JPH1116961A - 屈曲部を有する金属体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタクトプローブおよびその製造方法 - Google Patents

屈曲部を有する金属体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタクトプローブおよびその製造方法

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JPH1116961A
JPH1116961A JP9172545A JP17254597A JPH1116961A JP H1116961 A JPH1116961 A JP H1116961A JP 9172545 A JP9172545 A JP 9172545A JP 17254597 A JP17254597 A JP 17254597A JP H1116961 A JPH1116961 A JP H1116961A
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metal
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bent portion
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JP9172545A
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Tadashi Nakamura
忠司 中村
Hideaki Yoshida
秀昭 吉田
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 屈曲部を有する金属体において、高精度かつ
高耐久性を備えた屈曲部とすることを課題とする。 【解決手段】 所定角度θの屈曲部BEを有する金属体
3aであって、表面の所定位置W1から前記所定角度に
傾斜した傾斜面を有する第1の金属層6上に、第2の金
属層Nを選択的にメッキ形成して前記所定位置に非塑性
変形部となる前記屈曲部BEを成形した後、第2の金属
層を分離させて形成した技術が採用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、屈曲部を有する金
属体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタク
トプローブおよびその製造方法に関するものであって、
詳しくは、プローブピンやソケットピン等として用いら
れ、プローブカードやテスト用ソケット等に組み込まれ
て半導体ICチップや液晶デバイス等の各端子に接触し
て電気的なテストを行うコンタクトプローブおよびその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ又はLCD(液晶表示体)の各端子に接触
させて電気的なテストを行うために、コンタクトピンが
用いられている。近年、ICチップ等の高集積化および
微細化に伴って電極であるコンタクトパッドが狭ピッチ
化されるとともに、コンタクトピンの多ピン狭ピッチ化
が要望されている。しかしながら、コンタクトピンとし
て用いられていたタングステン針のコンタクトプローブ
では、タングステン針の径の限界から多ピン狭ピッチへ
の対応が困難になっていた。
【0003】これに対して、例えば、特公平7−820
27号公報に、複数のパターン配線が樹脂フィルム上に
形成されこれらのパターン配線の各先端が前記樹脂フィ
ルムから突出状態に配されてコンタクトピンとされるコ
ンタクトプローブの技術が提案されている。この技術例
では、複数のパターン配線の先端部をコンタクトピンと
することによって、多ピン狭ピッチ化を図るとともに、
複雑な多数の部品を不要とするものである。
【0004】ところで、Al(アルミニウム)合金等で
形成されるICチップ等の各端子(パッド)は、その表
面が空気中で酸化して、薄いアルミニウムの表面酸化膜
で覆われた状態となっている。したがって、パッドの電
気的テストを行うには、アルミニウムの表面酸化膜を取
り除き、内部のアルミニウムを露出させて、導電性を確
保する必要がある。
【0005】そこで、上記コンタクトプローブにおいて
は、コンタクトピンをパッドの表面に接触させつつ、オ
ーバードライブをかけることにより、コンタクトピンの
先端でパッド表面のアルミニウムの表面酸化膜を擦り取
り、内部のアルミニウムを露出させるようにしている。
上述した作業は、スクラブ(scrub)と呼ばれ、電気的テ
ストを確実に行う上で重要とされる。
【0006】上記コンタクトピンにおいて、スクラブ時
にパッドの下地が傷つくのを防止するためには、コンタ
クトピンのパッドに対する接触角を十分な大きさまで確
保することが必要とされる。その理由は、接触角が小さ
いと、表面のアルミニウムの排斥量が著しく大きくな
り、パッド下地にまで影響を及ぼすという理由からであ
る。
【0007】この対策として、図9に示すように、コン
タクトピン600の途中位置Vにて折曲させたコンタク
トプローブ601が提案されている。このコンタクトプ
ローブ601では、コンタクトピン600の先端部と基
端部とで測定対象物(パッド)に対する角度を変えるこ
とができ、コンタクトピン600の基端部のパッドに対
する角度、すなわち、フィルム602のパッドに対する
角度を大きくすることなく、コンタクトピン600の先
端部とパッドの角度(接触角)を大きくすることが可能
となる。すなわち、このコンタクトプローブ601で
は、スクラブ距離が過度に大きくなることがなく、か
つ、プローブ装置の高さを大きくすることなく、スクラ
ブ時にパッドの下地が傷つくことを防止することができ
るという利点がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記折曲されたコンタ
クトピン600を有するコンタクトプローブ601で
は、精密金型によってコンタクトピン600を折曲させ
るが、複数のコンタクトピン600を所定角度(高さ)
および長さで高精度に折曲させることが困難であり、折
曲工程後に生じたコンタクトピン600の長さ(高さ)
の不揃いを、サンドペーパー等による研磨工程によって
揃えて均一化を図らなければならなかった。また、この
ように折曲されたコンタクトピン600の折曲部分であ
る途中位置Vでは、折曲による塑性変形が生じて残留応
力が残ってしまい耐久性が低下してしまう問題がある。
さらに、折曲によって途中位置Vに亀裂や破断等が生じ
るおそれもあった。
【0009】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、高精度かつ高耐久性を備えた屈曲部を有する金属
体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタクト
プローブおよびその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、請求項
1記載の屈曲部を有する金属体では、所定角度の屈曲部
を有する金属体であって、表面の所定位置から前記所定
角度に傾斜した傾斜面を有する第1の金属層上に、第2
の金属層を選択的にメッキ形成して前記所定位置に非塑
性変形部となる前記屈曲部を成形した後、第2の金属層
を分離させて形成した技術が採用される。
【0011】この屈曲部を有する金属体では、前記所定
角度に傾斜した傾斜面を有する第1の金属層上に、第2
の金属層を選択的にメッキ形成して屈曲部を成形した
後、第2の金属層を分離させて形成したので、屈曲部が
折曲によって形成されたものではなく、非塑性変形部と
なることから残留応力が残らない。
【0012】請求項2記載の屈曲部を有する金属体の成
形方法では、所定角度の屈曲部を有する金属体の成形方
法において、基板層の上に前記金属体の材質に被着また
は結合する材質の第1の金属層を形成する第1の金属層
形成工程と、前記第1の金属層の上に前記金属体に供さ
れる部分以外にマスクを施すパターン形成工程と、該パ
ターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記基板層か
ら所定位置まで剥離させ、第1の金属層と基板層との間
に楔部材を挿入して第1の金属層を前記所定位置で前記
所定角度に屈曲させる楔挿入工程と、該楔挿入工程後
に、前記第1の金属層の上のマスクされていない部分
に、前記金属体に供される第2の金属層をメッキ処理に
より形成し、前記所定位置に前記屈曲部を成形するメッ
キ処理工程と、前記マスクを除去するマスク除去工程
と、前記楔部材を取り外した後、前記第1の金属層を前
記基板層からすべて剥離させ、さらに第1の金属層を選
択的に除去し、前記第2の金属層を分離させて前記金属
体とする金属体分離工程とを備える技術が採用される。
【0013】この屈曲部を有する金属体の成形方法で
は、前記楔挿入工程で第1の金属層と基板層との間に楔
部材を挿入することにより、第1の金属層を所定位置で
所定角度に屈曲させ、さらに前記メッキ処理工程および
前記マスク除去工程を行った後、前記金属体分離工程に
よって第2の金属層を分離させて前記金属体とするの
で、塑性変形が無く残留応力が少ないとともに、予め設
定された楔部材の形状によって特定される高精度な屈曲
位置および角度の屈曲部を有する金属体が製造される。
【0014】請求項3記載の屈曲部を有する金属体の成
形方法では、所定角度の屈曲部を有する金属体の成形方
法において、第1の基板層の上に前記金属体の材質に被
着または結合する材質の第1の金属層を形成する第1の
金属層形成工程と、前記第1の金属層の上に前記金属体
に供される部分以外にマスクを施すパターン形成工程
と、該パターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記
第1の基板層からすべて剥離させ、表面に所定位置から
前記所定角度に傾斜した傾斜面を有する第2の基板層上
に第1の金属層を貼設し、該第1の金属層を前記所定位
置で前記所定角度に屈曲させる貼設工程と、該貼設工程
後に、前記第1の金属層の上のマスクされていない部分
に、前記金属体に供される第2の金属層をメッキ処理に
より形成し、前記所定位置に前記屈曲部を成形するメッ
キ処理工程と、前記マスクを除去するマスク除去工程
と、再び前記第1の金属層を前記第2の基板層からすべ
て剥離させ、さらに第1の金属層を選択的に除去し、前
記第2の金属層を分離させて前記金属体とする金属体分
離工程とを備える技術が採用される。
【0015】この屈曲部を有する金属体の成形方法で
は、前記貼設工程によって第1の金属層を第1の基板層
からすべて剥離させ、表面に所定位置から所定角度に傾
斜した傾斜面を有する第2の基板層上に第1の金属層を
貼設し、該第1の金属層を前記所定位置で前記所定角度
に屈曲させ、さらに前記メッキ処理工程および前記マス
ク除去工程を行った後、前記金属体分離工程によって第
2の金属層を分離させて前記金属体とするので、塑性変
形が無く残留応力が少ないとともに、予め設定された第
2の基板層表面(傾斜面)の形状によって特定される高
精度な屈曲位置および角度の屈曲部を有する金属体が製
造される。
【0016】請求項4記載のコンタクトプローブでは、
複数のパターン配線がフィルム上に形成されこれらのパ
ターン配線の各先端が前記フィルムから突出状態に配さ
れてコンタクトピンとされるコンタクトプローブであっ
て、請求項1記載の屈曲部を有する金属体を前記パター
ン配線とし、前記屈曲部が前記コンタクトピンの途中位
置に配された技術が採用される。
【0017】このコンタクトプローブでは、請求項1記
載の屈曲部を有する金属体をパターン配線とし、屈曲部
がコンタクトピンの途中位置に配されているので、塑性
変形が無く残留応力が少ないとともに、正確な屈曲位置
および角度で屈曲したコンタクトピンを有することがで
きる。
【0018】請求項5記載のコンタクトプローブの製造
方法では、フィルム上に複数のパターン配線を形成しこ
れらのパターン配線の各先端を前記フィルムから突出状
態に配してコンタクトピンとするコンタクトプローブの
製造方法であって、請求項2または3記載の屈曲部を有
する金属体の成形方法によって前記金属体である前記パ
ターン配線を形成し、前記屈曲部を前記コンタクトピン
の途中位置に配する配線形成工程を備え、前記配線形成
工程は、前記マスク除去工程の後に、前記第2の金属層
の上に前記コンタクトピンに供される部分以外をカバー
する前記フィルムを被着するフィルム被着工程を備えて
いる技術が採用される。
【0019】このコンタクトプローブの製造方法では、
請求項2または3記載の屈曲部を有する金属体の成形方
法によって前記金属体であるパターン配線を形成し、前
記屈曲部をコンタクトピンの途中位置に配する配線形成
工程を備えているので、塑性変形が無く残留応力が少な
いとともに、予め設定された前記楔部材または前記第2
の基板層表面(傾斜面)の形状によって特定される屈曲
位置および角度で高精度に屈曲したコンタクトピンを得
ることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るコンタクトプ
ローブの一実施形態を図1および図2を参照しながら説
明する。これらの図にあって、符号1はコンタクトプロ
ーブ、2は樹脂フィルム、3はパターン配線(金属体)
を示している。
【0021】本実施形態のコンタクトプローブ1は、図
1および図2に示すように、ポリイミド樹脂フィルム2
の片面に金属で形成されるパターン配線3を有する構造
となっており、前記樹脂フィルム2の中央開口部Kに、
前記樹脂フィルム2の端部(すなわち、中央開口部Kの
各辺)から前記パターン配線3の先端部が突出してコン
タクトピン(金属体)3aとされている。また、パター
ン配線3の後端部には、テスター側のコンタクトピンが
接触される接触端子3bが形成されている。
【0022】前記パターン配線3は、Ni合金で形成さ
れ、また前記コンタクトピン3aには、表面にAuが皮
膜されて構成されている。前記コンタクトピン3aは、
図2に示すように、その先端から所定長さの途中位置V
にて屈曲されている。
【0023】次に、図3および図4を参照して、前記コ
ンタクトプローブ1の製造方法ついて工程順に説明す
る。
【0024】〔ベースメタル層形成工程(第1の金属層
形成工程)〕まず、図3の(a)に示すように、ステン
レス製の支持金属板(第1の基板層)5の上に、Cu
(銅)メッキによりベースメタル層(第1の金属層)6
を形成する。
【0025】〔パターン形成工程〕このベースメタル層
6の上にフォトレジスト層7を形成した後、図3の
(b)に示すように、写真製版技術により、フォトレジ
スト層7に所定のパターンのフォトマスク8を施して露
光し、図3の(c)に示すように、フォトレジスト層7
を現像して前記パターン配線3となる部分を除去して残
存するフォトレジスト層(マスク)7に開口部7aを形
成する。
【0026】なお、本実施形態においては、フォトレジ
スト層7をネガ型フォトレジストによって形成している
が、ポジ型フォトレジストを採用して所望の開口部7a
を形成しても構わない。また、本実施形態においては、
前記フォトレジスト層7が、本願請求項にいう「マス
ク」に相当する。但し、本願請求項の「マスク」とは、
本実施形態のフォトレジスト層7のように、フォトマス
ク8を用いた露光・現像工程を経て開口部7aが形成さ
れるものに限定されるわけではない。例えば、メッキ処
理される箇所に予め孔が形成された(すなわち、予め、
図3の(c)の符号7で示す状態に形成されている)フ
ィルム等でもよい。本願発明において、このようなフィ
ルム等を「マスク」として用いる場合には、本実施形態
における露光・現像工程は不要である。
【0027】〔楔挿入工程〕パターン形成工程後、コン
タクトピン3aに供される部分において、ベースメタル
層6を、図4の(a)に示すように、支持金属板5から
所定位置W1まで剥離させ、図4の(b)に示すよう
に、ベースメタル層6と支持金属板5との間に楔部材Q
を挿入する。該楔部材Qは、その先端が所定角度θに予
め設定されている。したがって、この状態でベースメタ
ル層6を所定位置W1で所定角度θにおいて屈曲させる
ことができる。
【0028】〔メッキ処理工程〕そして、図3の(d)
に示すように、前記開口部7aに前記パターン配線3と
なるNi合金層(第2の金属層)Nを電解メッキ処理に
より形成する。このとき、図4の(c)に示すように、
所定位置W1に所定角度θで屈曲する屈曲部BEが成形
される。
【0029】〔マスク除去工程〕上記メッキ処理の後、
図3の(e)に示すように、フォトレジスト層7を除去
する。
【0030】〔フィルム被着工程〕次に、図3の(f)
に示すように、前記Ni合金層Nの上であって、図に示
した前記パターン配線3の先端部、すなわちコンタクト
ピン3aとなる部分以外に、前記樹脂フィルム2を接着
剤2aにより接着する。この樹脂フィルム2は、ポリイ
ミド樹脂PIに金属フィルム(銅箔)500が一体に設
けられた二層テープである。このフィルム被着工程の前
までに、写真製版技術を用いた二層テープのうちの金属
フィルム500に、Cuエッチングを施して、グラウン
ドパターンを形成しておき、このフィルム被着工程で
は、二層テープのうちのポリイミド樹脂PIを接着剤2
aを介して前記Ni合金層Nに被着させる。なお、金属
フィルム500は、銅箔に加えて、Ni、Ni合金等で
もよい。
【0031】〔分離工程(金属体分離工程)〕そして、
図4の(d)に示すように、楔部材Qを取り外した後、
図3の(g)に示すように、樹脂フィルム2とパターン
配線3(コンタクトピン3a)とベースメタル層6とか
らなる部分を、支持金属板5から完全に剥離させ分離さ
せる。さらに、この後、Cuエッチングを経て支持金属
板5を選択的に除去し、樹脂フィルム2にパターン配線
3のみを接着させた状態とする。この状態で、図4の
(e)に示すように、途中位置Vにおいて所定角度θで
屈曲した屈曲部BEを有するコンタクトピン3aが形成
される。すなわち、以上の各工程は、パターン配線3お
よびコンタクトピン3aを形成するコンタクトプローブ
1の配線形成工程を構成する。
【0032】〔金コーティング工程〕そして、露出状態
のパターン配線3に、図3の(h)に示すように、Au
メッキを施し、表面にAu層AUを形成する。このと
き、樹脂フィルム2から突出状態とされた前記コンタク
トピン3aでは、全周に亙る表面全体にAu層AUが形
成される。
【0033】以上の工程により、図1および図2に示す
ような、樹脂フィルム2にパターン配線3を接着させた
コンタクトプローブ1が作製される。
【0034】このコンタクトプローブ1の製造方法で
は、楔挿入工程でベースメタル層6と支持金属板5との
間に楔部材Qを挿入することにより、ベースメタル層6
を所定位置W1で所定角度θに屈曲させ、さらにメッキ
処理工程およびマスク除去工程を行った後、分離工程に
よってNi合金層Nを分離させるので、非塑性変形部で
あり残留応力が少ないとともに、予め設定された楔部材
Qの形状によって特定される高精度な屈曲位置および角
度の屈曲部BEを有するコンタクトピン3aが得られ
る。
【0035】次に、本発明に係るコンタクトプローブ1
の他の製造方法について、図5を参照して工程順に説明
する。
【0036】まず、前述した製造方法と同様に、〔ベー
スメタル層形成工程(第1の金属層形成工程)〕を行う
とともに、〔パターン形成工程〕を行う。
【0037】〔貼設工程〕パターン形成工程後、ベース
メタル層6を、図5の(a)に示すように、支持金属板
5からすべて剥離させ、図5の(b)に示すように、表
面に所定位置W2から所定角度θだけ傾斜した傾斜面G
1を有する傾斜基板部材(第2の基板層)Gの上に剥離
されたベースメタル層6を貼設する。したがって、この
状態でベースメタル層6を所定角度θで所定位置W2に
おいて屈曲させることができる。
【0038】〔メッキ処理工程〕そして、前述した製造
方法と同様に、前記開口部7aに前記パターン配線3
(コンタクトピン3a)となるNi合金層(第2の金属
層)Nを電解メッキ処理により形成する。このとき、図
5の(c)に示すように、所定位置W2に所定角度θで
屈曲する屈曲部BEが成形される。
【0039】この後、前述した製造方法と同様に、〔マ
スク除去工程〕および〔フィルム被着工程〕を行う。
【0040】〔分離工程(金属体分離工程)〕そして、
図5の(d)に示すように、樹脂フィルム2とパターン
配線3とベースメタル層6とを傾斜基板部材Gから全て
剥離させ、さらに、図5の(e)に示すように、Cuエ
ッチングを経て支持金属板5を選択的に除去し、樹脂フ
ィルム2にパターン配線3(コンタクトピン3a)のみ
を接着させた状態とする。この状態で、途中位置Vにお
いて所定角度θで屈曲した屈曲部BEを有するコンタク
トピン3aが形成される。
【0041】この後、前述した製造方法と同様に、金コ
ーティング工程を経て、樹脂フィルム2にパターン配線
3を接着させたコンタクトプローブ1が作製される。
【0042】このコンタクトプローブ1の製造方法で
は、貼設工程でベースメタル層6を支持金属板5からす
べて剥離させ、表面に所定位置W2から所定角度θに傾
斜した傾斜面G1を有する傾斜基板部材G上にベースメ
タル層6を貼設し、ベースメタル層6を所定位置W2で
所定角度θに屈曲させ、さらに前記メッキ処理工程およ
び前記マスク除去工程を行った後、前記分離工程によっ
てNi合金層Nを分離させてコンタクトピン3aとする
ので、前述した製造方法と同様に、塑性変形が無く残留
応力が少ないとともに、予め設定された傾斜基板部材G
の表面(傾斜面G1)の形状によって特定される高精度
な屈曲位置および角度の屈曲部BEを有するコンタクト
ピン3aが製造される。
【0043】次に、前記コンタクトプローブ1を、バー
ンインテスト等に用いるプローブ装置、いわゆるチップ
キャリアに適用した場合の一例を、図6から図8を参照
して説明する。これらの図において、符号10はプロー
ブ装置、11はフレーム本体、12は位置決め板、13
は上板、14はクランパ、15は下板を示している。な
お、本発明に係るコンタクトプローブは、全体が柔軟で
曲げやすいためプローブ装置に組み込む際にフレキシブ
ル基板として機能する。
【0044】プローブ装置10は、図6および図7に示
すように、フレーム本体11と、フレーム本体の内側に
固定され中央に開口部が形成された位置決め板12と、
コンタクトプローブ1と、該コンタクトプローブ1を上
から押さえて支持する上板(支持部材)13と、該上板
13を上から付勢してフレーム本体11に固定するクラ
ンパ14とを備えている。また、フレーム本体11の下
部には、ICチップIを載置して保持する下板15がボ
ルト15aによって取り付けられている。
【0045】コンタクトプローブ1の中央開口部Kおよ
びコンタクトピン3aは、ICチップIの形状およびI
CチップI上のコンタクトパッドの配置に対応して形成
され、中央開口部Kからコンタクトピン3aとICチッ
プIのコンタクトパッドとの接触状態を監視できるよう
になっている。なお、前記中央開口部Kの隅部に切込み
を形成して、組み込み時に容易にコンタクトプローブ1
が変形できるようにしても構わない。
【0046】また、コンタクトプローブ1の接触端子3
bは、コンタクトピン3aのピッチに比べて広く設定さ
れ、狭ピッチであるICチップIのコンタクトパッドと
該コンタクトパッドに比べて広いピッチのテスター側コ
ンタクトピンとの整合が容易に取れるようになってい
る。
【0047】なお、ICチップIの4辺全てにはコンタ
クトパッドが形成されておらず、一部の辺に配されてい
る場合には、少なくとも前記一部の辺に対応する中央開
口部Kの辺にのみコンタクトピン3aを設ければよい
が、ICチップIを安定して保持するためには、対向す
る2辺にコンタクトピン3aを形成してICチップIの
対向する両辺を押さえることが好ましい。
【0048】上記プローブ装置10にICチップIを取
り付ける手順について説明する。 〔仮組立工程〕まず、位置決め板12をフレーム本体1
1の取付部上に載置し、この上にコンタクトプローブ1
を中央開口部Kとフレーム本体11の開口部とを合わせ
て配置する。そして、中央開口部K上に同様に開口部を
合わせて上板13を載置し、その上からフレーム本体1
1にクランパ14を係止させる。該クランパ14は、中
央に屈曲部を有する一種の板バネであるため、上記係止
状態で上板13を押さえて固定する機能を有する。
【0049】上記組立状態では、中央に開口が設けら
れ、この部分にICチップIが取り付けられるので、取
り付けられたICチップIが開口上方から観察可能とさ
れている。また、上板13とクランパ14とは平面上略
長方形に形成され、図7に示すように、コンタクトプロ
ーブ1の接触端子3bが、それぞれの長辺側から外側に
出るように組立られる。
【0050】上板13の下面は、開口近傍が所定の傾斜
角で傾斜状態とされ、図8に示すように、コンタクトプ
ローブ1のコンタクトピン3aを所定角度で下向きに傾
斜させる。ICチップIは、配線側を上向きにして下板
15上に載置され、この状態で下板15がフレーム本体
11に下方から仮止め状態とされる。このとき、コンタ
クトプローブ1のコンタクトピン3a先端と下板15上
面との距離がICチップIの厚さより所定量小さく設定
されているので、ICチップIはコンタクトピン3aと
下板15とによって挟持される。
【0051】〔位置合わせ工程〕さらに、開口上方から
コンタクトピン3aの先端に対するICチップIのコン
タクトパッドの位置を観察しながら、位置決め板12を
動かしたりICチップIを針状治具等で動かすことによ
って調整し、対応するコンタクトピン3a先端とコンタ
クトパッドとが一致し接触するように微調整設定する。
【0052】なお、ICチップIのダイシング精度が高
く、その外形とコンタクトパッドの位置が相対的に安定
しているときには、位置決め板12とコンタクトプロー
ブ1との位置関係を予め調整しておいてから固定的に組
み立てておくことにより、上記微調整をせずにコンタク
トピン3aとコンタクトパッドとを一致させることが可
能となる。これによって、ICチップIの位置合わせ工
程が不要となり、ICチップIの取り付け作業が効率的
にかつ容易に行うことができる。
【0053】〔本固定工程〕前記位置合わせ工程後、フ
レーム本体11に下板15を本格的に固定する。このと
き、傾斜状態のコンタクトピン3aに、いわゆるオーバ
ードライブがかかり、所定の押圧力でコンタクトピン3
a先端とコンタクトパッドとが接触して確実に電気的に
結合される。この状態は、ICチップIが、いわゆるマ
ルチチップモジュール等に実装された状態に酷似してお
り、ほぼ実装状態とされたICチップIの動作状態を高
信頼性をもってテストすることができる。
【0054】このプローブ装置10は、約1インチ角
(約2.5cm角)の小さなチップキャリアであり、ダ
イナミックバーンインテスト等の高温加熱を伴う信頼性
試験に好適なものである。
【0055】なお、コンタクトプローブ1をチップキャ
リアであるプローブ装置10に適用したが、他の測定用
治具、例えばコンタクトプローブ1をIC用プローブと
してメカニカルパーツに組み込んだプローブカードやコ
ンタクトプローブ1をLCD用プローブの所定形状に切
り出してLCD用プローブ装置に採用しても構わない。
この場合、組み込まれる各プローブ装置に対応して、コ
ンタクトプローブの形状、配線、コンタクトピンのピッ
チや配置、折曲の角度等が設定される。
【0056】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。 (1)請求項1記載の屈曲部を有する金属体によれば、
前記所定角度に傾斜した傾斜面を有する第1の金属層上
に、第2の金属層を選択的にメッキ形成して屈曲部を成
形した後、第2の金属層を分離させて形成したので、屈
曲部が折曲によって形成されたものではなく、非塑性変
形部となることから残留応力が残らず耐久性を向上させ
ることができる。
【0057】(2)請求項2記載の屈曲部を有する金属
体の成形方法によれば、楔挿入工程で第1の金属層と基
板層との間に楔部材を挿入することにより、第1の金属
層を所定位置で所定角度に屈曲させ、さらにメッキ処理
工程およびマスク除去工程を行った後、金属体分離工程
によって第2の金属層を分離させて金属体とするので、
塑性変形が無く残留応力が少ないとともに、予め設定さ
れた楔部材の形状によって特定される高精度な屈曲位置
および角度の屈曲部を有する金属体を製造することがで
きる。
【0058】(3)請求項3記載の屈曲部を有する金属
体の成形方法によれば、貼設工程によって第1の金属層
を第1の基板層からすべて剥離させ、表面に所定位置か
ら所定角度に傾斜した傾斜面を有する第2の基板層上に
第1の金属層を貼設し、該第1の金属層を前記所定位置
で前記所定角度に屈曲させ、さらにメッキ処理工程およ
びマスク除去工程を行った後、金属体分離工程によって
第2の金属層を分離させて前記金属体とするので、塑性
変形が無く残留応力が少ないとともに、予め設定された
第2の基板層表面(傾斜面)の形状によって特定される
高精度な屈曲位置および角度の屈曲部を有する金属体を
製造することができる。
【0059】(4)請求項4記載のコンタクトプローブ
によれば、請求項1記載の屈曲部を有する金属体をパタ
ーン配線とし、屈曲部がコンタクトピンの途中位置に配
されているので、塑性変形が無く残留応力が少ないとと
もに、正確な屈曲位置および角度で屈曲したコンタクト
ピンを有することができる。
【0060】(5)請求項5記載のコンタクトプローブ
の製造方法によれば、請求項2または3記載の屈曲部を
有する金属体の成形方法によって前記金属体であるパタ
ーン配線を形成し、前記屈曲部をコンタクトピンの途中
位置に配する配線形成工程を備えているので、塑性変形
が無く残留応力が少ないとともに、予め設定された前記
楔部材または前記第2の基板層表面(傾斜面)の形状に
よって特定される屈曲位置および角度で高精度に屈曲し
たコンタクトピンを得ることができる。したがって、折
曲工程および研磨工程を用いずに、各コンタクトピンの
高さや長さを容易に均一化することができ、塑性変形し
ていない屈曲部を有することによって高耐久性のコンタ
クトプローブを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態を示す拡大模式図である。
【図2】 図1のA−A線断面図である。
【図3】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態における製造方法を工程順に示す要部断面図である。
【図4】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態における製造方法を工程順に示すコンタクトピン部分
の要部断面図である。
【図5】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態における他の製造方法を工程順に示すコンタクトピン
部分の要部断面図である。
【図6】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態を用いたプローブ装置(チップキャリア)の分解斜視
図である。
【図7】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態を用いたプローブ装置(チップキャリア)の外観斜視
図である。
【図8】 図7の要部が拡大されたB−B線断面図であ
る。
【図9】 本発明に係るコンタクトプローブの従来例を
示す要部を拡大した断面図である。
【符号の説明】
1 コンタクトプローブ 2 樹脂フィルム 3 パターン配線 3a コンタクトピン(金属体) 5 支持金属板(基板層) 6 ベースメタル層(第1の金属層) 7 フォトレジスト層 10 プローブ装置 13 上板 500 金属フィルム AU Au層 BE 屈曲部 G 傾斜基板部材(第2の基板層) G1 傾斜面 I ICチップ(測定対象物) N Ni合金層(第2の金属層) PI ポリイミド樹脂 Q 楔部材 V 途中位置 W1,W2 所定位置 θ 所定角度

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定角度の屈曲部を有する金属体であっ
    て、 表面の所定位置から前記所定角度に傾斜した傾斜面を有
    する第1の金属層上に、第2の金属層を選択的にメッキ
    形成して前記所定位置に非塑性変形部となる前記屈曲部
    を成形した後、第2の金属層を分離させて形成したこと
    を特徴とする屈曲部を有する金属体。
  2. 【請求項2】 所定角度の屈曲部を有する金属体の成形
    方法において、 基板層の上に前記金属体の材質に被着または結合する材
    質の第1の金属層を形成する第1の金属層形成工程と、 前記第1の金属層の上に前記金属体に供される部分以外
    にマスクを施すパターン形成工程と、 該パターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記基板
    層から所定位置まで剥離させ、第1の金属層と基板層と
    の間に楔部材を挿入して第1の金属層を前記所定位置で
    前記所定角度に屈曲させる楔挿入工程と、 該楔挿入工程後に、前記第1の金属層の上のマスクされ
    ていない部分に、前記金属体に供される第2の金属層を
    メッキ処理により形成し、前記所定位置に前記屈曲部を
    成形するメッキ処理工程と、 前記マスクを除去するマスク除去工程と、 前記楔部材を取り外した後、前記第1の金属層を前記基
    板層からすべて剥離させ、さらに第1の金属層を選択的
    に除去し、前記第2の金属層を分離させて前記金属体と
    する金属体分離工程とを備えることを特徴とする屈曲部
    を有する金属体の成形方法。
  3. 【請求項3】 所定角度の屈曲部を有する金属体の成形
    方法において、 第1の基板層の上に前記金属体の材質に被着または結合
    する材質の第1の金属層を形成する第1の金属層形成工
    程と、 前記第1の金属層の上に前記金属体に供される部分以外
    にマスクを施すパターン形成工程と、 該パターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記第1
    の基板層からすべて剥離させ、表面に所定位置から前記
    所定角度に傾斜した傾斜面を有する第2の基板層上に第
    1の金属層を貼設し、該第1の金属層を前記所定位置で
    前記所定角度に屈曲させる貼設工程と、 該貼設工程後に、前記第1の金属層の上のマスクされて
    いない部分に、前記金属体に供される第2の金属層をメ
    ッキ処理により形成し、前記所定位置に前記屈曲部を成
    形するメッキ処理工程と、 前記マスクを除去するマスク除去工程と、 再び前記第1の金属層を前記第2の基板層からすべて剥
    離させ、さらに第1の金属層を選択的に除去し、前記第
    2の金属層を分離させて前記金属体とする金属体分離工
    程とを備えることを特徴とする金属体の成形方法。
  4. 【請求項4】 複数のパターン配線がフィルム上に形成
    されこれらのパターン配線の各先端が前記フィルムから
    突出状態に配されてコンタクトピンとされるコンタクト
    プローブであって、 請求項1記載の屈曲部を有する金属体を前記パターン配
    線とし、前記屈曲部が前記コンタクトピンの途中位置に
    配されたことを特徴とするコンタクトプローブ。
  5. 【請求項5】 フィルム上に複数のパターン配線を形成
    しこれらのパターン配線の各先端を前記フィルムから突
    出状態に配してコンタクトピンとするコンタクトプロー
    ブの製造方法であって、 請求項2または3記載の屈曲部を有する金属体の成形方
    法によって前記金属体である前記パターン配線を形成
    し、前記屈曲部を前記コンタクトピンの途中位置に配す
    る配線形成工程を備え、 前記配線形成工程は、前記マスク除去工程の後に、前記
    第2の金属層の上に前記コンタクトピンに供される部分
    以外をカバーする前記フィルムを被着するフィルム被着
    工程を備えていることを特徴とするコンタクトプローブ
    の製造方法。
JP9172545A 1997-06-27 1997-06-27 屈曲部を有する金属体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタクトプローブおよびその製造方法 Pending JPH1116961A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG80101A1 (en) * 1999-06-28 2001-04-17 Advantest Corp Method of producing a contact structure
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KR101396944B1 (ko) * 2013-06-26 2014-05-19 엘지디스플레이 주식회사 터치형 표시장치의 연성회로기판 폴딩 장치 및 방법
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