JPH11183199A - フォトセンサー用スケール - Google Patents
フォトセンサー用スケールInfo
- Publication number
- JPH11183199A JPH11183199A JP9367356A JP36735697A JPH11183199A JP H11183199 A JPH11183199 A JP H11183199A JP 9367356 A JP9367356 A JP 9367356A JP 36735697 A JP36735697 A JP 36735697A JP H11183199 A JPH11183199 A JP H11183199A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- scale
- protective layer
- slit pattern
- oxidation
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/28—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with deflection of beams of light, e.g. for direct optical indication
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Character Spaces And Line Spaces In Printers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】低コストでしかもより精度の高いフォトセンサ
ー用スケールの提供 【解決手段】所定の範囲を移動する移動体の位置を検出
する反射型フォトセンサーに対向配置されるフォトセン
サー用スケールであって、工業用写真フィルムによって
構成されたベースフィルム1の表面にスリットパターン
2を形成し、このスリットパターン2の上に反射膜3を
形成した。
ー用スケールの提供 【解決手段】所定の範囲を移動する移動体の位置を検出
する反射型フォトセンサーに対向配置されるフォトセン
サー用スケールであって、工業用写真フィルムによって
構成されたベースフィルム1の表面にスリットパターン
2を形成し、このスリットパターン2の上に反射膜3を
形成した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は所定の範囲を移動す
る移動体の位置を検出するフォトセンサー用スケールの
製造方法に関する。
る移動体の位置を検出するフォトセンサー用スケールの
製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】コンピューターの周辺機器としてプリンタ
ーが知られている。これらの方式のプリンターでは、印
刷時に所定の位置で印字ヘッドを作動させてドットで文
字やグラフィックパターンを形成する必要があるため、
移動中の印字用ヘッドの位置を感知するポジションセン
サーが配設されているタイプもある。
ーが知られている。これらの方式のプリンターでは、印
刷時に所定の位置で印字ヘッドを作動させてドットで文
字やグラフィックパターンを形成する必要があるため、
移動中の印字用ヘッドの位置を感知するポジションセン
サーが配設されているタイプもある。
【0003】このようなポジションセンサーとして、従
来は主に透過型フォトセンサーが用いられていた。透過
型フォトセンサーは図11に示すように、印字用ヘッド
10のキャリッジ11に対し発光素子と受光素子とを向
き合いに配置した透過型フォトセンサー12を取り付
け、プリンター本体に固定されたフォトセンサー用スケ
ール13を上記センサー12の発光素子と受光素子との
間を通して設けたものであり、またスケール13は金属
の帯状板に微小間隔で目盛りを構成する多数のスリット
を形成したものである。そして、上記フォトセンサー1
2の発光素子から発せられてスケール13のスリットを
透過した光を受光素子で受け、スケール13に表示され
た目盛りスリットを読み取って、基線から所定の番目の
目盛り位置でポジションを検出し、例えばインクジェッ
トプリンターではインクを噴出させるのである。
来は主に透過型フォトセンサーが用いられていた。透過
型フォトセンサーは図11に示すように、印字用ヘッド
10のキャリッジ11に対し発光素子と受光素子とを向
き合いに配置した透過型フォトセンサー12を取り付
け、プリンター本体に固定されたフォトセンサー用スケ
ール13を上記センサー12の発光素子と受光素子との
間を通して設けたものであり、またスケール13は金属
の帯状板に微小間隔で目盛りを構成する多数のスリット
を形成したものである。そして、上記フォトセンサー1
2の発光素子から発せられてスケール13のスリットを
透過した光を受光素子で受け、スケール13に表示され
た目盛りスリットを読み取って、基線から所定の番目の
目盛り位置でポジションを検出し、例えばインクジェッ
トプリンターではインクを噴出させるのである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透過型
センサー自体は1対の発光素子と受光素子とで構成され
るとともに、スケールに微小間隔のスリットを加工形成
する作業には精度が要求されるので、非常にコストの高
いものであった。
センサー自体は1対の発光素子と受光素子とで構成され
るとともに、スケールに微小間隔のスリットを加工形成
する作業には精度が要求されるので、非常にコストの高
いものであった。
【0005】しかも、最近ではより精細で緻密な印刷が
要求されるようになっており、スリットの間隔もより小
さく、かつ高精度のものでなければならず、従来方式の
スケールでは対応できなくなっている。
要求されるようになっており、スリットの間隔もより小
さく、かつ高精度のものでなければならず、従来方式の
スケールでは対応できなくなっている。
【0006】本発明は上記問題点を解消し、反射型フォ
トセンサーに供されるものであって、より低コストでし
かもより精度の高いフォトセンサー用スケールを提供す
ることをその課題とする。
トセンサーに供されるものであって、より低コストでし
かもより精度の高いフォトセンサー用スケールを提供す
ることをその課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明に係るフォトセンサー用スケールは、所定の
範囲を移動する移動体の位置を検出する反射型フォトセ
ンサーに対向配置されるフォトセンサー用スケールであ
って、工業用写真フィルムによって構成されたベースフ
ィルムの表面にスリットパターンを形成し、このスリッ
トパターンの上に反射膜を形成したことを特徴とする。
め、本発明に係るフォトセンサー用スケールは、所定の
範囲を移動する移動体の位置を検出する反射型フォトセ
ンサーに対向配置されるフォトセンサー用スケールであ
って、工業用写真フィルムによって構成されたベースフ
ィルムの表面にスリットパターンを形成し、このスリッ
トパターンの上に反射膜を形成したことを特徴とする。
【0008】なお、前記反射膜を酸化防止用保護層で覆
うのが好ましい。
うのが好ましい。
【0009】また、この場合、ベースフィルムの表面に
スリットパターンを形成し、このスリットパターンの両
側縁上に酸化防止用保護層を形成し、上記スリットパタ
ーンと酸化防止用保護層の上に反射膜を形成し、さらに
この反射膜を別の酸化防止用保護層で覆うようにしても
よい。
スリットパターンを形成し、このスリットパターンの両
側縁上に酸化防止用保護層を形成し、上記スリットパタ
ーンと酸化防止用保護層の上に反射膜を形成し、さらに
この反射膜を別の酸化防止用保護層で覆うようにしても
よい。
【0010】さらに、ベースフィルムの表面にスリット
パターンを形成し、このスリットパターンの上に酸化防
止用保護層を介して反射膜を形成するとともに、この反
射膜を別の酸化防止用保護層で覆うように構成してもよ
い。
パターンを形成し、このスリットパターンの上に酸化防
止用保護層を介して反射膜を形成するとともに、この反
射膜を別の酸化防止用保護層で覆うように構成してもよ
い。
【0011】
【発明の実施の形態】図1はフォトセンサー用スケール
で、このフォトセンサー用スケールは工業用写真フィル
ムによって構成されたベースフィルム1の表面にスリッ
トパターン2を形成し、さらにこのスリットパターン2
の上に反射膜3を形成したものである。
で、このフォトセンサー用スケールは工業用写真フィル
ムによって構成されたベースフィルム1の表面にスリッ
トパターン2を形成し、さらにこのスリットパターン2
の上に反射膜3を形成したものである。
【0012】上記スケールは図2に示されるように、上
記ベースフィルム1の表面にパターン原版4を密着させ
て露光し、さらに現像処理してベースフィルム1上にス
リットパターン2を形成すればよい。
記ベースフィルム1の表面にパターン原版4を密着させ
て露光し、さらに現像処理してベースフィルム1上にス
リットパターン2を形成すればよい。
【0013】すなわち、工業用写真フィルムは合成樹脂
フィルム(通常はポリエステルフィルム)1a上に感光
膜1bを形成したもので、ネガフィルムに限定されな
い。ポジフィルムでもよい。パターン原版4は金属シー
ト、ガラス、フィルムシート等にスリットを形成したも
のでもよいが、透明なシートにスリットパターン2を印
刷したものの方が好ましい。より微細で高精度のスリッ
トパターン2が得られるからである。
フィルム(通常はポリエステルフィルム)1a上に感光
膜1bを形成したもので、ネガフィルムに限定されな
い。ポジフィルムでもよい。パターン原版4は金属シー
ト、ガラス、フィルムシート等にスリットを形成したも
のでもよいが、透明なシートにスリットパターン2を印
刷したものの方が好ましい。より微細で高精度のスリッ
トパターン2が得られるからである。
【0014】次に、ベースフィルム1の表面にパターン
原版4を密着させてパターン原版4の上から露光し、さ
らに現像処理する。ベースフィルム1を現像液に漬け、
現像を停止し、定着させ、さらに水洗、乾燥等の所定の
工程を経ることにより、感光膜1bが露光した部分は
黒、露光しない部分は透明となる(ポジフィルムの場合
はこの逆)から、図1のように透明なベースフィルム1
上の感光膜1bに所定のスリットパターン2が形成され
る。
原版4を密着させてパターン原版4の上から露光し、さ
らに現像処理する。ベースフィルム1を現像液に漬け、
現像を停止し、定着させ、さらに水洗、乾燥等の所定の
工程を経ることにより、感光膜1bが露光した部分は
黒、露光しない部分は透明となる(ポジフィルムの場合
はこの逆)から、図1のように透明なベースフィルム1
上の感光膜1bに所定のスリットパターン2が形成され
る。
【0015】さらに、図3のように上記ベースフィルム
1のスリットパターン2の上に反射膜3を形成する。こ
のような反射膜3はアルミニウムを真空蒸着させてもよ
く、イオンプレーティングあるいはスパッタリング等の
公知の方法によって形成すればよい。
1のスリットパターン2の上に反射膜3を形成する。こ
のような反射膜3はアルミニウムを真空蒸着させてもよ
く、イオンプレーティングあるいはスパッタリング等の
公知の方法によって形成すればよい。
【0016】上述の方式によれば、スリットパターン2
が従来の金属板に形成されていたものに比べ、はるかに
微細に形成することができる。
が従来の金属板に形成されていたものに比べ、はるかに
微細に形成することができる。
【0017】ところで、上述のスケールは、反射膜3の
大部分が大気に接触しているので酸化されやすい。この
酸化を防止するため、反射膜3は図4に示すように酸化
防止用保護層5で覆うのが好ましい。酸化防止用保護層
5は耐水性塗料の塗布、スプレー、印刷などによって層
成すればよい。
大部分が大気に接触しているので酸化されやすい。この
酸化を防止するため、反射膜3は図4に示すように酸化
防止用保護層5で覆うのが好ましい。酸化防止用保護層
5は耐水性塗料の塗布、スプレー、印刷などによって層
成すればよい。
【0018】反射膜3を保護するための構造としては、
さらに図5に示すように、反射膜3の上面だけでなく両
側面も酸化防止用保護層5で覆うようにするのが望まし
い。その理由は、スリットパターン2は一種のゼラチン
を含み、吸湿性があるほか、スリットパターン2、反射
膜3及び酸化防止用保護層5の各端面が外気に露出す
る。このため、前述した構成では湿気や水分がスリット
パターン2の端面から浸入したり、あるいは反射膜3と
酸化防止用保護層5との間から浸入したりするおそれが
あるので、湿気や水分が浸透して反射膜3に接触し、反
射膜3を酸化させやすい。反射膜3の酸化は徐々に外側
から内側に進行して反射膜3の反射性能を劣化させてし
まい、位置検出の精度が損なわれるおそれがあるからで
ある。反射膜3の両側面と上面を酸化防止用保護層5で
覆うことにより、反射膜3が酸化される可能性はほとん
どゼロになり、湿度が高い場所で使用しても反射膜3が
酸化せず、耐久性が大幅に向上する。なお、反射膜3の
両側端とベースフィルム1の両側端との間の距離は、ス
リットパターン2の端面から水分が内側に浸透可能な距
離よりも大きくすればよい。
さらに図5に示すように、反射膜3の上面だけでなく両
側面も酸化防止用保護層5で覆うようにするのが望まし
い。その理由は、スリットパターン2は一種のゼラチン
を含み、吸湿性があるほか、スリットパターン2、反射
膜3及び酸化防止用保護層5の各端面が外気に露出す
る。このため、前述した構成では湿気や水分がスリット
パターン2の端面から浸入したり、あるいは反射膜3と
酸化防止用保護層5との間から浸入したりするおそれが
あるので、湿気や水分が浸透して反射膜3に接触し、反
射膜3を酸化させやすい。反射膜3の酸化は徐々に外側
から内側に進行して反射膜3の反射性能を劣化させてし
まい、位置検出の精度が損なわれるおそれがあるからで
ある。反射膜3の両側面と上面を酸化防止用保護層5で
覆うことにより、反射膜3が酸化される可能性はほとん
どゼロになり、湿度が高い場所で使用しても反射膜3が
酸化せず、耐久性が大幅に向上する。なお、反射膜3の
両側端とベースフィルム1の両側端との間の距離は、ス
リットパターン2の端面から水分が内側に浸透可能な距
離よりも大きくすればよい。
【0019】ところで、反射膜3の上面だけでなく両側
面も酸化防止用保護層5で覆う場合、ベースフィルム1
のスリットパターン2上にはベースフィルム1の両側の
幅よりも小さい反射膜3を形成するのであるが、この場
合は、まずベースフィルム1上にスリットパターン2を
形成した後、図6に示すように、ベースフィルム1の両
側縁部にマスク6を載置し、マスク6の内側に反射膜3
を形成し、その後マスク6を外して反射膜3とマスク6
で覆われていた部分に耐水性塗料の塗布、スプレー、印
刷などによって酸化防止用保護層を形成すればよい。な
お、反射膜3はベースフィルム1の両側の内側にのみ形
成する構成であってもよい。
面も酸化防止用保護層5で覆う場合、ベースフィルム1
のスリットパターン2上にはベースフィルム1の両側の
幅よりも小さい反射膜3を形成するのであるが、この場
合は、まずベースフィルム1上にスリットパターン2を
形成した後、図6に示すように、ベースフィルム1の両
側縁部にマスク6を載置し、マスク6の内側に反射膜3
を形成し、その後マスク6を外して反射膜3とマスク6
で覆われていた部分に耐水性塗料の塗布、スプレー、印
刷などによって酸化防止用保護層を形成すればよい。な
お、反射膜3はベースフィルム1の両側の内側にのみ形
成する構成であってもよい。
【0020】次に、反射膜3を保護するための構造とし
ては、図7に示されるように、ベースフィルム1の上に
スリットパターン2を、その上に下部酸化防止用保護層
5aをそれぞれ形成し、さらにその上に反射膜3と上部
酸化防止用保護層5bを形成し、反射膜3を2層の酸化
防止用保護層5a、5bでサンドイッチするようにして
もよい。もちろん、下部酸化防止用保護層5aは透明で
ある。
ては、図7に示されるように、ベースフィルム1の上に
スリットパターン2を、その上に下部酸化防止用保護層
5aをそれぞれ形成し、さらにその上に反射膜3と上部
酸化防止用保護層5bを形成し、反射膜3を2層の酸化
防止用保護層5a、5bでサンドイッチするようにして
もよい。もちろん、下部酸化防止用保護層5aは透明で
ある。
【0021】上記構成においては、反射膜3の上下両面
が酸化防止用保護層5a、5bで保護されているので、
反射膜3の酸化はより一層確実に防止される。
が酸化防止用保護層5a、5bで保護されているので、
反射膜3の酸化はより一層確実に防止される。
【0022】ところで、下部酸化防止用保護層5aのう
ち反射膜3の酸化防止に必要なのは両側付近であるから
中央部分は余分である。したがって、図8に示すよう
に、ベースフィルム1の表面にスリットパターン2を形
成し、このスリットパターン2の両側縁上に下部酸化防
止用保護層5aを形成し、上記スリットパターン2と下
部酸化防止用保護層5aの上に反射膜3を形成し、さら
にこの反射膜3を別の上部酸化防止用保護層5bで覆う
ようにしてもよい。下部酸化防止用保護層5aのうち中
央部分を省くことによって材料が節減できる。
ち反射膜3の酸化防止に必要なのは両側付近であるから
中央部分は余分である。したがって、図8に示すよう
に、ベースフィルム1の表面にスリットパターン2を形
成し、このスリットパターン2の両側縁上に下部酸化防
止用保護層5aを形成し、上記スリットパターン2と下
部酸化防止用保護層5aの上に反射膜3を形成し、さら
にこの反射膜3を別の上部酸化防止用保護層5bで覆う
ようにしてもよい。下部酸化防止用保護層5aのうち中
央部分を省くことによって材料が節減できる。
【0023】そして上記構成は、まず図9(a) のように
ベースフィルム1上にスリットパターン2を形成した
後、ベースフィルム1の中央にマスク6を載置し、マス
ク6からはみ出したベースフィルム1の両側縁に下部酸
化防止用保護層5aを形成し、その後同図(b) のように
マスク6を外して上述の要領でスリットパターン2と下
部酸化防止用保護層5aの上に反射膜3を形成し、さら
にその上に同図(c) のように上部酸化防止用保護層5b
を形成することによって得ることができる。
ベースフィルム1上にスリットパターン2を形成した
後、ベースフィルム1の中央にマスク6を載置し、マス
ク6からはみ出したベースフィルム1の両側縁に下部酸
化防止用保護層5aを形成し、その後同図(b) のように
マスク6を外して上述の要領でスリットパターン2と下
部酸化防止用保護層5aの上に反射膜3を形成し、さら
にその上に同図(c) のように上部酸化防止用保護層5b
を形成することによって得ることができる。
【0024】また、二重の保護層を設けたものの他の例
として、図10のように、ベースフィルム1の上にスリ
ットパターン2を形成し、その上に下部酸化防止用保護
層5aを形成し、その上に上述の図5のものと同様の幅
狭の反射膜3を形成し、さらにその上に上部酸化防止用
保護層5bを形成し、反射膜3の全面を上下の酸化防止
用保護層5a、5bで覆うようにすれば、反射膜3の酸
化防止はより完全になる。
として、図10のように、ベースフィルム1の上にスリ
ットパターン2を形成し、その上に下部酸化防止用保護
層5aを形成し、その上に上述の図5のものと同様の幅
狭の反射膜3を形成し、さらにその上に上部酸化防止用
保護層5bを形成し、反射膜3の全面を上下の酸化防止
用保護層5a、5bで覆うようにすれば、反射膜3の酸
化防止はより完全になる。
【0025】以上詳しく述べたように、上述のフォトセ
ンサー用スケールによれば、スリットパターン2が従来
の金属板に形成されていたものに比べ、はるかに微細に
形成することができるから、インクのノズル等の位置を
高精度に検出して精細かつ繊細な印刷が可能となる。
ンサー用スケールによれば、スリットパターン2が従来
の金属板に形成されていたものに比べ、はるかに微細に
形成することができるから、インクのノズル等の位置を
高精度に検出して精細かつ繊細な印刷が可能となる。
【0026】また、反射膜3を酸化防止用膜層5(5
a、5b)で覆うことにより、反射膜3の酸化を確実に
防止することができるので、反射膜3の反射性能が劣化
することがなく、位置検出の精度が損なわれないので、
耐久性が優れる。
a、5b)で覆うことにより、反射膜3の酸化を確実に
防止することができるので、反射膜3の反射性能が劣化
することがなく、位置検出の精度が損なわれないので、
耐久性が優れる。
【0027】さらに、前述の構造のスケールは簡単かつ
大量に製造することができるから、スケール自体のコス
トを大幅に低下させることができる。しかも、上記スケ
ールは反射型フォトセンサーとともに用いてポジション
センサーを構成するもので、フォトセンサーは反射型
で、LED等の光源とその反射光を受け取るディテクタ
(センサー)を内蔵しているもので、1個で済む。した
がって、ポジションセンサー全体のコストも低減させる
ことができる。
大量に製造することができるから、スケール自体のコス
トを大幅に低下させることができる。しかも、上記スケ
ールは反射型フォトセンサーとともに用いてポジション
センサーを構成するもので、フォトセンサーは反射型
で、LED等の光源とその反射光を受け取るディテクタ
(センサー)を内蔵しているもので、1個で済む。した
がって、ポジションセンサー全体のコストも低減させる
ことができる。
【図1】本発明に係るフォトセンサー用スケールの一部
を破断して示した斜視図
を破断して示した斜視図
【図2】上記スケールの製造態様を示す斜視図
【図3】スリットパターンが形成されたベースフィルム
の断面図
の断面図
【図4】フォトセンサー用スケールの他の例の拡大断面
図
図
【図5】フォトセンサー用スケールのさらに他の例の拡
大断面図
大断面図
【図6】図5のスケールの反射膜の製造態様を示す一部
の斜視図
の斜視図
【図7】フォトセンサー用スケールのさらに別の例の拡
大断面図
大断面図
【図8】図7のスケールの他の例の拡大断面図
【図9】(a) (b) (c) は図8のスケールの製造プロセス
の説明図
の説明図
【図10】図7のスケールのさらに他の例の拡大断面図
【図11】従来の透過型フォトセンサーの取付例の斜視
図
図
1 ベースフィルム 2 スリットパターン 3 反射膜 5 酸化防止用保護層 5a 下部酸化防止用保護層 5b 上部酸化防止用保護層
Claims (4)
- 【請求項1】 所定の範囲を移動する移動体の位置を検
出する反射型フォトセンサーに対向配置されるフォトセ
ンサー用スケールであって、工業用写真フィルムによっ
て構成されたベースフィルムの表面にスリットパターン
を形成し、このスリットパターンの上に反射膜を形成し
たことを特徴とするフォトセンサー用スケール。 - 【請求項2】 前記反射膜を酸化防止用保護層で覆った
請求項1記載のフォトセンサー用スケール。 - 【請求項3】 所定の範囲を移動する移動体の位置を検
出する反射型フォトセンサーに対向配置されるフォトセ
ンサー用スケールであって、工業用写真フィルムによっ
て構成されたベースフィルムの表面にスリットパターン
を形成し、このスリットパターンの上に下部酸化防止用
保護層を介して反射膜を形成するとともに、この反射膜
を別の上部酸化防止用保護層で覆ったことを特徴とする
フォトセンサー用スケール。 - 【請求項4】 前記下部酸化防止用保護層を、ベースフ
ィルムの両側縁上に形成した請求項3記載のフォトセン
サー用スケール。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9367356A JPH11183199A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | フォトセンサー用スケール |
| US09/152,676 US6154974A (en) | 1997-12-25 | 1998-09-14 | Photosensor scale |
| DE19849570A DE19849570A1 (de) | 1997-12-25 | 1998-10-27 | Photosensorskala |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9367356A JPH11183199A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | フォトセンサー用スケール |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183199A true JPH11183199A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18489111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9367356A Pending JPH11183199A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | フォトセンサー用スケール |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6154974A (ja) |
| JP (1) | JPH11183199A (ja) |
| DE (1) | DE19849570A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001075411A1 (en) * | 2000-04-04 | 2001-10-11 | Showa Denko K.K. | Detection film and optical sensor using detection film |
| JP2008070182A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Mitsutoyo Corp | 位置検出用治具、位置検出装置、そのシステム、および、その方法 |
| WO2019093276A1 (ja) * | 2017-11-08 | 2019-05-16 | アルプスアルパイン株式会社 | 反射型光学式エンコーダのコード板 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19912310B4 (de) * | 1999-03-19 | 2007-11-29 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmeßeinrichtung |
| JP2002318137A (ja) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Mitsutoyo Corp | 変位測定装置のスケール |
| US7281339B2 (en) * | 2004-05-06 | 2007-10-16 | Universal Instruments Corporation | Encoder system |
| US7121010B2 (en) * | 2004-05-07 | 2006-10-17 | Black & Decker Inc. | Line generating device |
| US8739424B2 (en) * | 2011-06-24 | 2014-06-03 | Mitutoyo Corporation | Structure for protecting scale graduations |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
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