成のた
めにはバッキング層は、少なくとも磁気記録層、滑り剤
含有層および層を構成してもよい滑り剤含有層の上にフ
ッ素含有界面活性剤をオーバーコートする構成からなる
ものである。
【0013】本発明の上記の構成からなるバッキング層
は磁気記録層、滑り剤含有層の上(支持体より遠い側)
に少なくとも1種のフッ素含有界面活性剤をオーバーコ
ートするが、磁気記録層および滑り剤含有層には先に説
明した各種の化合物等を含んでいてもよい。また、磁気
記録層および滑り剤含有層とは別個に、例えば、帯電防
止剤を含有する帯電防止層、染料を含有するフィルター
層あるいはこれら各層の機能を有効に発現させるために
これらの層の間に中間層などを設けて3層以上の多層構
成としてもよい。本発明では滑り剤含有層は、磁気記録
層および上記の各層より支持体から遠い側に設けられ、
その上に少なくとも1種のフッ素含有界面活性剤をオー
バーコートするものである。本発明においては、上述の
3層以上の多層構成からなることが好ましい。例えば、
支持体に近い側から遠い側へと順次帯電防止層、磁気記
録層、滑り剤含有層そして少なくとも1種のフッ素含有
界面活性剤をオーバーコートされたバッキング層であ
る。
【0014】なお、本発明のフッ素含有界面活性剤のオ
ーバーコートとは、フッ素含有界面活性剤を含む塗布液
組成物を塗設することを言う。塗布液組成物には、フッ
素含有界面活性剤のほか後に説明するバインダー、塗布
助剤、その他の界面活性剤あるいはその他の化合物等を
含んでもよい水および/または有機溶媒からなる液組成
である。この塗布液組成物を滑り剤含有層の上にオーバ
ーコートしたとき、明瞭に識別し得る層を形成してもよ
く、また、滑り剤含有層に拡散、吸着配向されて層とし
て識別し得ないものであってもよい。層として識別し得
るか否かはバッキング層の切断面を電子顕微鏡により
(10万倍以上)観察、撮影比較することにより可能で
ある。層を構成させる場合には、しばしばバインダーが
用いられるが、このバインダーは後述するものを使用す
ることができる。層の厚みは、滑り剤含有層の滑り剤の
機能を有効に発現させるためには50nm以下であること
が望ましい。好ましくは20nm以下、より好ましくは1
0nm以下である。本発明では、特に層を構成しないこと
が好ましい。このためには、フッ素含有界面活性剤を含
む塗布液組成物にはバインダーは使用することなく、フ
ッ素含有界面活性剤以外の界面活性剤を使用する程度の
水および/または有機溶媒からなる塗布液組成物であっ
て、これらの界面活性剤が滑り剤含有層のできるだけ表
面に局在化して存在する状態にあることが最も好まし
い。
【0015】次に、本発明に係る滑り剤について説明す
る。本発明においては、公知の滑り剤はいずれも使用す
ることができる。公知の滑り剤としては、例えば、前記
RD307105、第XII 章に記載の文献に挙げてある
化合物である。本発明では、好ましくは下記一般式
(I)で表される化合物の使用である。 一般式(I) (R1)p −(COO)q −(R2)r 式中、R1 は炭素数6〜60、R2 は炭素数1〜60の
置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状を含むアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基および置換もしくは無
置換のアリール基である。p、q、rはそれぞれ1〜6
の整数を表す。本発明では、R1 とR2 の炭素数の総和
は20以上が好ましい。さらに30以上がより好まし
い。また、(R1)p と(R2)r の炭素数の総和として
は、pおよびrが2〜6の場合には30以上が好まし
く、40以上がより好ましい。
【0016】置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシルア
ミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、アシル基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、アリール基およびアルキル基を挙げるこ
とができる。これらの基はさらに置換基を有してもよ
い。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカル
ボニル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アシ
ル基およびアルキル基である。ハロゲン原子としては、
フッ素原子、塩素原子が好ましい。アルコキシ基、アル
キルチオ基、アルコキシカルボニル基のアルキル基は先
に説明したR2 のアルキル基に同じである。アシルアミ
ノ基、スルホニルアミノ基のアミノ基はN置換アミノ基
であってもよく、置換基は上記アルキル基が好ましい。
アシルアミノ基、アシル基のカルボニル基およびスルホ
ニルアミノ基のスルホニル基に結合する基はアルキル
基、アリール基であるが、上記アルキル基が好ましい。
【0017】好ましいR1 およびR2 の例としては、ブ
チル、オクチル、t−オクチル、ドデシル、テトラデシ
ル、ヘキサデシル、2−ヘキシルデシル、オクタデシ
ル、Cn 2n+1(nは20〜60を表す)、エイコシ
ル、ドコサニル、メリシニル、オクテニル、ミリストレ
イル、オレイル、エルシル、フェニル、ナフチル、ベン
ジル、ノニルフェニル、ジペンチルフェニル、シクロヘ
キシル基およびこれらの上記置換基を有する基等を挙げ
ることができる。さらに、R1 およびR2 はエチレン、
プロピレン、フェニレン等の2価の基、あるいはグリセ
リン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、ソルビトール等を連結基としたものを含んでもよ
い。
【0018】本発明の上記一般式(I)で表される化合
物は、天然物であっても合成物であってもよい。天然
物、あるいは合成物であっても天然物の高級脂肪酸やア
ルコールを原料とした合成化合物は、炭素数の異なるも
のや直鎖と分岐のものを含み、これらの混合物となる
が、これらの混合物を使用することは何等差し支えな
い。化合物としては、これらのうちの主成分となるもの
を表す。以下に好ましい一般式(I)で表される化合物
の具体例を示す。
【0019】
【化1】
【0020】これらの化合物は、例えば、特開昭58−
90633号に一部記載がある。上記化合物に加え、天
然物の例としてモンタン酸エステル、カルナウバWA
X、オレオストックなども加えることができる。
【0021】本発明では、一般式(I)で表される化合
物に加え、公知の他の滑り剤と併用することもできる。
公知の滑り剤として好ましいものは、一般式(I)で表
された化合物に類似する、例えば、米国特許第4,27
5,146号に記載の高級脂肪族アミド類、米国特許第
3,933,516号に記載の高級脂肪酸もしくはその
金属塩類、その他高級アルコールおよびその誘導体類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル化合物等
を挙げることができる。また、天然物の油脂、ワック
ス、オイル、例えば、蜜蝋なども併用することができ
る。
【0022】さらに、併用できる好ましい公知の滑り剤
として、市販または合成によって入手可能なシリコーン
系化合物を挙げることができる。シリコーン系化合物に
あってもポリオルガノシロキサン類が好ましい。これら
の化合物の合成法および化合物については、独国特許第
1,938,959号、米国特許第2,694,637
号、米国特許第3,042,522号、特公昭51−3
3600号、特公昭52−22040号、特開昭59−
31543号、特開昭62−203152号、特開昭6
2−269139号、特開昭60−54015号、特開
平2−301750号、特開平2−115836号、特
公平3−2285号、特開平6−102615号等に詳
しい記載がある。
【0023】市販のシリコーン化合物は、米国ダウコー
ニング社、独国BYKケミー社、信越化学(株)、東芝
シリコーン(株)、東レシリコーン(株)、日本ユニカ
ー(株)、チッソ(株)より種々の構造のものが市販の
化成品として容易に入手可能である。また、これらの市
販のシリコーンを原料として通常の化学反応により容易
に誘導体化可能である。
【0024】本発明では、滑り剤含有層には滑り剤を少
なくとも1種含有する。好ましくは一般式(I)で表さ
れる滑り剤を少なくとも1種含有する。滑り剤は2種以
上を例えば、一般式(I)で表わされる化合物を2種以
上、あるいは一般式(I)で表わされる化合物とそれ以
外の滑り剤とを組み合せて使用することができる。滑り
剤の全塗設量は1〜100mg/m2の範囲である。好まし
くは2〜60mg/m2であり、さらに好ましくは5〜40
mg/m2の範囲である。一般式(I)で表される化合物と
それ以外の滑り剤を併用する場合においても全塗設量は
上記の範囲である。なお、一般式(I)で表される化合
物とそれ以外の滑り剤の併用にあっては、一般式(I)
で表される化合物は全滑り剤の30重量%以上が望まし
い。特に50重量%以上が好ましい。
【0025】本発明においては、滑り剤の溶媒、特に好
ましく用いられる一般式(I)で表される化合物の溶媒
は、水、少なくとも1種の低沸点水混和性有機溶媒およ
び少なくとも1種の高沸点有機溶媒の少なくとも3種の
溶媒からなるものである。本発明における低沸点水混和
性有機溶媒とは、1気圧下で沸点が100℃未満であ
り、25℃において水と任意の割合で混合しても均一相
を形成する溶媒をいう。低沸点水混和性有機溶媒の具体
例としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロ
パノールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類;アセトニトリルなどのニトリル
類;テトラヒドロフランなどのエーテル類等を挙げるこ
とができる。
【0026】本発明における高沸点有機溶媒とは、1気
圧下で沸点が100℃以上の有機溶媒であって、水との
相溶性には特に関係ないが、好ましくは水に難溶性もし
くは不溶性の溶媒である。沸点は好ましくは110℃以
上220℃までの範囲である。さらに好ましくは120
℃以上200℃までの範囲である。上述の温度範囲の高
沸点有機溶媒の好ましい具体例としては、シクロヘキサ
ノン(bp.155℃)、メチルイソブチルケトン(b
p.116.7〜118℃)などのケトン類;ソルベン
トナフサ(bp.120〜216℃)、テレピン油(b
p.155〜180℃)、トルエン(bp.110.5
℃)、エチルベンゼン(bp.136℃)、キシレン
(bp.137〜144℃)、メシチレン(bp.16
2〜164℃)などの炭化水素類;酢酸n−ブチル(b
p.120〜126.5℃)、酢酸イソブチル(bp.
116〜118℃)、酢酸n−ペンチル(bp.142
℃)、酢酸イソペンチル(bp.142℃/756mmH
g)、酢酸n−ヘキシル(bp.168〜170℃)、
ピロピオン酸ブチル(bp.145℃/756mmHg)、
酪酸エチル(bp.154℃)、吉草酸エチル(bp.
144.6℃/736.5mmHg)などの低級脂肪酸エス
テル類等を挙げることができる。これらの高沸点有機溶
媒にあってもケトン類および炭化水素類が好ましい。特
に芳香族炭化水素類が好ましい。また、本発明における
水、低沸点水混和性有機溶媒および高沸点有機溶媒の3
者の混合比率としては、水が1〜50未満、低沸点水混
和性有機溶媒が50〜98および高沸点有機溶媒が1〜
50の重量比でその総和が100になるよう選択される
混合比率である。好ましくは水1〜30、低沸点水混和
性有機溶媒55〜95、高沸点有機溶媒5〜40の重量
比であり、さらに好ましくは水が1〜10、低沸点水混
和性有機溶媒が60〜90、高沸点有機溶媒が10〜3
0の重量比でその総和が100になるよう選択される混
合比率である。
【0027】本発明においては、上述したように滑り
剤、特に好ましく用いられる一般式(I)で表される滑
り剤に上述の水−低沸点水混和性有機溶媒−高沸点有機
溶媒の3者の混合溶媒を適用して滑り剤含有層を設け、
その上に含フッ素界面活性剤をオーバーコートすること
によって、本発明が解決しようとする課題の耐傷性の向
上、ヘイズの減少、環境汚染の低減、引火・爆発、溶媒
回収等の設備投資の軽減を見事に達成することができ
る。
【0028】滑り剤含有層には、必要に応じてバインダ
ーを使用してもよい。バインダーとしては、公知の化合
物、例えば、各種ゼラチン類(アルカリ処理、酸処理、
酵素処理、改質(フタル化、コハク化、トリメリト化な
ど)、変性、特別な分子量分布等のゼラチンなど)、置
換もしくは無置換のセルロース類、天然物のアラビアゴ
ム、デキストランなどの親水性バインダーや通常の有機
溶媒に可溶で現像処理液など水に全くまたは殆んど不
溶、かつ、フィルム形成性を有する疎水性バインダー、
例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビ
ニルなどのホモもしくはコポリマー、セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテート、エチルセルロー
ス、セルロースナイトレート、ヒドロキシプロピルセル
ロース、セルロースプロピオネートなどのセルロース誘
導体、さらにポリビニルアセタール、ポリビニルベンザ
ール、ポリビニルホルマールなどのアセタール類などが
挙げられる。これらは2種以上を混合使用してもよい。
【0029】本発明では、親水性バインダーとしてはゼ
ラチン類、置換もしくは無置換のセルロース誘導体、特
に置換アルキルセルロース類が、疎水性バインダーとし
てはセルロース誘導体の使用が好ましい。特にヒドロキ
シアルキル(アルキル基は炭素数が1〜5)セルロース
類、セルロースジアセテートの使用が好ましく、ヒドロ
キシアルキル(炭素数が2〜4)セルロースの使用が最
も好ましい。
【0030】親水性バインダーの使用に際しては、硬化
剤を用いて水不溶もしくは難溶性にすることが望まし
い。各種ゼラチン類の場合は、公知の硬化剤を使用する
ことができる。これらは、例えば、前記RD30710
5、第X章の文献に記載されている化合物を使用するこ
とができる。ヒドロキシアルキルセルロース類について
は、イソシアネート基を2つ以上有する多官能イソシア
ネート化合物の使用が好ましい。この様な硬化剤を使用
することによって高分子量化し、親水性を減じて現像処
理液等水に不溶もしくは難溶性となり、フィルム形成性
を賦与することができる。
【0031】バインダーの使用量としては少ないことが
好ましい。使用量としては、その塗設量が5.0mg以下
が望ましい。さらに2.0mg/m2以下であることが好ま
しい。最も好ましいのは全く使用しない場合である。な
お、滑り剤含有層には、必要に応じてマット剤、研磨
剤、塗布助剤などを含有してもよい。
【0032】滑り剤含有層の塗布は、公知の塗布方式、
例えば、前記RD307105、第XV章に記載のエアー
ドクター、ブレード、エアナイフ、スクイズ、含浸、リ
バースロール、トランスファーロール、グラビア、キ
ス、キャスト、スプレイ、ディップ、バー、エクストリ
ュージョン等の塗布方式を利用して塗設することができ
る。
【0033】次に、フッ素含有界面活性剤について説明
する。本発明に使用するフッ素含有界面活性剤は下記一
般式(II)で表される。 一般式(II) Rf−A−X 式中Rfは少なくとも3個、好ましくは8個以上のフッ
素原子を含有する部分フッ素化又は全フッ素化された置
換、無置換のアルキル基、アルケニル基、もしくはアリ
ール基を表わす。Aは二価の連結基または単結合を表わ
し、Xは水溶性基を表わす。Aは、好ましくはアルキレ
ン基、アリーレン基又はそれらの複合基を表わし、これ
は酸素、エステル基、アミド基、スルホニル基、硫黄の
如き異種原子で中断された二価の置換、無置換の連結基
であっても良い。
【0034】Xは親水性基であり、例えば一般式-(B-O)
n -R4 のポリオキシアルキレン基(ここでBは-CH2CH
2-、-CH2CH2CH2- 又は-CH2CH(OH)CH2-を表わし、nはポ
リオキシアルキレン基の平均重合度を表わし、1〜50
の数である。又R4 は置換、無置換のアルキル基、アリ
ール基を表わす)で表わされるノニオン基、親水性ベタ
イン基、例えば - +N(R5)(R6)-AIK-COO - 及び - +N
(R5)(R6)-AIK-SO3 - (式中AIKは炭素数1〜5の低
級アルキレン基、例えばメチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレンを表わし、R5 、R6 はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1〜12の置換、無置換のアルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、アリール基、例えばメチ
ル基、エチル基、ベンジル基等を表わす)および親水性
カチオ基、例えば - +N(R5)(R6)(R7) ・Y - (式中、R
5 、R6 、R7 は前記R5 と同義であり、Y- は無機も
しくは有機の陰イオンを表わし、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン基、硫酸基、炭酸基、過塩素酸基、有機カルボン酸
基、有機スルホン酸基、有機硫酸基等を表わす)であ
り、および好ましくは親水性アニオン基、例えば-SO3M
、-OSO 3M、-COOM 、-O-PO(OM)2、-PO(OM)2、-O-PO(OM)
(O-A-Rf) 、-PO(OM)(O-A-Rf) 等が挙げられる。ここで
Mは無機又は有機の陽イオンを表わし、好ましくは水素
原子、アルカリ金属(Li+ 、Na+ 、 K+ など)、アルカ
リ土類金属(Mg2+、Ca2+など)、炭素数0〜18のアン
モニウム、低級アルキルアミン等である。A及びRfは
前記と同義である。これらフッ素含有界面活性化合物の
中でもカチオン性、アニオン性およびノニオン性親水基
を有する化合物が好ましい。特にカチオン性親水性基を
有する化合物が好ましい。
【0035】本発明の代表的なフッ素含有界面活性剤の
具体例を以下に示す。
【0036】
【化2】
【0037】
【化3】
【0038】
【化4】
【0039】
【化5】
【0040】
【化6】
【0041】
【化7】
【0042】これらフッ素含有界面活性剤は合成法も含
め、例えば、英国特許第1,293,189号、同1,
259,398号、米国特許第3,589,906号、
同3,666,478号、同3,754,924号、同
3,775,236号、同3,850,640号、特開
昭54−48520号、同56−114944号、同5
0−161236号、同51−151127号、同50
−59025号、同50−113221号、同50−9
9525号、特公昭48−43130号、同57−65
77号、特開昭58−200235号、同58−196
544号、特開昭53−84712号、同57−642
28号、I & EC Product Reserch andDevelopment 1
(3)(1962.9) 油化学12(12)(1963)、p.653 〜622 等に
記載されている。
【0043】本発明においては、滑り剤含有層の上にオ
ーバーコートされるフッ素含有界面活性剤の塗設量は、
1m2当り25mg以下である。好ましくは10mg以下であ
り、より好ましくは5mg以下0.1mg以上の範囲であ
る。これらフッ素含有界面活性剤の塗設はバインダーを
使用することなく水および/または有機溶媒の溶液を塗
布液組成として塗布することが好ましい。フッ素含有界
面活性剤が滑り剤含有層の表面に局在化する状態に塗設
されるならばその塗布量は少なくて済む。
【0044】フッ素含有界面活性剤に用いる有機溶媒と
しては、通常の有機溶媒を適宜選択し、使用することが
できる。代表的な有機溶媒例としては、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノンなど);アルコール類(メタノール、
エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノ
ール、オクタノールなど);グリコール誘導体類(セロ
ソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルなど);炭素数1〜
5の低級脂肪酸エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、
プロピオン酸エチルなど);ハロアルカン類(メチレン
ジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、ト
リクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素な
ど);炭化水素類(オクタン、ソルベントナフサ、テレ
ピン油、石油エーテル、シンナー、石油ベンジン、シク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど);フ
ェノール類(フェノール、レゾルシノールなど);エー
テル類(テトラヒドロフラン、ジオキサンなど);リン
酸エステル類(トリメチルホスフェート、トリエチルホ
スフェート、トリブチルホスフェートなど);アミド類
(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドな
ど);その他DMSOなどを挙げることができる。好ましく
はアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類、低級
脂肪酸エステル類、ハロアルカン類、炭化水素類であ
る。特に好ましくは、水を混合使用する溶媒系において
は、水と混和して均一溶媒となるアルコール類、ケトン
類、グリコール誘導体類の中から選ばれる溶媒であり、
水不使用の場合の溶媒としてはアルコール類、ケトン
類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類;炭化水素
類である。上記の有機溶媒は、同一もしくは異なる種類
の溶媒を2種以上混合して用いることはなんら差し支え
ない。また水−有機溶媒の混合溶媒として使用する場合
のその混合比は任意にとることができ、特に制限はな
い。
【0045】滑り剤含有層の上にフッ素含有界面活性剤
をオーバーコートする塗布方式は、公知の塗布方式を用
いて行うことができる。公知の塗布方式は、前記RD3
07105、第XV章に記載されている前掲の塗布方式で
ある。
【0046】本発明においては、フッ素含有界面活性剤
を単独使用する場合にはカチオン系、アニオン系および
ノニオン系フッ素含有界面活性剤の使用が好ましい。特
にカチオン系フッ素含有界面活性剤が好ましい。また、
これらフッ素含有界面活性剤を併用する場合にあって
は、カチオン系、アニオン系およびノニオン系3種の組
み合せのいずれも好ましいが、特にカチオン系−アニオ
ン系フッ素含有界面活性剤の組み合せ使用が好ましい。
なお、同系のフッ素含有界面活性剤を2種以上併用する
ことは何ら差し支えない。
【0047】本発明では、上記のフッ素含有界面活性剤
と組み合せて非フッ素含有界面活性剤を用いることも好
ましく、カチオン系、アニオン系、ベタイン系、ノニオ
ン系非フッ素含有界面活性剤をいずれも使用することが
できる。好ましくはカチオン系、アニオン系およびノニ
オン系である。フッ素含有界面活性剤と非フッ素含有界
面活性剤の組み合せは、フッ素含有界面活性剤としてア
ニオン系、カチオン系およびノニオン系の3種と非フッ
素含有界面活性剤として同じくカチオン系、アニオン系
およびノニオン系3種のそれぞれから少なくとも1種を
任意に選択して数字上の組み合せ可能な場合のすべてを
使用できるが、好ましくはフッ素含有界面活性剤と非フ
ッ素含有界面活性剤のいずれか一方がカチオン系で他方
がアニオン系界面活性剤の組み合せもしくはそれにノニ
オン系界面活性剤が加わった組み合せ使用である。特に
カチオン系界面活性剤がフッ素含有界面活性剤であって
アニオン系界面活性剤が非フッ素含有界面活性剤の組み
合せ、またはこれにノニオン系フッ素含有もしくは非フ
ッ素含有界面活性剤の組み合せ使用である。以下に非フ
ッ素含有界面活性剤の代表的な化合物例を挙げる。
【0048】
【化8】
【0049】
【化9】
【0050】
【化10】
【0051】フッ素含有界面活性剤と併用する非フッ素
含有界面活性剤の使用量は、1m2当り25mg以下であ
る。好ましくは10mg以下である。特に好ましくは5mg
以下である。非フッ素含有界面活性剤を全く使用しない
場合も含まれる。非フッ素含有界面活性剤はフッ素含有
界面活性剤と併用されるので溶媒等は、前記フッ素含有
界面活性剤に同じである。なお、前記組み合せ使用にお
けるカチオン系界面活性剤/アニオン系界面活性剤のモ
ル比は0.01〜100の範囲である。好ましくは0.
1〜10である。より好ましくは0.2〜2の範囲であ
る。組み合せ使用する場合のオーバーコートする塗布液
の調製は、カチオン系界面活性剤とアニオン系界面活性
剤をあらかじめ混合し、イオンコンプレックスを形成さ
せ、これを溶媒に加えて溶解してもよく、溶媒に個々に
逐次添加して溶解してもよい。この逐次添加の場合は上
記界面活性剤のより好ましいモル比の範囲から良好なイ
オンコンプレックスを形成させるためにアニオン系界面
活性剤を先に、次いでカチオン界面活性剤を添加するの
が好ましい。フッ素含有、非フッ素含有界面活性剤は係
わりない。ノニオン系界面活性剤を併用する場合は、特
に添加順序の制限はなく、最初であっても、最後であっ
ても、また中間であってもよい。
【0052】上述の界面活性剤の組み合せ使用、添加方
法により生成したイオンコンプレックスは安定であり、
塗布液を滑り剤含有層の上にオーバーコートした場合に
は表面への固定性も優れている。それ故感材層やゴミ等
の付着を防止することができ、耐傷性をさらに改良す
る。また、臨界ミセル濃度(CMC)を低下させるとと
もに表面張力をも低下させる。従って界面活性剤の使用
量を低減することもできる。イオンコンプレックスは現
像処理において溶出して処理液中に流出する量が少ない
ため処理液の濡れ性が良く、最終処理を通過した後も界
面活性剤が充分に残存しているので液切れ不良に基づく
ハジキムラ(水滴痕跡や液に含まれている種々の塩類の
析出物の付着など)を解消することができる利点を有す
る。
【0053】イオンコンプレックスをあらかじめ形成さ
せて、このイオンコンプレックスを使用する場合の溶媒
等は前記と同様のものを使用することができる。イオン
コンプレックスの代表的な具体例を下記に示す。
【0054】
【化11】
【0055】
【化12】
【0056】本発明において用いられるイオンコンプレ
ックスは、カチオン系界面活性剤とアニオン系界面活性
剤とをモル比率で10:1から1:10の範囲、好まし
くは2:1から1:2の範囲、さらに好ましくは1:1
前後の範囲で、水非混和性有機溶媒(トルエン、キシレ
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、水混和性有機溶媒
(メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど)、及び水の
混合溶媒中で混合し、脱塩操作を行った後、水非混和性
有機溶媒層を分液操作により取り出し、濃縮すること
で、粉末状、フレーク状、塊状もしくはワックス状の形
態で得ることができる。以下にイオンコンプレックスの
調製例を示す。
【0057】IC−1の調製 カチオン系界面活性剤I−24 13.6gを1リット
ルの三つ口フラスコに入れ、酢酸エチル200ml、エ
タノール200ml、及び水300mlを加え、40℃
で加熱攪拌した。次にアニオン系界面活性剤A−4
8.6gの水100ml溶液を20分間で滴下し、さら
に30分間攪拌した。反応液を2リットルの分液ロート
に移し、酢酸エチル300ml、水500mlを加えて
震盪し、分液後水層を除去した。さらに、500mlの
水による水洗を3回繰り返した後、酢酸エチル層を取り
出し、減圧下溶媒を溜去した。残渣に200mlのトル
エンを加えて、減圧下溜去する工程を3回繰り返すこと
により、フレーク状の目的とするIC−1を13.1g
得た。IC−1の構造は元素分析及びNMRスペクトル
により確認した。
【0058】本発明では、滑り剤含有層の上に上述した
少なくとも1種のフッ素含有界面活性剤をオーバーコー
トするが、オーバーコート後この長尺塗布物(ウェブ)
は一旦乾燥工程を経て巻き取られる。このような製造過
程における乾燥は、滑り剤含有層の上にオーバーコート
された少なくとも1種のフッ素含有界面活性剤を含む界
面活性剤が滑り剤含有層の表面に局在化して存在するこ
とが望ましい。このための乾燥条件としては、滑り剤含
有層の中に拡散して行くのを極力少なくするために水お
よび/または有機溶媒の除去(蒸発)を短時間に終らせ
ることが望ましい。従って、乾燥は50℃以上の温度で
3分以内が好ましい。さらに好ましくは70℃以上2分
以内である。乾燥温度の上限は使用した滑り剤の融点に
より定まる。滑り剤の融点より50℃高い温度以下であ
ることが望ましい。この上限の温度は、特に使用した滑
り剤が分散物として用いられている場合に融点+50℃
より高い温度であるとワックスの凝集による粗大油滴
化、ひいては膜面の濁りや、発汗現象を生じ製造故障や
支持体としての品質低下を生じるからである。好ましく
は滑り剤の融点+30℃以下の温度である。
【0059】次に、先に説明したバッキング層の構成層
の1つである磁気記録層について説明する。本発明に用
いられる磁気記録層とは、磁性体粒子をバインダー中に
分散した水性もしくは有機溶媒系塗布液を支持体上に塗
設したものである。本発明で用いられる磁性体粒子は、
γFe2O3 などの強磁性酸化鉄、Co被着γFe 2O3 、Co被着
マグネタイト、Co含有マグネタイト、強磁性二酸化クロ
ム、強磁性金属、強磁性合金、六方晶系のBaフェライ
ト、Srフェライト、Pbフェライト、Caフェライトなどを
使用できる。Co被着γFe2O3 などのCo被着強磁性酸化鉄
が好ましい。形状としては針状、米粒状、球状、立方体
状、板状等いずれでもよい。比表面積では SBET で20m2
/g以上が好ましく、30m2/g以上が特に好ましい。強磁性
体の飽和磁化(σs)は、好ましくは 3.0×104〜 3.0×1
05A/mであり、特に好ましくは 4.0×104 〜 2.5×105A/
mである。強磁性体粒子を、シリカおよび/またはアル
ミナや有機素材による表面処理を施してもよい。さら
に、磁性体粒子は特開平6-161032に記載された如くその
表面にシランカップリング剤又はチタンカップリング剤
で処理されてもよい。又特開平4-259911、同5-81652 号
に記載の表面に無機、有機物を被覆した磁性体粒子も使
用できる。
【0060】磁性体粒子に用いられるバインダーは、特
開平4-219569に記載の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放
射線硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、アルカリ又は生分解
性ポリマー、天然物重合体(セルロース誘導体,糖誘導
体など)およびそれらの混合物を使用することができ
る。上記の樹脂のTgは -40℃〜 300℃、重量平均分子量
は 0.2万〜 100万である。例えばビニル系共重合体、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルローストリプロピオネートなどの
セルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂を挙げることができ、ゼラチンも好ましい。特に
セルロースジ(トリ)アセテートが好ましい。バインダ
ーは、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系の
架橋剤を添加して硬化処理することができる。イソシア
ネート系の架橋剤としては、トリレンジイソシアネー
ト、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、などのイソシアネート類、これらのイソシアネ
ート類とポリアルコールとの反応生成物(例えば、トリ
レンジイソシアナート3molとトリメチロールプロパン1m
olの反応生成物)、及びこれらのイソシアネート類の縮
合により生成したポリイソシアネートなどがあげられ、
例えば特開平6-59357 に記載されている。
【0061】前述の磁性体を上記バインダ−中に分散す
る方法は、特開平6-35092 に記載されている方法のよう
に、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミルなどが好
ましく併用も好ましい。特開平5-088283に記載の分散剤
や、その他の公知の分散剤が使用できる。磁気記録層の
厚みは 0.1μm〜10μm、好ましくは 0.2μm〜 5μ
m、より好ましくは 0.3μm〜 3μmである。磁性体粒
子とバインダーの重量比は好ましくは 0.5:100〜60:100
からなり、より好ましくは1:100 〜30:100である。磁性
体粒子の塗布量は 0.005〜 3g/m2、好ましくは0.01〜 2
g/m2、さらに好ましくは0.02〜 0.5g/m2である。磁気記
録層の透過イエロー濃度は、0.01〜0.50が好ましく、0.
03〜0.20がより好ましく、0.04〜0.15が特に好ましい。
磁気記録層は、写真用支持体の裏面に塗布又は印刷によ
って全面またはストライプ状に設けることができる。磁
気記録層を塗布する方法としてはエアードクター、ブレ
ード、エアナイフ、スクイズ、含浸、リバースロール、
トランスファーロール、グラビヤ、キス、キャスト、ス
プレイ、ディップ、バー、エクストリュージョン等が利
用でき、特開平5-341436等に記載の塗布液が好ましい。
【0062】磁気記録層に、潤滑性向上、カール調節、
帯電防止、接着防止、ヘッド研磨などの機能を合せ持た
せてもよいし、別の機能性層を設けて、これらの機能を
付与させてもよく、粒子の少なくとも1種以上がモース
硬度が5以上の非球形無機粒子の研磨剤が好ましい。非
球形無機粒子の組成としては、酸化アルミニウム、酸化
クロム、二酸化珪素、二酸化チタン、シリコンカーバイ
ト等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、ダイ
アモンド等の微粉末が好ましい。これらの研磨剤は、そ
の表面をシランカップリング剤又はチタンカップリング
剤で処理されてもよい。これらの粒子は磁気記録層に添
加してもよく、また磁気記録層上にオーバーコート(例
えば保護層,潤滑剤層など)しても良い。この時使用す
るバインダーは前述のものが使用でき、好ましくは磁気
記録層のバインダーと同じものがよい。磁気記録層を有
する感材については、US 5,336,589、同 5,250,404、同
5,229,259、同 5,215,874、EP 466,130に記載されてい
る。
【0063】また本発明においては、帯電防止剤が好ま
しく用いられる。帯電防止剤の使用はバッキング層の構
成層の1つとして帯電防止層として設けるのが好まし
い。それらの帯電防止剤としては、カルボン酸及びカル
ボン酸塩、スルホン酸塩を含む高分子、カチオン性高分
子、イオン性界面活性剤化合物を挙げることができる。
帯電防止剤として最も好ましいものは、 ZnO、TiO2、Sn
O2、Al2O3 、In2O3 、SiO2、 MgO、 BaO、MoO3、V2O5
中から選ばれた少くとも1種の体積抵抗率が10 7 Ω・cm
以下、より好ましくは105 Ω・cm以下である粒子サイズ
0.001〜 1.0μm結晶性の金属酸化物あるいはこれらの
複合酸化物(Sb,P,B,In,S,Si,C など)の微粒子、更には
ゾル状の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物の微粒
子である。感材への含有量としては、 5〜500mg/m2が好
ましく特に好ましくは10〜350mg/m2である。導電性の結
晶性酸化物又はその複合酸化物とバインダーの量の比は
1/300 〜 100/1が好ましく、より好ましくは 1/100〜 1
00/5である。
【0064】本発明の感材にはマット剤が有る事が好ま
しい。マット剤としては乳剤面、バック面とどちらでも
よい。マット剤は処理液可溶性でも処理液不溶性でもよ
く、好ましくは両者を併用することである。例えばポリ
メチルメタクリレート、ポリ(メチルメタクリレート/
メタクリル酸= 9/1又は5/5(モル比))、ポリスチレン粒
子などが好ましい。粒径としては 0.8〜10μmが好まし
く、その粒径分布も狭いほうが好ましく、平均粒径の
0.9〜 1.1倍の間に全粒子数の90%以上が含有されるこ
とが好ましい。又マット性を高めるために 0.8μm以下
の微粒子を同時に添加することも好ましく例えばポリメ
チルメタクリレート(0.2μm)、ポリ(メチルメタクリ
レート/メタクリル酸= 9/1(モル比)、 0.3μm))、
ポリスチレン粒子(0.25μm)、コロイダルシリカ(0.
03μm)が挙げられる。
【0065】本発明に使用できる支持体は、例えば前述
のRD307105の879頁に記載されている。好ま
しくはポリエステル系支持体である。
【0066】次に好ましく用いられるポリエステル支持
体について記す。本発明に用いられるポリエステルはジ
オールと芳香族ジカルボン酸を必須成分として形成さ
れ、芳香族ジカルボン酸として2,6−、1,5−、
1,4−、及び2,7−ナフタレンジカルボン酸、テレ
フタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ジオールとしてジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、シクロ
ヘキサンジメタノール、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールが挙げられる。この重合ポリマーとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポ
リシクロヘキサンジメタノールテレフタレート等のホモ
ポリマーを挙げることができる。特に好ましいのは2,
6−ナフタレンジカルボン酸を50モル%〜 100モル%含
むポリエステルである。中でも特に好ましいのはポリエ
チレン−2,6−ナフタレートである。平均分子量の範
囲は約 5,000ないし 200,000である。本発明のポリエス
テルのTgは50℃以上であり、さらに90℃以上が好まし
い。
【0067】次にポリエステル支持体は、巻き癖をつき
にくくするために熱処理温度は40℃以上Tg未満、より好
ましくはTg−20℃以上Tg未満で熱処理を行う。熱処理は
この温度範囲内の一定温度で実施してもよく、冷却しな
がら熱処理してもよい。この熱処理時間は、 0.1時間以
上1500時間以下、さらに好ましくは 0.5時間以上 200時
間以下である。支持体の熱処理は、ロ−ル状で実施して
もよく、またウェブ状で搬送しながら実施してもよい。
表面に凹凸を付与し(例えばSnO2やSb2O5 等の導電性無
機微粒子を塗布する)、面状改良を図ってもよい。又端
部にロ−レットを付与し端部のみ少し高くすることで巻
芯部の切り口写りを防止するなどの工夫を行うことが望
ましい。これらの熱処理は支持体製膜後、表面処理後、
バック層塗布後(帯電防止剤、滑り剤等)、下塗り塗布
後のどこの段階で実施してもよい。好ましいのは帯電防
止剤塗布後である。このポリエステルには紫外線吸収剤
を練り込んでも良い。又ライトパイピング防止のため、
三菱化成製のDiaresin、日本化薬製のKayaset 等ポリエ
ステル用として市販されている染料または顔料を練り込
むことにより目的を達成することが可能である。
【0068】なお、支持体と感材構成層(バッキング層
および感光性層)を接着させるために、支持体に表面処
理することが好ましい。薬品処理、機械的処理、コロナ
放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー
放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処
理、オゾン酸化処理、などの表面活性化処理が挙げられ
る。表面処理の中でも好ましいのは、紫外線照射処理、
火焔処理、コロナ処理、グロー処理である。次に下塗法
について述べると、単層でもよく2層以上でもよい。下
塗層用バインダーとしては、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン
酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発
原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレンイミ
ン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロ
ース、ゼラチンが挙げられる。支持体を膨潤させる化合
物としてレゾルシンとp−クロルフェノールがある。下
塗層にはゼラチン硬化剤としてはクロム塩(クロム明ば
んなど)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルター
ルアルデヒドなど)、イソシアネート類、活性ハロゲン
化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリ
アジンなど)、エピクロルヒドリン樹脂、活性ビニルス
ルホン化合物などを挙げることができる。SiO2、TiO2
無機物微粒子又はポリメチルメタクリレート共重合体微
粒子(0.01〜10μm)をマット剤として含有させてもよ
い。
【0069】本発明のバッキング層の滑り剤含有層が滑
り剤、水、少なくとも1種の低沸点水混和性有機溶媒お
よび少なくとも1種の高沸点有機溶媒を含む塗布液組成
物を塗設する層であって、その滑り剤含有層の上に少な
くとも1種のフッ素含有界面活性剤をオーバーコートし
て得られるこの新規なバッキング層を有する支持体を使
用して製造される感光材料は、B/W感材を初め一般用
もしくは映画用のカラーネガフィルム、スライド用もし
くはテレビ用のカラー反転フィルム、カラーポジフィル
ム、カラーペーパーおよびカラーペーパーのような種々
の感光材料に適用することができる。好ましくは透明支
持体を用いる感光材料である。より好ましくは透明支持
体を用いるB/Wネガ、一般用もしくは映画用カラーネ
ガ、スライド用もしくはテレビ用の反転カラーフィルム
などの撮影用感光材料である。これらは135タイプあ
るいはAPS用感光材料として裁断・加工して提供する
ことができる。上記には、特公平2−32615号公
報、実公平3−39784号公報に記載されているレン
ズ付フィルムユニットをも含むものである。
【0070】本発明に係る解決すべき課題の1つである
耐傷性の改良は、現像処理された感光材料にも及ぶもの
であり、現像処理の具体例としては、カラーネガフィル
ム用では富士写真フイルム(株)製品のCN−16、C
N−16Q、CN−16X、CN−16Lの処理液、補
充液、処理剤等あるいはイーストマン・コダック社製品
のC−41、C−41B、C−41RAの処理液、補充
液、処理剤等を挙げることができる。カラー反転フィル
ム用の処理液については、アズテック有限会社発行の公
知技術第6号(1991年4月1日)第1頁5行〜第1
0頁5行および第15頁8行〜第24頁2行に詳細な記
載があり、適用することができる。具体的には富士写真
フイルム(株)製品のCR−56関連処理剤を、イース
トマン・コダック社製品のE−6関連処理剤を挙げるこ
とができる。B/W用ネガでは特開平2−068539
号公報第15頁左上欄14行目から同左下欄13行目に
記載されているものを参照することができる。
【0071】
【実施例】以下に具体例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明の趣旨を越えない限り、実施例に限定
されるものではない。 実施例1 1)支持体 本実施例で用いた支持体は、下記の方法により作成し
た。ポリエチレン−2,6−ナフタレートポリマー 100
重量部と紫外線吸収剤としてTinuvin P.326(チバ・ガイ
ギーCiba-Geigy社製)2重量部とを乾燥した後、300℃
にて溶融後、T型ダイから押し出し、140℃で 3.3倍の
縦延伸を行ない、続いて 130℃で 3.3倍の横延伸を行
い、さらに 250℃で6秒間熱固定して厚さ90μmの PEN
フイルムを得た。なおこの PENフィルムにはブルー染
料,マゼンタ染料及びイエロー染料(公開技報: 公技番
号 94-6023号記載のI-1,I-4,I-6,I-24,I-26,I-27,II-5)
を適当量添加した。さらに、直径20cmのステンレス巻き
芯に巻付けて、 110℃、48時間の熱履歴を与え、巻き癖
のつきにくい支持体とした。
【0072】2)下塗層の塗設 上記支持体は、その両面にコロナ放電処理、UV照射処
理、さらにグロー放電処理をした後、それぞれの面にゼ
ラチン 0.1g/m2、サリチル酸0.022g/m2、(CH2=CHSO2CH2
CH2NHCO)2CH2 0.012g/m2 、ポリアミド−エピクロルヒ
ドリン重縮合物0.02g/m2の下塗液を塗布して(10cc/m2
バーコーター使用)、下塗層を延伸時高温面側に設け
た。乾燥は 115℃、6分実施した(乾燥ゾーンのローラ
ーや搬送装置はすべて 115℃となっている)。 3)バッキング層の塗設 下塗後の上記支持体の片方の面にバッキング層として下
記組成の帯電防止層、磁気記録層を塗設した。
【0073】3−1)帯電防止層の塗設 平均粒径 0.005μmの酸化スズ−酸化アンチモン複合物
の比抵抗は5Ω・cmの微粒子粉末の分散物(2次凝集粒
子径 約0.08μm)を0.2g/m2、ゼラチン0.05g/m2、(C
H2 =CHSO2CH2CH2NHCO)2CH2 0.02g/m2 、ポリ(重合度1
0)オキシエチレン−p−ノニルフェノール 0.005g/m2
及びレゾルシンと塗布した。 3−2)磁気記録層の塗設 3−ポリ(重合度15) オキシエチレン−プロピルオキシ
トリメトキシシラン(15 重量%)で被覆処理されたコバ
ルト−γ−酸化鉄 (比表面積43m2/g、長軸0.14μm、単
軸0.03μm、飽和磁化 89emu/g、Fe+2/Fe +3=6/94 、表
面は酸化アルミ酸化珪素で酸化鉄の2重量%で処理され
ている)54mg/m2をジアセチルセルロース1.2g/m2 (酸
化鉄の分散はオープンニーダーとサンドミルで実施し
た)、硬化剤としてC2H5C(CH2OCONH-C6H3(CH3)NCO)3
0.3g/m2を、溶媒としてアセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノンを用いてバーコーターで塗布し、
膜厚 1.2μmの磁気記録層を得た。マット剤としてシリ
カ粒子(0.3μm)と3−ポリ(重合度15) オキシエチレン
−プロピルオキシトリメトキシシラン(15重量%)で処
理被覆された研磨剤の酸化アルミ(0.15μm)をそれぞれ
20mg/m2となるように添加した。乾燥は 115℃、6分実
施した(乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて115
℃)。X−ライト(ブルーフィルター)での磁気記録層
のDB の色濃度増加分は約 0.1、また磁気記録層の飽和
磁化モーメントは4.2emu/g、保磁力 7.3×10 4A/m、角形
比は65%であった。
【0074】3−3)滑り剤含有層用塗布液組成物およ
び塗設(分散物Aと同様のものを下記により調製し
た。) 前記文献1(特開平4−116638号公報)の実施例
1、第3層用塗布液の調製に従い、水分散物Aを調製し
た。90℃に加熱した水100重量部にドデシル硫酸ナ
トリウム0.5重量部を混合し、これに別に90℃で熔
融しておいたカルナウバワックス(主成分は例示化合物
(12)に相当する)10重量部を添加した後、高速攪
拌のホモジナイザーを用い5分間攪拌して水分散物Aを
得た。
【0075】塗布液101(比較液1) 上記文献1の実施例1、塗布液3−cと同じように水分
散物Aに水900重量部およびアセトン1000重量部
を添加、混合して調製した。この塗布液101は滑り剤
の溶媒が、水(50)−低沸点水混和性有機溶媒(5
0)の混合溶媒比系から成るものである。
【0076】塗布液102(比較液2) 上記文献1の実施例1、塗布液3−aと同じように水分
散物Aに水900重量部、メタノール900重量部およ
び1−メトキシ−2−プロパノール(沸点118〜11
9℃)100重量部を添加、混合して調製した。この塗
布液102は、滑り剤の溶媒が水(50)−低沸点水混
和性有機溶媒(45)−高沸点水混和性有機溶媒(5)
の混合溶媒比系から成るものである。
【0077】塗布液103(比較液3) 塗布液102のメタノール900重量部をアセトン90
0重量部に置き換えて同じようにして調製した。滑り剤
への溶媒系は塗布液102に同じである。
【0078】塗布液104(比較液4) 上記文献1の実施例2、塗布液3−hに準じ、文献1に
記載の水分散物Bを前記水分散物Aにそのまま置き換
え、水分散物Aに水900重量部、アセトン940重量
部およびN,N−ジメチルホルムアミド60重量部を添
加、混合して調製した。この塗布液104は、滑り剤の
溶媒が塗布液102および103と同様水(50)−低
沸点水混和性有機溶媒(47)−高沸点水混和性有機溶
媒(3)の混合溶媒比系から成るものである。
【0079】塗布液105(比較液5) 塗布液102のメタノールをエタノールに、1−メトキ
シ−2−プロパノールを同じく文献1に高沸点水混和性
有機溶媒の具体例として記載されている2−メトキシエ
チルアセタート(沸点145℃)にそれぞれ置き換えて
調製した。
【0080】塗布液(比較液6) 塗布液5の2−メトキシエチルアセタートを同じく2−
エトキシアセタート(沸点156℃)に同重量部置き換
えて調製した。塗布液5および塗布液6の滑り剤に対す
る溶媒の混合溶媒比は塗布液2に同じである。
【0081】次に、塗布液102〜106に使用した水
分散物Aに替えて下記の水分散物Iを調製した。水酸化
ナトリウム0.5重量部を溶解した90℃に加熱した水
90重量部に界面活性剤として同じく例示化合物I−2
3を0.56重量部、A−9を0.74重量部混合し、
これに別に90℃で熔融しておいたカルナウバワックス
10重量部を添加した後、前記同様に高速攪拌のホモジ
ナイザーを用い5分間攪拌して水分散物Iを得た。
【0082】塗布液107 上記水分散物Iにエタノール1510重量部、1−メト
キシ−2−プロパノール400重量部を添加、混合して
調製した。この塗布液107は、滑り剤の溶媒が水
(4.5)−低沸点水混和性有機溶媒(75.5)−高
沸点有機溶媒(20)の混合溶媒比系からなるものであ
る。
【0083】塗布液108〜111 塗布液107を基本にして表1に示すように、塗布液1
08はエタノールをアセトンに同重量置き換え、塗布液
109はエタノールをアセトンに、1−メトキシ−2−
プロパノールをジメチルホルムアミドにそれぞれ同重量
置き換え、塗布液110は1−メトキシ−2−プロパノ
ールを2−メトキシエチルアセタートに同重量置き換
え、塗布液111は1−メトキシ−2−プロパノールを
2−エトキシエチルアセタートに同重量置き換えてそれ
ぞれ調製した。これらの混合溶媒比は上記塗布液107
に同じであり、塗布液102〜106のそれぞれに用い
た溶媒と同一溶媒を用いて混合溶媒比を変更したもので
ある。
【0084】塗布液112〜115 塗布液107のエタノールの使用量および高沸点有機溶
媒の1−メトキシ−2−プロパノールをシクロヘキサノ
ンにし、その使用量を表1に示すように変更して水−低
沸点水混和性有機溶媒−高沸点有機溶媒の混合溶媒を変
えて塗布液を調製した。
【0085】塗布液116〜130 以下、水分散物Iを調製する際に使用した水の量を表2
に示すように変更して水分散物II〜VIを調製し、これら
を用いて低沸点水混和性有機溶媒および高沸点有機溶媒
の使用量も変更して水−低沸点水混和性有機溶媒−高沸
点有機溶媒の混合溶媒比を変えて調製した。
【0086】調製した滑り剤含有塗布液組成物101〜
130は、バーコーター塗布により滑り剤であるカルナ
ウバワックスの塗布量が27mg/m2になるよう流量を調
整して塗設した。乾燥は115℃、30秒で行った。
【0087】3−4)滑り剤含有層の上へのフッ素含有
界面活性剤のオーバーコート 以下に示す塗布液組成物を調製した。 例示化合物 I−29 12.3mg 例示化合物 A−2 7.7mg エタノール 100g 上記界面活性剤の0.02重量%のエタノール溶液をバ
ーコーター塗布により、界面活性剤の塗設量が2.3mg
/m2になるよう流量調節して上記滑り剤含有層101〜
130の上に設け、バッキング層を完成させた。乾燥は
70℃、30秒行った。但し、101では一部ハジキが
生じた。これらのバッキング層を有する支持体を滑り剤
含有層の塗設に調製した塗布液組成物101〜130に
対応させて試料101〜130とする。これらの試料を
以下の性能評価を行うための試料に供した。但し、試料
101は塗布面状の正常な部分を選んで使用した。
【0088】(1)耐傷性 耐傷性の1つとして上記バッキング層付き支持体を使用
し、磁気記録層の塗設面側からヘッドギャップ5μm、
ターン数2000の入出力可能な荷重100gをかけた
ヘッドを用いて、0.1m/分の速度で周波数6KHelz
のFM信号矩形波を入力した後、そのビットエラー率を
評価した。エラー率は常用対数で示した。数字が−6以
下であれば、本発明ではその磁気記録情報が利用できる
ものであるが、−7以下であることが好ましい。評価で
の温湿度は25℃、60%RHである。もう1つのゴミ
等の付着については、ヘッド部分を顕微鏡観察すること
によりゴミ等の付着の程度によって以下の段階に分類し
て評価を行った。 1.ゴミ等の付着はほとんど観察されない。 2.ゴミ等の付着がわずかに観察される(ゴミ等の付着
面積がヘッド部面積の5%未満と判断される。)。 3.ゴミ等の付着面積がヘッド部面積の5%以上10%
未満と判断される。 4.ゴミ等の付着面積がヘッド部面積の10%以上20
%未満と判断される。 5.ゴミ等の付着面積が20%以上であると判断され
る。
【0089】(2)ヘイズ ヘイズが多いとヘイズの原因となっている界面上で入射
光の乱反射が生じ、特に撮影用感光材料では引き伸し焼
付けのときには鮮鋭性が減じ、いわゆるボケたポジ像に
なってしまう。また、焼付け時の露光時間にも撮影を与
え若干長くする必要が生じたりするので、このヘイズに
ついて調べた。ヘイズの測定は以下の方法に拠った。日
本電色工業(株)製、モデル1001DPヘイズメータ
ーを使用し、試料のバッキング層塗設面を測定機器の光
源側になるようにセットし、メーターに表示される値を
そのまま読み取った。値は小さい程ヘイズが少なく好ま
しいことを表わす。上記(1)および(2)の結果は前
記表1および表2に示す。
【0090】
【表1】
【0091】
【表2】
【0092】表から、文献1(特開平4−116638
号公報)実施例1および実施例2に提示されている滑り
剤カルナウバワックスの分散媒および溶媒として水−低
沸点水混和性有機溶媒−高沸点水混和性有機溶媒の溶媒
混合比に対し、本発明の構成の水−低沸点水混和性有機
溶媒−高沸点有機溶媒の溶媒混合比であって、文献1に
対し水の量を少なくし、低沸点水混和性有機溶媒の量を
多くし、かつ、高沸点有機溶媒の量を同じかまたは多く
した混合溶媒系にしたとき、明らかに耐傷性に優れた効
果を発現し、ヘイズも小さく良好な結果を与えることが
明白である。この様な優れた結果を与えるのは滑り剤の
水分散物に、その後に添加される有機溶媒が滑り剤分散
物中の滑り剤粒子を融着するとともに界面活性剤、特に
フッ素含有界面活性剤の融着粒子への吸着、配向が好ま
しい状態にあるものと考えられる。この好ましい結果を
与える現象については今後さらに研究を進めて明らかに
しようとするものである。また、高沸点有機溶媒は水混
和性であるよりも水に難溶もしくは不溶性の溶媒である
ことが好ましいことも、例えばNo. 110、111とN
o. 114の対比から知ることができる。
【0093】実施例2 実施例1において、3−4)滑り剤含有層の上へのフッ
素含有界面活性剤のオーバーコートをする塗布液組成物
に使用した例示化合物I−29および例示化合物A−2
の全塗設量2.3mg/m2になる量を、実施例1の滑り剤
含有層用塗布液組成物107〜115の塗布直前に添加
して、滑り剤含有層を塗設し、滑り剤含有層の上にオー
バーコートのないバッキング層付支持体を作製した。こ
れを試料207〜215とする。試料107〜115の
滑り剤含有層およびその上にオーバーコートしたそれぞ
れの界面活性剤の塗設量と試料207〜215のオーバ
ーコートのない滑り剤含有層のそれぞれの界面活性剤の
塗設量は同じである。これら試料207〜215を実施
例1と同様、耐傷性およびヘイズについて同様の方法で
調べた。その結果を比較を容易にするため実施例1の結
果と併せて示す。
【0094】
【表3】
【0095】表から、滑り剤含有層に使用する界面活性
剤は、その一部を滑り剤含有層の上にオーバーコートす
ることが耐傷性の向上、ヘイズの低減のためには好まし
いことが明らかである。特に耐傷性に有効であることが
わかる。この改良効果は、恐らく滑り剤含有層中の滑り
剤の融着後における界面活性剤、特にフッ素含有界面活
性剤が融着面に良好な状態に吸着、配向するとともに表
面部分(支持体より最も遠い塗設面上)に局在化してい
ることによるものと思われる。
【0096】実施例3 実施例1の3−3)滑り剤含有層用塗布液組成物および
塗設の塗布液113を塗設した滑り剤含有層の上に、3
−4)滑り剤含有層の上へのフッ素含有界面活性剤のオ
ーバーコートに記載した塗布液組成物の調製に準じて表
4および表5に示す界面活性剤の0.02重量%のエタ
ノール塗布液を調製して、バーコーター塗布により界面
活性剤の塗設量が2.5mg/m2となるよう流量を調整し
て塗布を行いバッキング層を完成させた。乾燥は70
℃、30秒行った。これらの試料を301〜334とす
る。これらの試料は、実施例1に記載の(1)耐傷性お
よび(2)ヘイズの評価方法に従ってその性能を調べ
た。結果を同じく表4および表5に示す。
【0097】
【表4】
【0098】
【表5】
【0099】表から、本発明においては滑り剤含有層の
塗布液組成物が滑り剤、水、低沸点水混和性有機溶媒お
よび高沸点有機溶媒の系からなる塗布液を塗布して設け
た滑り剤含有層の上に界面活性剤をオーバーコートする
ことによりヘイズを減少でき、ゴミ等の付着も低減でき
る傾向を示していることがわかるが、界面活性剤をフッ
素含有界面活性剤にすることにより顕著にビットエラー
率やゴミ等の付着の耐傷性が向上し、ヘイズもさらに減
少して本発明の課題達成に良好な結果を与えることが明
らかである。さらにフッ素含有界面活性剤にあってもカ
チオン性フッ素含有界面活性剤を使用することが好まし
いことも表から知ることができる。なお、バッキング層
面の滑り性を先端部が直径5mmのステンレス硬球からな
り、この先端部を表面に圧着し、100gの荷重を与え
て速度1cm/秒で移動したときの動摩擦係数を測定した
ところ0.08〜0.11の範囲の値を与え、良好な滑
り性を与えることも確認できた。特にフッ素含有界面活
性剤をオーバーコートした試料309〜334は0.0
8〜0.09の良い結果を与えた。
【0100】実施例4 実施例1、3−3)滑り剤含有層用塗布液組成物および
塗設に記載の塗布液調製において使用した滑り剤カルナ
ウバワックス10重量部を下記化合物および使用量に替
え、他は変更することなく滑り剤の分散物を調製し、塗
布液組成物として塗設して滑り剤含有層を設け、さらに
実施例1と同じく滑り剤含有層の上に界面活性剤をオー
バーコートしたバッキング層を完成させて試料を作製し
た。 (1)滑り剤例示化合物(11) 10重量部 (2)滑り剤例示化合物(20) 12.2重量部 (3)滑り剤例示化合物(27) 3.7重量部 (4)滑り剤例示化合物(7) 5.6重量部およ
び界面活性剤例示化合物I−50、1.85重量部 なお、滑り剤の塗設量は、(1)では27mg/m2
(2)では33mg/m2、(3)は10mg/m2、(4)は
15mg/m2である。塗布方式および乾燥条件は実施例1
に同じである。塗布は流量を微調整して行った。
【0101】これらの試料について、実施例1と同様の
耐傷性(ビットエラー率およびゴミ等の付着)およびヘ
イズについて調べたところ表1および表2の結果と同様
の傾向を示す結果が得られ、本発明の滑り剤含有層が滑
り剤、水、少なくとも1種の低沸点水混和性有機溶媒お
よび少なくとも1種の高沸点有機溶媒からなる塗布液組
成物の塗設層であって、該層の上に界面活性剤をオーバ
ーコートしたバッキング層は本発明の解決すべき課題を
見事に達成できることが確認できた。
【0102】実施例5 実施例3で作製したバッキング層付ハロゲン化銀写真感
光材料用支持体301〜334のバッキング層とはベー
スを挟んで反対側の下塗り層の上に、特願平8−031
208号実施例1に記載の試料と同じ感材構成層の第1
層から第15層を多層同時塗布してカラーネガ感材50
1〜534を作製した。これらの試料501〜534の
バッキング層の耐傷性について実施例1と同様の方法で
調べたが、同傾向の結果を得ることができ、本発明の構
成の効果を確認することができた。
【0103】続いてカラー感材501〜534をAPS
サイズに裁断・加工し、カメラ・エピオン−300(富
士写真フイルム(株)製)に装填し、種々の被写体を撮
影し、前記カラーネガ現像のCN−16Xの標準処理を
行い、吊り下げ乾燥した後の処理ハジキむらによって生
じる水滴痕跡を観察したところその差異が見られ試料5
01や503、504では水滴痕跡と判断できるものが
みられたが試料509〜534では殆んどあるいは全く
みることができなかった。さらに、これらカラー現像済
のフィルムを用いてカラーペーパー・スーパーFA V
(富士写真フイルム(株)製)に等拡大倍率のプリント
を行い、CP−45X(富士写真フイルム(株)製)の
標準処理を行ってプリント画面を詳細に観察したとこ
ろ、特に人物の髪の毛などの鮮鋭性に差異が見られ試料
501〜508に比べ試料509〜534のほうがシャ
ープなプリントを与えていることが観察された。この差
異はヘイズに基づくものと思われる。
【0104】実施例6 実施例1における磁気記録層のコバルト−γ−酸化鉄の
塗設量を30mg/m2に減じ、他は変更することなく実施
例1のバッキング層付感材用支持体101〜130に対
応する支持体701〜730を作製した。これらの支持
体を実施例1と同様、耐傷性およびヘイズについて調べ
たところ耐傷性のビットエラー率は−0.1〜−0.5
の範囲で低下したが、その傾向は全体として変化がない
ものであった。このエラー率の低下はコバルト−γ−酸
化鉄の塗設量が実施例1の57mg/m2から30mg/m2
減量したことによりエラーを生じ易くなったものと思わ
れる。また、低下は支持体701〜706で大きく−
0.4〜−0.5であり、支持体707〜711では−
0.2〜−0.4であり、支持体712〜730では−
0.1〜−0.2であった。このことは、本発明の構成
の混合溶媒比であって、高沸点有機溶媒が水に難溶もし
くは不溶性の溶媒の使用が好ましいことを示し、コバル
ト−γ−酸化鉄の塗設量の少ないバッキング層付支持体
を用いる感材にあってはより効果が大きく有利であるこ
とが理解される。また、ヘイズは全支持体とも0.1程
度低い値を与えた。さらに、これらバッキング層付支持
体を用い、ベースを挟んで反対側の下塗り層の上に特開
平7−225459号公報実施例1の試料110と同じ
感光性層第1層〜第19層を設けたカラー反転フィルム
を作製したが、バッキング層の耐傷性の結果は上記と同
傾向の結果であった。
【0105】実施例7 実施例1におけるバッキング層の帯電防止層、磁気記録
層は同一にし、滑り剤含有層の塗布液組成物を以下のよ
うに変更し、調製した。滑り剤としてカルナウバワック
ス100gを95℃に加熱して熔融した後、モルホリン
6gを溶解し90℃に加温した水900gを加え、ポリ
トロンにて周速15m/秒の条件で1時間攪拌を与え粗
分散物を得た。続いてこの粗分散物を高圧ホモジナイザ
ーに3回通して微細分散物を得た。分散物中のワックス
粒子の平均粒径は0.35μmであった。上記カルナウ
バワックス10重量%の分散物5gを秤取し、この分散
物にアニオン系界面活性剤として例示化合物A−2を2
0mg、カチオン系界面活性剤として例示化合物K−1を
10mg加えて溶解したエタノール75.5gとトルエン
20gを順次添加して塗布液組成物とした。調製した塗
布液組成物の溶媒混合比は、水(4.5)−低沸点水混
和性有機溶媒(75.5)−高沸点有機溶媒(20)の
重量比である。この塗布液組成物をバーコーター塗布に
よりカルナウバワックスの塗設量が25mg/m2になるよ
う塗布し、滑り剤含有層を設けた。乾燥は115℃、3
0秒で行った。
【0106】この滑り剤含有層の上に実施例3の表4お
よび表5に示す界面活性剤のエタノール溶液を同様に塗
設してバッキング層付支持体801〜834を作製し
た。これらの試料は、実施例1と同様の耐傷性およびヘ
イズを調べたところ表4および表5と同様の結果を得る
ことができた。さらに、これらのバッキング層付支持体
801〜834のベースを挟んで反射側の下塗り層の上
に特願平7−325252号実施例1の試料101と同
じ感光性層第1層〜第5層を設けて黒白ネガ感材を作製
したが、そのバッキング層の耐傷性(ビットエラー率、
ゴミ等の付着)は変化がなかった。
【0107】
【発明の効果】バッキング層に少なくとも磁気記録層お
よび滑り剤含有層を有する感材用支持体の製造方法にお
いて滑り剤含有層の塗布液組成物を滑り剤、水、少なく
とも1種の低沸点水混和性有機溶媒および少なくとも1
種の高沸点有機溶媒からなる組成物とすることにより磁
気記録情報の入出力エラーに関わる耐傷性を改良でき、
ヘイズを低減でき、環境汚染防止や過剰な設備投資も回
避できるとともに滑り性が良好で処理ハジキのないバッ
キング層を有するハロゲン化銀写真感光材料用支持体の
製造方法、その製造方法で製造される支持体およびその
支持体を使用するハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことができる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体の一方の側にバッキング層として
    少なくとも磁気記録層及び滑り剤の混合溶媒分散物を塗
    布してなる滑り剤含有層を有するハロゲン化銀写真感光
    材料用支持体の製造方法において、該混合溶媒が水、少
    なくとも一種の低沸点水混和性有機溶媒、及び少なくと
    も一種の高沸点有機溶媒からなることを特徴とするバッ
    キング層付きハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 該滑り剤が一般式(I)で表される化合
    物であることを特徴とする請求項1に記載のバッキング
    層付きハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法。 一般式(I) (R1)p −(COO)q −(R2)r 式中、R1 は炭素数6〜60、R2 は炭素数1〜60の
    置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状を含むアルキル
    基、アルケニル基、アラルキル基および置換もしくは無
    置換のアリール基である。p、qおよびrはそれぞれ1
    〜6の整数を表す。
  3. 【請求項3】 滑り剤含有層の上に少なくとも1種のフ
    ッ素含有界面活性剤をオーバーコートすることを特徴と
    する請求項1または請求項2に記載のバッキング層付き
    ハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法。
  4. 【請求項4】 滑り剤含有層の上に少なくとも1種のフ
    ッ素含有界面活性剤と少なくとも1種の非フッ素含有界
    面活性剤をオーバーコートすることを特徴とする請求項
    1または請求項2に記載のバッキング層付きハロゲン化
    銀写真感光材料用支持体の製造方法。
  5. 【請求項5】 フッ素含有界面活性剤の少なくとも1種
    がカチオン性界面活性剤であることを特徴とする請求項
    3または請求項4に記載のバッキング層付きハロゲン化
    銀写真感光材料用支持体の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれか1項
    の製造方法により製造されるバッキング層付きハロゲン
    化銀写真感光材料用支持体。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載のバッキング層付きハロ
    ゲン化銀写真感光材料用支持体を使用するハロゲン化銀
    写真感光材料。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100339764C (zh) * 2000-12-14 2007-09-26 富士胶片株式会社 卤化银彩色照相感光材料

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