JP3473001B2 - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム及び蛍光パターンの製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、これを用いた感光性フィルム及び蛍光パターンの製
造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。このようなＰ
ＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板と背面板とが、
互いに平行にかつ対向して配設され、両者はその間に設
けられたセル障壁により、一定の間隔に保持されてお
り、前面板、背面板及びセル障壁に囲まれた空間で放電
する構造になっている。このようなセル内には、表示の
ための蛍光体が塗布され、放電により、封入ガスから発
生する紫外線によって蛍光体が発光させられ、この光を
観察者が視認できるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体の形成方法としては、各
色蛍光体を含有する感光性樹脂組成物を、スクリーン印
刷等の印刷方法によって塗布する方法が試みられてお
り、特開平１−１１５０２７号公報、特開平１−１２４
９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公報、特開平
２−１５５１４２号公報等に開示されている。しかし、
スクリーン印刷等の印刷方法は、形成精度に劣るため、
将来的なＰＤＰの大画面化への対応は困難である等の問
題がある。これらの問題点の解決には、蛍光体を含有さ
せた感光性フィルムを用いる方法が提案されている（特
開平６−２７３９２５号公報）。感光性フィルムを用い
る方法とは、蛍光体を含む感光性樹脂層と支持体フィル
ムよりなる感光性フィルムの蛍光体含有感光性樹脂層
を、加熱圧着（ラミネート）により、前記ＰＤＰセル内
に埋め込み、次いで、ネガフィルムを用いて写真法によ
って紫外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカ
リ水溶液等の現像液で未露光部分を除去して、さらに、
焼成により不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分
のみに蛍光体を形成するものである。

【０００４】しかし、上記した蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物及び感光性フイルムを用いる方法では、アル
カリ水溶液等の現像液で現像する必要性から、カルボキ
シル基等を有する不飽和単量体を共重合した重合体を、
分散用バインダ樹脂として使用しているが、カルボキシ
ル基を有する重合体と蛍光体とが容易に反応するため、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物及び感光性フイルム
は、増粘やゲル化する等保存安定性が乏しくなる欠点を
有していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、長期間増粘を起こさない貯蔵安定性に優れた感光性
樹脂組成物を提供するものである。請求項２記載の発明
は、長期間使用可能な貯蔵安定性に優れた感光性フィル
ムを提供するものである。請求項３記載の発明は、良好
なパターン形状を有する蛍光パターンの製造法を提供す
るものである。請求項４記載の発明は、作業性及び環境
安全性に優れ、良好なパターン形状を有する蛍光パター
ンの製造法を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）カルボ
キシル基を有する化合物により表面処理された蛍光体、
（Ｂ）カルボキシル基を有する樹脂、（Ｃ）エチレン性
不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（Ｄ）活性光
の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有し
てなる感光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、前
記感光性樹脂組成物の層と、この層を支持する支持体フ
ィルムとを有する感光性フィルムに関する。また、本発
明は、前記感光性樹脂組成物を、プラズマディスプレイ
パネル用基板上に、塗布、乾燥し、パターン状に露光
し、現像した後、焼成することを特徴とする蛍光パター
ンの製造法に関する。また、本発明は、前記感光性フィ
ルムを、プラズマディスプレイパネル用基板上にラミネ
ートし、プラズマディスプレイパネル用基板の表面上に
感光性フィルムの感光層を移行し、パターン状に露光
し、現像した後、焼成することを特徴とする蛍光パター
ンの製造法に関する。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は、
（Ａ）カルボキシル基を有する化合物により表面処理さ
れた蛍光体、（Ｂ）カルボキシル基を有する樹脂、
（Ｃ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
物、（Ｄ）活性光の照射により遊離ラジカルを生成する
光開始剤を必須成分とする。

【０００８】本発明における（Ａ）カルボキシル基を有
する化合物により表面処理された蛍光体は、通常、金属
酸化物を主体とする蛍光体をカルボキシル基を有する化
合物によって表面処理することで得られる。金属酸化物
を主体とする蛍光体として、赤色発色の蛍光体として
は、例えば、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、
Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶＯ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ
等が挙げられる。青色発色の蛍光体としては、例えば、
ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇ
ａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：
Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃ
ａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺、Ｂ
ａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。緑色発色の
蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂
Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａ
ｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａ
ｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔｂ、ＢａＯ・６Ａ
ｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。なお、上記した蛍光体
は、化成オプトニクス(株)や日亜化学工業(株)等から購
入することができる。

【０００９】カルボキシル基を有する化合物としては、
例えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、
芳香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が
挙げられ、具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ酢
酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、カ
プリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、
ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘプタ
デカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジン
酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン酸、
リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メチル
マロン酸、エチルマロン酸、こはく酸、メチルこはく
酸、アジピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタ
コン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリ
メリト酸、クエン酸等が挙げられる。中でも、増粘を抑
制する効果が高い点から、しゅう酸、マロン酸、メチル
マロン酸、エチルマロン酸、こはく酸、メチルこはく酸
等が好ましく、しゅう酸、マロン酸等がより好ましい。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００１０】表面処理方法としては、例えば、蛍光体を
そのまま又は溶媒に分散させた状態とし、これにカルボ
キシル基を有する化合物を、そのまま又は溶媒に溶解し
て添加し、これを充分に攪拌した後、溶媒を蒸発乾固さ
せる方法又はろ過し、乾燥させる方法等が挙げられる。
表面処理に用いるカルボキシル基を有する化合物の添加
量としては、特に制限はなく、蛍光体１００重量部に対
して、０．０１〜１００重量部とすることが好ましく
０．１〜１０重量部とすることがより好ましい。この添
加量が０．０１重量部未満では、感光性樹脂の増粘抑制
効果が不充分となる傾向があり、１００重量部を超える
と、焼成時に残査が残り、蛍光体の発光効率が減少する
傾向がある。

【００１１】表面処理に溶媒を用いる場合に、使用する
溶媒としては、カルボキシル基を有する化合物が均一に
溶解し、かつ蛍光体を溶解しないものであれば特に制限
はなく、例えば、アルコール系溶媒（エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノ
ール、ベンジルアルコール等）、ポリアルキレングリコ
ール系溶媒（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン
等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、
ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン等）、ハロゲン系
溶媒（四塩化炭素、トリクロロエタン等）などが挙げら
れ、また、環境汚染の問題がない水も溶媒として挙げら
れる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。

【００１２】溶媒の使用量は、特に制限はなく、蛍光体
の１００重量部に対して、１０〜１００００重量部とす
ることが好ましい。また、カルボキシル基を含有する化
合物を溶解させる目的で、加熱しながら表面処理を行う
こともできる。

【００１３】本発明における（Ｂ）カルボキシル基を有
する樹脂は、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
１種以上の他の不飽和単量体を共重合することにより得
られる。不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、これらの無水物、これらのハーフエステル化物等が
挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わ
せて使用される。

【００１４】不飽和カルボン酸と共重合可能な他の不飽
和単量体としては、特に制限はなく、例えば、アクリル
酸又はメタクリル酸のエステル系モノマ（アクリル酸メ
チル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタク
リル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸
ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロピル、メタクリル
酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル
酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブチル、メタクリル酸i
so−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸sec
−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸tert
−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチ
ル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、アク
リル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル酸２
−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、
アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アクリル
酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、メ
タクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸
ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル酸テト
ラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキ
サデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オク
タデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸エイコ
シル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、ア
クリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペンチ
ル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸シク
ロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アク
リル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチル、
アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチ
ルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、
メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−
クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリ
ル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエ
チル、アクリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−
シアノエチル、アクリル酸メトキシジエチレングリコー
ル、メタクリル酸メトキシジエチレングリコール、アク
リル酸メトキシジプロピレングリコール、メタクリル酸
メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸メトキシ
トリエチレングリコール、メタクリル酸メトキシトリエ
チレングリコール等）、スチレン系モノマ（スチレン、
α−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等）、ポ
リオレフィン系モノマ（ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレン等）、ビニル系モノマ（塩化ビニル、酢酸ビニ
ル等）、ニトリル系モノマ（アクリロニトリル、メタク
リロニトリル等）などが挙げられる。これらは単独で又
は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００１５】（Ｂ）カルボキシル基を有する樹脂中の不
飽和カルボン酸の共重合量は、全モノマに対して、１〜
９５モル％とすることが好ましく、１０〜７０モル％と
することがより好ましい。不飽和カルボン酸の共重合量
が、１モル％未満では、充分な現像性を示す樹脂が得ら
れにくい傾向があり、９５モル％を超えると、蛍光パタ
ーンの形成に悪影響をもたらす傾向がある。

【００１６】不飽和カルボン酸とこれと共重合可能な１
種以上の他の不飽和単量体との共重合体の製造は、例え
ば、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の公知の方
法で行うことができる。中でも、溶媒中に、不飽和カル
ボン酸、その他のモノマ及びラジカル重合触媒を含む溶
液を滴下しながら重合させる溶液重合法により製造する
ことが好ましい。この時の反応温度は、０〜１８０℃と
することが好ましく、４０〜１７０℃とすることがより
好ましい。この時の滴下時間は、１〜１０時間とするこ
とが好ましく、２〜６時間とすることがより好ましい。

【００１７】重合に使用する有機溶媒としては、共重合
反応中に生成する共重合体を溶解するものであれば、特
に制限なく、例えば、アルコール系溶媒（エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ベンジルアルコール等）、ポリアルキレング
リコール系溶媒（メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリ
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、
エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン
等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、
ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン等）、ハロゲン系
溶媒（四塩化炭素、トリクロロエタン等）などが挙げら
れる。また、環境汚染の問題がない水も溶媒の一つと考
えることができる。これらは単独で又は２種類以上を組
み合わせて使用される。有機溶媒の使用量は、特に制限
はなく、通常、全不飽和単量体に対して、０．５〜４倍
（重量比）である。

【００１８】共重合に使用するラジカル重合触媒として
は、通常のラジカル重合に使用できる、アゾ系化合物、
パーオキシド系化合物等の開始剤が挙げられる。具体的
には、２，２′−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジ
メチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（シクロ
プロピルプロピオニトリル）、２，２′−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾ
ビス（イソブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２
−メチルブチロニトリル）、１，１′−アゾビス（シク
ロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−フェニルアゾ
−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、ベ
ンゾイルパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシベ
ンゾエート等が挙げられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。使用するラジカル重合
触媒の量は、特に制限はなく、全モノマ量に対して、
０．１〜５重量％とすることが好ましく、０．２〜４重
量％とすることがより好ましい。

【００１９】得られる共重合体の酸価は、５〜４００と
することが好ましく、１０〜３００とすることがより好
ましく、１５〜２００とすることが特に好ましい。酸価
が、５未満では、現像性が低下する傾向があり、４００
を超えると、蛍光パターンの形状に悪影響をもたらす傾
向がある。また、得られる共重合体の重量平均分子量
は、特に制限はなく、感光性樹脂としての諸特性の面か
ら、５，０００〜３００，０００とすることが好まし
く、１０，０００〜１５０，０００とすることがより好
ましい。なお、本発明において、重量平均分子量は、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定
し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値であ
る。

【００２０】また、分子量を調節する目的で、共重合時
に適当な連鎖移動剤を配合することもできる。連鎖移動
剤としては、例えば、メタンチオール、エタンチオー
ル、ｎ−プロパンチオール、iso−プロパンチオール、
ｎ−ブタンチオール、２−メチルプロパンチオール、３
−メチルプロパンチオール、１，１−ジメチルエタンチ
オール、１−ヘキサンチオール、１−オクタンチオー
ル、１−デカンチオール、ベンゼンチオール、２−メチ
ルベンゼンチオール、３−メチルベンゼンチオール、４
−メチルベンゼンチオール、２−エチルベンゼンチオー
ル、３−エチルベンゼンチオール、４−エチルベンゼン
チオール、ビス（４−ヒドロキシジメチルフェニル）ジ
スルフィド、ビス（２−クロロメチルフェニル）ジスル
フィド、ビス（２−ブロモメチルフェニル）ジスルフィ
ド、ジナフチルジスルフィド、ジ−２−ベンゾチアジス
ルフィド、α−メチルスチレンダイマー、四塩化炭素、
四臭化炭素、クロロホルム等が挙げられる。連鎖移動剤
の配合量は、目的とする共重合体の分子量により適宜選
択できる。また、（Ｂ）カルボキシル基を有する樹脂
は、市販のものを使用することもできる。

【００２１】本発明における（Ｃ）エチレン性不飽和基
を有する光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合
性単官能単量体や光重合性多官能単量体として知られて
いるものを全て用いることができる。例えば、下記一般
式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、ｋは１〜１
０の整数を示し、Ｙは置換基を有していてもよい飽和又
は不飽和の炭化水素基又は複素環残基若しくはポリアル
キレングリコール残基、

【化２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基又はトリフルオロメチル基を示し、ｍ及びｎは各々
独立に１〜２０の整数を示す）を示す）で表される化合
物等が挙げられる。

【００２２】一般式（Ｉ）中、Ｙで示される置換基を有
していてもよい飽和又は不飽和の炭化水素残基又は複素
環残基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基等を有する置換基を有し
ていてもよい炭素数１〜２２の直鎖、分岐若しくは脂環
状のアルカン残基（メタン残基、エタン残基、プロパン
残基、シクロプロパン残基、ブタン残基、イソブタン残
基、シクロブタン残基、ペンタン残基、イソペンタン残
基、ネオペンタン残基、シクロペンタン残基、ヘキサン
残基、シクロヘキサン残基、ヘプタン残基、シクロヘプ
タン残基、オクタン残基、ノナン残基、デカン残基
等）、芳香族環残基（ベンゼン残基、ナフタレン残基、
アントラセン残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基
等）、複素環残基（フラン残基、チオフェン残基、ピロ
ール残基、オキサゾール残基、チアゾール残基、イミダ
ゾール残基、ピリジン残基、ピリミジン残基、ピラジン
残基、トリアジン残基、キノリン残基、キノキサリン残
基等）などが挙げられる。

【００２３】具体的には、一個の不飽和結合を有する単
量体としては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸の
エステル系モノマ（アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリ
ル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アク
リル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル
酸iso−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、アクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸te
rt−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタ
クリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テト
ラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキ
サデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オク
タデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイ
コシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシ
ル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチル
アミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、ア
クリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチ
ルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタ
クリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエ
チル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２
−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、アク
リル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メ
トキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプ
ロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレ
ングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール
等）、スチレン系モノマ（スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等）、ポリオレフィン系モ
ノマ（ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等）、ビ
ニル系モノマ（塩化ビニル、酢酸ビニル等）、ニトリル
系モノマ（アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等）、１−（メタクリロイロキシエトキシカルボニル）
−２−（３′−クロロ−２′−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル）ベンゼンなどが挙げられる。

【００２４】二個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタ
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン
２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニ
ル）プロパン（一般式（Ｉ）の式中、Ｙが

【化３】 （ｍ及びｎは、各々独立に、１〜２０の整数であ
る））、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアク
リレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、ウレタンジアクリレート化合物等が挙げ
られる。

【００２５】三個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、エチレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド
変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ルトリメタクリレート等が挙げられる。四個の不飽和結
合を有する単量体としては、例えば、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート等が挙げられる。

【００２６】五個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が
挙げられる。六個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が
挙げられる。これらの不飽和結合を有する単量体は、い
ずれにしても、光照射によりラジカル重合するものであ
ればよく、また、これらの不飽和結合を有する単量体
は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００２７】本発明における（Ｄ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成する光開始剤としては、特に制限は
なく、例えば、芳香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，
Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノ
ン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，
４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−
ジメチアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノ
ン−１、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキ
ノン等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニル
エーテル等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチル
ベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケ
タール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二
量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェ
ニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、
１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等）
などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組
み合わせて使用される。

【００２８】本発明における（Ａ）成分の配合量は、
（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００重
量部に対して、２０〜３００重量部とすることが好まし
い。この配合量が、２０重量部未満では、均一な蛍光パ
ターンが形成しにくい傾向があり、３００重量部を超え
ると、塗布性等の作業性が低下する傾向がある。

【００２９】本発明における（Ｂ）成分の配合量は、
（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量が１００
重量部として、１０〜９０重量部とすることが好まし
い。この配合量が、１０重量部未満では、光硬化物が脆
くなる傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充
分となる傾向がある。

【００３０】本発明における（Ｃ）成分の配合量は、
（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量が１００
重量部として、１０〜７０重量部とすることが好まし
い。この配合量が、１０重量部未満では、感度が不充分
となる傾向があり、７０重量部を超えると、光硬化物が
脆くなる傾向がある。

【００３１】本発明における（Ｄ）成分の配合量は、
（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量が１００
重量部として、０．０１〜４０重量部とすることが好ま
しい。この配合量が、０．０１重量部未満では、感度が
不充分となる傾向があり、４０重量部を超えると、露光
の際に組成物の表面での吸収が増大して、内部の光硬化
が不充分となる傾向がある。

【００３２】本発明の感光性樹脂組成物は、前記した各
成分を、溶解又は分散可能な溶媒に、溶解、混合させる
ことにより、均一に分散した溶液とすることができる。
溶媒としては、例えば、アルコール系溶媒（エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イ
ソブタノール、ベンジルアルコール等）、ポリアルキレ
ングリコール系溶媒（メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ト
リエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレ
ン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル
等）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等）、ハロ
ゲン系溶媒（四塩化炭素、トリクロロエタン等）などが
挙げられ、また、環境汚染の問題がない水も溶媒として
挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わ
せて使用される。

【００３３】溶媒の配合量は、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分
及び（Ｄ）成分の総量１００重量部に対して、５０〜５
００重量部とすることが好ましい。この配合量が、５０
重量部未満では、均一な感光性樹脂組成物の膜が形成し
にくい傾向があり、５００重量部を超えると、感光性樹
脂組成物膜の膜厚が薄くなり過ぎる傾向がある。

【００３４】本発明の感光性樹脂組成物には、蛍光体の
分散を良好とするために、市販又は合成された公知の分
散剤を添加することが好ましい。分散剤としては、無機
分散剤（シリカゲル系、ベントナイト系、カオリナイト
系、タルク系、ヘクトライト系、モンモリロナイト系、
サポナイト系、バイデライト系等）、有機の分散剤（脂
肪酸アマイド系、脂肪酸エステル系、酸化ポリエチレン
系、硫酸エステル系アニオン活性剤、ポリカルボン酸ア
ミン塩系、ポリカルボン酸系、ポリアマイド系、高分子
ポリエーテル系、アクリル共重合物系、特殊シリコン系
等）などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。分散剤の使用量は、特に制
限はなく、重合体の樹脂固形分に対して、０．０１〜１
００重量％とすることが好ましい。この使用量が、０．
０１重量％未満では、添加効果が現われない傾向があ
り、１００重量％を超えると、パターン形成精度が劣る
傾向がある。

【００３５】本発明の感光性樹脂組成物には、焼成後、
基板から蛍光体が剥離しないようにするために、市販の
又は合成された公知の結着剤を使用することが好まし
い。結着剤としては、例えば、低融点ガラス、金属アル
コキサイド、シランカップリング剤等が挙げられる。結
着剤の使用量は、特に制限はなく、表面処理された蛍光
体の１００重量部に対して、０．０１〜１００重量部と
することが好ましく、０．１〜５０重量部とすることが
より好ましく、０．１〜３０重量部とすることが特に好
ましい。この使用量が、０．０１重量部未満では、添加
効果が現われない傾向があり、１００重量部を超える
と、発光効率が劣る傾向がある。また、本発明の感光性
樹脂組成物には、必要に応じて、熱硬化剤、着色染料、
発光染料、可塑剤、酸化防止剤、重合禁止剤、表面改質
剤、密着性付与剤、安定剤、消泡剤、難燃剤等の添加剤
を適宜添加することができる。

【００３６】本発明の感光性フィルムは、前記本発明の
感光性樹脂組成物の層と、この層を支持する支持体フィ
ルムを有するものである。

【００３７】本発明の感光性フィルムに使用する感光性
樹脂組成物は、（Ｂ）カルボキシル基を有する樹脂の重
量平均分子量やガラス転移温度、（Ｂ）カルボキシル基
を有する樹脂と架橋剤との配合比等を調節して、１２０
℃での粘度を、１〜２０００Pa・secとすることが好まし
く、２〜５００Pa・secとすることがより好ましく、５〜
２００Pa・secとすることが特に好ましく、１０〜１００
Pa・secとすることが極めて好ましい。１２０℃での粘度
が、１Pa・sec未満では、室温での粘度が小さくなりすぎ
て、安定性が低下する傾向があり、２０００Pa・secを超
えると、追従性が劣る傾向がある。

【００３８】本発明における支持体フィルムとしては、
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン等の重合体フィルムが挙げられ、中で
も、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。これらの
重合体フィルムは、後に感光性樹脂組成物層から除去可
能でなくてはならないため、除去が不可能となるような
表面処理が施されたものであったり、材質であったりし
てはならない。これらの重合体フィルムの厚さは、通
常、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜８０
μｍとすることがより好ましい。これらの重合体フィル
ムは、一つは感光性樹脂組成物層の支持フィルムとして
使用され、他の一つを感光性樹脂組成物層の保護フィル
ムとして、感光性樹脂組成物層の両面に積層してもよ
い。

【００３９】本発明の感光性フィルムは、本発明の感光
性樹脂組成物を、支持体フィルム上にナイフコート法、
ロールコート法、スプレーコート法等で塗布し、乾燥し
た後、必要に応じて、剥離可能な保護フィルムを積層す
ることにより得ることができる。このようにして得られ
た感光性フィルムの感光性樹脂組成物層の厚さは、通
常、１０〜１００μｍとすることが好ましい。感光性樹
脂組成物層の厚さが、１０μｍ未満では、蛍光体層の厚
さが薄くなりすぎる傾向があり、１００μｍを超える
と、感光性フィルムを作製する時の乾燥に時間がかか
り、製造コストが上昇する傾向がある。なお、１００μ
ｍ以上の感光性樹脂組成物層は、感光性フィルムの積層
を繰り返すことによって得ることができる。また、感光
性樹脂組成物層中の残存溶剤量は、特性保持のために、
２重量％以下に抑えることが好ましい。

【００４０】本発明の蛍光パターンの製造法は、本発明
の感光性樹脂組成物を、プラズマディスプレイパネル用
基板上に、塗布、乾燥し、パターン状に露光し、現像し
た後、焼成することを特徴とする。

【００４１】本発明の蛍光パターンの製造法に使用する
感光性樹脂組成物は、（Ｂ）カルボキシル基を有する樹
脂の重量平均分子量やガラス転移温度、（Ｂ）カルボキ
シル基を有する樹脂と架橋剤と溶剤との配合比等を調節
して、常温での粘度を、１〜５００Pa・secとすることが
好ましく、１０〜２００Pa・secとすることがより好まし
い。常温での粘度が、１Pa・sec未満では、所望の膜厚が
得られない傾向があり、５００Pa・secを超えると、均一
に塗工しにくく、追従性が劣る傾向がある。

【００４２】本発明におけるプラズマディスプレイパネ
ル用基板としては、例えば、透明な接着のための表面処
理を施していてもよい、ガラス板、合成樹脂板等の基板
に、電極及びバリアリブが形成されたものなどが挙げら
れる。また、プラズマディスプレイパネル用基板には、
電極及びバリアリブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶
縁膜、補助電極、抵抗体等が形成されていてもよい。こ
れらのものを、基板へ形成する方法としては、特に制限
はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッタリング、メッ
キ、塗布、印刷等の方法で電極が形成することができ、
印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法等の方法でバリ
アリブが形成することができる。

【００４３】バリアリブは、通常、高さが２０〜５００
μｍ、幅が２０〜２００μｍとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、３角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図１及び図２等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。図１及び
図２において、１は基板、２はバリアリブ、３は格子状
放電空間、４はストライプ状放電空間である。放電空間
の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によって決めら
れ、通常、図１のような格子状放電空間であれば、縦及
び横の長さは、５０μｍ〜１mmとなり、図２のようなス
トライプ状放電空間であれば、間隔は、３０μｍ〜１mm
となる。

【００４４】塗布方法としては、例えば、ドクターブレ
ードコーテイング法、ミヤアバーコーテイング法、ロー
ルコーテイング法、スクリーンコーテイング法、スピナ
ーコーテイング法、インクジェットコーテイング法、ス
プレーコーテイング法、ディップコーテイング法等を用
いることができる。乾燥方法としては、公知の乾燥方法
を用いて、乾燥することができ、乾燥温度は、４０〜１
００℃とすることが好ましく、また、乾燥時間は、１０
〜９０分間とすることが好ましい。

【００４５】以上のようにして、プラズマディスプレイ
パネル用基板上に、塗布した本発明の感光性樹脂組成物
層の乾燥後の膜厚は、１０〜１００μｍとすることが好
ましい。感光性樹脂組成物層の厚さが、１０μｍ未満で
は、蛍光体層の厚さが薄くなりすぎる傾向があり、１０
０μｍを超えると、作業性が劣る傾向がある。

【００４６】パターン状に露光し、現像する方法として
は、例えば、パターンマスクを硬化樹脂層に接触又は非
接触で一定間隔を開けて活性光により露光した後、現像
液で現像し、未露光部を除去してパターンを形成する方
法等が挙げられる。また、露光後、必要に応じて加熱を
行って硬化することも可能である。活性光としては、公
知の活性光源、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アー
ク、キセノンアーク、その他から発生する光等が好まし
く使用される。感光性樹脂組成物層に含まれる光重合反
応開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合は、活性光源は、紫外線を有効に放
射するものにすべきである。もちろん、光重合反応開始
剤が可視光線に感受するもの、例えば、９、１０−フェ
ナンスレンキノン等である場合には、活性光としては、
可視光が使用でき、その光源としては、前記のもの以外
に、写真用フラッド電球、太陽ランプ等も使用できる。

【００４７】現像方法としては、例えば、スプレー、揺
動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法が
使用できる。現像液としては、例えば、アルカリ水溶
液、水系現像液、場合によっては有機溶剤等の公知の現
像液を用いることができる。

【００４８】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエ
タノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリウ
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水溶液が好ま
しい。現像に用いるアルカリ水溶液のpHは、pH９〜１１
とすることが好ましい。また、その温度は、感光層の現
像性に合わせて調整することができる。また、前記アル
カリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進さ
せるための少量の有機溶剤等を混入させることができ
る。

【００４９】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と一種以上の有機溶剤とからなる。ここでアルカリ物
質としては、前記物質以外に、例えば、ホウ砂やメタケ
イ酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、エ
タノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、２ーアミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プ
ロパンジオール、１、３−ジアミノプロパノール−２、
モルホリン等が挙げられる。現像液のpHは、レジストの
現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが
望ましく、pH８〜１２とすることが好ましく、pH９〜１
０とすることがより好ましい。

【００５０】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【００５１】有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０重量％
とすることが好ましく、その温度は、現像性にあわせて
調整することができる。また、水系現像液中には、界面
活性剤、消泡剤等を少量混入することもできる。単独で
用いる有機溶剤系現像液としては、例えば、１，１，１
−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。こ
れらの有機溶剤は、引火防止のため、１〜２０重量％の
範囲で水を添加することが好ましい。また、必要に応じ
て２種以上の現像方法を併用してもよい。さらに、現像
後、パターン化された感光性樹脂組成物の密着性及び耐
薬品性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による
紫外線照射や加熱を行うこともできる。この時の紫外線
の照射量は、通常、０．２〜１０J/cm²程度であり、照
射の際に、６０〜１８０℃の加熱を行ってもよい。これ
ら紫外線の照射と加熱は、どちらの順番に行ってもよ
い。

【００５２】焼成方法としては、特に制限はなく、公知
の焼成方法を使用し、蛍光体以外の不溶物を除去し、蛍
光体をＰＤＰセル内に固定することができる。焼成温度
は、３５０〜１０００℃とすることが好ましく、４００
〜６５０℃とすることがより好ましい。また、焼成時間
は、５〜１２０分とすることが好ましく、１０〜９０分
とすることがより好ましい。

【００５３】フルカラーのＰＤＰを形成するためには、
赤色、青色、緑色に発色するそれぞれの蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物を用いて、各色の感光性樹脂組成物
を塗布した後、現像から焼成までの操作を行うことで作
製することができる。

【００５４】本発明の蛍光パターンの製造法は、本発明
の感光性フィルムを、プラズマディスプレイパネル用基
板上に、ラミネートし、プラズマディスプレイパネル用
基板の表面上に、感光性フィルムの感光層を移行し、パ
ターン状に露光し、現像した後、焼成することを特徴と
する。

【００５５】ラミネート方法としては、感光性フィルム
に保護フィルムが存在している場合には、保護フィルム
を除去後、感光性組成物層を基板に、加熱圧着（ラミネ
ート）させることにより積層して、感光性組成物層を形
成する。ラミネート時の温度は、通常、８０〜１２０℃
とされ、圧着圧力は、通常、１〜５×１０⁵Paで行われ
るが、これらの条件には特に制限はない。感光性組成物
層を前記のように加熱すれば、予め基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、追従性をさらに向上させるため
に、基板の予熱処理を行うこともできる。

【００５６】プラズマディスプレイパネル用基板の表面
上に、感光性フィルムの感光層を移行する方法として
は、例えば、加熱による移行、加圧（外気圧を上げる）
による移行、凹部に対応する凸部を有する押し型で押す
ことによる移行、ロール等を使用してこすることによる
移行などが挙げられ、中でも、加熱による移行が好まし
い。加熱による移行方法としては、例えば、感光性樹脂
組成物を、加熱して流動化させ、図３（ｂ）〜（ｄ）に
示すように、感光性樹脂組成物を、プラズマディスプレ
イパネル用基板の表面上（バリアリブ）に沿って、開口
部から内部に向かって移動させ、感光性樹脂組成物層を
形成する方法等が挙げられる。図３において、１は基
板、２はバリアリブ、５は感光性樹脂組成物、５′は感
光性樹脂組成物が薄くなった部分、６は支持体フィルム
である。

【００５７】上記加熱温度は、８０〜１５０℃とするこ
とが好ましく、１００〜１３０℃とすることがより好ま
しい。この加熱温度が、８０℃未満であると、感光性樹
脂組成物が、充分に流動化せず、追従性が低下する傾向
があり、１５０℃を超えると、感光性樹脂組成物が、変
性する傾向があり、感度や解像度等の感光特性が低下す
る傾向がある。また、この加熱時には、感光性フィルム
の支持体フィルムは、そのままでも、剥離してもよい
が、流動化をスムーズに行える点で、支持体フィルム
は、剥離した後に、加熱することが好ましい。なお、図
３に示す工程は、支持体フィルムを剥離した後に、加熱
したものである。

【００５８】感光性樹脂組成物を、図３（ａ）の状態か
ら図３（ｄ）の状態まで移動させるのに必要な時間は、
バリアリブの高さ、放電空間の形状と大きさ、加熱温
度、感光性樹脂組成物の厚さと粘度及び前記の積層条件
等に依存するので、感光性樹脂組成物を図３（ａ）の状
態から図３（ｄ）の状態まで移動させるのに必要な時間
を、実測して加熱時間を設定する。この加熱時間は、通
常、１分〜１０時間である。また、前記の積層工程を、
減圧下で行った場合には、感光性樹脂組成物を図３
（ａ）の状態から図３（ｄ）の状態へ移動させるのに必
要な時間が、短縮される。

【００５９】露光方法としては、前記露光方法と同様
に、フォトマスクを介して、活性光により露光される
が、この際、感光性樹脂組成物層上に、支持体フィルム
が存在する場合で、その支持体フィルムが透明の場合に
は、そのまま露光してもよく、また、不透明の場合に
は、当然除去する必要が有る。

【００６０】現像方法としては、露光後、感光性樹脂組
成物層上に支持体フィルムが存在する場合には、これを
除去した後、前記現像方法と同様にして行われる。ま
た、焼成方法についても、前記焼成方法と同様にして行
われる。

【００６１】フルカラーのＰＤＰを形成するためには、
赤色、青色、緑色に発色するそれぞれの蛍光体を含有す
る感光性フイルムを用いて、上記のラミネートから焼成
までの一連の操作を繰り返し行うことで作製することが
できる。また、必要に応じて、赤色、青色、緑色に発色
するそれぞれの蛍光体を含有する感光性フイルムを用い
て、上記のラミネートから焼成前までの一連の操作を繰
り返し行った後で、前記焼成を行うことでフルカラーの
ＰＤＰを作製することもできる。

【００６２】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ （カルボキシル基を有する化合物により表面処理された
蛍光体（Ｉ）の作製）３００mlナス型フラスコに、蛍光
体（ＺｎＯ：Ｚｎ（緑））１００．０ｇ、アセトン２０
０．０ｇ及びしゅう酸０．５gを入れロータリーエバポ
レーターに取り付けた。次いで、３０℃で３時間フラス
コを回転させて内容物を攪拌し、その後、減圧下でアセ
トンを留去して、表面処理された蛍光体（Ｉ）を得た。

【００６３】製造例２ （カルボキシル基を有する化合物により表面処理された
蛍光体（II）の作製）３００mlナス型フラスコに、蛍光
体（Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ（緑））１００．０ｇ、アセト
ン２００．０ｇ及びマロン酸０．５gを入れロータリー
エバポレーターに取り付けた。次いで、３０℃で３時間
フラスコを回転させて内容物を攪拌し、その後、減圧下
でアセトンを留去して、表面処理された蛍光体（II）を
得た。

【００６４】製造例３ （カルボキシル基を有する樹脂の作製）特開平６−２７
３９２５号公報記載の方法に基づき、撹拌機、還流冷却
機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル１００重量部
を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温
度を８０℃±２℃に保ちながら、４時間かけて、均一
に、メタクリル酸２２重量部、メタクリル酸メチル５５
重量部、メタクリル酸ｎ−ブチル８重量部、アクリル酸
２−エチルヘキシル１５重量部、２，２′−アゾビス
（イソブチロニトリル）０．６重量部の混合物を滴下し
た。これらの滴下後、８０℃±２℃で、６時間撹拌を続
け、重量平均分子量が８０，０００、酸価が１４３mgKO
H/g（固形分）の共重合体を得た。

【００６５】実施例１〜２及び比較例１〜２ 表１に示す材料を、ライカイ機を用いて５分間混合した
後、１分間放置する操作を、３回繰り返し行い、感光性
樹脂組成物溶液を調製した。

【００６６】

【表１】

【００６７】保存安定性試験 上記実施例１〜２及び比較例１〜２で調製した感光性樹
脂組成物の溶液の粘度を、２５℃で測定し、その後、サ
ンプル瓶中で密栓して、４０℃の恒温槽中で７日間保存
した。保存後、２５℃で粘度を測定し、調製直後の初期
粘度と保存後の粘度との変化から、保存安定性を試験し
た。その結果を表２に示した。

【００６８】

【表２】

【００６９】表２から、本発明の感光性樹脂組成物（実
施例１及び２）は、保存安定性が良好であり、感光性樹
脂組成物として好適であることがわかる。しかし、処理
していない蛍光体を用いた感光性樹脂組成物（比較例１
及び２）は、増粘し、感光性樹脂組成物として使用する
ことは不適であることがわかる。

【００７０】実施例３〜４ 実施例１〜２で得られた、感光性樹脂組成物の溶液を、
縦２００μｍ×横２５０μｍ×高さ１５０μｍの格子状
の開口部をもつ、ＰＤＰ用バリアリブを形成したガラス
基板に、スクリーン印刷機（ニューロング精密工業(株)
製、商品名ＬＳ−７７Ａ型）を用いて、乾燥膜厚が６０
μｍとなるように塗布した。バリアリブの開口面を上に
して、１２０℃で１０分間、加熱乾燥した後、常温で１
時間放置した。次に、バリアリブの開口部の中心に合わ
せて、直径１２０μｍの遮光部を持つ試験用マスクをバ
リアリブの開口面に密着させ、(株)オーク製作所製ＨＭ
Ｗ−５９０型平行光線露光機を使用して、０．５J/cm²
の紫外線照射を行った。常温で１５分放置した後、１重
量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で７０秒間
スプレー現像した。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、
東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用して、３J/cm
²の紫外線照射を行った。照射後、４５０℃で３０分
間、加熱処理（焼成）を行い、不必要な樹脂成分を除去
して、ＰＤＰセル内に蛍光パターンを形成させた。得ら
れた蛍光パターンを、実体顕微鏡及び走査型電子顕微鏡
（ＳＥＭ）により観察し、蛍光パターンの形成状況を評
価した。その結果を表３に示した。

【００７１】比較例３〜４ 比較例１〜２で得られた感光性樹脂組成物を、実施例３
〜４と同様の工程で、ＰＤＰセル内に蛍光パターンを形
成させた。得られた蛍光パターンを、実体顕微鏡及びＳ
ＥＭにより観察し、蛍光パターンの形成状況を評価し
た。その結果を表３に示した。

【００７２】

【表３】

【００７３】表３から、本発明の感光性樹脂組成物（実
施例５及び６）は、良好な蛍光体層を形成した。一方、
処理していない蛍光体を用いた感光性樹脂組成物（比較
例３及び４）は、未露光部に現像残りが発生してしま
い、完全な蛍光パターンが得られなかった。

【００７４】実施例５〜６ 実施例１〜２で得られた感光性樹脂組成物を用いて、２
０μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機
で、１０分間乾燥して溶剤を除去した。得られた感光性
樹脂組成物層の乾燥後の膜厚は、６０μｍであった。感
光性樹脂組成物層の上に、さらに、厚さ２５μｍのポリ
エチレンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせ、
感光性フイルムを得た。

【００７５】得られた感光性フイルムを、縦２００μｍ
×横２５０μｍ×高さ１５０μｍの格子状の開口部をも
つ、ＰＤＰ用バリアリブを形成したガラス基板に、真空
ラミネータ（日立化成工業(株)製、商品名ＶＬＭ−１
型）を用いて、ヒートシュー温度が１２０℃、ラミネー
ト速度が０．５m/s、気圧が４０００Pa以下、圧着圧力
が３×１０⁵Paでポリエチレンフィルムを剥がしながら
積層した。次に、上面のポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを剥がし、バリアリブの開口面を上にして、１２
０℃で３０分間加熱した後、常温で１時間放置した。次
に、バリアリブの開口部の中心に合わせて、直径１２０
μｍの遮光部を持つ試験用マスクをバリアリブの開口面
に密着させ、(株)オーク製作所製ＨＭＷ−５９０型平行
光線露光機を使用して、０．５J/cm²の紫外線照射を行
った。常温で１５分放置した後、１重量％炭酸ナトリウ
ム水溶液を用いて、３０℃で７０秒間スプレー現像し
た。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電材(株)製
東芝紫外線照射装置を使用して、３J/cm²の紫外線照射
を行った。照射後、４５０℃で３０分間、加熱処理（焼
成）を行い、不必要な樹脂成分を除去して、ＰＤＰセル
内に蛍光パターンを形成させた。得られた蛍光パターン
を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより観察し、蛍光パターン
の形成状況を評価した。その結果を表４に示した。

【００７６】比較例５〜６ 比較例１〜２で得られた感光性樹脂組成物を用い、実施
例５〜６と同様の工程で、感光性フィルムを作製し、Ｐ
ＤＰセル内に蛍光パターンを形成させた。得られた蛍光
パターンを実体顕微鏡及びＳＥＭにより観察し、蛍光パ
ターンの形成状況を評価した。その結果を表４に示し
た。

【００７７】

【表４】

【００７８】表４から、本発明の感光性フィルムを使用
した場合（実施例５及び６）は、良好な蛍光体層を形成
した。一方、処理していない蛍光体を用いた感光性樹脂
組成物から作製した感光性フィルムを使用した場合（比
較例５及び６）は、未露光部に現像残りが発生してしま
い、完全な蛍光パターンが得られなかった。

【００７９】

【発明の効果】請求項１記載の感光性樹脂組成物は、長
期間増粘を起こさず貯蔵安定性に優れる。請求項２記載
の感光性フィルムは、長期間使用可能で貯蔵安定性に優
れる。請求項３記載の蛍光パターンの製造法は、良好な
パターン形状を有する蛍光パターンが得られる。請求項
４記載の蛍光パターンの製造法は、作業性及び環境安全
性に優れ、良好なパターン形状を有する蛍光パターンが
得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】バリアリブの一例を示した模式図

【図２】バリアリブの一例を示した模式図

【図３】感光性樹脂組成物層の移行工程を示した模式図

【符号の説明】

１…基板 ２…バリアリブ ３…格子状放電空間 ４…ストライプ状放電空間 ５…感光性樹脂組成物 ５′…感光性樹脂組成物が薄くなった部分 ６…支持体フィルム

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｄ (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立 化成工業株式会社 茨城研究所内 (72)発明者 丹野 清吉 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立 化成工業株式会社 山崎工場内 (72)発明者 角丸 肇 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立 化成工業株式会社 山崎工場内 (56)参考文献 特開 平９−13030（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−95250（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−348013（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−273925（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−275004（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−116558（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−134089（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−135480（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C09K 11/08 G03F 7/004 - 7/18 H01J 9/227

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）カルボキシル基を有する化合物に
   より表面処理された蛍光体、（Ｂ）カルボキシル基を有
   する樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基を有する光重合性
   不飽和化合物及び（Ｄ）活性光の照射により遊離ラジカ
   ルを生成する光開始剤を含有してなる感光性樹脂組成
   物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の感光性樹脂組成物の層
   と、この層を支持する支持体フィルムとを有する感光性
   フィルム。
3. 【請求項３】 請求項１記載の感光性樹脂組成物を、プ
   ラズマディスプレイパネル用基板上に、塗布、乾燥し、
   パターン状に露光し、現像した後、焼成することを特徴
   とする蛍光パターンの製造法。
4. 【請求項４】 請求項２記載の感光性フィルムを、プラ
   ズマディスプレイパネル用基板上にラミネートし、プラ
   ズマディスプレイパネル用基板の表面上に感光性フィル
   ムの感光層を移行し、パターン状に露光し、現像した
   後、焼成することを特徴とする蛍光パターンの製造法。