JPH106643A

JPH106643A - 熱転写ドナー要素

Info

Publication number: JPH106643A
Application number: JP9083986A
Authority: JP
Inventors: Krzysztof A Zaklika; アントーニザクリカクルジストフ; D Cuny Gregory; ダグラスカニーグレゴリー; Stanley C Busman; クレイグバスマンスタンレー
Original assignee: Minnesota Mining and Manufacturing Co
Current assignee: 3M Co
Priority date: 1996-04-03
Filing date: 1997-04-02
Publication date: 1998-01-13
Anticipated expiration: 2017-04-02
Also published as: DE69702559D1; DE69702559T2; US5747217A; EP0799713A1; JP3902285B2; EP0799713B1

Abstract

(57)【要約】【課題】昇華性化合物を含む、レーザー誘導熱画像形
成の感度が高いドナーを提供する。【解決手段】一層またはそれ以上の層で基材の少なく
とも一部分を被覆した、前記基材を含む熱転写ドナー要
素であって、（ａ）実質的に無色の昇華性化合物；
（ｂ）電磁線吸収剤；および、（ｃ）熱物質転写性材
料、を含み、ここで、前記昇華性化合物はアセチレン基
を含まず、且つ、５０ｍｌ／分の窒素流下で１０℃／分
の加熱速度で、少なくとも５５℃の５％質量損失温度お
よび２００℃以下の９５％質量損失温度を有し、且つ、
前記昇華性化合物は少なくとも前記５％質量損失温度で
ある融点温度、および、少なくとも前記９５％質量損失
温度であるピーク熱分解温度を有する、熱転写ドナー要
素。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は熱画像形成性材料の分野に関し、
より詳細には、レーザー誘導熱画像形成のための熱画像
形成材料の分野に関する。特に、本発明は、昇華性化合
物を使用したレーザー誘導熱画像形成において感度を改
良する方法に関する。この方法はカラープルーフ、印刷
版、フィルム、プリント回路板、および、熱転写画像形
成を使用する他のグラフィックアートの製造に有用であ
る。

【０００２】レーザー誘導熱画像形成は、乾燥加工のみ
を必要とする印刷版、画像セッティングフィルム（imag
e setting films)およびプルーフィング材料の製造にお
いて長期間にわたって使用されてきた。1 つのタイプの
レーザー画像形成は、ドナーからレセプターへの材料の
熱転写を使用する。これは、複合非平衡法であり、Tolb
ert, W.AらのJ.Imaging Sci. Technol., 37, 411 (199
3) において議論されているように、転写を受ける材料
の軟化および熱劣化の両方を用いるものと信じられる。
熱劣化はガスの生成をもたらし、そしてガスの膨張が残
りの材料をレセプターに噴射しうる( 融蝕) またはドナ
ー基材からの剥離をもたらしうる。材料の軟化はレセプ
ターへの接着を可能にする。この為、この方法は、融蝕
機構、溶融粘着機構またはその両方を用いうる。

【０００３】詳細には、レーザーにより生じた赤外光
は、最初に、赤外吸収性材料（多赤外染料、黒色アルミ
ナ、カーボンブラック) により吸収され、そしてその
後、熱に変換されて、転写されるべき材料が部分的に分
解される。画像形成は、マイクロ秒〜ナノ秒の典型的な
時間で起こり、そして加熱速度は10億℃/ 秒以上であ
り、ピーク温度は600 ℃以上であり、そしてガス圧は10
0 気圧(10MPa) を越えることができる。高い応答性の材
料は、それ故、低い画像形成しきい値を提供することが
必要である。この種の従来技術の材料は、米国特許第5,
156,938 号(Foleyら)に開示されているような第三級ジ
オールのポリカーボネート、ポリエステルおよびポリウ
レタンを含み、それは、ポリマー主鎖の酸触媒熱開裂を
受ける。この特許は、赤外吸収剤との組み合わせで酸触
媒を製造するように作用するジオール、特に、2,5-ジメ
チル-3- ヘキシン-2,5- ジオールの使用をも記載してい
る。他の従来技術の材料は、同特許に例示されているニ
トロセルロース、および、米国特許第5,278,023 号(Bil
l ら) および第5,308,737 号(Bill ら) に記載されてい
るようなアジ化ポリマーのような「エネルギー生成性化
合物」である。エネルギー生成性化合物の分解は発熱性
であり、開放されるエネルギーは更に分解を加速するも
のと信じられる。

【０００４】従来技術の材料は、しかしながら、例え
ば、高い画像形成速度での感度に関して、または、例え
ば、アジ化ポリマーの場合のように、多くの赤外染料と
非相溶性であることのように完全に満足できるものでは
ない。この為、画像形成のためのしきい値を下げ、感度
を上げ、そして様々な赤外染料と使用できるであろう他
の化合物が必要性である。

【０００５】本発明によると、レーザー誘導熱画像形成
系の感度は昇華性化合物を使用することにより増加され
うる。このような化合物は、室温で容易に昇華しない
が、より高い温度で有意に昇華するものであり、そのこ
とはレーザー誘導熱画像形成系に特に適切である。

【０００６】本発明の1 態様は、基材の少なくとも一部
分の上が1 層以上の層でコーティングされている前記基
材を含む熱転写要素であり、前記層は(a) 昇華性化合
物、(b) 電磁線吸収剤および(c) 熱物質転写材料であ
り、ここで、昇華性化合物はアセチレン基を含まない。

【０００７】昇華性化合物は、50ml/ 分の窒素流下で10
℃/ 分の加熱速度で、少なくとも55℃の5%質量損失温度
を有し、且つ、約200 ℃以下の95% 質量損失温度を有
し、そして、少なくとも5%質量損失温度である融点温度
および少なくとも95% 質量損失温度であるピーク熱分解
温度を有する。

【０００８】本発明の別の態様は、上記の熱転写性ドナ
ー要素および画像受容性要素を含む熱転写系である。こ
れは、(a) 画像受容性要素と熱転写性ドナー要素とを接
触させること、および(b)(a)の構造体を画像様に露光
し、それにより、熱転写性ドナー要素の熱物質転写材料
を画像受容性要素に転写させること、の工程を含む画像
形成法において有用である。

【０００９】本発明において有用な昇華性化合物は、実
質的に無色である。「実質的に無色」とは、熱転写性ド
ナー要素から形成される画像において、昇華性化合物は
450〜500nm の間で約0.3 以下の光学濃度を与え、そし
て500nm 〜700nm の間で約0.2 以下の光学濃度を与える
ことを意味する。

【００１０】カラープルーフ、印刷版、フィルム、プリ
ント回路版および他の媒体を製造するためのレーザーア
ドレス可能な熱転写材料が提供される。この材料は、光
- 熱変換性組成物を上に被覆している基材を含む。この
組成物は昇華性材料を含む層を含む。この層の中、また
は、別個の層の中には、電磁線吸収剤および熱物質転写
性材料が含まれている。含まれることができる熱物質転
写性材料、例えば、顔料、トナー粒子、樹脂、金属粒
子、モノマー、ポリマー、染料またはそれらの組み合わ
せは、昇華性化合物を含む層の中に含まれてよく、また
は、昇華性化合物を含む層の上に被覆された更なる層の
中に含まれてもよい。電磁線吸収剤は、これらの層の中
のいずれかの中で用いられてよく、または、別個の層の
中で用いられてもよく、それにより、電磁エネルギー
源、例えば、レーザーで局所加熱が得られ、それによ
り、熱物質転写性材料は、例えば、レセプターに転写さ
れる。

【００１１】昇華性化合物本発明に用いる昇華性化合物は、50ml/ 分の窒素流下で
10℃/ 分で加熱されたときに、少なくとも約55℃である
5%質量損失温度を有することが好ましく、より好ましく
は少なくとも約60℃、そして最も好ましくは少なくとも
約70℃の５％質量損失温度を有する。昇華性化合物は14
0 ℃以下の5%質量損失温度を有することも好ましく、よ
り約125 ℃以下、そして最も好ましくは約110 ℃以下の
５％質量損失温度を有する。昇華性化合物は、50ml/ 分
の窒素流下で10℃/ 分で加熱したときに、約200 ℃以下
の95% 質量損失温度を有することが更に好ましく、より
好ましくは、約180 ℃以下であり、そして最も好ましく
は約165 ℃以下である。昇華性化合物は少なくとも約5%
質量損失温度である融点および少なくとも約95% 質量損
失温度であるピーク熱分解温度を有することも好まし
い。

【００１２】用語「昇華」とは、本特許明細書中でむし
ろ広く使用される。しばしば、この用語は通常に固体で
ある材料が、異常に易動性になり、そしてそれが移動条
件下での材料の実際の状態に関係なく、ある位置から別
の位置に移動されることができることのみを意味する。
しかし、適切には、昇華とは、固体状態での物質が、最
初に液体状態に溶融化されることなく気体状態に直接的
に転化するプロセスを示すものである。用語「昇華性」
または「昇華」は本発明の材料を説明するために使用さ
れるときにはこの適切な意味が意図されている。転化
は、材料が晒される温度を上げること、または、圧力を
下げることにより達成されうる。ギブス相法則による
と、固体、液体および気体が同時に平衡になる純物質の
三重点であることを特徴とする単一の温度および圧力が
存在する。この為、三重点での圧力が大気圧より高く、
そして固体が加熱されるときには、固体は溶融すること
なく直接的に気体になる。それ故、それは、大気圧で完
全に昇華性である。しかし、三重点での圧力が大気圧よ
り低いときには、加熱された固体は最初に液体状態に溶
融し、そして、もし温度が更に高くなると、次いで、沸
騰して気体を生成する。このような材料は、大気圧で完
全に昇華性ではない。しかし、三重点が大気圧よりあま
り低くないと、固体は高い蒸気圧を示す。この為、加熱
の間に、多量の固体が溶融の前に昇華により損失され
る。本発明で用いる材料を説明するために使用するとき
に、昇華という用語は、三重点が標準大気圧以下または
それ以上のいずれかである物質を指す。しかし、全ての
昇華性材料が本発明の実施のために適切であるわけでは
ないことが判り、そして、更に、有用な材料は示差走査
熱量計(DSC) と組み合わせた熱重量分析(TGA) により決
定される昇華特性により特性化されうることが判った。
昇華は、本発明で使用する材料が一部をなす構造体の画
像形成しきい値を減じることにおける材料の有効性の基
礎となることが信じられる。しかし、本願発明者はこの
効果のための特定の機構に固執することを望まず、本発
明で使用される純粋な昇華性物質の昇華特性は有用な材
料を選択する方法であることのみを注記しておく。

【００１３】TGAにおいて、既知の質量( 例えば、2 〜5
mg ) の昇華性材料を、( 標準温度および圧力、即ち、
２５℃および1 気圧で) 50ml/ 分の窒素流下で10℃/ 分
の一定速度で加熱し、そして初期質量損失の百分率を温
度の関数としてモニターする。質量損失が昇華によるも
のであることを確認するために、例えば、熱分解までDS
C 実験を行う。同一の昇華性材料(t例えば、1 〜5mg)を
DSC パンに入れ、それをキャップで密封し、昇華による
材料の損失を防止する。このパンを10℃/ 分の一定速度
で加熱し、そしてパンの熱の出入りをモニターする。も
し(1) 材料がTGA 実験において5%質量損失に必要な温度
より低い温度で溶融せず、且つ、(2)TGA実験において95
% 質量損失に必要な温度より低い温度で分解に伴う吸熱
または発熱ピークがないならば、材料は昇華性であるこ
とが認められる。純粋化合物の溶融はDSC 測定において
単一の鋭い吸熱ピークを伴う。DSC 測定の間には密閉し
たパンを使用するので、パン内の圧力は温度を上げると
ともに大気圧より高くなるであろう。このことにより、
完全に昇華し、そして標準大気圧下で溶融しない材料で
は、鋭い溶融吸熱が観測される。このような溶融吸熱の
観測は、TGA で測定して5%質量損失のための温度より高
い温度で発熱が起こるかぎりは、材料を昇華性材料とし
て不適切であるとしない。平衡状態においては材料が全
く溶融することなく昇華するとしても、TGA 実験で使用
する加熱速度においては幾つかの材料は昇華平衡に達せ
ず、そして、その為、溶融することも可能である。この
ような材料も、もし融解温度がTGA による5%質量損失の
ための温度よりも高いならば、昇華性であると考えられ
る。1 種の結晶形から別の種の結晶形への転移による吸
熱も観測されうるが、これは融点より低い温度で起こる
ので、昇華性の定義に影響を及ぼすものでない。

【００１４】TGA 実験において、5%質量損失のための温
度および95% 質量損失のための温度は昇華性材料を特性
化するために使用される。固体の蒸気圧の温度依存性
は、通常、アントイン(Antoine) 等式log P = A + B/T
( 式中、P は蒸気圧であり、Tは絶対( ケルビン) 温度
であり、そしてA およびB は特定の物質に特徴的な定数
である。) により良好に説明される。B は負の数であ
り、温度の増加にともなう圧力の増加を反映する。材料
のアントイン定数が知られているときには、TGA 実験の
結果はアントイン等式を使用して、良好に予測されうる
ことが判った。これは有効な昇華性材料の選択のための
代わりの基準を提供する。5%質量損失が起こるTGA 温度
は、アントイン等式が308 パスカルの蒸気圧を予測する
温度であり、95% 質量損失が起こるTGA 温度はアントイ
ン等式が5570パスカルの蒸気圧を予測する温度である。
アントイン等式の他の変形式、例えば、logP = A + B/
(C+T)またはlog P = A + B/T + C log T ( 式中、C は
物質に特徴的な更なる定数である。) は使用されてよ
い。

【００１５】アントイン定数の適切な資料は次のSteven
R.M.およびMalanowski S., Handbook of the Thermod
ynamics of Organic Compounds, Elsevier, New York,
1987; Timmermans, J., Physico-Chemical Constants o
f Pure Organic Compounds,Vol.2, Elsevier, New Yor
k, 1965; Landolt-Bronstein Physikalischemische Tab
ellen, Vol.2, Part 2a, Springer-Verlag, Bellin, 19
60; Jordan, E.T., Vapor Pressure of Organic Compou
nds, Interscience, New York, 1954; Timmermans, J.,
Physio-Chemical Constants of Pure Organic Compoun
ds, Elsevier,New York, 1950; Stull, D.R., Ind. En
g. Chem., 39, 517 (1947)およびInternational Critic
al Tables, Vol. 3, McGraw-Hill, New York, 1928であ
る。有用である更なる文献は、Cox, J.D.oPilcher, G.,
Thermochemistry of Organic and Organometallic Com
pounds, Academica Press, New York, 1970; Sears, G.
W.およびHopke, E.R., J.Am.Chem.Soc., 71, 1632 (194
9); Coolidge, A.S.およびCoolidge, M.S., 前掲文献4
9, 100 (1927); Klosky, S.ら、前掲文献49, 1280 (192
7); Noyes, Jr., W.A. およびWobbe, D.E. 前掲文献48,
1882(1926); Swan,T.H.およびMack, Jr., E.,前掲文献
47, 2112 (1925); Bradley, R.S.およびCleasby, T.G.,
J. Chem.Soc., 1961 (1953);Bradley, R.S.およびCots
on, S.前掲文献1684 (1953); Bradley, R.S.およびCar
e, A.D.前掲文献1688 (1953); Bradley, R.S.およびCle
asby, T.G. 前掲文献1690 (1953); Vanstone, E., 前
掲文献429 (1910); Ramsay, W.およびYoung, S. 前掲文
献49, 453 (1986); Davies, M.ら、Trans. Faraday So
c., 55, 110 (1959);Davies, M.およびJones, A.H前掲
文献55、 1329 (1959); Davies, M.およびJones, J.I.
前掲文献50, 1042 (1954); Balson, E.W. 前掲文献43,
54 (1947); Nelson, O.A. Ind. Eng. Chem., 22, 971(1
930); Mortimer, F.S. およびMurphy, R.V.前掲文献15,
1140 (1923); Schulze, F.-W. ら、Z. Phys. Chem. (N
eue Folge) 107, 1 (1977); Cordes, H. およびCammeng
a, H., 前掲文献45, 186 (1965) ; sHERWOOD, T.K. お
よびJohannes,C., AIChEJ., 8, 590 (1962); Andrews,
M.R., J. Phys. Chem., 30, 1497 (1926); およびKrie
n, G., Thermochim, Acta, 81, 29 (1984)である。

【００１６】有効な昇華性材料の選択は、一般に、化学
構造を基準とするものではなく、有機であるかまたは無
機であるかのいずれの特定の化学種に属する材料である
ことに限定されるものではない。代わりに、有効な昇華
性材料はTGA 測定または上記のアントイン等式で評価さ
れるTGA 挙動を基準として選択される。

【００１７】昇華性材料の制限しない例は、1,8-シクロ
テトラデカジイン; 無水マレイン酸; ベンゾフラン; フ
マロニトリル; ヘキサカルボニルクロム;1- ブロモ-4-
クロロベンゼン;1,4- ジアザビシクロ[2.2.2] オクタ
ン; 四臭化炭素;1,2,4,5- テトラメチルベンゼン; オク
タフルオロナフタレン; ヘキサカルボニルモリブデン;
塩化ガリウム(III);メチルピリジントリメチルほう素錯
体;4- クロロアニリン;2,5- ジメチルフェノール;1,4-
ベンゾキノン;2,3- ジメチルフェノール; フッ化ニオブ
(V);1,4-ジブロモベンゼン;1,3,5- トリクロロベンゼ
ン; ヘキサカルボニルタングステン; アダマンタン;m-
カルボラン;4,4'-ジフルオロビフェニル; アズレン; ト
ランス- シス- トランス- テトラデカヒドロアントラセ
ン;N-(トリフルオロアセチル) グリシン;1- ヒドロキシ
-2,2,6,6- テトラメチル-4- オキソピペリジン;2,2'-ジ
フルオロビフェニル; ブロモペンタクロロエタン; アセ
トアミド; ビフェニレン;2,5- ジメチル-1,4- ベンゾキ
ノン;4-tert-ブチルフェノール; ペンタフルオロ安息香
酸; ブチラミド;3- クロロアニリンヒドロクロリド; 塩
化アルミニウム(III);ジメドンジアゾ; バレルアミド;
シス-2- ブテン酸アミド;2,6- ジメチルナフタレン;1-
ブロモ-4- ニトロベンゼン; フラン-2- カルボン酸;1,2
- ジブロモテトラクロロエタン; トリメチルアミンほう
素トリフルオリド錯体;2,3- ジメチルナフタレン; ペル
フルオロヘキサデカン; ビス( シクロペンタジエニル)
マンガン; テトラシアノエチレン; 無水琥珀酸; フッ化
テルル(IV); フェロセン;1,2,3- トリヒドロキシベンゼ
ン; チオフェン-2- カルボン酸; シクロヘキシルアンモ
ニウムベンゾエート; トリス（2,4-ペンタンジオナト)
マンガン(III);安息香酸; ジシクロヘキシルアンモニウ
ムニトレート;1- アダマンタノール;2- クロロ- アニリ
ンヒドロクロリド;1,8,8- トリメチルビシクロ[3.2.1]
オクタン-2,4- ジオン;o- カルボラン; タングステン(V
I)オキソクロリド; 無水フタル酸; アニリンヒドロクロ
リド; トランス-2- ペンタン酸アミド; サリチル酸;1,4
- ジヨードベンゼン; ジメチルテレフタレート;2- アダ
マンタノン; トランス-6- ヘプテン酸アミド; ヘキサメ
チルベンゼン; キンヒドロン;4- フルオロ安息香酸; 塩
化ニオブ(V);塩化モリブデン(V);[2.2] メタシクロファ
ン; トリクロロ-1,4- ヒドロキノン; ピロール-2- カル
ボン酸; トリクロロ-1,4- ベンゾキノン; シュウ酸;2,6
- ジクロロ-1,4- ベンゾキノン;2- アダマンタノール;
2,4,6- トリ-tert-ブチルフェノール; ペンタエリトリ
トールテトラブロミド; 塩化タンタル(V);シス-1,2- シ
クロヘキサンジオール; トランス-1,2- シクロヘキサン
ジオール; マロン酸; トランス-2- ヘキセン酸アミド;
(±)-1,3-ジフェニルブタン; トリス(2,4- ペンタンジ
オナト) コバルト(III);4,4'- ジクロロビフェニル; ヒ
ドロキノン;1,4- ジヒドロキシ-2,2,6,6- テトラメチル
ピペリジン; フェナジン;2- アミノ安息香酸; トリス
(2,4- ペンタンジオナト) バナジウム(III);テレフタル
酸モノメチルエステル;4- アミノフェノール; ヘキサメ
チレンテトラアミン; および4-メトキシ安息香酸のよう
な材料を含む。

【００１８】上記の材料は、大気圧より低いまたは高い
三重点を有する化合物を含む。第一の種類の化合物は、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン( 三重点;64 ℃、85
10Pa) 、1,4-ジクロロベンゼン(53 ℃、1220Pa) および
樟脳(180℃、0.051MPa) を含む。ヘキサクロロエタン(1
87℃、0.107MPa) およびアダマンタン(268℃、0.482MP
a) は標準大気圧より高い三重点を有し、加圧下に閉じ
込めないかぎり、溶融することなしに昇華する。

【００１９】昇華性材料はいずれの化学種のもであって
もよい。有用なカテゴリーは、一若しくは二環芳香族分
子、例えば、ベンゼン、ナフタレンおよびそれらの誘導
体;酸、アミドおよびカルバメートのような水素が結合
した小分子; フッ素化材料;およびほぼ球形の分子、例
えば、四臭化炭素、ヘキサクロロエタン、金属カルボニ
ル、カルボラン、遷移金属フッ化物、アダマンタン、樟
脳等を含む。球形分子である材料は、通常、結晶内での
分子の回転または振動により生じる、6 カロリーK ^-1モ
ル^-1未満の融解のエントロピーを有するものとして規定
される、プラスティック結晶のクラスに属する。もし高
い融解エントロピーを有するならば、これらの材料はし
ばしば高い昇華圧力を示す。様々なこのようなプラステ
ィック結晶材料はAngell, C.A.らのJ. Chim. Phys., 8
2, 773 (1985);Postel, M. およびRiess, J.G., J. Phy
s. Chem., 81, 2634 (1977);Gray, G. W. およびWinso
r,P.A., Liquid Crystals and Plastic Crystals, Vol.
1, Wiley, New York, 1974; Stavely, L.A.K., Amm. Re
v. Phys. Chem., 13, 351 (1962); Timmermans, J., J.
Phys. Chem. Solids, 18, 1 (1961);およびDunning,
W.J.,前掲文献18, 21(1961) に記載されている。適切な
材料の例は、ベンゼン誘導体( 1 個以上のハロゲン、ヒ
ドロキシル、アミノ、カルボキシル、ニトロ基等で置換
されたベンゼン) 、ナフタレン誘導体( 1 〜4 個の炭素
数の1 個または2 個のアルキル基で置換されたナフタレ
ン) 、ビフェニル誘導体 (1 個または2 個のハロゲンで
置換されたビフェニル) 、4 〜8 個の炭素数のジカルボ
ン酸の無水物、2 〜8 個の炭素数のカルボン酸のアミ
ド、2 〜8 個の炭素原子を有し、そして任意にヘテロ原
子、O 、S 、N を含む脂肪族、芳香族およびヘテロ芳香
族のタイプのカルボン酸、フッ素化誘導体( 一般に式C
_nF _n-2、C _nF _n、およびC _nF_2n+2、式中、nは10
〜18である。) 、ベンゾキノン誘導体(1個以上のハロゲ
ン原子または1 〜4個の炭素数のアルキル基で置換され
たベンゾキノン) 、ペルハロエチレン( 一般にC ₂Cl_n
Br_6-n、式中、n は2 〜6 である。) 、多環式化合物誘
導体( 環中に窒素原子を任意に含み、そしてハロゲン原
子、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アミノ、カル
ボキシ基で任意に置換されたビシクロまたはアダマンタ
ン骨格) および無機化合物( 一般に式M(CO)₆、M(シクロ
ペンタジエニル)₂、M(acac)₃、MCl₅およびMF₆、式中、
M は第5 〜10族の金属である。) を含む。

【００２０】他の昇華性材料は、Ｇrant, B.D.らのIEEE
Trans. Electron Devices, ED-28,1300 (1981)および
"Diazo Compounds for Laser-Induced Mass Transfer I
maging Materials" の発明の名称の本願出願人の米国特
許出願でこれと同日になされたものに記載されたアゾ化
合物を含み、それを参照により本明細書中に取り入れ
る。

【００２１】昇華性化合物が有用であるためには、それ
は、過度に昇華性であっても、または非常に低い昇華性
であってもならない。他方、5%質量損失のための温度が
約55℃未満であるならば、その化合物は有用でなく、そ
れは塗布、乾燥、貯蔵の工程の間に画像形成層から容易
に昇華しうるからである。これは例1 の最初の2 つの化
合物で見られることである。好ましくは、それ故、5%質
量損失のための温度は少なくとも約60℃であり、そして
最も好ましくは少なくとも約70℃である。

【００２２】他方、低い蒸気圧を有する熱安定な昇華性
化合物は近IRレーザーでの画像様加熱の間に画像層内ま
たはその下での圧力の急速な累積に有意に寄与すること
ができない。5%質量損失のための温度は、それ故、好ま
しくは約140 ℃以下であり、より好ましくは約125 ℃以
下であり、そして最も好ましくは約110 ℃以下である。

【００２３】化合物が十分な蒸気圧を有するかどうかの
別の指標は、95% 質量損失のための温度である。有用な
物質であるためにはこの温度は約200 ℃未満である。こ
の温度の境界となる正確な上限値は画像形成性レーザー
の出力、画像形成のための滞留時間および画像のスポッ
トサイズによるであろう。画像形成層中の温度を上げる
ことに寄与するファクター、例えば、高出力、長いが過
度ではない滞留時間、および小さいスポットサイズは95
% 質量損失のための可能最大温度を高めるはずである。
極端に長い滞留時間(10 マイクロ秒以上) は熱伝導損失
により温度を下げることになることがある。95% 質量損
失のための好ましい温度は、約180 ℃以下であり、そし
て最も好ましくは約165 ℃以下である。例は5%および95
% 質量損失のための好ましい制限値を例示するであろ
う。

【００２４】昇華性材料が好ましい制限値内にあるとき
には、物質は加熱時に非常に急速な蒸気圧の変化を経験
することは更に望ましい。このような物質では、アント
イン等式log P = A - B/T 中のB 定数は大きいであろ
う。大きい値は約3000を越え、より好ましくは約4000を
越える。更に、5%質量損失のための温度および95% 質量
損失のための温度の差は、小さいであろう。有用な材料
において、この差異は約85℃未満であり、そして好まし
くは約75℃未満である。最も好ましくは、これらの温度
の差異は65℃以下である。このことも例中に例示され
る。

【００２５】これらのファクターを全て勘案すると、昇
華性化合物の好ましい群は、2-ジアゾ-5,5- ジメチル-
シクロヘキサン-1,3- ジオン、樟脳、ナフタレン、ボル
ネアール(borneal) 、ブチラミド、バレラミド、4-tert
- ブチルフェノール、フラン-2- カルボン酸、無水琥珀
酸、1-アダマンタノール、2-アダマンタノンを含む。

【００２６】熱物質転写性材料熱物質転写性材料は、強電磁線吸収法により基材または
ドナー要素から除去されうる材料である。光の強度によ
り、材料内または材料の隣接部の光- 熱変換は材料の融
解および／または材料内または隣接部のガス生成をもた
らす。ガス生成は、ガス生成物への蒸発、昇華または熱
分解により起こりうる。ガスの膨張はドナー基材からの
剥離をもたらし、またはドナーからレセプターへの材料
の推進をもたらす。後者のプロセスはしばしばアブレー
ション( 融蝕) と呼ばれる。材料の融解または軟化はレ
セプターへの付着を促進する。このように、全体の転写
プロセスは融蝕または溶融粘着転写またはその2 種の組
み合わせを用いる。

【００２７】本発明における使用に適切な熱物質転写性
材料は、熱転写ドナー要素から光-誘導熱物質転写を経
験することができる材料である。通常、これらは、画像
様に画像受容要素に対して転写されうる材料である。所
望用途により、熱物質転写性材料は、次の１種以上を含
むことができる; 染料; 金属粒子またはフィルム; 選択
的光吸収剤、例えば、赤外吸収剤および、同定、保全お
よびマーキング目的のための蛍光剤; 顔料; 半導体; 電
送写真若しくは電子写真トナー; テレビまたは医学画像
目的で使用される燐光物質; 無電解メッキ触媒; 重合触
媒; 硬化剤; および光開始剤。

【００２８】カラー転写印刷のためには、染料は、通
常、熱物質転写性材料中に含まれる。適切な染料は、Ve
nkataraman, K., The Chemistry of Synthetic Dyes, V
ols. 1〜4, Academic Press, 1970 およびThe Colour I
ndex, Vol.1 〜8, Society ofDyers and Colourists, Y
orkshire, Englandに示されているものを含む。適切な
染料の例は、シアニン染料( ストレプトシアニン、メロ
シアニンおよびカルボシアニン染料) 、スクエアリリウ
ム染料(squarylium dyes) 、オキソノール染料、アント
ラキノン染料、ジラジカルジカチオン染料( 例えば、IR
-165) 、および完全極性染料（holopglar dyes）、多環
式芳香族炭化水素染料等を含む。同様に、顔料は色およ
び蛍光を付与するために熱物質転写内に含まれることが
できる。例は画像形成技術における使用のために知られ
ているものであり、Pigment HAndbokk, Lewis, P.A. E
d., Wiley, New York, 1988に示されているものを含
み、または、Hilton-Davis, Sun Chemical Co., Aldric
h Chemical Co., Imperial Chemical Industries等のよ
うな市販元から入手可能である。

【００２９】電気回路素子の製造および電子部品の封入
のために( 例えば、半導体、抵抗体、導電性接着剤等)
、金属若しくは金属酸化物、繊維またはフィルムを熱
物質転写性材料中に含ませることが望ましいことがあ
る。適切な金属酸化物は、二酸化チタン、シリカ、アル
ミナおよび、クロム、鉄、コバルト、マンガン、ニッケ
ル、銅、亜鉛、インジウム、錫、アンチモンおよび鉛の
酸化物、或いは黒色アルミニウムを含む。適切な金属フ
ィルム若しくは粒子は、大気中で安定な金属から得られ
たものであり、制限するわけではないが、アルミニウ
ム、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マン
ガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、
ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、
モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、
カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、
ガドリニウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、
ルテニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、タリ
ウムおよび鉛、並びにそれらの合金および混合物を含
む。半導体は熱物質転写性材料中に含まれることができ
る。適切な半導体は、炭素( ダイアモンドまたはグラフ
ァイトを含む) 、珪素、ヒ素、ヒ化ガリウム、アンチモ
ン化ガリウム、リン化ガリウム、アンチモン化アルミニ
ウム、酸化インジウム錫、アンチモン化亜鉛、ビスマス
等を含む。

【００３０】画像様に変性した表面( 例えば、付着性ま
たは湿潤性を高くするまたは低くする) を提供するよう
に、基材に対して熱物質転写材料を転写することがしば
しば望ましい。このような用途では、熱物質転写材料は
Ranny, W.W., Silicones, Vols. 1 および2, Noyes Dat
a Corp., 1977 に記載されているようなシリコーンポリ
マーのようなポリマーまたはコポリマーを含むことがで
きる。使用されうる他のこのようなポリマーは、フッ素
化ポリマー、ポリウレタン、アクリルポリマー、エポキ
シポリマー、ポリオレフィン、スチレン- ブタジエンコ
ポリマー、スチレン- アクリロニトリルコポリマー、ポ
リエーテル、ポリエステル、ポリビニルアルコールのア
セタール若しくはケタール、酢酸ビニルコポリマー、塩
化ビニルコポリマー、塩化ビニリデンコポリマー、セル
ロースコポリマー、ジアゾニウム塩の縮合ポリマー、並
びに、フェノール樹脂、例えば、ノボラック樹脂および
レゾール樹脂を含む。

【００３１】他の用途において、モノマーまたは未硬化
オリゴマーまたは架橋性樹脂のような硬化性材料を転写
することも望ましい。この用途では、熱物質転写性材料
は重合性モノマーまたはオリゴマーであることができ
る。材料の特性は、貯蔵の問題を避けるためにモノマー
またはオリゴマーの揮発性が最小であるように選択され
るべきである。適切な重合性材料は、アクリレートまた
はエポキシ末端ポリシロキサン、ポリウレタン、ポリエ
ーテル、エポキシド等を含む。適切な熱架橋性樹脂は、
イソシアネート、メラミンホルムアルデヒド樹脂等を含
む。重合性および／または架橋性の転写性バインダーは
液晶デバイスのためのフィルターアレーの製造のために
特に価値があり、ここで、カラー層は続いて行う幾つか
の厳しい処理工程に耐えなければならない。

【００３２】本発明の熱物質転写要素が多層構造である
ならば、熱物質転写性材料は最外層中にある。この為、
熱物質転写性材料、電磁線吸収剤および昇華性化合物を
含むことができるのは1 層構造だけではなく、これらの
材料の各々は別個の層の中にあることができる。また
は、それらの材料のいずれかの2 種が1 層中に組み合わ
され、そして三番目の材料は第二層の中にあることがで
きる。例えば、トップコートは1 層以上の層の中に熱物
質転写性材料( 例えば、有機ポリマーバインダー中のト
ナーまたは顔料) を含み、そして下層が昇華性化合物お
よび電磁線吸収剤を含むことができる。この為、1 層以
上の層が使用されるとしても、熱物質転写性材料が最外
層中にあることのみが要求される。

【００３３】電磁線吸収剤は、高強度の短時間の光源、
例えば、レーザーから放出される電磁線を吸収するため
に使用されることができるものである。それは、様々な
波長の電磁線に対する熱転写ドナー要素を増感させ、入
射電磁線を熱エネルギーに変換するように作用する。即
ち、電磁線吸収剤は、光- 熱変換(LTHC)要素として作用
する。電磁線吸収剤が入射電磁線を高度に吸収し、その
為、最小量( 可溶性吸収剤では重量% または不溶性吸収
剤では体積%)が塗膜中で使用されうることが一般に望ま
しい。通常、電磁線吸収剤は黒色体の吸収剤であるか、
または、有機顔料若しくは染料であり、それは約0.2 〜
3.0 の光学濃度を提供するものである。

【００３４】構造体中で使用されるLTHCの量は、光から
熱への変換効率、露光波長でのLTHC吸収率および構造体
の厚さまたは光学距離により選択されるであろう。LTHC
が別個の層中に存在するときで、この場合には100%まで
の量になるときを除いては、50重量% 以下のLTHCが使用
されることが好ましい。LTHCの広い範囲が使用されるこ
とができ、そして幾つかの制限しない例を下記に示す。

【００３５】染料はこの目的に適切であり、そして粒状
形態で存在することができるか、または、好ましくは実
質的に分子分散体として存在する。IRスペクトル領域で
吸収する染料は特に好ましい。このようなLTHC染料の例
は、Matsuoka,M., InfraredAbsorbing Materials ,Plen
um Press, New York, 1990 、Matsuoka, M. Absorption
Spectra of Dyes for Diode Lasers, Bunshin Publish
ing Co., Tokyo, 1990 、米国特許第4,833,124 号(Lum)
、第4,912,083 号(Chapmanら) 、第4,942,141 号(DeBo
er ら) 、第4,948,776 号(Evansら) 、第4,948,777 号
(Evansら) 、第4,948,778 号(DeBoer)、第4,950,639 号
(DeBoer)、第4,952,552 号(Chapmanら)、第5,023,229
号(Evansら) 、第5,024,990 号(Chapmanら) 、第5,286,
604 号(Simmons) 、第5,340,699 号(Haleyら) 、第5,40
1,607 号(Takiff ら) および欧州特許第568,993 号(Yam
aokaら) に見ることができる。更なる染料は、Bello,
K.A. らのJ. Chem. Soc., Chem. Commun., 452 (1993)
および米国特許第5,360,694号(Thienら) に記載されて
いる。American Cyanamid またはGlendale Protective
Technologies, Inc., Lakeland, FLにより、CYASORB IR
-99,IR-126およびIR-165の商品名で販売されているIR吸
収剤も使用されてよく、米国特許第5,156,938号(Foley
ら) に開示されている通りである。LTHCの更なる例は、
米国特許第4,315,983 号(Kawamura ら) 、第4,415,621
号(Specht ら) 、第4,508,811 号(Gravesteijnら) 、第
4,582,776 号(Matsui ら) および第4,656,121 号(Sato
ら) に見ることができる。従来の染料に加えて、米国特
許第5,351,671 号(Williams ら)はLTHCとしてIR吸収性
導電性ポリマーの使用を記載している。当業者に明らか
なように、記載されている全ての染料は全ての構造体に
対して適切なわけではないであろう。このような染料
は、特定のポリマー、昇華性材料およびコーティング溶
剤中での可溶性および相溶性により選択されるであろ
う。

【００３６】顔料材料もLTHCとして構造体中に分散され
ることができる。例は、米国特許第4,245,003 号(Oruan
ski ら) 、第4,588,674 号(Stewartら) 、第4,702,958
号(Itoh ら) および第4,711,834 号(Buttersら) 並びに
英国特許第2,176,018 号(Itoら) に開示されているカー
ボンブラックおよびグラファイト、並びに、米国特許第
5,166,024 号(Bugner ら) および第5,351,617 号(Willi
ams ら) に記載されているフタロシアニン、ニッケルジ
チオレンおよび他の顔料を含む。更に、例えば、ピラゾ
ロンイエロー、ジアニシジンレッドおよびニッケルアゾ
イエローの銅若しくはクロム錯体をベースとした黒色ア
ゾ顔料は有用である。無機顔料も有用である。例は、例
えば、米国特許第5,256,506 号（Ellis ら) 、第5,351,
617 号(Williams ら) および第5,360,781 号(Leenders
ら) に開示されており、そして、金属、例えば、アルミ
ニウム、ビスマス、錫、インジウム、亜鉛、チタン、ク
ロム、モリブデン、タングステン、コバルト、イリジウ
ム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、ジルコ
ニウム、鉄、鉛またはテルルの酸化物または硫化物を含
む。金属ほう素化物、炭化物、窒化物、炭素窒素化物(c
arbonitrides) 、青銅構造酸化物、および、青銅族構造
関連酸化物( 例えば、WO_2.9)も有用であり、例えば、米
国特許第5,351,617 号(Williams ら) に教示されてい
る。

【００３７】分散した粒状LTHCを使用するときに、粒径
は約10μm(マイクロメートル) 未満であることが好まし
く、そしてそれは約1 μm 未満であることが特に好まし
い。金属そのものが、例えば、米国特許第4,252,671 号
(Smith) に記載されているように粒子の形態で使用され
るか、または、米国特許第5,256,506 号(Ellisら) に開
示されているように、熱物質転写層と同一平面内にまた
はそれと隣接してフィルムとして使用されることができ
る。適切な金属は、アルミニウム、ビスマス、錫、イン
ジウム、テルルおよび亜鉛を含む。

【００３８】このような同一平面内のLTHC層の厚さは、
吸収される赤外線の量と反射される赤外線の量との間の
良好な兼ね合いを与えるように周知の光学原理を用いて
選択されるであろう。金属フィルムの場合には、付着、
スパッタリングまたは蒸着の間のフィルムの部分酸化
は、例えば、吸収率を上げ、そして反射率を下げるのを
助けることができる。珪素、ゲルマニウムまたはアンチ
モンのような半導体も、LTHCとして有利であり、例え
ば、米国特許第2,992,121 号(Francisら) および第5,35
1,617 号(Williams ら) に記載されている通りである。

【００３９】画像の色が重要である構造体中でLTHCが使
用されるときに、例えば、カラープルーフの場合に、LT
HCが画像に対する望ましくないバックグランドカラーを
付与しないように注意を払うべきである。これは、LTHC
として染料、例えば、スクエアリリウム染料を使用する
ことにより行われることができ、それは赤外線の狭い吸
収域を有し、そして結果的に可視領域での光吸収は殆ど
なくまたは全くない。バックグランドカラーが重要であ
るならば、LTHCが、別個の層中に、通常、基材と転写さ
れるべき材料との間に取り込まれるときに、より広い範
囲のLTHCは使用されてよい。

【００４０】任意の添加剤様々な他の材料も熱物質転写性材料中に含まれてよい。
界面活性剤( Porter,M. R.の Handbook of Surfactant
s, Blackie, Chapman and Hall, New York, 1991 に記
載されているようなもの) は構造体の画像形成感度を改
良することができる。好ましい界面活性剤は、欧州特許
第602,893 号(Warner ら) により教示されているような
フルオロケミカル界面活性剤である。界面活性剤は、熱
転写ドナー要素のいずれの層に混入してもよい、好まし
くは、それは、凝集性を低下するために、ドナー要素の
最上層中の熱物質転写性材料中に含まれる。制限しない
フルオロケミカル界面活性剤の例は、Minnesota Mining
and Manufacturing Co.(St.Paul, MN)からFLUORAD の
商品名で入手可能であるものを含む。

【００４１】熱転写性要素は、被膜形成能、転写特性等
を改良するために、当業界における従来の他の添加剤を
含むことができる。これらは、コーティング助剤、乳化
剤、分散剤、脱泡剤、スリップ剤、粘度調節剤、潤滑
剤、可塑剤、UV吸収剤、光安定剤、蛍光増白剤、酸化防
止剤、保存剤、帯電防止剤等を含む。多くの例は米国特
許第5,387,687 号(Scrima ら) に見ることができる。充
填剤は構造体中に含まれてよく、マイクロメートルサイ
ズ範囲のポリマービーズも含まれてよい。これは、ドナ
ー材料シートが互いに重ねて積まれたときにブロッキン
グを防止するために有利であることができ、または、指
紋の付着を最小にすることができる。

【００４２】構造体の層のいずれも有機ポリマーバイン
ダーを含むことができる。例示のバインダーは熱物質転
写性材料の議論において上記に示した。他の適切なバイ
ンダーは、様々な熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ワック
スおよびゴムを含む。それはホモポリマーであってもま
たはコポリマーであってもよい。複数の材料は、相溶性
ブレンド、相分離系、相互進入ネットワーク等として同
時に存在してよい。通常、これらのバインダーは、加工
を援助するために有機溶剤中で可溶性または分散性であ
るべきである。このようなバインダーの制限しない例
は、オレフィン系樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、
ビニル樹脂( 酢酸ビニル、塩化ビニルおよび塩化ビニリ
デンコポリマーを含む) 、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、アリル樹
脂、尿素樹脂、フェノール樹脂( 例えば、ノボラックま
たはレゾール樹脂) 、メラミン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリケタール樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエ
ーテル樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリフェニ
レンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン
樹脂、フッ素含有樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ樹脂、イオノマー樹脂、ロジン誘導体、天
然ワックス( 動物、植物および鉱物) および合成ワック
ス、天然および合成ゴム( 例えば、イソプレンゴム、ス
チレン/ ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ ブタジエンゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴ
ム、アクリルゴム、クロロスルホン酸化ポリエチレンゴ
ム、ヒドリンゴム、ウレタンゴム等) を含む。水分散性
樹脂またはポリマーラテックス若しくはエマルジョンも
使用されてよい。

【００４３】熱転写ドナー要素本発明の熱転写ドナー要素は、上記に規定した昇華性化
合物を含む材料の少なくとも1 層の層で被覆された基材
を含む。この層は、電磁線吸収剤( 即ち、光−熱変換剤
またはLTHC) をも含んでよい。しかし、多層が使用され
てもよい。本発明の熱転写性要素が多層構造体であるな
らば、熱物質転写性材料が最外層にある。この為、熱物
質転写性材料、LTHCおよび昇華性化合物を含むことがで
きるのは1 層構造体だけでなく、これらの材料の各々は
別個の層の中に含まれることができる。

【００４４】または、それらのいずれか2 種が1 層中で
組み合わされて、そして第三の材料が第二層中に含まれ
てもよい。例えば、トップコートは、有機ポリマーバイ
ンダー中のトナーまたは顔料を1 層またはそれ以上の層
の中に熱物質転写性材料として含み、そして下層は昇華
性化合物およびLTHCを含むことができる。この為、1層
またはそれ以上の層が使用されるとしても、熱物質転写
性材料が最外層中にあることが唯一要求されることであ
る。熱物質転写性材料は、それ自体、1 層または2 層を
構成することができ、後者の場合には、物質転写層の構
成層の両方は画像形成プロセスの間に転写される。例え
ば、熱物質転写性材料が、その最外層として接着剤コー
ティングを有するならば、転写されたコーティングのレ
セプターへの付着性が上がる。脆性または耐火性の材料
が転写されるならば、または、受容要素に付着性促進膜
を適用することが実用的でないならば、これは非常に有
用である。または、熱物質転写性材料の最外層は着色剤
または反応性樹脂を含んでよく、このとき、熱物質転写
材料の直下の層は、昇華性化合物またはLTHCの最外層へ
の拡散または滲出を制限するために、または、画像形成
の間のドナーからの熱物質転写性材料の開放を補助する
ために使用されることができる。

【００４５】本発明の昇華性材料は画像形成光の波長で
光を吸収することは要求されない。実際、赤外線の強い
吸収のために要求される、大きな広く非局在化した電子
系は上記に規定したような有用に高い蒸気圧を有する固
体を提供するための十分に小さい分子サイズとは相いれ
ないものがある。また、一般に、昇華性化合物が可視領
域の光を吸収することは望ましくなく、これは、熱物質
転写画像に所望されない色を付与するからである。更
に、Krien, G., Thermochim, aCTA, 81, 29 (1984)に例
示されているように、通常の昇華性染料は本発明の昇華
性化合物よりも有意に低い蒸気圧を示す。例えば、色煙
中に使用される20種の昇華性染料では、明らかな重量損
失の最小温度が157 ℃〜290 ℃の範囲であることが判っ
た。これらの温度では、染料は35±28Paの蒸気圧を示
し、即ち、例1 における5%質量損失点についての308Pa
の10倍低い。これは発色系を発現するために要求される
分子サイズによるものである。それ故、昇華性化合物は
実質的に無色であることが好ましく、定量的な色の限界
を下記に示す。

【００４６】1 層中であってもまたは別個の層の中であ
っても、昇華性化合物、電磁線吸収剤および熱物質転写
性材料は、適切な画像、印刷版、カラープルーフ、レジ
スト、導電性素子等を提供するために有効な量で存在す
る。好ましくは、昇華性化合物は、合計の塗膜の約5 〜
65重量% の量で存在し、電磁線吸収剤は合計の塗膜の約
5 〜50重量% の量で存在し、そして熱物質転写性材料は
合計の塗膜の約5 〜75重量% の量で存在する。

【００４７】本発明で用いる昇華性化合物が熱転写性材
料層中に含まれるならば、それは約5 〜約65重量% の量
で存在する。好ましくは、それは約10〜60重量% の量で
存在し、そして最も好ましくは約20〜約50重量% の量で
存在する。もし昇華性化合物が熱物質転写性層の下の別
個の層中に含まれるならば、より多量で使用されること
ができ、100 重量％までで使用されてよい。好ましい範
囲は、約20〜100 重量% である。昇華性化合物の最適量
は得られる転写効率および、もし最終画像に色を付与す
るものであれば、その色の度合い、の両方を基準に選択
されるであろう。

【００４８】熱転写ドナー要素が適用される基材または
支持体は剛性であってもまたは可撓性であってもよい。
支持体は画像形成光( 赤外線を含む) の波長または他の
波長のいずれに対しても反射性であってもまたは非反射
性であってもよい。ドナーのためのキャリアは不透明で
あっても、透明であってもまたは半透明であってもよ
い。透明キャリアの場合には、光学画像形成はコーティ
ング側またはキャリア側のいずれからであってもよい。
布帛、マット、シート、ホイル、フィルムまたはシリン
ダーに成形できる、どんな天然または合成製品も基材と
して適切である。この為、基材はガラス、セラミック、
金属、金属酸化物、繊維材料、紙、ポリマー、樹脂、塗
工紙またはこのような材料の混合物、層群若しくはラミ
ネートであってもよい。適切なドナー基材は、プラステ
ィック; ガラス; ポリエチレンテレフタレート; 本質的
に9,9-ビス(4- ヒドロキシフェニル) フルオレンおよび
イソフタル酸、テレフタル酸またはそれらの混合物から
誘導された繰り返しの共重合単位からなるフルオレンポ
リエステルポリマー; ポリエチレン; ポリプロピレン;
ポリ塩化ビニルおよびそのコポリマー; 加水分解および
未加水分解酢酸セルロースから製造されたシートまたは
フィルムを含む。好ましくは、ドナー基材は所望の画像
形成電磁線に対して透明である。しかし、画像形成波長
で十分な透明性および十分な機械安定性を有するどんな
フィルムも使用されうる。使用できる不透明基材は、充
填剤入りのおよび／または被覆された、不透明なポリエ
ステル、印刷版に使用されているようなアルミニウム支
持体およびシリコンチップを含む。熱物質転写層を基材
上に被覆する前に、基材は、コーティングの付着性を改
良するために、下塗され、または処理される( 例えば、
コロナで) ことができる。基材の厚さは所望の用途によ
って広く変化させることができる。ドナー材料はシート
またはロールとして提供されうる。これらのいずれも、
製品内で均一に単色であってよく、そして、多色画像を
製造するためには異なる色の複数の製品が使用される。
または、ドナー材料は、複数の色の領域を含むことがで
き、そして多色画像を形成するために単一のシートまた
はロールが使用される。

【００４９】熱転写ドナー要素は、適切な溶剤( 例え
ば、テトラヒドロフラン(THF) 、メチルエチルケトン(M
EK) 、トルエン、メタノール、エタノール、n-プロパノ
ール、イソプロパノール、水、アセトンおよびThe Dow
Chemical Company, Midland, MI からDOWANOL の商品名
で市販されているもの等、並びに、それらの混合物) 中
に成分を導入し、得られた溶液を、例えば、室温( 即
ち、25〜30℃) で混合し、得られた混合物を基材上に塗
布し、そして得られた塗膜を、好ましくは若干の昇温で
( 例えば、80℃) 乾燥することにより製造されうる。材
料は、ナイフコーティング、ロールコーティング、カー
テンコーティング、スピンコーティング、押出ダイコー
ティング、グラビアコーティング、スプレー等のような
適切な塗布技術により基材に塗布されることができる。

【００５０】熱物質転写材料が多層構造体の別個の層で
あるときには、それは、制限するわけではないが、有機
若しくは水性溶剤中の溶液または分散体からの塗布( 例
えば、バーコーティング、ナイフコーティング、スロッ
トコーティング、スライドコーティング等) 、蒸着コー
ティング、スパッタリング、グラビアコーティング等を
含めた様々な技術により適用されることができ、熱物質
転写性材料自体の要求により決まる。

【００５１】好ましくは、昇華性化合物を含む層は約0.
1 〜約10μm の厚さを有し、より好ましくは約0.2 〜約
5 μm の厚さを有する。昇華性化合物を含む層の最終画
像に対する色の寄与は、500 〜700nm の領域において、
約0.2 未満、そして好ましくは約0.1 未満の吸収単位で
あり、そして、450 〜500nm の領域において、約0.3未
満、そして好ましくは約0.2 未満の吸収単位である。熱
物質転写性材料は必要に応じて、高度に着色されていて
よく、別個の層において塗布されるときには、この層は
好ましくは約0.1 〜10マイクロメートルであり、そして
より好ましくは約0.3 〜約2 マイクロメートルである。

【００５２】画像形成法本発明の熱転写ドナー要素は、通常、画像受容要素とと
もに組み合わされて使用される。適切な画像受容要素(
即ち、熱物質転写受容要素) は当業界において周知であ
る。本発明において使用されうる画像受容要素の制限し
ない例は、陽極酸化アルミニウムおよび他の金属; 透明
ポリエステルフィルム( 例えば、PET);不透明の充填剤
入りのプラスティックおよび不透明の被覆されたプラス
ティックシート; 様々な異なるタイプの紙( 例えば、充
填剤入りのものまたは充填剤の入ってないもの、カレン
ダー加工されたもの等);布帛( 例えば、レザー) ; 木;
段ボール; ITO-被覆された導電性ガラスを含めた、ガラ
ス; プリント回路版; 半導体; およびセラミックを含
む。画像受容要素は未処理であっても、または、転写/
剥離プロセスを援助するためにまたは転写された材料の
付着性を改良するために処理されていてもよい。レセプ
ター層は、米国特許第5,351,617 号(Williamsら) に開
示されているように、ドナーに予備積層されてもよい。
これは画像がドナー自体の上に形成されるときに有用で
あることができ、そして予備積層されたレセプターは融
蝕破片を閉じ込め、そしてその拡散を制限するように作
用する。画像は、この為、ドナー上で形成され、そし
て、レセプターは剥離され、そして転写される。

【００５３】本発明の実施において、熱転写ドナーが画
像受容要素とともに使用されるときに、熱転写ドナーお
よび画像受容要素は互いに密に接触され、それにより、
照射時に、熱物質転写性材料はドナー要素から受容要素
に転写される。例えば、ドナーおよび画像受容要素を真
空技術（例えば、真空ホールドダウン）、正圧、画像受
容要素自体の付着性または予備積層により密に接触する
ことができ、そして熱転写レセプター、または、好まし
くはドナー要素は画像様に加熱される。熱物質転写性材
料のドナーから画像受容要素への転写後に、画像は画像
受容要素上に形成され、そしてドナー要素は画像受容要
素から取り外されることができる。または、本発明の熱
転写ドナー要素は画像受容要素を用いずに、単に融蝕さ
れて画像形成された製品を提供するように使用されるこ
ともできる。この場合、融蝕破片を抑制するように剥離
可能なトップコートは使用されてよい。

【００５４】このように、本発明のドナー要素は、マー
キング、バーコーディングおよびプルーフィングの用途
のための転写印刷、特にカラー転写印刷において使用さ
れることができる。マスキング用途で使用されることも
でき、ここで、転写された画像は、グラフィックアート
またはプリント回路産業におけるレジストおよび他の感
光性材料における露光マスクである。このような用途で
は、熱物質転写材料は、一般的な露光装置から光のアウ
トプットをブロックするために有効な材料を含む。適切
なこのような材料は、クルクミン、アゾ誘導体、オキサ
ジアゾール誘導体、ジジシナマラセトン誘導体、ベンゾ
フェノン誘導体等を含む。または、熱転写材料は、エッ
チレジストを形成することができる材料を含むことがで
きる。

【００５５】接着剤中に金属粒子を含むドナーは、チッ
プ結合において導電性接着剤として作用するように回路
版に選択的に転写されうる。バインダー中のより少量の
体積分率の導電性粒子または、代わりに半導体粒子が転
写されるときには、抵抗回路素子が製造されうる。

【００５６】本発明のドナー要素は印刷版の製造にも使
用されうる。ここで、画像形成された材料を、例えば、
短時間の高温ベークにより架橋することにより耐久性を
得ることができる。例えば、本発明のドナー要素は、無
水または平版印刷版を製造するためにも使用されうる。
平板印刷版では、親油性熱転写材料の親水性レセプタ
ー、例えば、粒化された陽極酸化されたアルミニウムへ
の転写は使用される。好ましくは、熱転写材料は、感度
および解像度を最大化するように未架橋状態で転写され
る。得られた印刷版を、インクおよびインク源溶液を用
いて平板印刷プレス上で印刷するために使用する。しば
しば、転写後の熱転写材料の耐久性を上げ、それによ
り、より長時間の運転長さの印刷版を提供するために、
熱転写性材料は、熱および電磁線照射（例えば、ＵＶ）
時に熱転写材料を架橋する架橋剤を含むことができる。
熱作用により硬化されうる架橋剤の例は、フェノール樹
脂の存在下でのメラミンホルムアルデヒド樹脂であり、
それは、例えば、American Cyamamid Co., Wayne, NJか
らのCYMEL 303 の商品名で入手可能である。UV光により
硬化されうる架橋剤の例は、多官能性アクリレートであ
り、例えば、Sartomer Co., Westchester, PA からSR-2
95の商品名で入手可能である。熱架橋は触媒および硬化
剤、例えば、酸の存在により改良されうる。同様に、光
架橋剤は光開始剤、光触媒等の存在により改良されう
る。

【００５７】本発明のドナー要素は液晶ディスプレー装
置のためのカラーフィルターの製造にも使用されうる。
カラーフィルターを製造するための適切なカラードナー
要素の例は、基材上でのバインダー中の染料または顔料
のコーティングであろう。レーザーまたは他の焦点電磁
線源は、画像様のカラー材料を、しばしばマトリック含
有（例えば、黒色マトリックス）レセプターシートへ転
写するために使用される。画像形成性電磁線吸収剤材料
は染料／顔料層中に含まれてよい。別個の画像形成電磁
線層も使用されてよく、それは、通常、カラー含有ドナ
ー層に隣接している。ドナー層の色はフィルター要素に
通常にまたは特殊に使用されている多くの入手可能な
色、例えば、シアン、イエロー、マゼンタ、レッド、ブ
ルー、グリーン、ホワイトおよび考えられる他のカラー
およびトーンから使用者により必要により選択されう
る。染料または顔料は好ましくはマトリックス含有レセ
プター層に転写されるときに、予め決められた特定の波
長の光に透過性である。

【００５８】本発明の熱物質転写媒体の画像形成は短時
間の光源露光により行われる。短時間の露光は、伝導に
よる熱損失を最小にし、その為、熱効率が改良される。
適切な光源はフラッシュランプおよびレーザーを含む。
光化学効果を最小にし、そして熱効率を最大にするため
に紫外線よりも赤外線を比較的に豊富に含む光源を使用
することが有利である。それ故、レーザーが使用される
ときには、赤外線または近赤外線、特に約700 〜1200ｎ
ｍの光を放出するものが好ましい。この領域での適切な
レーザー源は、Ｎｄ／ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦおよび半導
体レーザーを含む。本発明における使用に好ましいレー
ザーは、高出力（＞100mW ）単一モードレーザーダイオ
ード、ファイバー結合レーザーダイオードおよびダイオ
ードポンプドソリッドステートレーザー（例えば、Ｎ
ｄ：ＹＡＧおよびＮｄ：ＹＬＦ）を含み、そして最も好
ましいレーザーはダイオードポンプドソリッドステート
レーザーである。

【００５９】全体の構造体は一度に露光されても、また
は、スキャニングにより露光されても、パルス源により
露光されても、または、任意領域で逐次的に露光されて
もよい。同時複数露光装置は使用されてよく、光エネル
ギーが光ファイバーを使用して分配されるものを含む。
単一モードレーザーダイオード、ファイバー結合レーザ
ーアレー、レーザーダイオードバーおよびダイオードポ
ンプドレーザーであって、0.1 〜12W の近赤外領域の電
磁スペクトルを生じるものは露光のために使用されう
る。好ましくは、ソリッドステート赤外レーザーまたは
レーザーダイオードアレーは使用される。比較的に小さ
い面積上に焦点されるかぎり、比較的に低い強度の源も
有用である。

【００６０】露光は、ジアゾ化合物を含む画像形成構造
体の表面に向けられるか、または、かかるドナー構造体
の下の透明基材を通して行われるか、または、ドナー構
造体と実質的に接触している受容層の透明基材を通して
行われることができる。本発明の材料を熱画像形成する
方法がいかなるものであっても、画像形成の前またはそ
の間に画像形成温度より低い温度に全体的にまたは局所
的に予備加熱されてよいことは明らかである。

【００６１】露光エネルギーは使用する転写のタイプ、
例えば、構造体からの材料の除去（剥離）により直接的
に形成されるか、または、レセプター要素への転写によ
り形成されるかのいずれかによるであろう。レセプター
要素を使用するときには、露光は、レセプターのドナー
との接触の程度、温度、粗さ、表面エネルギー等による
であろう。露光の間のスキャニング速度も役割を果た
し、ドナーまたはレセプターの熱物質にもよるであろ
う。転写の程度および転写の均質性が有用であるために
十分に大きくなるように露光のエネルギーは選ばれるで
あろう。レーザー露光滞留時間は、好ましくは約0.05〜
50μ秒であり、そしてレーザー流束は好ましくは約0.01
〜1J/cm²である。光源により画像形成されるけれども、
本発明の材料は本質的に可視光に対して感光性でない。
画像形成法の熱的性質により、通常、画像構造体を通常
の室内光下で取り扱うことができる。

【００６２】本発明は次の詳細な例を参照することによ
り更に説明されるであろう。これらの例は、様々な特定
且つ好ましい態様および技術を更に例示するために提供
される。多くの変更は本発明の範囲内でなされうるであ
ろうと理解されるべきである。

【００６３】例下記で使用した材料は、特に指示がないかぎり、Aldric
h Chemical Co.(Milwaulee, WI) から得たものである。
融点( 未補正) を、Arthur H. Thomas Co.(Philadelphi
a, PA)から入手可能なThomas Hoover 細管融点装置を用
いて記録した。NMR スペクトルはVarian Instruments
(Palo Altop, CA) から入手可能な400MHzまたは500MHz
のいずれかのフーリエ変換NMR スペクトロメーターを用
いて記録した。赤外スペクトルはBomen/Hartmann & Bra
un(Quebec, CA)から入手可能なBomen MB 102フーリエ変
換IRスペクトロメーターを用いて記録した。分子量はEx
trelCorporation(Pittsburgh, PA)から入手可能なExtre
lフーリエ変換質量スペクトロメーターを用いて記録し
た。

【００６４】ポリマーの分子量測定では、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー(GPC)分析を、Jordi Assoc
iates, Inc.(Bellingham, MA)から入手可能なJordi Ass
ociates混合床ポアサイズおよびW-100 オングストロー
ムカラム、および、HewlettPackard Co.(Palo, Altop,
CA)から入手可能なHP 1047A屈折率検知器を有するHP109
0 クロマトグラフ上で記録した。検量はPressure Chem.
Co.(Pittsburgh, PA)のポリスチレン標品を基礎にし
た。試料をTHF(4ml/mL) 中で調製し、0.2 μmテフロン
フルターで濾過し、次に試料を注入した。

【００６５】材料の熱重量分析(TGA) および示差走査熱
量(DSC) 測定は、DuPont Instruments 912示差走査熱量
計および951 熱重量分析機を使用して行った。TGA 分析
は、50ml/ 分( 標準温度および標準圧力で) の速度での
窒素流下で10℃/ 分の加熱速度を用いて行った。それら
は加熱の間の試料質量の損失、特に5%および95% 質量損
失のための温度を測定するために使用した。DSC 測定
は、リークなしに幾つかの圧力雰囲気に耐えられる密閉
ステンレススチールパン中で、10℃/ 分の加熱速度で行
われた。この手順は、昇華、蒸発または分解による材料
の損失を防止するために特に重要である。DSC は分解発
熱または吸熱のいずれかのピーク温度および融点温度を
決定するために使用した。試料のサイズはTGA について
は2 〜5mgであり、そしてDSC については1 〜5mg であ
った。

【００６６】3 種のタイプのレーザースキャナーを使用
した: 単一ビームNd:YAGレーザーで可撓性基材を画像形
成するために適切な内部ドラムタイプスキャナー; 単一
ビームNd:YAGレーザーで可撓性および剛性基材の両方を
画像形成するために適切なフラットフィールド装置; お
よびファイバー結合レーザーダイオードアレーで可撓性
基材を画像形成するために適切な外部ドラム装置。

【００６７】内部ドラム装置では、Nd:YAGレーザーを使
用し、TEM₀₀モードで1.064 マイクロメートルで運転
し、そして画像形成平面で3.2Wの入射電磁線で26マイク
ロメートルスポット(1/e²) に焦点して、画像形成を行
った。レーザーの走査速度は160 メートル/ 秒であっ
た。画像データを大容量メモリーから輸送して、音- 光
変調機に送り、レーザーの画像様変調を行った。画像形
成平面は、レーザー走査方向に対して垂直に同時移動さ
れる135 °ワープドラムからなった。基材( ドナーおよ
びレセプター) は真空ホールドダウンを用いてドラムに
しっかりと固定された。ドナーおよびレセプターは、精
密移動ステージを用いて、一定速度でレーザースキャン
に対して垂直方向に移動された。

【００６８】フラットフィールド装置では、フラットフ
ィールド検流スキャナーを使用して、画像形成平面を横
切ってNd:YAGレーザー(1.064マイクロメートル) から焦
点されたレーザービームを走査した。精密移動真空ステ
ージが画像形成平面にあり、駆動ステージ上に取り付け
られており、それにより、材料は横走査方向に移動され
た。フィルム平面上のレーザー出力は、3 〜7 ワットで
変化でき、そしてスポットサイズは約200 マイクロメー
トル(1/e²幅) であった。ここで用いた試料の直線走査
速度は600 センチメートル/ 秒であった。顕微鏡スライ
ドガラスを真空ステージ上に取り付け、そして受容基材
として使用した。ドナー基材をガラスと真空接触させて
置き、そしてドナーシートのポリエステル側を通して露
光してレーザーで画像形成した。ドナーおよびレセプタ
ーを一定速度でレーザースキャンに垂直の方向に移動し
た。結果として、レーザーからのビームは変調されてい
なかったので、同寸法の色付きストライプが画像形成領
域内でガラス上に転写された。

【００６９】外部ドラム装置では、平行/ 円形化レーザ
ーダイオード(SDL, Inc., San Jose, CA, モデル5422-G
1, 811ナノメートル) から焦点されたレーザースポット
で材料を走査した。外部ドラム走査コンフィグレーショ
ンを使用した。焦点されたレーザースポットは8 マイク
ロメートル( 全幅1/e ²レベル) であり、そして画像形
成媒体での出力は110 ミリワットであった。横方向走査
移動速度は精密移動ステージを用いて、4.5 マイクロメ
ートル/ ドラム回転であった。ドラムの周囲は84.8セン
チメートルであった。感圧接着テープを使用してレセプ
ターおよびドナーをドラムに取り付けた。画像データを
大容量メモリーから出力供給源に輸送し、それがレーザ
ーダイオードの画像様変調を行った。

【００７０】例1 次の表は明細書中に引用した文献から得た定数を用いて
アントイン等式から計算した値と実験的に測定した温度
との比較を示す。

【００７１】化合物融点 5% 質量損失温度 95%質量損失温度 ( ℃) (℃) ( ℃) TGA アントイン TGA アントインヘキサメチルシクロトリシロキサン 65 <<30^a 16 62 59 1,4-ジクロロベンゼン 55 <45^b 38 68 74 樟脳 177 59 58 119 117 ナフタレン 81 68 72 115 117 ボルネオール 208 74 78 126 131 ^a TGA の温度上昇の開始の23℃での非常に急速な質量損
失(0.64%/ ℃) による上限温度^b TGA 温度上昇の開始の28℃での急速な質量損失(0.19%
/ ℃) による上限温度

【００７２】例２昇華性化合物の制限しない例を実験またはアントイン等
式から決定した質量損失温度をとともに次の表に提供す
る。化合物融点質量損失温度 ( ℃) (℃) 5% 95% 1,8-シクロテトラデカジイン 97 66 83 無水マレイン酸 53 52 85 ベンゾフラザン 55 48 87 フマロニトリル 96 51 90 クロムヘキサカルボニル 85 47 92 1-ブロモ-4- クロロベンゼン 67 50 92 1,4-ジアゾビシクロ[2.2.2] オクタン 159 44 93 四臭化炭素 90 42 96 1,2,4,5-テトラメチルベンゼン 81 55 96 オクタフルオロナフタレン 87 61 98 モリブデンヘキサカルボニル 150(dec) 57 100 塩化ガリウム(III) 78 59 100 4-メチルピロリジントリメチルほう素錯体 79 62 100 4-クロロアニリン 73 66 100 ヘキサクロロエタン 185 48 101 2,5-ジメチルフェノール 72 68 105 1,4-ベンゾキノン 117 61 106 2,3-ジメチルフェノール 75 70 107 フッ化ニオブ(V) 79 76 110 1,4-ジブロモベンゼン 87 68 111 1,3,5-トリクロロベンゼン 64 62 118 タングステンヘキサカルボニル 150(dec) 75 119 アダマンタン 268 64 123 m-カルボラン 273 71 125 4,4'- ジフルオロビフェニル 94 88 126 アズレン 99 84 126 トランス- シス- トランス- テトラデカヒドロアントラセン 87 87 126 N-( トリフルオロアセチル) グリシン 119 73 132 1-ヒドロキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- オキソピペリジン 95 88 132 2,2'- ジフルオロビフェニル 117 94 132 ブロモペンタクロロエタン 190 60 133 アセトアミド 81 78 133 ビフェニレン 110 104 133 2,5-ジメチル-1,4- ベンゾキノン 125 88 134 4-tert- ブチルフェノール 100 91 134 ペンタフルオロ安息香酸 103 95 134 ブチラミド 116 88 136 3-クロロアニリンヒドロクロリド 222 87 137 塩化アルミニウム（III) 195 107 140 2-ジアゾ-5,5'-ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオン 108 93 141 バレルアミド 106 101 141 シス-2- ブテン酸アミド 115 89 142 2,6-ジメチルナフタレン 110 97 143 1-ブロモ-4- ニトロベンゼン 127 101 143 フラン-2- カルボン酸 132 102 144 1,2-ジブロモテトラクロロエタン 221 77 145 トリメチルアミンほう素トリフルオリド錯体 143 91 145 2,3-ジメチルナフタレン 104 99 146 ペルフルオロヘキサデカン 115 110 148 ビス( シクロペンタジエニル) マンガン 173 97 149 テトラシアノエタン 201 103 150 無水琥珀酸 120 104 150 フッ化テルル(IV) 129 91 152 フェロセン 173 96 152 1,2,3-トリヒドロシキベンゼン 133 110 152 チオフェン-2- カルボン酸 129 112 152 シクロヘキシルアンモニウムベンゾエート 186 116 155 トリス(2,4- ペンタンジオナト) マンガン(III) 150(dec) 105 156 安息香酸 122 109 156 亜硝酸ジシクロヘキシルアンモニウム 180 115 156 1-アダマンタノール 247 97 158 2-クロロアニリンヒドロクロリド 235 107 158 1,8,8-トリメチルビシクロ[3.2.1] オクタン -2,4- ジオン 223 93 160 o-カルボラン 296 84 161 タングステン(VI)オキソクロリド 309 109 161 無水フタル酸 131 116 162 アニリンヒドロクロリド 198 117 163 トランス-2- ペンテン酸アミド 148 92 164 サリチル酸 161 114 165 1,4-ジヨードベンゼン 129 103 166 ジメチルテレフタレート 141 121 166 2-アダマンタノン 257 94 167 トランス-6- ヘプテン酸アミド 125 124 167 ヘキサメチルベンゼン 166 116 168 キンヒドロン 171 121 168 4-フルオロ安息香酸 183 122 168 塩化ニオブ(V) 205 119 169 塩化モリブデン(V) 194 116 170 [2.2] メタシクロファン 135 124 170 トリクロロ-1,4- ヒドロキノン 137 128 170 ピロール-2- カルボン酸 209(dec) 135 170 トリクロロ-1,4- ベンゾキノン 169 124 172 シュウ酸 190 128 172 2,6-ジクロロ-1,4- ベンゾキノン 121 114 173 2-アダマンタノール 263 117 173 2,4,6-トリ-tert-ブチルフェノール 131 124 173 四臭化ペンタエリトリトール 161 124 173 塩化タンタル(V) 220 129 174 シス-1,2- シクロヘキサンジオール 98 88 178 トランス-1,2- シクロヘキサンジオール 104 86 178 マロン酸 136(dec) 119 178 トランス-2- ヘキセン酸アミド 125 107 182 ( ±)-1,3-ジフェニルブタン 295 124 183 トリス(2,4- ペンタンジオナト) コバルト(III) 220±20 126 184 4,4'- ジクロロビフェニル 149 140 184 ヒドロキノン 172 141 185 1,4-ジヒドロキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン 158 141 186 フェナジン 176 100 187 2-アミノ安息香酸 149 143 188 トリス(2,4- ペンタンジオナト) バナジウム(III)187 99 190 テレフタル酸モノメチルエステル 230 128 190 4-アミノフェノール 186 149 191 ヘキサメチレンテトラアミン 280 135 195 2-メトキシ安息香酸 184 156 201

【００７３】例3 試験コーティング溶液を調製し、それは下記成分を含ん
だ。 MEK 中20重量% ノボラック樹脂SD-126A 0.25g IR-165近赤外染料 0.05g インドーレニンレッドマゼンタ染料 ( カラーインデックス 48070) PECHS 塩として 0.015g 樟脳 0.05g メチルエチルケトン(MEK) 0.70g

【００７４】Borden Packaging & Industries Product
s, Louisville, KentuckyからノボラックSD-126A 樹脂
を得た。1.064 マイクロメートルのレーザー波長の光を
吸収するIR-165染料は、Glendale Protective Technolo
gies, Lakeland, Florida により供給され、そして次の
構造を有する。

【００７５】

【化１】

【００７６】コーティングおよび転写された画像を可視
化するのを補助するためにインドーレニンレッド染料を
使用した。それは下記の構造を有した。

【００７７】

【化２】

【００７８】米国特許第4,307,182 号(Dalzellら) に教
示されているように、ＰＥＣＨＳ、即ち、インドーレニ
ンレッドレッドマゼンタ染料のペルフルオロ-4- エチル
ヘキサンスルホネート塩を、インドーレニンレッド塩化
物とペルフルオロ-4- エチルシクロヘキサンスルホン酸
カリウムとの水中での複分解反応により調製した。

【００７９】樟脳が昇華性化合物であった。更なる0.25
g のノボラックSD-126A 樹脂溶液を樟脳の代わりに置き
換えたことを除いては、同一の方法で比較のコーティン
グ溶液を調製した。樟脳含有コーティング溶液を「試
験」試料と呼ぶ。

【００８０】両方の溶液を58マイクロメートルの厚さの
ポリエステル上に、no.4ワイヤー巻きコーティングロッ
ド(RD Specialties, Webster, NY) で塗布し、80℃で2
分間乾燥して、不粘着性の透明なドナーフィルムを提供
した。内部ドラム露光装置内で真空下で、ドナーフィル
ムを150 マイクロメートルの厚さの、粒化された陽極酸
化されたアルミニウム印刷版レセプターに接触させた。
これらのドナー/ レセプター試料を、その後、ドナーシ
ートのポリエステル側を通して露光した。露光されたド
ナーシートを剥離した後、レセプター上に転写されたラ
インの幅をマイクロメートルで測定し、そして熱物質転
写のためのしきい値エネルギーを計算した。次の結果を
得た。

【００８１】試料ライン幅( μm) 感度(J/cm²) 相対感度試験 19.4 0.040 1.8 比較 13.2 0.073 1

【００８２】TGA で測定して、樟脳は177 ℃で溶解し、
そして59℃で5%質量損失温度および119 ℃で95% 質量損
失温度を示した。2 つの質量損失温度の差は60℃であ
る。この材料は上記に規定の昇華性材料であり、レーザ
ー熱転写画像形成の感度を十分に改良するものである。

【００８３】例4 試験試料において樟脳を1,4-ジクロロベンゼンで置き換
えて、試験および比較コーティングを例3 のように調製
した。例3 のようにコーティングを画像形成し、次の結
果を得た。試料ライン幅( μm) 感度(J/cm²) 相対感度試験 12.6 0.077 0.95 比較 13.2 0.073 1

【００８４】1,4-ジクロロベンゼンは容易に昇華する
が、その5%質量損失温度はTGA により測定して45℃未満
であり、そして本発明の好ましい範囲( 例1)の外にあ
る。試験の前のコーティングからの1,4-ジクロロベンゼ
ンの昇華により生じる多孔性のために、若干低い感度で
あることができる。

【００８５】例5 試験試料において樟脳の代わりにナフタレンで置き換え
たことを除いては、試験および比較コーティングは例3
のように調製した。コーティング幅を例3 のように画像
形成したが、ライン幅をレセプターでなくドナー上で測
定した。次の結果を得た。

【００８６】試料ライン幅( μm) 感度(J/cm²) 相対感度試験 15.5 0.061 1.4 比較 10.8 0.087 1

【００８７】ナフタレンは81℃で融解し、そしてTGA
は、68℃で5%質量損失温度および115℃で95% 質量損失
温度を示した。2 つの質量損失の差は47℃であった。ナ
フタレンは画像形成性構造体の感度を改良する。

【００８８】例6 試験および比較コーティングを例3 のように調製した
が、試験試料において樟脳を1,8,8-トリメチルビシクロ
[3.2.1] オクタン-2,4- ジオンで置き換えた。この二環
式化合物はEistert, BらのLiebigs Ann. Chem., 659, 6
4 (1962)に記載されているように調製した。コーティン
グを例3 のように画像形成し、次の結果を得た。

【００８９】試料ライン幅( μm) 感度(J/cm²) 相対感度試験 19.0 0.042 1.2 比較 17.6 0.049 1

【００９０】1,8,8-トリメチルビシクロ[3.2.1] オクタ
ン-2,4- ジオンは223 ℃で溶解する。TGA は、この材料
が93℃で質量の5%を損失し、そして67℃で質量の95% を
損失し、その差は67℃であることを示す。この昇華性化
合物は画像形成感度を改良するが、樟脳またはナフタレ
ンほどには有効でない。後者の2 種の化合物はより低い
95% 質量損失温度を有し、そしてより狭い5%および95%
質量損失温度の範囲を有する。

【００９１】例7 試験および比較のコーティングを例3 のように調製した
が、樟脳の代わりに下記の表に示した材料に置き換え
た。昇華性材料も等重量のノボラックで置き換え、比較
試料を形成した。コーティングを160 メートル/ 秒の走
査速度で例3 のように画像形成し、次の結果を得た。

【００９２】化合物相対感度融点( ℃) 質量損失温度 5% 95% 対照 1.0 - - - ブチラミド 1.3 116 88 136 4-tert -ブチルフェノール 1.4 100 91 134 2-アダマンタノン 1.6 257 94 167 1-アダマンタノール 1.4 247 97 158 フラン-2- カルボン酸 1.4 132 102 144 バレルアミド 1.4 106 101 141 サリチル酸 1.1 161 114 165 四臭化ペンタエリトリトール 1.2 161 124 173 2-アミノ安息香酸 1.2 149 143 188

【００９３】示した化合物は全て、200 ℃未満の温度で
熱分解の兆候を示さなかった。全ての化合物は画像形成
のためのしきい値を下げた。しかし、約110 ℃より高い
5%質量損失温度を有する化合物は、この温度がより低い
ものよりも有効でなかった。2,5-ジメチル-1,4- ベンゾ
キノン、2,5-ジメチルナフタレンおよび2,6-ジメチルナ
フタレンは昇華性化合物として試験しなかったが、この
コーティングとの低い相溶性を示した。更に、比較試料
およびバレルアミド試料は192 メートル/ 秒という、よ
り速い走査速度で画像形成された。比較試料はより高い
走査速度で不均一な転写を示し、感度は160 メートル/
秒の走査速度と比較して明らかに低下しているが、感度
の確定してきな評価は困難であった。バレルアミドを含
む試料は192 メートル/ 秒で依然として良好に転写さ
れ、160 メートル/ 秒での比較試料の1.2 倍であった。
このことは、昇華性材料が存在しないと、化学動力学的
に転写が制限されうるが、昇華性材料が存在すると、高
速の走査速度で有効に転写を行うことができることを示
す。

【００９４】試験および比較試料を例3 のように調製し
たが、試験試料において、樟脳を2-ジアゾ-5,5- ジメチ
ルシクロヘキサン-1,3- ジオン( ジメドンジアゾとして
一般に知られている) で置き換えた。このジアゾ化合物
はRao, Y. K.らのIndian J.Chem., 25B, 735 (1986)の
方法により、次の通りに調製した。

【００９５】ジメドン(2.8g 、20ミリモル) 、ジクロロ
メタン(30ml)およびp-トルエンスルホニルアジド(3.94
g、20ミリモル) の混合物を0 ℃に冷却し、その後、DBU
(1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデス-7- セン、4.48g
、30ミリモル) を滴下して加えた。DBU の添加後、反
応混合物を室温で15分間攪拌し、その後、10% KOH 溶液
(100ml) 中に注いだ。有機層を分離し、そして順番に、
3N HCl(50ml)、脱イオン水(2x50ml)および飽和塩化ナト
リウム水溶液(50ml)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムを用いて乾燥し、濾過し、そしてオレンジ色の
固体を提供するまで濃縮した。この固体を、石油エーテ
ル/ 酢酸エーテル (65:35)を溶離液として用いてシリカ
ゲル上のカラムクロマトグラフィーにより精製し、2.10
g のジメドンジアゾを薄い黄色の固体( 融点108 〜109
℃) として提供した。¹H NMR (400MHz、CDCl₃): δ1.09
(s, 6H);2.41(s, 4H) 。

【００９６】昇華性化合物を含まない例3 の比較コーテ
ィングを本例の比較コーティング1として形成された。
比較コーティング2 をNo4 ワイヤー巻きコーティングロ
ッドを使用して、次のコーティング溶液から調製した。ニトロセルロース 0.10g IR-165近赤外染料 0.07g インドーレニンレッドマゼンタ染料、PECHS 塩として 0.015g メチルエチルケトン 0.90g

【００９７】ニトロセルロース(Hercules, Inc., Wilmi
ngton, DE)は高エネルギー材料であり、そして有効な融
蝕性バインダーであり、このことは米国特許第5,156,93
8 号(Foleyら) に教示されている。コーティングを例3
のように画像形成し、次の結果を得た。

【００９８】

【００９９】2-ジアゾ-5,5- ジメチルシクロヘキサン-
1,3- ジオンの融点は107 ℃であった。5%質量損失温度
は93℃であり、そしてそれは融点より低く、95% 質量損
失温度は141 ℃であり、そして149 ℃の発熱分解ピーク
温度より低い。2 つの質量損失温度の差異は非常に小さ
く、48℃であった。結果として、この化合物は熱物質転
写画像形成を補助するために非常に有効である。更に、
この昇華性化合物は、融蝕を促進するための当業界にお
いて知られている他の材料と比較して非常に有効であ
る。

【０１００】例9 MEK 中の20重量%Borden ノボラック樹脂SD-126A 、0.3
g、MEK 中の5 重量%Resimene 747(メラミンホルムアル
デヒド樹脂、Monsanto Co., St. Louis, MO)、0.4g、2-
ジアゾ-5,5- ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオン、0.
02g 、IR-165染料、0.05g 、インドーレニンレッドPECH
S 染料、0.015g、および、MEK 、0.28g からなる溶液を
58マイクロメートルの厚さのポリエステルフィルム上に
No4 コーティングロッドで塗布し、そして80℃で2 分間
乾燥した。ハーフトーンスケール(1〜100%、175 ライ
ン) およびハーフトーン画像を、例3 の露光条件により
160 メートル/ 秒の走査速度でドナーからアルミニウム
印刷版に転写した。ドット(1〜99%)をハーフトーンスケ
ールでアルミニウムに転写した。384 ℃で1 分間ベーク
した後、この印刷版でHeidelberg GTO印刷プレス上で黒
色平板印刷インクを用いて1000部のコピーを取ったが、
印刷版上に画像の摩耗の証拠となるものはなかった。

【０１０１】例10 MEK 中の20重量%Borden ノボラック樹脂SD-126A 、0.22
g 、MEK 中の20重量%アクリル化エポキシ(EBECRYL 360
5)ビスフェノールA-ベース(UBC Radcure, Inc., Living
ston, NJ) 、0.08g 、2-ジアゾ-5,5- ジメチルシクロヘ
キサン-1,3- ジオン、0.04g 、IR-165染料、0.04g 、イ
ンドーレニンレッドPECHS 染料、0.015g、および、MEK
、0.66g からなる溶液を58マイクロメートルの厚さの
ポリエステルフィルム上にNo4 コーティングロッドで塗
布し、そして80℃で2 分間乾燥した。ハーフトーンスケ
ール(1〜100%、175 ライン) およびハーフトーン画像
を、例3 の露光条件により160 メートル/ 秒の走査速度
でドナーからアルミニウム印刷版に転写した。ドット(1
〜99%)をハーフトーンスケールでアルミニウムに転写し
た。384 ℃で1 分間ベークした後、この印刷版でHeidel
berg GTO印刷プレス上で黒色平板印刷インクを用いて10
00部のコピーを取ったが、印刷版上に画像の摩耗の証拠
となるものはなかった。

【０１０２】例11 モノマーの重合によりポリ(2- アゾ-3- オキソブチロキ
シエチルメタクリレーロ) を調製した。モノマーはRao,
Y.K. らのIndian J. Chem., 25B, 735(1986)に記載さ
れた手順により調製した。

【０１０３】2-ジアゾ-3- オキソブチロキシエチルメタ
クリレートモノマーを次の通りに調製した:2- アセトア
セトキシエチルメタクリレート(4.28g、20ミリモル、Ea
stman Chemical, Kingsport, TN から入手可能) 、ジク
ロロメタン(30ml)、p-トルエンスルホニルアジド(3.94
g、20ミリモル) の混合物を0 ℃に冷却し、その後、DBU
(1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデス-7- エン、4.48m
l、30ミリモル) を滴下して加えた。DBU の添加後、反
応混合物を室温で15分間攪拌し、その後、10%KOH(100m
l) およびジエチルエーテル(50ml)の混合物中に注い
だ。有機層を分離し、そして水層をジエチルエーテル(5
0ml)で再抽出した。有機抽出物を混合し、そして順番
に、3N HCl(50ml)、脱イオン水(2x50ml)および塩化ナト
リウム飽和水溶液(50ml)で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムを用いて有機層を乾燥し、濾過し、そて濃縮して4.
39g の2-ジアゾ-3- オキソブチロキシエチルメタクリレ
ートを薄い黄色の油として提供した。¹H NMR(400MHz 、
CDCl₃): δ1.94(s, 3H);2.47(s,3H);4.35 〜4.55(m,4
H);5.60(s, 1H);6.12(s,1H) 。IR:2181cm ^-1。ピーク分
解温度:156℃(DSCで) 。

【０１０４】モノマーの重合は次の通りに行った。2-ジ
アゾ-3- オキソブチロキシエチルメタクリレート（4.39
g 、18.3ミリモル) 、トルエン(7ml) 、ヘキサンチオー
ル(30ml 、Eastman Chemical, Kingsport, TN から入手
可能) および2,2'- アゾビス(2,4- ジメチルバレロニト
リル)(12mg、Polysciences, Inc., Warington, PA から
入手可能) を65℃で6 時間攪拌した。この反応混合物を
石油エーテル(100ml)に注ぎ、そして一晩放置した。溶
剤を固化したポリマーからデカントした。残留物を室温
で真空(<1300パスカル) 下で乾燥し、3.60g のポリ(2-
ジアゾ-3- オキソブチロキシエチルメタクリレート) を
薄い黄色の固体として提供した。IR:2124cm ^-1、Mw=52,
000 ;Mn=20,200。

【０１０５】ポリ(2- ジアゾオキシブチロキシエチルメ
タクリレート) 、0.085g、2-ジアゾ-5,5- ジメチルシク
ロヘキサン-1,3- ジオン、0.015g、IR-165染料、0.05g
、インドーレインレッドPECHS 染料、0.015gおよびMEK
、0.9gからなる溶液を58マイクロメートルの厚さのポ
リエステル上にNo4 コーティングバーを用いて塗布し、
80℃で2 分間乾燥した。このドナーを銅メッキしたKapt
onレセプター( E.I.DuPont de Nemours, Wilmington, D
E)に面と面を合わせて接触させた。このアセンブリーを
例3 で使用した装置で、160 メートル/ 秒の走査速度で
画像形成し、回路およびラインパターンを形成した。30
マイクロメートル幅および42マイクロメートルピッチの
ラインはこの方法が使用できることを示した。コーティ
ングはドナーからレセプターに転写し、銅表面上にエッ
チレジストを提供した。画像を180℃で2 分間ベークし
た後、50ml濃硫酸、400ml の水および50mlの30% 過酸化
水素水溶液からなる溶液により、室温で約3 分間、露出
した銅をエッチングし、完全に金属を除去し、レジスト
を受容しなかった領域においてKaptonポリマーのみを残
すことにより金属表面をパターン化した。このレジスト
をMEK に浸した綿棒で拭き取ることにより除去した。こ
の方法でKapton基材上に銅回路ができる。2-ジアゾ-5,5
- ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオンをドナーコーテ
ィングから除くときに低い転写性となった。

【０１０６】例12 シアン顔料248-0165(Sun Chemical Corp., Fort Lee, N
J)、47.17g、VAGH樹脂(Union Carbide Chemicals and P
lastics Co., Inc., Danbury, CT) 、47.17g、Disperby
k 161 (BYK Chemie, Wallingford, CT) 、5.66g 、およ
びMEK 、335gからなる23重量% のシアン顔料ミルベース
をMEK 中で調製した。シアン顔料ミルベース、0.5g、IR
-165染料、0.05g 、2-ジアゾ-5,5- ジメチルシクロヘキ
サン-1,3- ジョン、0.02g 、および、MEK 、0.6gからな
る分散体をNo4 コーティングロッドを用いて58マイクロ
メートルの厚さのポリエステル上に塗布した。ドナーを
顕微鏡スライドガラスレセプターに接触させ、そしてフ
ラットフィールドスキャナー装置に設置した。ドナー/
レセプター組み合わせ物をドナーのポリエステル側を通
して3.5 ワットおよび7 ワットで露光し、それぞれ、約
117 マイクロメートル幅および約164 マイクロメートル
幅のシアン顔料コーティングのラインをドナーからガラ
スレセプターへ転写した。

【０１０７】例13 MEK 中の20重量% のノボラック樹脂SD-126A 、0.1g、2-
ジアゾ-5,5- ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオン、0.
08g 、IR-165染料、0.05g およびMEK 、0.82gからなる
溶液をNo4 コーティングロッドを用いて58マイクロメー
トルの厚さのポリエステルフィルム上に塗布し、80℃で
2 分間乾燥した。Aquis IIphthalo green GW-3450 顔料
分散体(Heucotech, Ltd., Fairless Hills, PA) 、0.25
g 、水、0.75g 、および、水中の5 重量%FC-130 界面活
性剤(Minnesota Mining and Manufacturing Co., St.Pa
ul, MN) 、3 滴からなる混合物をNo.4コーティングロッ
ドを用いて第一層の上に塗布し、80℃で2 分間乾燥し
た。このドナーを顕微鏡スライドガラスと接触させて例
12のように5 ワットで露光し、レセプター上に約140マ
イクロメートルの幅の転写されたグリーン顔料層のライ
ンを提供した。ラインは幾分ぎざぎざであり、そして多
くのピンホールを含んでいた。Aquis II phthalo green
GW-3450顔料分散体の代わりに、Aquis II QA magenta
RW-3116 顔料分散体(Heucotech, Ltd., Fairless Hill
s, PA) およびAquis II phthalo blue G/BW-3570 顔料
分散体(Heucotech, Ltd., Fairless Hills, PA) に置き
換えて、この例を繰り返し、同様の結果を得た。2-ジア
ゾ-5,5- ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオンを下層か
ら除いたら、これらの露光条件で非常に低い転写が起こ
った。

【０１０８】例14 例13を繰り返したが、塗布前に、3 滴のJONCRYL 74アク
リル樹脂溶液(S.C.Johnson and Son, Inc., Racine, W
I) を、Aquis II QA magenta RW-3116 顔料分散体を含
む混合物中に加えた。5 ワットでの例12におけるような
露光により、ピンホールを殆ど含まないまたは全く含ま
ないで、ガラスレセプター上に約160 マイクロメートル
のラインができた。

【０１０９】例15 MEK 中の10重量% ノボラック樹脂SD-126A 、0.5g、2-ジ
アゾ-5,5- ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオン、0.05
g 、次の構造

【０１１０】

【化３】

【０１１１】の近赤外染料( 米国特許第5,360,694 号(T
hienら) の手順により調製、それを参照により本明細書
中に取り込む) 、0.03g 、インドーレニンレッドPECHS
染料、0.015gおよびMEK 、0.045gからなる溶液をNo4 コ
ーティングロッドを用いて58マイクロメートルの厚さの
ポリエステルフィルム上に塗布し、そして80℃で2 分間
乾燥した。ドナーフィルムを、外部ドラム露光装置にお
いて150 マイクロメートルの粒化された陽極酸化されそ
して珪酸化されたアルミニウム印刷版レセプターに接触
させた。これらのドナー/ レセプター試料を、その後、
未変調のレーザーダイオードを用いて、ドナーシートの
ポリエステル側を通して露光した。170cm/秒のドラム速
度で、ドナーからアルミニウムレセプターへの材料の優
れた転写が起こった。

【０１１２】ドナーからジアゾ化を省いたときに、678c
m/秒以下のドラム速度ではアルミニウムレセプターへの
転写はジアゾ化合物を含むドナーと同等であった。しか
し、2-ジアゾ-5,5- ジメチルシクロヘキサン-1,3- ジオ
ンを含まないドナーシートは、763cm / 秒および933cm/
秒のドラム速度では、ジアゾ化合物を含むドナーシート
と比較して、劣った転写となった。これらの結果は、通
常のガス生成化学法が制約ファクターとなりうるとき
に、昇華性化合物は、より高速の走査速度での熱物質転
写性を改良することを示唆する。2-ジアゾ- ジメチルシ
クロヘキサン-1,3- ジオンは、ポリエステルドナーシー
トからアルミニウム印刷版レセプターへのノボラック樹
脂の転写を、1064nmレーザー照射( 例8)だけでなく、81
1nm 照射での改良した。

【０１１３】全ての刊行物、特許明細書および特許文献
は個々には参照により取り入れていないが、それら全て
を引用して取り入れる。本発明は様々な特定のそして好
ましい態様および技術を参照して説明した。しかし、多
くの変更が本発明の範囲内でなされうることは理解され
るべきである。

フロントページの続き (72)発明者グレゴリーダグラスカニーアメリカ合衆国，ミネソタ 55144−1000, セントポール，スリーエムセンター（番地なし) (72)発明者スタンレークレイグバスマンアメリカ合衆国，ミネソタ 55144−1000, セントポール，スリーエムセンター（番地なし)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一層またはそれ以上の層で基材の少なく
とも一部分を被覆した、前記基材を含む熱転写ドナー要
素であって、（ａ）実質的に無色の昇華性化合物；（ｂ）電磁線吸収剤；および、（ｃ）熱物質転写性材料、を含み、ここで、前記昇華性
化合物はアセチレン基を含まず、且つ、５０ｍｌ／分の
窒素流下で１０℃／分の加熱速度で、少なくとも５５℃
の５％質量損失温度および２００℃以下の９５％質量損
失温度を有し、且つ、前記昇華性化合物は少なくとも前
記５％質量損失温度である融点温度、および、少なくと
も前記９５％質量損失温度であるピーク熱分解温度を有
する、熱転写ドナー要素。
【請求項２】（ａ）画像受容要素、および、（ｂ）（ｉ）実質的に無色の昇華性化合物；（ｉｉ）電磁線吸収剤；および、（ｉｉｉ）熱物質転写性材料を含み、ここで、前記昇華
性化合物はアセチレン基を含まず、且つ、５０ｍｌ／分
の窒素流下で１０℃／分の加熱速度で、少なくとも５５
℃の５％質量損失温度および２００℃以下の９５％質量
損失温度を有し、且つ、前記昇華性化合物は少なくとも
前記５％質量損失温度である融点温度、および、少なく
とも前記９５％質量損失温度であるピーク熱分解温度を
有する、ドナー要素、を含む熱転写系。
【請求項３】（ａ）請求項１記載の熱転写ドナー要素
を画像受容要素と接触させる工程、（ｂ）（ａ）の構造体を画像様に露光し、それにより、
熱転写ドナー要素の熱物質転写材料を画像受容要素に転
写する工程、を含む、画像を形成するための方法。