JPH11133596A - 光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 - Google Patents
光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法Info
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- JPH11133596A JPH11133596A JP29665797A JP29665797A JPH11133596A JP H11133596 A JPH11133596 A JP H11133596A JP 29665797 A JP29665797 A JP 29665797A JP 29665797 A JP29665797 A JP 29665797A JP H11133596 A JPH11133596 A JP H11133596A
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】クロムを含まず、高感度かつ塗布，現像ともに
水溶媒で行うことができる光重合性組成物（蛍光体スラ
リ）を用いて陰極線管を製造する。 【解決手段】化学式（１）で表されるモノマー，化学式
（２）で表される化合物および水溶性高分子などから構
成される光重合性組成物を用いて陰極線管を製造する。 （式中、Ｒ１は水素原子、アミノ基、メチルアミノ基な
どを、Ｒ２はメチル、エチル、アリール、ノルマルプロ
ピルなどを、Ｒ３はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基などを、Ｒ４は水素原子、ナトリウム、カリ
ウムなどのアルカリ金属原子のいずれかを示す。）
水溶媒で行うことができる光重合性組成物（蛍光体スラ
リ）を用いて陰極線管を製造する。 【解決手段】化学式（１）で表されるモノマー，化学式
（２）で表される化合物および水溶性高分子などから構
成される光重合性組成物を用いて陰極線管を製造する。 （式中、Ｒ１は水素原子、アミノ基、メチルアミノ基な
どを、Ｒ２はメチル、エチル、アリール、ノルマルプロ
ピルなどを、Ｒ３はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基などを、Ｒ４は水素原子、ナトリウム、カリ
ウムなどのアルカリ金属原子のいずれかを示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水溶性光重合性組
成物及びそれを用いたパターン形成方法に係わり、パタ
ーン形成時のレジストとして使用すれば放射線による露
光後の現像処理においては水溶液での現像を可能とする
光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法に
関する。
成物及びそれを用いたパターン形成方法に係わり、パタ
ーン形成時のレジストとして使用すれば放射線による露
光後の現像処理においては水溶液での現像を可能とする
光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】光重合性組成物は、例えば凸版用，コー
ティング用，フォトレジスト用等の各種のパターン形成
に広く適用されている。このような光重合性組成物は、
一般にバインダーポリマー，不飽和エチレン化合物（重
合性オリゴマーあるいはモノマー），感放射線化合物
（露光による重合開始剤），その他重合禁止剤，界面活
性剤などの添加物から構成されている。このような組成
物に放射線を当てると、放射線を感放射線化合物が吸収
し、活性なラジカルやカチオンを生成する。これらの活
性種がオリゴマーやモノマーの重合反応を引き起こし、
例えばレジストの如き有用な硬化生成物が得られる。
ティング用，フォトレジスト用等の各種のパターン形成
に広く適用されている。このような光重合性組成物は、
一般にバインダーポリマー，不飽和エチレン化合物（重
合性オリゴマーあるいはモノマー），感放射線化合物
（露光による重合開始剤），その他重合禁止剤，界面活
性剤などの添加物から構成されている。このような組成
物に放射線を当てると、放射線を感放射線化合物が吸収
し、活性なラジカルやカチオンを生成する。これらの活
性種がオリゴマーやモノマーの重合反応を引き起こし、
例えばレジストの如き有用な硬化生成物が得られる。
【０００３】また、近年では環境問題に係る安全性や経
済性への関心が高まり、水系材料が注目されている。特
に、有機溶剤を全く使用しない系が望ましい。水溶性不
飽和エチレン化合物としては、アルキルアクリレート
（メタクリレート）であるポリエチレングリコールジア
クリレート（メタクリレート）が知られている。水溶性
光重合開始剤については、特願平8−349264 号に記載の
４−〔２−（４−モルホリノ）ベンゾイル−２−ジメチ
ルアミノ〕ブチルスルホン酸ナトリウムが、水に対する
溶解性，ラジカル発生効率ともに優れている。
済性への関心が高まり、水系材料が注目されている。特
に、有機溶剤を全く使用しない系が望ましい。水溶性不
飽和エチレン化合物としては、アルキルアクリレート
（メタクリレート）であるポリエチレングリコールジア
クリレート（メタクリレート）が知られている。水溶性
光重合開始剤については、特願平8−349264 号に記載の
４−〔２−（４−モルホリノ）ベンゾイル−２−ジメチ
ルアミノ〕ブチルスルホン酸ナトリウムが、水に対する
溶解性，ラジカル発生効率ともに優れている。
【０００４】光重合性組成物は、前述のように各種のパ
ターン形成に使用されている。例えばリソグラフィー技
術によるプリント基板の製造（絶縁基板上の銅箔にレジ
ストマスクを形成し配線導体のパターンを形成する）や
陰極線管のフェースプレートの製造（蛍光体のパターン
やブラックマトリクスパターンの形成）等である。
ターン形成に使用されている。例えばリソグラフィー技
術によるプリント基板の製造（絶縁基板上の銅箔にレジ
ストマスクを形成し配線導体のパターンを形成する）や
陰極線管のフェースプレートの製造（蛍光体のパターン
やブラックマトリクスパターンの形成）等である。
【０００５】パターン形成の代表例として陰極線管の製
造例について説明する。陰極線管は、図１に示すような
構造をしている。パネル（フェースプレート）１および
パネル１に接合されたファンネル２，パネル１の内側に
蛍光面３が形成され、電子ビーム通過孔の形成されたシ
ャドウマスク４が装着されている。ファンネル２のネッ
ク５の内部には電子銃６が設けられている。
造例について説明する。陰極線管は、図１に示すような
構造をしている。パネル（フェースプレート）１および
パネル１に接合されたファンネル２，パネル１の内側に
蛍光面３が形成され、電子ビーム通過孔の形成されたシ
ャドウマスク４が装着されている。ファンネル２のネッ
ク５の内部には電子銃６が設けられている。
【０００６】従来、陰極線管の蛍光面３は、ポリビニル
アルコールと重クロム酸塩からなるレジストおよび蛍光
体を少なくとも含むスラリを用いたフォトリソグラフィ
により形成されている。予めブラックマトリクスを形成
した陰極線管のパネル１に蛍光体スラリを塗布，加熱乾
燥後、マスクを介して超高圧水銀灯で露光する。続いて
純水でスプレー現像すると、蛍光体パタンが形成され
る。これを焼結することにより、蛍光面３が形成され
る。
アルコールと重クロム酸塩からなるレジストおよび蛍光
体を少なくとも含むスラリを用いたフォトリソグラフィ
により形成されている。予めブラックマトリクスを形成
した陰極線管のパネル１に蛍光体スラリを塗布，加熱乾
燥後、マスクを介して超高圧水銀灯で露光する。続いて
純水でスプレー現像すると、蛍光体パタンが形成され
る。これを焼結することにより、蛍光面３が形成され
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、以
下のような問題点があった。
下のような問題点があった。
【０００８】近年、陰極線管の大型化が顕著であり、大
型管の製造においては、蛍光体スラリへの露光時には、
フェースプレートと露光光源との距離は必然的に遠くな
る。露光強度は距離の二乗に反比例して小さくなるの
で、大型管への露光では、より長い露光時間が必要とな
り、製造効率が低下するという問題が生じ、高感度な蛍
光体スラリの需要が高まっている。
型管の製造においては、蛍光体スラリへの露光時には、
フェースプレートと露光光源との距離は必然的に遠くな
る。露光強度は距離の二乗に反比例して小さくなるの
で、大型管への露光では、より長い露光時間が必要とな
り、製造効率が低下するという問題が生じ、高感度な蛍
光体スラリの需要が高まっている。
【０００９】従来の蛍光体スラリを高感度化する方法と
しては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩を添加する方法
（特開昭57−9036号公報）が知られている。しかし、こ
の方法では、芳香族ジアゾニウム塩が熱安定性に乏しい
という致命的な問題があり、実用的には高感度化するこ
とは達成されていない。
しては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩を添加する方法
（特開昭57−9036号公報）が知られている。しかし、こ
の方法では、芳香族ジアゾニウム塩が熱安定性に乏しい
という致命的な問題があり、実用的には高感度化するこ
とは達成されていない。
【００１０】また、従来の光重合性組成物（レジスト組
成物）は生体に有害なクロムを含むため、安全対策上問
題があった。クロムを含まないレジストとしては、本発
明者等が先に提案した光重合系レジスト(特願平8−5421
号）がある。水溶性の光重合開始剤としては、同様に本
発明者等が提案した化学式（２）で表される感放射線化
合物（特願平8−349264 号）が適している。しかし、こ
の方法では、光硬化性に優れた不飽和エチレン化合物で
あるテトラメチロールメタントリアクリレートは水溶性
ではないため、塗布時に水を使用することができない。
一方、水溶性の不飽和エチレン化合物であるポリエチレ
ングリコールジメタクリレートは、水への溶解性には優
れるが、これを用いた光重合性組成物は感度が低く、硬
化性に劣るという問題があった。
成物）は生体に有害なクロムを含むため、安全対策上問
題があった。クロムを含まないレジストとしては、本発
明者等が先に提案した光重合系レジスト(特願平8−5421
号）がある。水溶性の光重合開始剤としては、同様に本
発明者等が提案した化学式（２）で表される感放射線化
合物（特願平8−349264 号）が適している。しかし、こ
の方法では、光硬化性に優れた不飽和エチレン化合物で
あるテトラメチロールメタントリアクリレートは水溶性
ではないため、塗布時に水を使用することができない。
一方、水溶性の不飽和エチレン化合物であるポリエチレ
ングリコールジメタクリレートは、水への溶解性には優
れるが、これを用いた光重合性組成物は感度が低く、硬
化性に劣るという問題があった。
【００１１】
【化３】
【００１２】本発明の目的は、上記従来の問題点を解消
することにあり、第１の目的は水溶媒で塗布可能で光硬
化性に優れた不飽和エチレン化合物を含む光重合性組成
物を、第２の目的はこの光重合性組成物の硬化方法を、
第３の目的はこの光重合性組成物を用いたパターン形成
方法を、さらにまた第４の目的は、有害なクロムを含ま
ない、この水溶性光重合性組成物を用いて、蛍光体層や
ブラックマトリックスのパターンをフェースプレートに
形成する陰極線管の製造方法を、それぞれ提供すること
にある。
することにあり、第１の目的は水溶媒で塗布可能で光硬
化性に優れた不飽和エチレン化合物を含む光重合性組成
物を、第２の目的はこの光重合性組成物の硬化方法を、
第３の目的はこの光重合性組成物を用いたパターン形成
方法を、さらにまた第４の目的は、有害なクロムを含ま
ない、この水溶性光重合性組成物を用いて、蛍光体層や
ブラックマトリックスのパターンをフェースプレートに
形成する陰極線管の製造方法を、それぞれ提供すること
にある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的は下記化
学式（１）で表される不飽和エチレン化合物
学式（１）で表される不飽和エチレン化合物
【００１４】
【化４】
【００１５】を含有してなる光重合組成物によって達成
される。
される。
【００１６】化学式（１）で表される不飽和エチレン化
合物は、優れた水溶性を有することから、これを使用す
ることにより、水溶媒で塗布可能な光重合性組成物を得
ることができる。光重合性組成物としては、一般に不飽
和エチレン化合物と共に、少なくとも水溶性高分子およ
び光重合開始剤を含有して構成され、さらには必要に応
じ、界面活性剤等が添加される。
合物は、優れた水溶性を有することから、これを使用す
ることにより、水溶媒で塗布可能な光重合性組成物を得
ることができる。光重合性組成物としては、一般に不飽
和エチレン化合物と共に、少なくとも水溶性高分子およ
び光重合開始剤を含有して構成され、さらには必要に応
じ、界面活性剤等が添加される。
【００１７】そのような光重合性組成物の用途として
は、例えば、印刷用インキ，ディスプレイ用カラーフィ
ルタ，光造形，フォトレジスト，光ファイバあるいは金
属等のコーティング，塗料，接着剤等が挙げられる。
は、例えば、印刷用インキ，ディスプレイ用カラーフィ
ルタ，光造形，フォトレジスト，光ファイバあるいは金
属等のコーティング，塗料，接着剤等が挙げられる。
【００１８】上記水溶性高分子としては、従来の陰極線
管製造に用いられているものが使用できる。例えば、メ
チルセルロース，ヒドロキシメチルセルロースなどのセ
ルロース類，ポリビニルアルコール，ポリアクリロイル
モルホリン，ポリアクリルアミド，ポリジメチルアクリ
ルアミド，ポリビニルピロリドン等のホモポリマ，アク
リルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体等が挙
げられる。
管製造に用いられているものが使用できる。例えば、メ
チルセルロース，ヒドロキシメチルセルロースなどのセ
ルロース類，ポリビニルアルコール，ポリアクリロイル
モルホリン，ポリアクリルアミド，ポリジメチルアクリ
ルアミド，ポリビニルピロリドン等のホモポリマ，アク
リルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体等が挙
げられる。
【００１９】上記第２の目的は、この光重合組成物を所
望の基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、この塗膜
に光を含む放射線を照射して硬化する工程とを有してな
る光重合性組成物の硬化方法によって達成することがで
きる。放射線としては、紫外線，可視光線，電子線，イ
オンビームまたはＸ線等であり、用途に応じて適宜選択
することができる。
望の基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、この塗膜
に光を含む放射線を照射して硬化する工程とを有してな
る光重合性組成物の硬化方法によって達成することがで
きる。放射線としては、紫外線，可視光線，電子線，イ
オンビームまたはＸ線等であり、用途に応じて適宜選択
することができる。
【００２０】さらに第３の目的は、この光重合性組成物
を含む塗布溶液を基板面に塗布して塗膜を形成する工程
と、所望のマスクを介して前記塗膜に放射線を照射し露
光する工程と、露光後の塗膜を現像液で現像する工程と
を有するパターン形成方法によって達成することができ
る。
を含む塗布溶液を基板面に塗布して塗膜を形成する工程
と、所望のマスクを介して前記塗膜に放射線を照射し露
光する工程と、露光後の塗膜を現像液で現像する工程と
を有するパターン形成方法によって達成することができ
る。
【００２１】パターン形成の対象としては、リソグラフ
ィ技術による各種電子部品の製造が好適である。例えば
半導体装置，薄膜磁気ヘッド，プリント基板，画像表示
用陰極線管等の製造に用いれば、光重合性組成物の塗布
工程および露光後の現像工程が、共に有機溶剤を使用せ
ずに水系の溶液処理が可能となり、環境問題に係わる安
全性の点から、また経済性の点からも好ましい。
ィ技術による各種電子部品の製造が好適である。例えば
半導体装置，薄膜磁気ヘッド，プリント基板，画像表示
用陰極線管等の製造に用いれば、光重合性組成物の塗布
工程および露光後の現像工程が、共に有機溶剤を使用せ
ずに水系の溶液処理が可能となり、環境問題に係わる安
全性の点から、また経済性の点からも好ましい。
【００２２】さらにまた、第４の目的は、上記第３の目
的の具体的な一応用例となるものであって、この光重合
性組成物に蛍光体粉末を分散せしめた塗布溶液をフェー
スパネル上に塗布し蛍光塗膜を形成する工程と、シャド
ウマスクを介して前記塗膜に放射線を照射し露光する工
程と、露光後の塗膜を現像液で現像する工程とを有する
陰極線管の製造方法によって達成することができる。
的の具体的な一応用例となるものであって、この光重合
性組成物に蛍光体粉末を分散せしめた塗布溶液をフェー
スパネル上に塗布し蛍光塗膜を形成する工程と、シャド
ウマスクを介して前記塗膜に放射線を照射し露光する工
程と、露光後の塗膜を現像液で現像する工程とを有する
陰極線管の製造方法によって達成することができる。
【００２３】光重合性組成物に蛍光体粉末を分散する代
わりに、例えば炭素粉末等の吸光物質からなる粉末を分
散すれば、同様の製造工程でフェースプレート（パネ
ル）上にブラックマトリックスのパターンを形成するこ
とができる。
わりに、例えば炭素粉末等の吸光物質からなる粉末を分
散すれば、同様の製造工程でフェースプレート（パネ
ル）上にブラックマトリックスのパターンを形成するこ
とができる。
【００２４】かかる陰極線管の製造方法においては、従
来の光硬化性組成物の問題となっていた有害な重金属
（クロム）を含まず、しかも塗布工程及び現像工程共
に、有機溶剤を使用せずに水系材料で処理できるという
優れた効果を有している。
来の光硬化性組成物の問題となっていた有害な重金属
（クロム）を含まず、しかも塗布工程及び現像工程共
に、有機溶剤を使用せずに水系材料で処理できるという
優れた効果を有している。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、フェースパネルに蛍光体層
のパターンを形成する陰極線管の製造方法を例に本発明
の実施の形態について具体的に説明する。
のパターンを形成する陰極線管の製造方法を例に本発明
の実施の形態について具体的に説明する。
【００２６】フェースパネルに塗布する光重合性組成物
は、水溶性高分子，感放射線化合物（光重合開始剤）、
前記化学式（１）で表せる不飽和エチレン化合物、およ
び蛍光体を少なくとも含むもので構成される。
は、水溶性高分子，感放射線化合物（光重合開始剤）、
前記化学式（１）で表せる不飽和エチレン化合物、およ
び蛍光体を少なくとも含むもので構成される。
【００２７】ここで使用される水溶性高分子としては、
従来の陰極線管の製造に用いられているものが使用でき
る。例えば、メチルセルロース，ヒドロキシメチルセル
ロースなどのセルロース類，ポリビニルアルコール，ポ
リアクリロイルモルホリン，ポリアクリルアミド，ポリ
ジメチルアクリルアミド，ポリビニルピロリドン等のホ
モポリマ，アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド
共重合体などがあるが、これらに限定されるものではな
い。これらの水溶性高分子のうち１種または２種以上を
組み合わせて用いることができる。これらの水溶性高分
子の分子量は10,000から2,000,000の範囲のものが用い
られる。
従来の陰極線管の製造に用いられているものが使用でき
る。例えば、メチルセルロース，ヒドロキシメチルセル
ロースなどのセルロース類，ポリビニルアルコール，ポ
リアクリロイルモルホリン，ポリアクリルアミド，ポリ
ジメチルアクリルアミド，ポリビニルピロリドン等のホ
モポリマ，アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド
共重合体などがあるが、これらに限定されるものではな
い。これらの水溶性高分子のうち１種または２種以上を
組み合わせて用いることができる。これらの水溶性高分
子の分子量は10,000から2,000,000の範囲のものが用い
られる。
【００２８】ここで使用される感放射線化合物（光重合
開始剤）としては、化学式（２）で表される感放射線化
合物が適している。かかる化学式（２）で表される化合
物の代表例としては、例えば、Ｒ１＝モルホリノ基，Ｒ
２＝エチル基，Ｒ３＝ジメチルアミノ基，Ｒ４＝ナトリ
ウムからなる４−〔２−（４−モルホリノ）ベンゾイル
−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼンスルホン酸ナト
リウム(化学式(３))、あるいはＲ４＝カリウムとした４
−〔２−（４−モルホリノ）ベンゾイル−２−ジメチル
アミノ〕ブチルベンゼンスルホン酸カリウム（化学式
(４)）等がある。
開始剤）としては、化学式（２）で表される感放射線化
合物が適している。かかる化学式（２）で表される化合
物の代表例としては、例えば、Ｒ１＝モルホリノ基，Ｒ
２＝エチル基，Ｒ３＝ジメチルアミノ基，Ｒ４＝ナトリ
ウムからなる４−〔２−（４−モルホリノ）ベンゾイル
−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼンスルホン酸ナト
リウム(化学式(３))、あるいはＲ４＝カリウムとした４
−〔２−（４−モルホリノ）ベンゾイル−２−ジメチル
アミノ〕ブチルベンゼンスルホン酸カリウム（化学式
(４)）等がある。
【００２９】
【化５】
【００３０】
【化６】
【００３１】また、ここで使用される蛍光体としては、
従来の蛍光面形成に用いられているものが使用可能であ
る。
従来の蛍光面形成に用いられているものが使用可能であ
る。
【００３２】本発明における各成分の配合比は、水溶性
高分子１００重量部に対し、不飽和エチレン化合物３０
〜２００重量部，光重合開始剤０.０５ 〜３０重量部の
範囲が好ましい。蛍光体の配合比は、水溶性高分子１０
０重量部に対し、１０〜１,０００ 重量部の範囲が好ま
しい。
高分子１００重量部に対し、不飽和エチレン化合物３０
〜２００重量部，光重合開始剤０.０５ 〜３０重量部の
範囲が好ましい。蛍光体の配合比は、水溶性高分子１０
０重量部に対し、１０〜１,０００ 重量部の範囲が好ま
しい。
【００３３】本発明における光重合性組成物には、さら
に必要に応じて、熱重合禁止剤である４−メトキシフェ
ノール，ハイドロキノン，カテコールなどを添加するこ
とも可能である。また、界面活性剤を添加使用すること
も可能である。
に必要に応じて、熱重合禁止剤である４−メトキシフェ
ノール，ハイドロキノン，カテコールなどを添加するこ
とも可能である。また、界面活性剤を添加使用すること
も可能である。
【００３４】本発明の陰極線管の製造方法において蛍光
面は、フォトリソグラフィによって形成される。予めブ
ラックマトリクスを形成したフェースパネルに、蛍光体
粉末を分散した上記光重合性組成物の水溶液（スラリ）
を塗布する。続いて塗膜面上にシャドーマスクを介して
超高圧水銀灯を用いて所定の位置を露光後、純水スプレ
ーにより現像すると、蛍光体パタンが得られる。これを
焼成することにより、目的とする蛍光面を得ることがで
きる。ついで、フェースプレートベーキングを行い、フ
ェースプレート部とファンネル部を合わせてフリットベ
ーキングし、電子銃を装着する工程を経て陰極線管が製
造される。カラー陰極線管の場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の
蛍光体を含むスラリをそれぞれ準備して塗布し、同種の
パターン形成工程を３回繰り返すことにより、３色発光
の蛍光体層パターンを形成する。
面は、フォトリソグラフィによって形成される。予めブ
ラックマトリクスを形成したフェースパネルに、蛍光体
粉末を分散した上記光重合性組成物の水溶液（スラリ）
を塗布する。続いて塗膜面上にシャドーマスクを介して
超高圧水銀灯を用いて所定の位置を露光後、純水スプレ
ーにより現像すると、蛍光体パタンが得られる。これを
焼成することにより、目的とする蛍光面を得ることがで
きる。ついで、フェースプレートベーキングを行い、フ
ェースプレート部とファンネル部を合わせてフリットベ
ーキングし、電子銃を装着する工程を経て陰極線管が製
造される。カラー陰極線管の場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の
蛍光体を含むスラリをそれぞれ準備して塗布し、同種の
パターン形成工程を３回繰り返すことにより、３色発光
の蛍光体層パターンを形成する。
【００３５】（実施例１）４−〔２−（４−モルホリ
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム（前記化学式(３)）１００ｍｇ，
ポリビニルピロリドン２.０ｇ，前記化学式（１）で表
される不飽和エチレン化合物１.５ｇを水２５ｇに溶解
した。このポリマ溶液をガラス板上に回転塗布し、８０
℃で２分間加熱して厚さ２０００ｎｍの膜を得た。この
膜にステップタブレット(Kodak Ｎo.２)を介して高圧水
銀灯の光を照射した。光照射後、４０秒間の水現像を行
った。この組成物の感度は、２ｍＪ／cm2 であった。
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム（前記化学式(３)）１００ｍｇ，
ポリビニルピロリドン２.０ｇ，前記化学式（１）で表
される不飽和エチレン化合物１.５ｇを水２５ｇに溶解
した。このポリマ溶液をガラス板上に回転塗布し、８０
℃で２分間加熱して厚さ２０００ｎｍの膜を得た。この
膜にステップタブレット(Kodak Ｎo.２)を介して高圧水
銀灯の光を照射した。光照射後、４０秒間の水現像を行
った。この組成物の感度は、２ｍＪ／cm2 であった。
【００３６】したがって、本発明の光重合性組成物は、
塗布，現像ともに水溶媒で行うことができ、優れた感光
性を有することが判明した。
塗布，現像ともに水溶媒で行うことができ、優れた感光
性を有することが判明した。
【００３７】（実施例２）４−〔２−（４−モルホリ
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸カリウム（前記化学式(４)）１００ｍｇ，ポ
リビニルピロリドン２.０ｇ，前記化学式（１）で表さ
れる不飽和エチレン化合物１.５ｇを水２５ｇに溶解し
た。このポリマ溶液をガラス板上に回転塗布し、８０℃
で２分間加熱して厚さ２０００ｎｍの膜を得た。この膜
にステップタブレット（Kodak Ｎo.２）を介して高圧水
銀灯の光を照射した。光照射後、４０秒間の水現像を行
った。この組成物の感度は、２ｍＪ／cm2 であった。
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸カリウム（前記化学式(４)）１００ｍｇ，ポ
リビニルピロリドン２.０ｇ，前記化学式（１）で表さ
れる不飽和エチレン化合物１.５ｇを水２５ｇに溶解し
た。このポリマ溶液をガラス板上に回転塗布し、８０℃
で２分間加熱して厚さ２０００ｎｍの膜を得た。この膜
にステップタブレット（Kodak Ｎo.２）を介して高圧水
銀灯の光を照射した。光照射後、４０秒間の水現像を行
った。この組成物の感度は、２ｍＪ／cm2 であった。
【００３８】（実施例３）４−〔２−（４−モルホリ
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１００ｍｇ（前記化学式(３)），
アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体
２.０ｇ，前記化学式(１）で表される不飽和エチレン化
合物１.５ｇ を水２５ｇに溶解した。このポリマ溶液を
ガラス板上に回転塗布し、８０℃で２分間加熱して厚さ
２０００ｎｍの膜を得た。この膜にステップタブレット
（Kodak Ｎo.２）を介して高圧水銀灯の光を照射した。
光照射後、４０秒間の水現像を行った。この組成物の感
度は、２ｍＪ／cm2 であった。
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１００ｍｇ（前記化学式(３)），
アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体
２.０ｇ，前記化学式(１）で表される不飽和エチレン化
合物１.５ｇ を水２５ｇに溶解した。このポリマ溶液を
ガラス板上に回転塗布し、８０℃で２分間加熱して厚さ
２０００ｎｍの膜を得た。この膜にステップタブレット
（Kodak Ｎo.２）を介して高圧水銀灯の光を照射した。
光照射後、４０秒間の水現像を行った。この組成物の感
度は、２ｍＪ／cm2 であった。
【００３９】（実施例４）４−〔２−（４−モルホリ
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１００ｍｇ（前記化学式(３)），
ポリビニルアルコール２.０ｇ，前記化学式（１）で表
される不飽和エチレン化合物１.５ｇを水２５ｇに溶解
した。このポリマ溶液をガラス板上に回転塗布し、８０
℃で２分間加熱して厚さ２０００ｎｍの膜を得た。この
膜にステップタブレット(Kodak Ｎo.２)を介して高圧水
銀灯の光を照射した。光照射後、４０秒間の水現像を行
った。この組成物の感度は、４ｍＪ／cm2 であった。
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１００ｍｇ（前記化学式(３)），
ポリビニルアルコール２.０ｇ，前記化学式（１）で表
される不飽和エチレン化合物１.５ｇを水２５ｇに溶解
した。このポリマ溶液をガラス板上に回転塗布し、８０
℃で２分間加熱して厚さ２０００ｎｍの膜を得た。この
膜にステップタブレット(Kodak Ｎo.２)を介して高圧水
銀灯の光を照射した。光照射後、４０秒間の水現像を行
った。この組成物の感度は、４ｍＪ／cm2 であった。
【００４０】（比較例１）４−〔２−（４−モルホリ
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１００ｍｇ，ポリビニルピロリド
ン２.０ｇ ，ポリエチレングリコール＃１０００ジメタ
クリレート１.５ｇ を水２５ｇに溶解した。このポリマ
溶液をガラス板上に回転塗布し、８０℃で２分間加熱し
て厚さ２mmの膜を得た。この膜にステップタブレット
（Kodak Ｎo.２）を介して高圧水銀灯の光を照射した。
光照射後、４０秒間の水現像を行った。この組成物の感
度は、５０ｍＪ／cm2 であった。
ノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１００ｍｇ，ポリビニルピロリド
ン２.０ｇ ，ポリエチレングリコール＃１０００ジメタ
クリレート１.５ｇ を水２５ｇに溶解した。このポリマ
溶液をガラス板上に回転塗布し、８０℃で２分間加熱し
て厚さ２mmの膜を得た。この膜にステップタブレット
（Kodak Ｎo.２）を介して高圧水銀灯の光を照射した。
光照射後、４０秒間の水現像を行った。この組成物の感
度は、５０ｍＪ／cm2 であった。
【００４１】この比較例の組成物は、実施例１〜３に示
した本発明の組成物と比較して著しく光感度が劣った。
した本発明の組成物と比較して著しく光感度が劣った。
【００４２】（実施例５）平均分子量７０万のポリビニ
ルピロリドン１００重量部，化学式（１）で表される不
飽和エチレン化合物１００重量部、４−〔２−（４−モ
ルホリノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム５重量部，ＺｎＳ：Ａｇ，
Ｃｌからなる青色蛍光体粉末４３０重量部，水８００重
量部を混合して光重合性組成物（蛍光体スラリ）を得
た。これを図１に示すように、予めブラックマトリクス
を形成した陰極線管のフェースパネル１の内側に塗布し
て、加熱乾燥した。
ルピロリドン１００重量部，化学式（１）で表される不
飽和エチレン化合物１００重量部、４−〔２−（４−モ
ルホリノ）ベンゾイル−２−ジメチルアミノ〕ブチルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム５重量部，ＺｎＳ：Ａｇ，
Ｃｌからなる青色蛍光体粉末４３０重量部，水８００重
量部を混合して光重合性組成物（蛍光体スラリ）を得
た。これを図１に示すように、予めブラックマトリクス
を形成した陰極線管のフェースパネル１の内側に塗布し
て、加熱乾燥した。
【００４３】続いて、シャドーマスク４を介して、超高
圧水銀灯を用いて１５ｍＪ／cm2 の光を照射し、純水で
１分間スプレー現像したところ、蛍光体のパタンが得ら
れた。以下、蛍光体層の焼結に引き続き、通常の方法で
パネルとファンネル部を合わせてフリットベーキング
し、電子銃を装着する工程を経て陰極線管を作製し、発
光特性を調べたところ、良好な青色の発光が得られた。
赤色および緑色蛍光体についても、同様な方法で陰極線
管を作製することが可能であった。
圧水銀灯を用いて１５ｍＪ／cm2 の光を照射し、純水で
１分間スプレー現像したところ、蛍光体のパタンが得ら
れた。以下、蛍光体層の焼結に引き続き、通常の方法で
パネルとファンネル部を合わせてフリットベーキング
し、電子銃を装着する工程を経て陰極線管を作製し、発
光特性を調べたところ、良好な青色の発光が得られた。
赤色および緑色蛍光体についても、同様な方法で陰極線
管を作製することが可能であった。
【００４４】（比較例２）従来、陰極線管製造に用いら
れている組成の蛍光体スラリ、すなわち、平均分子量１
０万のポリビニルアルコール１００重量部，重クロム酸
ナトリウム７重量部，(Ｚｎ，Ｃｄ)Ｓ：Ａｇからなる蛍
光体粉末４３０重量部，水８００部からなる蛍光体スラ
リをブラックマトリクスを形成した陰極線管のパネルに
塗布，加熱乾燥した。続いて、マスクを介して、超高圧
水銀灯を用いて露光したが、蛍光体のパタンを得るため
には、１００ｍＪ／cm2 の露光量が必要であった。
れている組成の蛍光体スラリ、すなわち、平均分子量１
０万のポリビニルアルコール１００重量部，重クロム酸
ナトリウム７重量部，(Ｚｎ，Ｃｄ)Ｓ：Ａｇからなる蛍
光体粉末４３０重量部，水８００部からなる蛍光体スラ
リをブラックマトリクスを形成した陰極線管のパネルに
塗布，加熱乾燥した。続いて、マスクを介して、超高圧
水銀灯を用いて露光したが、蛍光体のパタンを得るため
には、１００ｍＪ／cm2 の露光量が必要であった。
【００４５】
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、塗布，現像
ともに水溶媒で行うことができ、かつ高感度である。ま
た、それを用いることにより、有害なクロムを使用せず
に、高効率に陰極線管を製造することができる。
ともに水溶媒で行うことができ、かつ高感度である。ま
た、それを用いることにより、有害なクロムを使用せず
に、高効率に陰極線管を製造することができる。
【図１】陰極線管の構造を示す断面図。
１…パネル、２…ファンネル、３…蛍光面、４…シャド
ウマスク、５…ネック、６…電子銃。
ウマスク、５…ネック、６…電子銃。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｃ (72)発明者 森下 ▲はじめ▼ 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内
Claims (9)
- 【請求項１】化学式（１）で表される不飽和エチレン化
合物を含有してなる光重合性組成物。 【化１】 - 【請求項２】上記不飽和エチレン化合物と共に、少なく
とも水溶性高分子および水溶性光重合開始剤を含有して
なる請求項１記載の光重合性組成物。 - 【請求項３】請求項２に記載の水溶性光重合開始剤が化
学式（２）で表される光重合性組成物。 【化２】 （式中、Ｒ１は水素原子，アミノ基，メチルアミノ基，
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基，ジアリールアミ
ノ基，ピロリジノ基，ピペリジノ基，モルホリノ基，水
酸基，ハロゲン原子，メチルチオ基またはメトキシ基の
いずれかを示す。Ｒ２は置換または無置換メチル，エチ
ル，アリール，ノルマルプロピル，イソプロピル，ブチ
ル，フェニルまたは１−プロペニルのいずれかを示す。
Ｒ３はアミノ基，メチルアミノ基，ジメチルアミノ基，
ジエチルアミノ基，ジアリールアミノ基，ピロリジノ
基，ピペリジノ基またはモルホリノ基のいずれかを示
す。Ｒ４は水素原子,ナトリウム,カリウムなどのアルカ
リ金属原子のいずれかを示す。) - 【請求項４】請求項２に記載の水溶性高分子がメチルセ
ルロース，ヒドロキシメチルセルロース，ポリビニルピ
ロリドン，ポリビニルアルコール，ポリアクリルアミ
ド，ポリジメチルアクリルアミド，アクリルアミドとジ
アセトンアクリルアミドの共重合体，ポリエチレングリ
コールおよびポリアクリロイルモルホリンの中から選ば
れる少なくとも１種類の高分子であることを特徴とする
請求項２記載の光重合性組成物。 - 【請求項５】光重合性組成物を塗布した基板面に放射線
を照射することにより、光重合性組成物を光硬化する工
程を有する光重合性組成物の硬化法において、前記光重
合性組成物を請求項１乃至４のいずれかに記載の光重合
性組成物で構成してなる光重合性組成物の硬化方法。 - 【請求項６】光重合性組成物を含む塗布溶液を基板面に
塗布して塗膜を形成する工程と、所望のマスクを介して
前記塗膜に放射線を照射し露光する工程と、露光後の塗
膜を現像液で現像する工程とを有するパターン形成方法
において、前記光重合性組成物を請求項１乃至４のいず
れか一つに記載の光重合性組成物で構成してなるパター
ン形成方法。 - 【請求項７】上記光重合性組成物を含む塗布溶液と、現
像液とを共に水溶液で構成してなる請求項６記載のパタ
ーン形成方法。 - 【請求項８】光重合性組成物に蛍光体粉末を分散せしめ
た塗布溶液をフェースパネル上に塗布し蛍光塗膜を形成
する工程と、シャドウマスクを介して前記塗膜に放射線
を照射し露光する工程と、露光後の塗膜を現像液で現像
する工程とを有する陰極線管の製造方法において、前記
光重合性組成物を請求項１乃至４のいずれか一つに記載
の光重合性組成物で構成してなる陰極線管の製造方法。 - 【請求項９】上記塗布溶液と、現像液とを共に水溶液で
構成してなる請求項８記載の陰極線管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29665797A JPH11133596A (ja) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | 光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29665797A JPH11133596A (ja) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | 光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11133596A true JPH11133596A (ja) | 1999-05-21 |
Family
ID=17836393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29665797A Pending JPH11133596A (ja) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | 光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11133596A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6811817B2 (en) | 2001-07-05 | 2004-11-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for reducing pattern dimension in photoresist layer |
| JP2010132818A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性組成物 |
-
1997
- 1997-10-29 JP JP29665797A patent/JPH11133596A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6811817B2 (en) | 2001-07-05 | 2004-11-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for reducing pattern dimension in photoresist layer |
| JP2010132818A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性組成物 |
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