JPH11238754A - ボンダーまたはピックアンドプレイス装置のボンディングヘッドを調節する方法および装置 - Google Patents

ボンダーまたはピックアンドプレイス装置のボンディングヘッドを調節する方法および装置

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JPH11238754A
JPH11238754A JP10302989A JP30298998A JPH11238754A JP H11238754 A JPH11238754 A JP H11238754A JP 10302989 A JP10302989 A JP 10302989A JP 30298998 A JP30298998 A JP 30298998A JP H11238754 A JPH11238754 A JP H11238754A
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JP
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bonder
pick
measuring device
signal
adjusting
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Application number
JP10302989A
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English (en)
Inventor
Thomas Gueuther
トーマス・ギュンター
Matthias Krieger
マティーアス・クリーガー
Mannhart Eugen
オイゲン・マンハート
Alois Ulrich
アロイス・ウルリッヒ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Besi Switzerland AG
Original Assignee
Esec AG
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0446Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/50Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
    • H10P72/53Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment using optical controlling means

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  • Die Bonding (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ボンダー(特に、ダイボンダー)またはピッ
クアンドプレイス装置のボンディングヘッドが簡単な方
法で調節される手段を提供すること。 【解決手段】 半導体チップまたは電子部品をキャリア
のボンディング表面上へ配置するボンダーまたはピック
アンドプレイス装置であって、ボンディング表面に平行
な支持表面と、調節板と、調節板の位置に基づいて少な
くとも1つの信号を生成するように設計された測定装置
と、調節板を把持し、かつ、調節板を測定装置上の小さ
な距離において自由に保つように設計されているボンデ
ィングヘッドとを具備し、ボンディングヘッドは、測定
装置によって生成された少なくとも1つの信号が参照信
号と等しくなるまで、位置的に調整されるように設計さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ボンダー、特にダ
イボンダー(die bonder)またはピックアンドプレイス
装置(pick and place machine)に関し、かつ、ボンデ
ィングヘッドの簡単な調節を許可するそのような装置と
接続して使用されるべき装置に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ダイ
ボンダーは、半導体チップをキャリア上へ(特にリード
フレーム上へ)はめ込むかまたはボンディングする装置
である。続いて起こるワイヤボンディングが何等問題な
く起こるために、半導体チップが、平面平行(plane-pa
rallel)な方法で、およそ10μmの特定された公差内
で、キャリア上へボンディングするように、ダイボンダ
ーのボンディングヘッドの空間位置は、調整されなくて
はならない。
【0003】ピックアンドプレイス装置はよく知られて
いる。ピックアンドプレイス装置は、例えば、半導体チ
ップを他の半導体チップ上へボンディングするために使
用される。そのような処理は、フリップ−チップ(flip
-chip )またはC4として知られている。ピックアンド
プレイス装置は、また、全ての種類の電子部品を印刷回
路基板上に配置するために、広く使用されている。
【0004】本発明の目的は、ボンダー(特に、ダイボ
ンダー)またはピックアンドプレイス装置のボンディン
グヘッドが簡単な方法で調節される手段を提供すること
である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の詳細かつ好まし
い特徴は、添付の独立クレームおよび従属クレームにお
いて示される。従属クレームの特徴は、適切に、かつ、
クレームにおいて明白に示される組み合わせ以外の組み
合わせで、独立クレームの特徴と組み合わされる。
【0006】本発明の第1実施形態によると、ボンダー
(特に、ダイボンダー)またはピックアンドプレイス装
置のボンディングヘッドを調節する方法が提供される。
2つの平面平行な表面が設けられた調節板が、支持表面
上に配置される。該支持表面は、ボンディング表面に平
面平行に広がる。ボンディング表面上では、半導体チッ
プは、キャリア物質にボンディングされる。測定装置は
較正される。測定装置の信号は、調節板の位置に依存す
る。そして、調節板は、ボンダーのボンディングヘッド
によって、保持され、かつ、測定装置の情報で(好まし
くは、小さな距離で)保持される。そして、ボンディン
グヘッドは、測定装置からの信号が較正後の信号と等し
くなるまで、位置的に調節される。
【0007】本発明の第2実施形態では、上記方法を実
行する装置が提供される。
【0008】調節板は、金属で皮膜された表面または強
磁性の表面を有してもよい。測定装置は、支持表面にほ
ぼ平行な平面内に配置された少なくとも3つ(好ましく
は、3つまたは4つ)のコイルを有する。ディスプレイ
は、3または4以上のコイルによって供給される信号の
うちの2つの信号間の差を少なくとも表示するように、
構成されていてもよい。好ましくは、本装置は、いかな
る時においても、前記少なくとも3つのコイルのうちの
1つのコイルだけが重要な信号を生成するように、設計
されている。本装置は、コイルが連続して(即ち、時分
割多重で)動作されることを許可するように設計されて
いる。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明のより良い理解のために、
かつ、本発明がどのようにして実行されるのかを示すた
めに、一例として、添付図面への参照がなされる。添付
図面は以下の通りである。図1は、本発明に従って、ボ
ンディングヘッドを調節する装置を伴うダイボンダーを
示す。図2および図3は、ボンディングヘッドを調節す
る装置を示す。該ボンディングヘッドにおいて、コイル
は、本発明に従って、測定装置として働く。図4は、時
分割多重でコイルを動作させる回路を図解する回路図で
ある。図5は、電圧図を示す。図6は、ボンディングヘ
ッドを調節する装置を示す。該ボンディングヘッドにお
いて、光学測定装置は本発明に従って使用される。
【0010】ここで、本発明は、ダイボンダーを参照し
て説明される。図1は、ボンディング表面2を伴うダイ
ボンダー1を概要的に示す。ボンディング表面2上で
は、半導体チップが、リードフレーム上(または、他の
何らかのキャリア物質)へ、次々にボンディングされて
いる。半導体チップは、また、(いわゆるフリップ−チ
ップのような)キャリア物質に適用されてもよい。半導
体チップのボンディングは、ダイボンダー1のボンディ
ングヘッド3が、この目的のために提供された位置での
真空吸引によって半導体チップの保持(または把持)を
行うことと、半導体チップをリードフレーム上に配置す
ることとを続行する。半導体チップが吸引口5を伴って
封を形成できるように、ボンディングヘッド3は、吸引
口5を伴うゴム部分4を有する。
【0011】ボンディングヘッド3は、異なるサイズの
半導体チップのために、異なるサイズのゴム部分4を備
え付けられることができる。ゴム部分4の交換の後、ボ
ンディングヘッド3は、再調節される必要がある。調節
の後、ボンディングヘッド3は、半導体チップの表面の
端上の地点が(その表面上の)他の如何なる地点を越え
て(およそ10μmより大きくわきに)突出しないよう
に、半導体チップをキャリア物質へボンディングしなく
てはならない。ダイボンダー1は、支持表面6を有す
る。支持表面6は、ボンディング表面2に平面平行に調
節されている。支持表面6の真下に、かつ、支持表面6
に固定して接続されて測定装置7が存在する。測定装置
7は、調節板10の現在位置に依存する信号を発する。
調節板10は、2つの平面平行表面8,9を有する。信
号は、ディスプレイ11によって、視覚的に表示され
る。ボンディングヘッド3は、2つのねじ12,13に
よって手動で、または、電気駆動装置によって、回転さ
れてもよい。それによって、置く必要がある半導体チッ
プは、平面平行方法で、ボンディング表面2へ、予め特
定された公差以内でボンディングされる。
【0012】ボンディングヘッド3の調節は、以下のス
テップに従って起こる。 a)調節板10を支持表面6上に置く。 b)測定装置7を較正する。 c)ボンディングヘッド3のゴム部分4で調節板10を
把持し、かつ、調節板10を、測定装置7上で、わずか
な距離で自由を保つ。 d)測定装置7からの信号がステップb以後の信号と等
しくなるまで、ボンディングヘッド3を、手動でまたは
自動で、位置的に調整する。
【0013】ステップaの後、調節板10は、ボンディ
ング表面2に平面平行に、予め決定された参照位置内に
置かれる。調節10がこの位置に存在するときに測定装
置7によって供給される信号は、ステップbの間に感知
される。ステップcの後、調節10は、(ボンディング
ヘッド3の現在調整によって、または、ゴム部分4によ
って)定義された傾けられた位置内に存在する。ステッ
プdの間、測定装置7の信号が「調節板10が、ボンデ
ィングヘッド3によって、ボンディング表面2に平面平
行に保持されている」ということを示すまで、調節板1
0の傾けられた位置は、参照位置の方へ移動される。
【0014】測定装置7の較正は、調節板10が参照位
置内に存在するときに、測定装置7によって供給される
(1つまたは複数の)信号を、(1つまたは複数の)参
照信号として測定しかつ記憶することであると理解され
る。または、測定装置7の較正は、調節板10が参照位
置内に存在するときに、測定装置7によって供給される
信号が予め決定された値(例えば、値”0”)を示すよ
うに、測定装置7を調整することであると理解される。
本方法のステップbが、例を使用して、より詳しく、以
下に説明される。
【0015】調節板10に対する適した物質は、例え
ば、ポリカーボネートである。調節板10では、少なく
とも表面9(しかし、好ましくは、表面8と表面9との
両方)が、金属で被膜されている。そして、数グラムで
ある調節板10の重さは、様々なサイズの半導体チップ
によってカバーされる範囲内に存在する。
【0016】ボンディングヘッド3を調節する従来方法
は、「ゴム部分4が考慮されない」という欠点を有す
る。しかしながら、ゴム部分4自身が、望まれていない
傾向(傾斜)である。なぜならば、ゴム部分4の吸引口
5は、要求される精度で製造されることができず、か
つ、要求される精度でボンディングヘッド3上に載置さ
れることができない。本発明による方法の利点は、「ボ
ンディングヘッド3自身に必須のゴム部分4によって引
き起こされる(半導体チップの)傾斜もまた排除され
る」ということである。
【0017】通常の電気誘導距離測定は、適した測定技
術である。該測定技術では、オーム抵抗および/または
(交流電流によって引き起こされる)コイルのインダク
タンスが、金属物体または強磁性物体が近接磁界内を移
動されると、変化する。図2および図3は、それぞれ、
好ましい実施形態を、平面図および側面図において示
す。該実施形態において、回路基板14は、測定装置7
として働く。回路基板14は、少なくとも3つのコイル
Sp1,Sp2,Sp3が設けられており、好ましく
は、4つのコイルSp1,Sp2,Sp3,Sp4が設
けられている。コイルSp1,Sp2,Sp3,Sp4
は、デカルトxy座標システムの4つの象限内に、原点
に関して対称的に配置されている。回路基板14は、支
持表面6から、およそ1ミリメートルの距離dにおい
て、平面平行に配置されている。コイルSp1,Sp
2,Sp3,Sp4は、回路基板の経路または軌道から
形成された平面コイルである。調節板10の(コイルS
p1,Sp2,Sp3,Sp4に対向している)表面9
は、金属で被膜された表面、または、強磁性の表面を設
けられる。図3を参照すると、コイルSp1,Sp2,
Sp3,Sp4は、個々の信号S1,S2,S3,S4
を供給する。信号S1,S2,S3,S4は、調節板1
0からの(対応するコイルSp1,Sp2,Sp3,S
p4の)距離zに依存する。コイルSp1,Sp2,S
p3,Sp4の信号S1,S2,S3,S4は、それぞ
れ、既に電気的に予め処理された信号であることが、理
解されるべきである。ボンディングヘッド3の調整の
後、調節板10が架空の軸y1の回りで時計回りに回転
されると、コイルSp2,Sp3の信号S2,S3はそ
れぞれ減少し、一方、コイルSp1,Sp4の信号S
1,S4はそれぞれ増加する。その結果、差信号S2−
S1およびS3−S4もまた減少する。ボンディングヘ
ッド3の他の調整の後、調節板10が架空の軸x1の回
りで時計回りに回転されると、信号S1,S2は減少
し、一方、信号S3,S4は増加する。この場合、2つ
の差信号S2−S3およびS1−S4は減少する。回路
基板14が完全に平らであり、かつ、全てのコイルが同
じ特性S(z)を有するならば(ここで、zはxy平面
に直交する方向を示す)、2つの差信号D1=S2−S
1およびD2=S2−S3は、調節板10が回路基板1
4に対して平面平行に保たれる場合に、正確に消失す
る。
【0018】回路基板14は、避けられない製造公差の
ために、要求される精度では、ボンディング表面2の支
持表面6に平面平行に必ずしも向けられていないので、
かつ、コイルSp1,Sp2,Sp3,Sp4は、概し
て、異なる個々の特性S1(z),S2(z),S3
(z),S4(z)を有するので、較正手続きは、少な
くとも1回は、実行されなくてはならない。この較正手
続きでは、調節板10は、支持表面6上に置かれてお
り、そして、以下の1)または2)のいずれかが行われ
る。1)差信号D1cal=S2cal−S1calおよびD2c
al=S2cal−S3calが記憶される。2)信号S1cal
とS3calとが値S2calを有するまで、即ち、差信号D
1,D2が消失する(即ち、D1=0かつD2=0)ま
で、信号S1calとS3calとは、平衡を保たれる。
【0019】1)の場合、ボンディングヘッド3の調節
は、ボンディングヘッド3を調整することによって、即
ち、差信号D1,D2が個々の値D1=D1cal,D2
=D2calを有するまで調節板10を自由に保つことに
よって、以後、ステップdに従って続いて起こる。2)
の場合、差信号D1,D2が消失するまでボンディング
ヘッド3を調整することによって、ボンディングヘッド
3の調節が実行される。例えば、まず、回路は、発振器
信号をコイルSp1およびSp2に交互に適用すること
によって、かつ、差信号D1=S2−S1を表示するこ
とによって、動かされる。それにより、ねじ12によっ
てボンディングヘッド3を調整することによって、差分
信号D1が、消失されることができる。そして、信号
は、コイルSp3およびSp2へ交互に適用され、か
つ、差信号D2=S2−S3は、ねじ13によってボン
ディングヘッド3を調整することによって差信号D2が
消失されることができるように、表示される。
【0020】較正手続きは、ボンディングヘッド3が調
節される度に実行される必要があるか、または、(温度
や湿度等のような)外部影響に関する測定手段7の安定
性にときどき依存するだけかのいずれかである。
【0021】3つのコイルSp1,Sp2,Sp3は、
調節に対して、それ自体で十分である。冗長性の理由の
ために、しかしながら、第4コイルSp4を具備するこ
ともまた、有用で有り得る。隣接して配置されたコイル
Sp1,Sp2,Sp3は、互いに影響を及ぼし合うの
で、いかなるときでもコイルSp1,Sp2,Sp3の
うちの1つだけが著しい磁界を生成する動作のモードが
好ましい。そのようなモードは、例えば、時分割多重手
続きである。
【0022】図4は、コイルSp1,Sp2,Sp3を
時分割多重で動作させるための回路を示す。コイルSp
1,Sp2,Sp3は、並列経路15〜17内に配列さ
れている。回路は、発振器18と制御装置19と差形成
器20とを具備している。該回路の出力は、ディスプレ
イ11へ供給される。各経路15〜17は、その入力側
にスイッチ21を有し、かつ、その出力側にスイッチ2
2を有する。これらのスイッチは、制御装置19によっ
て動かされることができる。スイッチ21は、発振器1
8に接続されている。各経路15〜17の出力は、差形
成器20へ供給される。抵抗23とキャパシタ24と
が、スイッチ21の後ろに接続される。ここで、キャパ
シタ24は、対応するコイルSp1またはSp2または
Sp3に並列に配置されている。コイルおよびキャパシ
タ24の一方の接続は、接地mへ接続されている。一
方、抵抗23へ接続されている接続は、検出器25へ供
給されており、かつ、それに続いて、サンプルアンドホ
ールドモジュール26へ供給されている。サンプルアン
ドホールドモジュール26の出力は、経路の出力を形成
する。各々のサンプルアンドホールドモジュール26
は、新たな値を取得しかつ記憶するために、制御装置1
9によって動かされる。検出器25に対しては、例え
ば、ピーク振幅検出器または同期検出器が使用されても
よい。差形成器20は、例えば、差分増幅器として構成
されたオペアンプであってもよく(該オペアンプの反転
入力は、信号S1または信号S3のいずれかが供給され
ており、かつ、該オペアンプの非反転入力は、信号S2
が供給されている)、それによって、差信号D1=S2
−S1または差信号D2=S2−S3が、(その後ろに
接続された)ディスプレイ11上に表示される。
【0023】スイッチ21および22は、制御装置19
によって、循環的にオン/オフされる。それによって、
いかなるときでも、1つのみの経路15〜17が動作状
態にある。図5は、ボンディングヘッド3が差信号D1
=S2−S1によって調節されるべき場合に対して、下
記の電圧の推移を時間tの関数として図解する。 a)発振器18の出力における電圧 b)コイルSp1を伴う経路15のスイッチ21に従う
電圧 c)コイルSp2を伴う経路16のスイッチ21に従う
電圧 d)経路15の検出器25の入力における電圧 e)経路16の検出器25の入力における電圧 f)経路15の検出器25の出力における電圧 g)経路16の検出器25の出力における電圧 h)経路15のサンプルアンドホールドモジュール26
の出力における電圧 i)経路16のサンプルアンドホールドモジュール26
の出力における電圧 j)差形成器20の出力における電圧
【0024】制御装置19がサンプルアンドホールモジ
ュール26に対して新たな測定値を得るように指図する
時間も示されている。発振器18が平面コイルSp1〜
Sp3に適用する周波数は、およそ1MHzと10MH
zとの間であり、かつ、好ましくは、4MHzである。
キャパシタ24のキャパシタンスは、キャパシタ24と
対応コイルSp1またはSp2またはSp3とによって
形成される共振回路の共振周波数が発振器周波数にほぼ
対応するように、合わせられるべきである。発振器周波
数は、好ましくは、発振器周波数が共振ピークの立ち上
がりエッジの中間に存在するように、選択される。該エ
ッジの中間では、コイルSp1またはSp2またはSp
3からの信号の発振器周波数への誘導作用が大きい。発
振器18によって生成される信号は、都合よく、矩形波
である。発振器18の代わりに、適した出力を伴うマイ
クロプロセッサもまた使用されてもよい。発振器18に
よって生成された周波数を下げることによって、制御装
置19は、所定の周波数を引き出す。該所定の周波数を
伴って、3つの経路15〜17のスイッチ21,22が
開閉されるべきであり、かつ、サンプルアンドホールド
モジュール26が制御されるべきである。
【0025】回路のコンポーネントは、都合よく、回路
基板14の下側に直接載置される。このことは、外部影
響からの干渉に対する耐性を大幅に増大する。
【0026】図6は、光学システムが測定装置7として
動作する実施形態を示す。この場合、調節板10の表面
9は、光学的に良好な反射率を伴う表面(例えば、鏡
面)である。該光学システムは、光源30と半透明鏡3
1とレンズ32と光検出器33とを設けられている。光
源30および光検出器33は、レンズ32の焦点f(焦
平面)に置かれている。光源30の地点から発せられた
光34は、レンズ32によって、調節板10の表面9上
に、平面波35として入射され、かつ、該表面9で反射
され、かつ、少なくとも一部は、半透明鏡31によって
光検出器33上へ進み、その結果、レンズ32は、反射
された平行光36の焦点を、光検出器33上へ合わせ
る。光感知器の2次元配列が、光検出器33、例えば、
CCD(charge coupled device)またはPSD(photo
sensitive device)として、都合よく使用される。通常
のスクリーン37は、光感知器によって供給される表示
信号のためのディスプレイ11として使用されることが
できる。本方法のポイントb)に従う光学システムの較
正のために、y1方向およびz方向における光検出器の
位置は、反射された光ビーム36に対応する光スポット
がスクリーン37の中心に現れるまで、変化される。方
向y1は、図面の表面と直交する。本方法のポイント
d)による調節のために、ボンディングヘッド3は、反
射された光ビーム36に対応する光スポットがスクリー
ン37の中心に再び現れるまで、調整される。
【0027】ダイボンダー1のボンディングヘッド3を
調節するために説明された装置は、ダイボンダー1内に
統合されることができるか、または、(現存するダイボ
ンダー1が改良されることができるように)付属品とし
て提供されることができる。後者の場合には、支持表面
6は、ボンディングヘッドの調節が実行されることがで
きる前に、ボンディング表面2に平面平行に向けられな
くてはならない。
【0028】「本発明の特定の実施形態が説明された
が、多くの変更/追加および/または代用が、本発明の
趣旨および範囲内においてなされてもよい」ということ
が認識される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態によるダイボンダーの一
例を示す説明図である。
【図2】 ボンディングヘッドを調節する装置の一例を
示す平面図である。
【図3】 ボンディングヘッドを調節する装置の一例を
示す側面図である。
【図4】 コイルの駆動回路の一例を示す回路図であ
る。
【図5】 本装置の各部の電圧の一例を示すグラフであ
る。
【図6】 ボンディングヘッドを調節する装置の一例を
示す平面図である。
【符号の説明】
2……ボンディング表面 3……ボンディングヘッド 4……ゴム部分 5……吸引口 6……支持表面 7……測定装置 10……調節板 11……ディスプレイ 12,13……ねじ
フロントページの続き (72)発明者 オイゲン・マンハート スイス・6330・シャム・セント・ヤーコブ シュトラーセ・40 (72)発明者 アロイス・ウルリッヒ スイス・CH−6300・ツーク・バーレルマ ートシュトラーセ・22

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップまたは電子部品をキャリア
    のボンディング表面上へ配置するボンダーまたはピック
    アンドプレイス装置であって、 ボンディング表面に平行な支持表面と、 調節板と、 前記調節板の位置に基づいて少なくとも1つの信号を生
    成するように設計された測定装置と、 前記調節板を把持し、かつ、前記調節板を前記測定装置
    上の小さな距離において自由に保つように設計されてい
    るボンディングヘッドとを具備し、 前記ボンディングヘッドは、前記測定装置によって生成
    された前記少なくとも1つの信号が参照信号と等しくな
    るまで、位置的に調整されるように設計されていること
    を特徴とするボンダーまたはピックアンドプレイス装
    置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のボンダーまたはピックア
    ンドプレイス装置において、 前記参照信号は、前記調節板が前記支持表面上に置かれ
    ると、前記測定装置によって生成され、かつ、記憶され
    ることを特徴とするボンダーまたはピックアンドプレイ
    ス装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2のいずれかに記
    載のボンダーまたはピックアンドプレイス装置におい
    て、 前記調節板は、金属で皮膜された表面または強磁性の表
    面を有し、 前記測定装置は、前記支持表面にほぼ平行な平面内に配
    置された少なくとも3つのコイルを有し、 前記コイルは、各々、前記調節板の位置に基づいて、信
    号を供給し、 前記コイルの前記信号は、測定装置の前記少なくとも1
    つの信号を生成するために使用されることを特徴とする
    ボンダーまたはピックアンドプレイス装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載のボンダーまたはピックア
    ンドプレイス装置において、 測定装置の前記少なくとも1つの信号は、前記少なくと
    も3つのコイルによって供給される信号のうちの2つの
    信号間の差であることを特徴とするボンダーまたはピッ
    クアンドプレイス装置。
  5. 【請求項5】 請求項3または請求項4のいずれかに記
    載のボンダーまたはピックアンドプレイス装置におい
    て、 前記少なくとも3つのコイルは、時分割多重で動作され
    ることを特徴とするボンダーまたはピックアンドプレイ
    ス装置。
  6. 【請求項6】 請求項1または請求項2のいずれかに記
    載のボンダーまたはピックアンドプレイス装置におい
    て、 前記調節板は、光学的反射表面を有し、 前記測定装置は、前記調節板を平行光のビームで照らす
    ように用意された工学システムであることを特徴とする
    ボンダーまたはピックアンドプレイス装置。
  7. 【請求項7】 半導体チップまたは電子部品をキャリア
    のボンディング表面上へ配置するボンダーまたはピック
    アンドプレイス装置のボンディングヘッドを調節する装
    置であって、 前記ボンディング表面に平行に置かれるように構成され
    た支持表面と、 調節板と、 前記調節板の位置に基づいて少なくとも1つの信号を生
    成するように設計されている測定装置とを具備すること
    を特徴とする装置。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の装置において、 前記調節板は、金属で皮膜された表面または強磁性の表
    面を有し、 前記測定装置は、前記支持表面にほぼ平行な平面内に配
    置された少なくとも3つのコイルを有し、 前記コイルは、各々、前記調節板の位置に基づいて、信
    号を供給し、 前記コイルの前記信号は、測定装置の前記少なくとも1
    つの信号を生成するために使用されることを特徴とする
    装置。
  9. 【請求項9】 請求項7記載の装置において、 前記調節板は、光学的反射表面を有し、 前記測定装置は、前記調節板を平行光のビームで照らす
    ように用意された工学システムであることを特徴とする
    装置。
  10. 【請求項10】 半導体チップまたは電子部品をキャリ
    アのボンディング表面上へ配置するボンダーまたはピッ
    クアンドプレイス装置のボンディングヘッドを調節する
    方法であって、 前記調節板を把持し、かつ、前記調節板を前記測定装置
    上の小さな距離において自由に保つステップと、 前記ボンディングヘッドを、前記測定装置によって生成
    された少なくとも1つの信号が参照信号と等しくなるま
    で、位置的に調整するステップとを具備することを特徴
    とする方法。
  11. 【請求項11】 請求項10記載の方法において、 前記ボンディング表面に平行に広がる支持表面上に、前
    記調節板を配置するステップと、 前記測定装置によって生成された1または複数の信号
    を、1または複数の参照信号として、個々に記憶するス
    テップとをさらに具備することを特徴とする方法。
  12. 【請求項12】 請求項10または請求項11のいずれ
    かに記載の方法において、 前記調節板は、金属で皮膜された表面または強磁性の表
    面を有し、 前記測定装置は、前記支持表面にほぼ平行な平面内に配
    置された少なくとも3つのコイルを有し、 前記コイルは、各々、前記調節板の位置に基づいて、信
    号を供給し、 前記コイルの前記信号は、測定装置の前記少なくとも1
    つの信号を生成するために使用されることを特徴とする
    方法。
  13. 【請求項13】 請求項10または請求項11のいずれ
    かに記載の方法において、 前記調節板は、光学的反射表面を有し、 前記測定装置は、前記調節を平行光のビームで照らすよ
    うに用意された工学システムであることを特徴とする方
    法。
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