JPH11271969A - 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 - Google Patents
光重合性組成物及び感光性平版印刷版Info
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- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた感度と生産安定性、経時保存安定性を
併せ持つ光重合性組成物、及びこのような光重合性組成
物を用いた感光性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 付加重合可能なエチレン性不飽和二重結
合含有単量体と、光重合開始剤と、分子内にカルボキシ
ル基を持つ高分子結合材とを含有する光重合性組成物。
該光重合開始剤は、下記式で表される化合物の2種以上
を含有する。この光重合性組成物を用いてアルミニウム
支持体上に感光層を形成してなる感光性平版印刷版。 【化18】 (R1〜R6は、水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、炭化水素環基、複
素環基、−SO3−R8(R8は水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルカリ金属原子、4級ア
ンモニウム基)。R7は、水素原子、アルキル基、シア
ノ基、アリール基。)
併せ持つ光重合性組成物、及びこのような光重合性組成
物を用いた感光性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 付加重合可能なエチレン性不飽和二重結
合含有単量体と、光重合開始剤と、分子内にカルボキシ
ル基を持つ高分子結合材とを含有する光重合性組成物。
該光重合開始剤は、下記式で表される化合物の2種以上
を含有する。この光重合性組成物を用いてアルミニウム
支持体上に感光層を形成してなる感光性平版印刷版。 【化18】 (R1〜R6は、水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、炭化水素環基、複
素環基、−SO3−R8(R8は水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルカリ金属原子、4級ア
ンモニウム基)。R7は、水素原子、アルキル基、シア
ノ基、アリール基。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光重合性組成物及び
感光性平版印刷版に係り、特に可視領域の光線に対し極
めて高感度を示す上に、保存安定性、生産安定性、取り
扱い性に優れた光重合性組成物、及びこの光重合性組成
物を用いて製造された感光性平版印刷版に関する。
感光性平版印刷版に係り、特に可視領域の光線に対し極
めて高感度を示す上に、保存安定性、生産安定性、取り
扱い性に優れた光重合性組成物、及びこの光重合性組成
物を用いて製造された感光性平版印刷版に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成方法
は多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン
性二重結合を含む化合物と光重合開始剤、更に所望によ
り用いられる有機高分子結合材などからなる光重合性組
成物を調製し、この光重合性組成物を支持体上に塗布し
て光重合性組成物の層を設けた感光材料を作製し、所望
の画像を露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分
を溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する
方法;上記と同様にして少なくとも一方が透明である2
枚の支持体間に光重合性組成物の層を設けた感光材料を
作製し、透明支持体側より露光し光による接着強度の変
化を起こさせ、支持体を剥離することにより画像を形成
する方法;その他光重合性組成物層の光によるトナー付
着性の変化を利用した画像作成方法などがある。
は多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン
性二重結合を含む化合物と光重合開始剤、更に所望によ
り用いられる有機高分子結合材などからなる光重合性組
成物を調製し、この光重合性組成物を支持体上に塗布し
て光重合性組成物の層を設けた感光材料を作製し、所望
の画像を露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分
を溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する
方法;上記と同様にして少なくとも一方が透明である2
枚の支持体間に光重合性組成物の層を設けた感光材料を
作製し、透明支持体側より露光し光による接着強度の変
化を起こさせ、支持体を剥離することにより画像を形成
する方法;その他光重合性組成物層の光によるトナー付
着性の変化を利用した画像作成方法などがある。
【0003】近年、光重合性感光材料を用いた高感度感
材が種々の応用分野において検討されている。これらの
うち、実用化が近いとみられるシステムとしてレーザー
直接製版があり、レーザーの発振波長、例えばアルゴン
イオンレーザーの488nmの光や、FD−YAGレー
ザーの532nmの光による露光に対応した高感度フォ
トポリマー系の開発が望まれ、種々提案されている。
材が種々の応用分野において検討されている。これらの
うち、実用化が近いとみられるシステムとしてレーザー
直接製版があり、レーザーの発振波長、例えばアルゴン
イオンレーザーの488nmの光や、FD−YAGレー
ザーの532nmの光による露光に対応した高感度フォ
トポリマー系の開発が望まれ、種々提案されている。
【0004】可視光領域の光線に感応し得る光重合開始
系を含有する光重合組成物に関しては、従来、幾つかの
提案がなされてきた。例えば、ヘキサアリールビイミダ
ゾールと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン
の系(特開昭47−2528号、特開昭54−1552
92号、特開昭56−166154号各公報)、ケトク
マリンと活性剤の系(特開昭52−112681号、特
開昭58−15503号、特開昭60−88005号各
公報)、置換トリアジンと増感剤の系(特開昭54−1
51024号、特開昭8−29803、特開昭58ー4
0302号各公報)、ビイダゾール、スチレン誘導体、
チオールの系(特開昭59−56403号公報)、有機
過酸化物と色素の系(特開昭59−140203号、特
開昭59−189340号各公報)その他、チタノセン
化合物と増感剤の系(特開昭63−221110号、特
開平4−26154号、特開平4−219756号各公
報)、ピロメテン錯体増感剤とラジカル発生剤の系(特
開平4−241338、特開平7−5685、特開平7
−225474号各公報)等が挙げられる。
系を含有する光重合組成物に関しては、従来、幾つかの
提案がなされてきた。例えば、ヘキサアリールビイミダ
ゾールと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン
の系(特開昭47−2528号、特開昭54−1552
92号、特開昭56−166154号各公報)、ケトク
マリンと活性剤の系(特開昭52−112681号、特
開昭58−15503号、特開昭60−88005号各
公報)、置換トリアジンと増感剤の系(特開昭54−1
51024号、特開昭8−29803、特開昭58ー4
0302号各公報)、ビイダゾール、スチレン誘導体、
チオールの系(特開昭59−56403号公報)、有機
過酸化物と色素の系(特開昭59−140203号、特
開昭59−189340号各公報)その他、チタノセン
化合物と増感剤の系(特開昭63−221110号、特
開平4−26154号、特開平4−219756号各公
報)、ピロメテン錯体増感剤とラジカル発生剤の系(特
開平4−241338、特開平7−5685、特開平7
−225474号各公報)等が挙げられる。
【0005】この内、上述のFD−YAGレーザー周辺
の波長に非常に高感度でFD−YAGレーザー用の増感
剤として特に有効なのがピロメテン錯体増感剤とラジカ
ル発生剤の系(特開平7−5685号公報等)である
(なお、ピロメテン錯体増感剤については、特願平8−
196624号にも記載がある。)。
の波長に非常に高感度でFD−YAGレーザー用の増感
剤として特に有効なのがピロメテン錯体増感剤とラジカ
ル発生剤の系(特開平7−5685号公報等)である
(なお、ピロメテン錯体増感剤については、特願平8−
196624号にも記載がある。)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このピ
ロメテン錯体増感剤は、何らかの刺激もしくは経時保存
で、結晶化と思われる欠陥を引き起こすことが明らかと
なった。
ロメテン錯体増感剤は、何らかの刺激もしくは経時保存
で、結晶化と思われる欠陥を引き起こすことが明らかと
なった。
【0007】即ち、通常の実験室スケールで、1種のピ
ロメテン錯体増感剤を含む光重合性組成物を常法により
塗布した場合には、ピロメテン錯体増感剤の結晶化は顕
著には発生しない場合が多いが、圧力、摩擦、静電気等
の刺激(種類は問わない)が与えられたり、経時保存や
加速劣化試験が施された場合には当該増感剤の結晶化が
発生してしまうことが分かった。増感剤の結晶化による
欠陥が発生した場合、その部分の色調が変化するのみな
らず、感度が局所的に大幅に低下してしまう。
ロメテン錯体増感剤を含む光重合性組成物を常法により
塗布した場合には、ピロメテン錯体増感剤の結晶化は顕
著には発生しない場合が多いが、圧力、摩擦、静電気等
の刺激(種類は問わない)が与えられたり、経時保存や
加速劣化試験が施された場合には当該増感剤の結晶化が
発生してしまうことが分かった。増感剤の結晶化による
欠陥が発生した場合、その部分の色調が変化するのみな
らず、感度が局所的に大幅に低下してしまう。
【0008】この刺激等によるピロメテン錯体増感剤の
結晶化は、例えば工場等で感光材料の生産を行う場合な
どに大きな問題となる。即ち、工場などで光重合性組成
物のライン生産塗布を行う場合には、光重合組成物を塗
布する支持体の搬送にハードクロムメッキ、テフロン、
ゴム等の種々の材質からなるローラーが不可欠であり、
この際に支持体上に設けられた光重合性組成物層と搬送
用のローラーが直接接触することは避けられない。この
ような場合、圧力、摩擦などの刺激(種類は問わない)
が、光重合性組成物に直接与えられることになり、この
際にピロメテン錯体増感剤の結晶化が顕著に発生し、結
晶化により感度が低下する可能性は非常に高い。
結晶化は、例えば工場等で感光材料の生産を行う場合な
どに大きな問題となる。即ち、工場などで光重合性組成
物のライン生産塗布を行う場合には、光重合組成物を塗
布する支持体の搬送にハードクロムメッキ、テフロン、
ゴム等の種々の材質からなるローラーが不可欠であり、
この際に支持体上に設けられた光重合性組成物層と搬送
用のローラーが直接接触することは避けられない。この
ような場合、圧力、摩擦などの刺激(種類は問わない)
が、光重合性組成物に直接与えられることになり、この
際にピロメテン錯体増感剤の結晶化が顕著に発生し、結
晶化により感度が低下する可能性は非常に高い。
【0009】また、製造直後において結晶化による欠陥
が顕著でなくても、多くの場合、経時により結晶化が促
進されてしまうため、保存安定性の面で大きな問題とな
ることが予想される。
が顕著でなくても、多くの場合、経時により結晶化が促
進されてしまうため、保存安定性の面で大きな問題とな
ることが予想される。
【0010】このようなことから、ピロメテン錯体増感
剤については、FD−YAGレーザー用増感剤として有
効であるものの、安定した性能の発揮、安定生産性、取
り扱い性等の面で問題があると考えられる。
剤については、FD−YAGレーザー用増感剤として有
効であるものの、安定した性能の発揮、安定生産性、取
り扱い性等の面で問題があると考えられる。
【0011】本発明は、上記従来の問題点を解決し、優
れた感度と生産安定性、経時保存安定性を併せ持つ光重
合性組成物、及びこのような光重合性組成物を用いた感
光性平版印刷版を提供することを目的とする。
れた感度と生産安定性、経時保存安定性を併せ持つ光重
合性組成物、及びこのような光重合性組成物を用いた感
光性平版印刷版を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の光重合性組成物
は、付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合含有単量
体と、光重合開始剤と、分子内にカルボキシル基を持つ
高分子結合材とを含有してなる光重合性組成物におい
て、該光重合開始剤が、下記一般式(I)で表される化
合物の2種以上を含有することを特徴とする。
は、付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合含有単量
体と、光重合開始剤と、分子内にカルボキシル基を持つ
高分子結合材とを含有してなる光重合性組成物におい
て、該光重合開始剤が、下記一般式(I)で表される化
合物の2種以上を含有することを特徴とする。
【0013】
【化3】
【0014】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6
は、ぞれぞれ独立して、水素原子、置換又は非置換のア
ルキル基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、置換又は非置換の炭化水素環基、置換又は非置
換の複素環基、或いは、−SO3−R8(R8は水素原
子、置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルカリ金属原子、又は4級アンモニウム基を
表す。)を表し、R7は、水素原子、置換又は非置換の
アルキル基、シアノ基、又はアリール基を表す。)増感
剤として、上記一般式(I)で表されるピロメテン錯体
増感剤を2種以上併用することにより、優れた感度と生
産安定性、経時保存安定性を併せ持つ光重合性組成物を
得ることができる。
は、ぞれぞれ独立して、水素原子、置換又は非置換のア
ルキル基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、置換又は非置換の炭化水素環基、置換又は非置
換の複素環基、或いは、−SO3−R8(R8は水素原
子、置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルカリ金属原子、又は4級アンモニウム基を
表す。)を表し、R7は、水素原子、置換又は非置換の
アルキル基、シアノ基、又はアリール基を表す。)増感
剤として、上記一般式(I)で表されるピロメテン錯体
増感剤を2種以上併用することにより、優れた感度と生
産安定性、経時保存安定性を併せ持つ光重合性組成物を
得ることができる。
【0015】即ち、特定の骨格を有するピロメテン錯体
で、置換基の少なくとも一部が異なる2種以上の化合物
を混合して増感剤として使用することにより、ピロメテ
ン錯体増感剤の結晶化を大幅に抑制、もしくは完全に無
くすことができ、高感度、安定生産性、経時保存性に優
れた光重合性組成物を得ることができる。
で、置換基の少なくとも一部が異なる2種以上の化合物
を混合して増感剤として使用することにより、ピロメテ
ン錯体増感剤の結晶化を大幅に抑制、もしくは完全に無
くすことができ、高感度、安定生産性、経時保存性に優
れた光重合性組成物を得ることができる。
【0016】本発明の感光性平版印刷版は、このような
本発明の光重合性組成物を用いてアルミニウム支持体上
に感光層を形成してなるものである。
本発明の光重合性組成物を用いてアルミニウム支持体上
に感光層を形成してなるものである。
【0017】
【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。
する。
【0018】本発明の光重合性組成物において、第一の
必須成分として含まれる付加重合可能なエチレン性不飽
和二重結合含有単量体(以下「エチレン性単量体」と略
す。)とは、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた
場合、第二の必須成分である光重合開始剤の作用により
付加重合し、硬化するようなエチレン性不飽和二重結合
を有する単量体である。なお、本発明における単量体の
意味するところは、いわゆる高分子体に相対する概念で
あって、従って、狭義の単量体以外にも二量体、三量
体、オリゴマーをも包含するものである。
必須成分として含まれる付加重合可能なエチレン性不飽
和二重結合含有単量体(以下「エチレン性単量体」と略
す。)とは、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた
場合、第二の必須成分である光重合開始剤の作用により
付加重合し、硬化するようなエチレン性不飽和二重結合
を有する単量体である。なお、本発明における単量体の
意味するところは、いわゆる高分子体に相対する概念で
あって、従って、狭義の単量体以外にも二量体、三量
体、オリゴマーをも包含するものである。
【0019】このエチレン性単量体は、1分子中にエチ
レン性不飽和二重結合を1個有する化合物であっても良
く、この場合、具体的には、(メタ)アクリル酸、(メ
タ)アクリル酸のアルキルエステル、アクリロニトリ
ル、スチレン、エチレン性不飽和二重結合を1個有する
カルボン酸と多(単)価アルコールのモノエステル等が
挙げられる。
レン性不飽和二重結合を1個有する化合物であっても良
く、この場合、具体的には、(メタ)アクリル酸、(メ
タ)アクリル酸のアルキルエステル、アクリロニトリ
ル、スチレン、エチレン性不飽和二重結合を1個有する
カルボン酸と多(単)価アルコールのモノエステル等が
挙げられる。
【0020】ただし、本発明においては、1分子中にエ
チレン性不飽和二重結合を2個以上有する多官能エチレ
ン性化合物を使用することが望ましく、かかる多官能エ
チレン性化合物の例としては、例えば脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポ
リヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;
脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化
合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び
多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエス
テルなどが挙げられる。
チレン性不飽和二重結合を2個以上有する多官能エチレ
ン性化合物を使用することが望ましく、かかる多官能エ
チレン性化合物の例としては、例えば脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポ
リヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;
脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化
合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び
多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエス
テルなどが挙げられる。
【0021】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルとしては特に限定されないが、
例えばエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスルトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロー
ルアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアク
リル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメ
タクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイ
タコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに
代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えた
マレイン酸エステル等が挙げられる。
カルボン酸とのエステルとしては特に限定されないが、
例えばエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスルトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロー
ルアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアク
リル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメ
タクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイ
タコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに
代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えた
マレイン酸エステル等が挙げられる。
【0022】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては特に限定されないが、例え
ばハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメ
タクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシン
ジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の
芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル及び
メタクリル酸エステル等が挙げられる。
ボン酸とのエステルとしては特に限定されないが、例え
ばハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメ
タクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシン
ジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の
芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル及び
メタクリル酸エステル等が挙げられる。
【0023】不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸なら
びに多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得ら
れるエステルとしては特に限定されないが、代表的な具
体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレン
グリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジ
エチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタ
ル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、
アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等
がある。
びに多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得ら
れるエステルとしては特に限定されないが、代表的な具
体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレン
グリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジ
エチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタ
ル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、
アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等
がある。
【0024】その他、本発明に用いられる多官能エチレ
ン性単量体の例としては、トリレンジイソシアネートと
ヒドロキシエチルアクリレートとの付加反応物のような
ウレタンアクリレート類;ジエポキシ化合物とヒドロキ
シエチルアクリレートとの付加反応物のようなエポキシ
アクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等のアク
リルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル
類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有
用である。
ン性単量体の例としては、トリレンジイソシアネートと
ヒドロキシエチルアクリレートとの付加反応物のような
ウレタンアクリレート類;ジエポキシ化合物とヒドロキ
シエチルアクリレートとの付加反応物のようなエポキシ
アクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等のアク
リルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル
類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有
用である。
【0025】本発明の光重合性組成物の第二の必須成分
である光重合開始剤としては、前記エチレン性単量体の
重合を開始させうるものであれば全て使用できる。特
に、可視領域の光線に対して感光性を有する増感剤と活
性剤とを含むものが好適に使用される。
である光重合開始剤としては、前記エチレン性単量体の
重合を開始させうるものであれば全て使用できる。特
に、可視領域の光線に対して感光性を有する増感剤と活
性剤とを含むものが好適に使用される。
【0026】このうち、光励起された増感剤と何らかの
作用を及ぼし合うことにより活性ラジカルを生成する活
性剤としては、例えば、チタノセン類、ヘキサアリール
ビイミダゾール類、ハロゲン化炭化水素誘導体、ジアリ
ールヨオードニウム塩、有機過酸化物等を挙げることが
できる。このうち、特にチタノセン類或いは、ヘキサア
リールビイミダゾール類を用いた組成物が、感度、保存
安定性、形成された塗膜の支持体への密着性等が良好で
好ましい。
作用を及ぼし合うことにより活性ラジカルを生成する活
性剤としては、例えば、チタノセン類、ヘキサアリール
ビイミダゾール類、ハロゲン化炭化水素誘導体、ジアリ
ールヨオードニウム塩、有機過酸化物等を挙げることが
できる。このうち、特にチタノセン類或いは、ヘキサア
リールビイミダゾール類を用いた組成物が、感度、保存
安定性、形成された塗膜の支持体への密着性等が良好で
好ましい。
【0027】ここで、チタノセン類としては、種々のも
のを用いることができるが、例えば特開昭59−152
396号、特開昭61−151197号各公報に記載さ
れている各種チタノセン類から適宜選んで用いることが
できる。更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−ト
リフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル
−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フル
オロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−テトラフルオロ
フェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフル
オロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を
挙げることができる。
のを用いることができるが、例えば特開昭59−152
396号、特開昭61−151197号各公報に記載さ
れている各種チタノセン類から適宜選んで用いることが
できる。更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−ト
リフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル
−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フル
オロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−テトラフルオロ
フェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフル
オロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を
挙げることができる。
【0028】また、ヘキサアリールビイミダゾル類とし
ては、種々のものを用いることができるが、例えば、
2,2’−ビス(o−クロルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(p−フルオロフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−ブロムフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(p−ヨードフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−クロルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(p−クロルナフチル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−クロルフェニル)
−4,4’5,5’−テトラ(p−クロルフェニル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロムフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(p−クロル−p−メト
キシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,
p−ジクロルフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(o−クロルフェニル)−4,4’5,5’−テトラ
(o,p−ジブロムフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−ブロムフェニル)−4,4’5,5’
−テトラ(o,p−ジクロルフェニル)ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(o,p−ジクロルフェニル)−
4,4’5,5’−テトラ(o,p−ジクロルフェニ
ル)ビイミダゾール類等のベンゼン環上にハロゲン置換
基を有するヘキサアリールビイミダゾール類が好まし
い。
ては、種々のものを用いることができるが、例えば、
2,2’−ビス(o−クロルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(p−フルオロフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−ブロムフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(p−ヨードフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−クロルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(p−クロルナフチル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−クロルフェニル)
−4,4’5,5’−テトラ(p−クロルフェニル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロムフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(p−クロル−p−メト
キシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,
p−ジクロルフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(o−クロルフェニル)−4,4’5,5’−テトラ
(o,p−ジブロムフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−ブロムフェニル)−4,4’5,5’
−テトラ(o,p−ジクロルフェニル)ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(o,p−ジクロルフェニル)−
4,4’5,5’−テトラ(o,p−ジクロルフェニ
ル)ビイミダゾール類等のベンゼン環上にハロゲン置換
基を有するヘキサアリールビイミダゾール類が好まし
い。
【0029】こららのヘキサアリールビイミダゾール類
は、必要に応じ、多種のビイミダゾールと併用して使用
することもできる。この場合、ビイミダゾール類は例え
ばBull.Chem.Soc.Japan.33,5
65(1960)及びJ.Org.Chem.36[1
6]2262(1971)に開示されている方法により
容易に合成することができる。
は、必要に応じ、多種のビイミダゾールと併用して使用
することもできる。この場合、ビイミダゾール類は例え
ばBull.Chem.Soc.Japan.33,5
65(1960)及びJ.Org.Chem.36[1
6]2262(1971)に開示されている方法により
容易に合成することができる。
【0030】次に、この光重合開始剤に含まれる増感剤
について説明する。本発明における増感剤とは、前述の
活性剤と共存した場合、可視光線照射により、効果的に
活性ラジカルを発生しうる化合物を意味している。
について説明する。本発明における増感剤とは、前述の
活性剤と共存した場合、可視光線照射により、効果的に
活性ラジカルを発生しうる化合物を意味している。
【0031】本発明においては、この増感剤として、前
記一般式(I)で示されるピロメテン錯体の構造を持
ち、置換基の少なくとも一部が異なる2種以上の化合物
を混合して使用する。
記一般式(I)で示されるピロメテン錯体の構造を持
ち、置換基の少なくとも一部が異なる2種以上の化合物
を混合して使用する。
【0032】これらの増感剤は、限定はされないが例え
ば米国特許4,774,339号公報やJ.H.Bog
er et al,Hetroatom Chemis
try,Vol.1,5,389(1990)、米国特
許4,916,711号公報、同5,189,029号
公報に記載の方法により合成し得る。
ば米国特許4,774,339号公報やJ.H.Bog
er et al,Hetroatom Chemis
try,Vol.1,5,389(1990)、米国特
許4,916,711号公報、同5,189,029号
公報に記載の方法により合成し得る。
【0033】本発明においては、前記一般式(I)で表
されるピロメテン錯体増感剤の少なくとも一つが、R1
〜R7の少なくとも一つにα−位又はβ−位で分岐した
アルキル基を有し、特に、R2又はR5にα−位又はβ−
位で分岐したアルキル基を有することが好ましい。この
分岐アルキル基は、好ましくは下記一般式(I)で表さ
れる。
されるピロメテン錯体増感剤の少なくとも一つが、R1
〜R7の少なくとも一つにα−位又はβ−位で分岐した
アルキル基を有し、特に、R2又はR5にα−位又はβ−
位で分岐したアルキル基を有することが好ましい。この
分岐アルキル基は、好ましくは下記一般式(I)で表さ
れる。
【0034】
【化4】
【0035】((II)式中、R9及びR10は炭素数1〜1
0好ましくは1〜7のアルキル基を表し、R11は水素原
子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、qは0又は
1を表す。) この分岐アルキル基は、より好ましくは、α−位又はβ
−位に2級又は3級の炭素原子を有する炭素数3〜20
のアルキル基、さらに好ましくは、α−位又はβ−位に
3級炭素原子を有する炭素数4〜7のアルキル基であ
る。
0好ましくは1〜7のアルキル基を表し、R11は水素原
子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、qは0又は
1を表す。) この分岐アルキル基は、より好ましくは、α−位又はβ
−位に2級又は3級の炭素原子を有する炭素数3〜20
のアルキル基、さらに好ましくは、α−位又はβ−位に
3級炭素原子を有する炭素数4〜7のアルキル基であ
る。
【0036】α−位又はβ−位に2級又は3級の炭素原
子を有するアルキル基を導入したピロメテン錯体増感剤
は、対応するアルキル基が直鎖であるピロメテン錯体増
感剤に比べ、吸光波長ピークが長波長側にシフトされる
と共に、488nmアルゴンイオンレーザー又は532
YAGレーザーの発振波長に対する感応感度が高められ
る。また、このピロメテン錯体増感剤は、種々の塗布溶
媒に対して良好な溶解性を有している。
子を有するアルキル基を導入したピロメテン錯体増感剤
は、対応するアルキル基が直鎖であるピロメテン錯体増
感剤に比べ、吸光波長ピークが長波長側にシフトされる
と共に、488nmアルゴンイオンレーザー又は532
YAGレーザーの発振波長に対する感応感度が高められ
る。また、このピロメテン錯体増感剤は、種々の塗布溶
媒に対して良好な溶解性を有している。
【0037】α−位が分岐したアルキル基の具体例とし
ては、例えば、次のようなものが挙げられる(下記式に
おいてqは前記定義に同じ)。
ては、例えば、次のようなものが挙げられる(下記式に
おいてqは前記定義に同じ)。
【0038】
【化5】
【0039】前記一般式(I)のR1〜R7の置換基のう
ち、上記のようなα−位又はβ−位で分岐したアルキル
基以外の置換基R1〜R6は、好ましくは、水素原子、炭
素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアシル
基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基である。
R7は好ましくは、水素原子、炭素数1〜10のアルキ
ル基、シアノ基である。
ち、上記のようなα−位又はβ−位で分岐したアルキル
基以外の置換基R1〜R6は、好ましくは、水素原子、炭
素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアシル
基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基である。
R7は好ましくは、水素原子、炭素数1〜10のアルキ
ル基、シアノ基である。
【0040】さらに具体的に、R1〜R8に用いられる置
換又は非置換のアルキル基の例としては、次のものが挙
げられる。
換又は非置換のアルキル基の例としては、次のものが挙
げられる。
【0041】
【化6】
【0042】また、R1〜R6に用いられるアシル基の例
としては、次のものが挙げられる。
としては、次のものが挙げられる。
【0043】
【化7】
【0044】また、R1〜R6に用いられるアルコキシカ
ルボニル基の例としては、次のものが挙げられる。
ルボニル基の例としては、次のものが挙げられる。
【0045】
【化8】
【0046】R1〜R6に用いられる置換又は非置換の炭
化水素環基としては、好ましくは1環〜3環のアリール
基、炭素数6〜10の脂肪族炭化水素環基を挙げること
ができ、具体的には次のものが挙げられる。
化水素環基としては、好ましくは1環〜3環のアリール
基、炭素数6〜10の脂肪族炭化水素環基を挙げること
ができ、具体的には次のものが挙げられる。
【0047】
【化9】
【0048】本発明に好適な一般式(I)で表わされる
ピロメテン錯体増感剤の代表例を、一般式(I)の置換
基R1〜R7を示す表1〜9に挙げるが、本発明に係るピ
ロメテン錯体増感剤はこれらの例示化合物に何ら限定さ
れるものではない。
ピロメテン錯体増感剤の代表例を、一般式(I)の置換
基R1〜R7を示す表1〜9に挙げるが、本発明に係るピ
ロメテン錯体増感剤はこれらの例示化合物に何ら限定さ
れるものではない。
【0049】
【表1】
【0050】
【表2】
【0051】
【表3】
【0052】
【表4】
【0053】
【表5】
【0054】
【表6】
【0055】
【表7】
【0056】
【表8】
【0057】
【表9】
【0058】本発明では、このようなピロメテン錯体増
感剤のなかから2種以上を併用するが、その使用割合と
しては、ある1種のピロメテン錯体増感剤がピロメテン
錯体増感剤の総量に対して3〜97%、特に5〜95
%、とりわけ10〜90%であることが好ましい。
感剤のなかから2種以上を併用するが、その使用割合と
しては、ある1種のピロメテン錯体増感剤がピロメテン
錯体増感剤の総量に対して3〜97%、特に5〜95
%、とりわけ10〜90%であることが好ましい。
【0059】次に、本発明の第三の必須成分である分子
内にカルボキシル基を有する高分子結合材について説明
する。この高分子結合材の具体例としては、例えば、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、
(メタ)アクリルアミド、マレイン酸、(メタ)アクリ
ロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、
マレイミド等の単独もしくは共重合体、その他、ポリエ
チレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリ
エチレンテレフタレート、アセチルセルロース、又はポ
リビニルブチラール等が挙げられる。中でも(メタ)ア
クリル酸エステルの少なくとも1種と(メタ)アクリル
酸を共重合成分として含有する共重合体が好ましい。分
子内にカルボキシル基を有する高分子結合材の好ましい
酸価の値は10〜250であり、好ましい重量平均分子
量(以下Mwと略す。)は5千から100万である。
内にカルボキシル基を有する高分子結合材について説明
する。この高分子結合材の具体例としては、例えば、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、
(メタ)アクリルアミド、マレイン酸、(メタ)アクリ
ロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、
マレイミド等の単独もしくは共重合体、その他、ポリエ
チレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリ
エチレンテレフタレート、アセチルセルロース、又はポ
リビニルブチラール等が挙げられる。中でも(メタ)ア
クリル酸エステルの少なくとも1種と(メタ)アクリル
酸を共重合成分として含有する共重合体が好ましい。分
子内にカルボキシル基を有する高分子結合材の好ましい
酸価の値は10〜250であり、好ましい重量平均分子
量(以下Mwと略す。)は5千から100万である。
【0060】これらの高分子結合材は、側鎖に不飽和結
合を有することが望ましく、特に下記一般式(1)〜
(3)で示される少なくとも1種の不飽和結合を有する
ことが好ましい。
合を有することが望ましく、特に下記一般式(1)〜
(3)で示される少なくとも1種の不飽和結合を有する
ことが好ましい。
【0061】
【化10】
【0062】(式中、R11は水素原子又はメチル基を示
す。また、R12〜R16は各々独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、置換基を有していても
よいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール
オキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ
基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換
基を有していてもよいアルキルスルホニル基、又は置換
基を有していてもよいアリールスルホニル基を有し、Z
は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又はアルキルイミノ
基を示す。) このような高分子結合材の合成法としては、大別して下
記の2手法がある。
す。また、R12〜R16は各々独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、置換基を有していても
よいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール
オキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ
基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換
基を有していてもよいアルキルスルホニル基、又は置換
基を有していてもよいアリールスルホニル基を有し、Z
は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又はアルキルイミノ
基を示す。) このような高分子結合材の合成法としては、大別して下
記の2手法がある。
【0063】(合成法1)分子内にカルボキシル基を有
する高分子結合材の不活性有機溶剤溶液(例えばアルコ
ール系、エステル系、芳香族炭化水素系、脂肪族炭化水
素系等が挙げられる。)とエポキシ基含有不飽和化合物
とを約80〜120℃、約1〜50時間の反応条件で反
応させることにより合成する方法。エポキシ基含有不飽
和化合物と反応させるカルボキシル基の割合は本発明の
効果を達成しうる範囲であれば特に限定されないが、全
カルボキシル基に対して5〜90モル%を反応させるの
が好ましく、より好ましくは20〜80モル%、更に好
ましくは30〜70モル%である。上記範囲であると現
像性が良好であると共に接着性が良好である。
する高分子結合材の不活性有機溶剤溶液(例えばアルコ
ール系、エステル系、芳香族炭化水素系、脂肪族炭化水
素系等が挙げられる。)とエポキシ基含有不飽和化合物
とを約80〜120℃、約1〜50時間の反応条件で反
応させることにより合成する方法。エポキシ基含有不飽
和化合物と反応させるカルボキシル基の割合は本発明の
効果を達成しうる範囲であれば特に限定されないが、全
カルボキシル基に対して5〜90モル%を反応させるの
が好ましく、より好ましくは20〜80モル%、更に好
ましくは30〜70モル%である。上記範囲であると現
像性が良好であると共に接着性が良好である。
【0064】ここで使用されるエポキシ基含有不飽和化
合物は、1分子中に少なくとも一つの付加重合可能な不
飽和結合と、エポキシ基とを有する化合物である。
合物は、1分子中に少なくとも一つの付加重合可能な不
飽和結合と、エポキシ基とを有する化合物である。
【0065】エポキシ基含有不飽和化合物としては、グ
リシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエー
テル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニル
グリシジルエーテル、グリシジルクロトネート、グリシ
ジルイソクロトネート、イタコン酸モノアルキルエステ
ルモノグリシジルエステル、フマール酸モノアルキルエ
ステルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキ
ルエステルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ
基含有不飽和化合物及び下記構造で示される脂環式エポ
キシ基含有不飽和化合物が挙げられる。
リシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエー
テル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニル
グリシジルエーテル、グリシジルクロトネート、グリシ
ジルイソクロトネート、イタコン酸モノアルキルエステ
ルモノグリシジルエステル、フマール酸モノアルキルエ
ステルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキ
ルエステルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ
基含有不飽和化合物及び下記構造で示される脂環式エポ
キシ基含有不飽和化合物が挙げられる。
【0066】
【化11】
【0067】
【化12】
【0068】(各一般式中、R21は水素原子又はメチル
基を示す。R22は炭素数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化
水素基を示す。R23は炭素数1〜10の2価の炭化水素
基を示す。kは0〜10の整数を示す。) 上記エポキシ基含有不飽和化合物の好ましい化合物の具
体例としては、グリシジルメタアクリレート、アリルグ
リシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート等が挙げられる。これらの中で特に好
ましい化合物は、アリルグリシジルエーテル、3,4−
エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられ
る。
基を示す。R22は炭素数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化
水素基を示す。R23は炭素数1〜10の2価の炭化水素
基を示す。kは0〜10の整数を示す。) 上記エポキシ基含有不飽和化合物の好ましい化合物の具
体例としては、グリシジルメタアクリレート、アリルグ
リシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレート等が挙げられる。これらの中で特に好
ましい化合物は、アリルグリシジルエーテル、3,4−
エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられ
る。
【0069】(合成法2)前記一般式(2)及び(3)
で示されるような、反応性の低い不飽和結合を1種類以
上とこれらより反応性に富む不飽和結合1種類の合計2
種以上の不飽和結合を有する化合物と不飽和カルボン酸
とを共重合させて合成する方法。
で示されるような、反応性の低い不飽和結合を1種類以
上とこれらより反応性に富む不飽和結合1種類の合計2
種以上の不飽和結合を有する化合物と不飽和カルボン酸
とを共重合させて合成する方法。
【0070】一般式(2)で示される不飽和基を有する
化合物の具体例としては、アリル(メタ)アクリレー
ト、3−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジアリル(メタ)アクリル
アミド、シンナミル(メタ)アクリレート、クロトニル
(メタ)アクリレート、メタリル(メタ)アクリレート
等が挙げられる。
化合物の具体例としては、アリル(メタ)アクリレー
ト、3−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジアリル(メタ)アクリル
アミド、シンナミル(メタ)アクリレート、クロトニル
(メタ)アクリレート、メタリル(メタ)アクリレート
等が挙げられる。
【0071】一般式(3)で示される不飽和基を有する
化合物の具体例としては、ビニル(メタ)アクリレー
ト、ビニルクロトネート、1−プロペニル(メタ)アク
リレート、1−クロロビニル(メタ)アクリレート、2
−フェニルビニル(メタ)アクリレート、ビニル(メ
タ)アクリルアミド等が挙げられる。
化合物の具体例としては、ビニル(メタ)アクリレー
ト、ビニルクロトネート、1−プロペニル(メタ)アク
リレート、1−クロロビニル(メタ)アクリレート、2
−フェニルビニル(メタ)アクリレート、ビニル(メ
タ)アクリルアミド等が挙げられる。
【0072】これら(2)、(3)の構造を有する化合
物の中で好ましい化合物としては、アリルメタアクリレ
ート、ビニルメタアクリレートが挙げらる。
物の中で好ましい化合物としては、アリルメタアクリレ
ート、ビニルメタアクリレートが挙げらる。
【0073】これらのモノマーを不飽和カルボン酸、好
ましくはアクリル酸又はメタクリル酸と共重合させるこ
とにより該不飽和基を有する共重合体を得る。共重合す
るモノマーは不飽和カルボン酸に加えて他のモノマーが
共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メタ
クリル酸アルキル、アクリロニトリル、スチレン等が挙
げられる。共重合させる前記(2)、(3)の構造を有
する化合物のポリマー全体の成分に占める割合は、好ま
しくは10〜90モル%、更に好ましくは30〜80モ
ル%である。この割合が上記範囲より少ないと画像再現
性に劣り、多くなると現像性が悪くなる。
ましくはアクリル酸又はメタクリル酸と共重合させるこ
とにより該不飽和基を有する共重合体を得る。共重合す
るモノマーは不飽和カルボン酸に加えて他のモノマーが
共重合されてもよく、例えばアクリル酸アルキル、メタ
クリル酸アルキル、アクリロニトリル、スチレン等が挙
げられる。共重合させる前記(2)、(3)の構造を有
する化合物のポリマー全体の成分に占める割合は、好ま
しくは10〜90モル%、更に好ましくは30〜80モ
ル%である。この割合が上記範囲より少ないと画像再現
性に劣り、多くなると現像性が悪くなる。
【0074】以上、本発明の光重合性組成物の主要構成
成分について詳述してきたが、それらの好適な使用比率
は重合可能なエチレン性化合物100重量部に対して光
重合開始剤の内増感剤が好ましくは0.01〜20重量
部、特に好ましくは0.05〜10重量部、活性剤が好
ましくは0.1〜80重量部、特に好ましくは0.5〜
60重量部、また高分子結合材が、好ましくは10〜4
00重量部、特に好ましくは20〜200重量部の範囲
である。
成分について詳述してきたが、それらの好適な使用比率
は重合可能なエチレン性化合物100重量部に対して光
重合開始剤の内増感剤が好ましくは0.01〜20重量
部、特に好ましくは0.05〜10重量部、活性剤が好
ましくは0.1〜80重量部、特に好ましくは0.5〜
60重量部、また高分子結合材が、好ましくは10〜4
00重量部、特に好ましくは20〜200重量部の範囲
である。
【0075】本発明の光重合性組成物は前記の各必須成
分の他に、その目的に応じて更に他の物質を含有するこ
とができる。例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等
の熱重合防止剤;有機又は無機の染顔料からなる着色
剤;ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ト
リクレジルホスフェート等の可塑剤;三級アミンやチオ
ールのような感度特性改善剤;その他色素前駆体等の添
加剤も加えることができ、これらの添加剤の好ましい添
加量は、エチレン性化合物100重量部に対して熱重合
防止剤2重量部以下、着色剤20重量部以下、可塑剤4
0重量部以下、感度特性改善剤40重量部以下、色素前
駆体30重量部以下の範囲である。
分の他に、その目的に応じて更に他の物質を含有するこ
とができる。例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等
の熱重合防止剤;有機又は無機の染顔料からなる着色
剤;ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ト
リクレジルホスフェート等の可塑剤;三級アミンやチオ
ールのような感度特性改善剤;その他色素前駆体等の添
加剤も加えることができ、これらの添加剤の好ましい添
加量は、エチレン性化合物100重量部に対して熱重合
防止剤2重量部以下、着色剤20重量部以下、可塑剤4
0重量部以下、感度特性改善剤40重量部以下、色素前
駆体30重量部以下の範囲である。
【0076】また、本発明の光重合性組成物は、塗布性
改良剤として界面活性剤を含有することができる。この
場合、界面活性剤は特に限定されないが、以下に示すよ
うな、炭素数6〜10のアルキル基であって、そのアル
キル基の水素原子のうち12〜20個の水素原子がフッ
素原子で置換されたフルオロアルキル基を有するフッ素
系界面活性剤を用いることができる。
改良剤として界面活性剤を含有することができる。この
場合、界面活性剤は特に限定されないが、以下に示すよ
うな、炭素数6〜10のアルキル基であって、そのアル
キル基の水素原子のうち12〜20個の水素原子がフッ
素原子で置換されたフルオロアルキル基を有するフッ素
系界面活性剤を用いることができる。
【0077】
【化13】
【0078】これらのフッ素系界面活性剤としては、例
えば、商品名サーフロン「S−381」、「S−38
2」、「SC−101」、「SC−102」、「SC−
103」、「SC−104」(いずれも旭硝子(株)
製)、フロラード「FC−430」、「FC−43
1」、「FC−173」(いずれもフロロケミカル−住
友スリーエム製)、エフトップ「EF352」、「EF
301」、「EF303」(いずれも新秋田化成(株)
製)、シュベゴーフルアー「8035」、「8036」
(いずれもシュベグマン社製)、「BM1000」、
「BM1100」(いずれもビーエム・ヒミー社製)な
どとして市販されているものを使用することができる。
えば、商品名サーフロン「S−381」、「S−38
2」、「SC−101」、「SC−102」、「SC−
103」、「SC−104」(いずれも旭硝子(株)
製)、フロラード「FC−430」、「FC−43
1」、「FC−173」(いずれもフロロケミカル−住
友スリーエム製)、エフトップ「EF352」、「EF
301」、「EF303」(いずれも新秋田化成(株)
製)、シュベゴーフルアー「8035」、「8036」
(いずれもシュベグマン社製)、「BM1000」、
「BM1100」(いずれもビーエム・ヒミー社製)な
どとして市販されているものを使用することができる。
【0079】これらの界面活性剤の好ましい添加量は、
光重合性組成物中のエチレン性化合物100重量部に対
して10重量部以下の範囲で、より好ましくは0.01
〜5重量部の範囲である。
光重合性組成物中のエチレン性化合物100重量部に対
して10重量部以下の範囲で、より好ましくは0.01
〜5重量部の範囲である。
【0080】本発明の光重合性組成物は、適当な溶媒で
希釈して、支持体上に塗布、乾燥することにより感光層
が形成される。
希釈して、支持体上に塗布、乾燥することにより感光層
が形成される。
【0081】以下に本発明の光重合性組成物を用いた感
光性平版印刷版の製造方法について説明する。
光性平版印刷版の製造方法について説明する。
【0082】感光性平版印刷版の支持体としては、表面
を粗面化した後陽極酸化処理したアルミニウム支持体が
好適に使用される。この粗面化の方法としては、一般に
公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、
化学エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト法等
の方法及びこれらの組み合わせが挙げられ、好ましくは
ブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学エ
ッチング、液体ホーニングが挙げられる。更に、粗面化
処理が施されたアルミニウム板は必要に応じて酸又はア
ルカリ水溶液にてデスマット処理される。こうして得ら
れたアルミニウム板は、通常、陽極酸化処理されるが、
特に好ましくは、硫酸を含む電解液で処理する方法が挙
げられる。硫酸を含む電解液で陽極酸化する方法は、従
来公知の方法、例えば特開昭58−213894号公報
に記載の方法等に準じて行われる。具体的な処理条件
は、硫酸5〜50重量%、好ましくは15〜30重量%
の電解液にて、温度は5〜50℃程度、好ましくは15
〜35℃であり、電流密度1〜60A/dm2 で5秒〜
60秒間程度で行なわれる。また、更に必要に応じて珪
酸ソーダ処理等の珪酸アルカリや熱水による処理、その
他カチオン性4級アンモニウム基を有する樹脂やポリビ
ニルホスホン酸等の水性高分子化合物を含有する水溶液
への浸漬等による表面処理を行うことができる。
を粗面化した後陽極酸化処理したアルミニウム支持体が
好適に使用される。この粗面化の方法としては、一般に
公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、
化学エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト法等
の方法及びこれらの組み合わせが挙げられ、好ましくは
ブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学エ
ッチング、液体ホーニングが挙げられる。更に、粗面化
処理が施されたアルミニウム板は必要に応じて酸又はア
ルカリ水溶液にてデスマット処理される。こうして得ら
れたアルミニウム板は、通常、陽極酸化処理されるが、
特に好ましくは、硫酸を含む電解液で処理する方法が挙
げられる。硫酸を含む電解液で陽極酸化する方法は、従
来公知の方法、例えば特開昭58−213894号公報
に記載の方法等に準じて行われる。具体的な処理条件
は、硫酸5〜50重量%、好ましくは15〜30重量%
の電解液にて、温度は5〜50℃程度、好ましくは15
〜35℃であり、電流密度1〜60A/dm2 で5秒〜
60秒間程度で行なわれる。また、更に必要に応じて珪
酸ソーダ処理等の珪酸アルカリや熱水による処理、その
他カチオン性4級アンモニウム基を有する樹脂やポリビ
ニルホスホン酸等の水性高分子化合物を含有する水溶液
への浸漬等による表面処理を行うことができる。
【0083】このような支持体への光重合性組成物の塗
布方法としては、ディップコート、コーティングロッ
ド、スピナーコート、スプレーコート、ロールコート等
の周知の方法が採用される。
布方法としては、ディップコート、コーティングロッ
ド、スピナーコート、スプレーコート、ロールコート等
の周知の方法が採用される。
【0084】更に、光重合性組成物を塗布して形成され
た感光層の上には、酸素による重合禁止作用を防止する
ために、酸素遮断層を設けることができる。その具体例
としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリエチレンオキサイド、セルロース等の水溶性高
分子が挙げられる。この内、特に酸素ガスバリア性の高
いポリビニルアルコールを含むものが好ましい。
た感光層の上には、酸素による重合禁止作用を防止する
ために、酸素遮断層を設けることができる。その具体例
としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリエチレンオキサイド、セルロース等の水溶性高
分子が挙げられる。この内、特に酸素ガスバリア性の高
いポリビニルアルコールを含むものが好ましい。
【0085】本発明の組成物に適用し得る露光光源とし
ては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高
圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍
光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリ
ウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、Y
AGレーザー、ヘリウムネオンレーザー等が特に好適で
ある。
ては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高
圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍
光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリ
ウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、Y
AGレーザー、ヘリウムネオンレーザー等が特に好適で
ある。
【0086】本発明の光重合性組成物は、かかる光源に
て画像露光を行った後、界面活性剤とアルカリを含有す
る水溶液を用いて現像すれば支持体上に画像を形成する
ことができる。この水溶液には、更に有機溶剤、緩衝
剤、染料又は顔料を含有させることができる。
て画像露光を行った後、界面活性剤とアルカリを含有す
る水溶液を用いて現像すれば支持体上に画像を形成する
ことができる。この水溶液には、更に有機溶剤、緩衝
剤、染料又は顔料を含有させることができる。
【0087】現像に適当なアルカリ剤としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二
リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム等の無機アルカリ剤、及びトリメチルア
ミン、ジエチルアミン、モノイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン類などの有機アミン化合物
などが挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合
わせて使用できる。界面活性剤としては、例えば、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノ
グリセリドアルキルエステル類等のノニオン系界面活性
剤;アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタ
レンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスル
ホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン
界面活性剤;アルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性
界面活性剤が使用可能である。また、有機溶剤としては
例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコー
ル、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセ
ロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコー
ル等を必要により含有させることが可能である。
トリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二
リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム等の無機アルカリ剤、及びトリメチルア
ミン、ジエチルアミン、モノイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン類などの有機アミン化合物
などが挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合
わせて使用できる。界面活性剤としては、例えば、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノ
グリセリドアルキルエステル類等のノニオン系界面活性
剤;アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタ
レンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスル
ホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン
界面活性剤;アルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性
界面活性剤が使用可能である。また、有機溶剤としては
例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコー
ル、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセ
ロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコー
ル等を必要により含有させることが可能である。
【0088】
【実施例】以下、製造例、実施例及び比較例を挙げて本
発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超
えない限り、これらの実施例により限定されるものでは
ない。
発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超
えない限り、これらの実施例により限定されるものでは
ない。
【0089】製造例1:高分子結合材の合成(1) メチルメタクリレート/イソブチルメタクリレート/イ
ソブチルアクリレート/メタアクリル酸=35/20/
10/35モル%(仕込み比)の共重合体(Mw=7
万。以下「結合材−1」と略す。)200重量部を、下
記脂環式エポキシ含有不飽和化合物75重量部、p−メ
トキシフェノール2.5重量部、テトラブチルアンモニ
ウムクロライド8重量部、及びプロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート800重量部を反応容器中
に加え、110℃で、24時間空気中で攪拌反応させて
エチレン性高分子結合材(酸価60、結合材−1のメタ
アクリル酸成分全体の6割に不飽和基が反応したもの。
以下「結合材−2」と略す。)溶液を得た。
ソブチルアクリレート/メタアクリル酸=35/20/
10/35モル%(仕込み比)の共重合体(Mw=7
万。以下「結合材−1」と略す。)200重量部を、下
記脂環式エポキシ含有不飽和化合物75重量部、p−メ
トキシフェノール2.5重量部、テトラブチルアンモニ
ウムクロライド8重量部、及びプロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート800重量部を反応容器中
に加え、110℃で、24時間空気中で攪拌反応させて
エチレン性高分子結合材(酸価60、結合材−1のメタ
アクリル酸成分全体の6割に不飽和基が反応したもの。
以下「結合材−2」と略す。)溶液を得た。
【0090】
【化14】
【0091】製造例2:高分子結合材の合成(2) (α−メチル)スチレン/アクリル酸の共重合体(商品
名”SCXー690”Jhonson社製、酸価24
0、Mw=1万5千)855重量部を、製造例1で用い
たと同様の脂環式エポキシ含有不飽和化合物490重量
部、p−メトキシフェノール1.3重量部、テトラエチ
ルアンモニウムクロライド4.3重量部、及びプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート1800重
量部を反応容器中に加え、120℃で、15時間空気中
で攪拌反応させてエチレン性高分子結合材(酸価約17
0、(α−メチル)スチレン/アクリル酸の共重合体の
アクリル酸成分全体の5割に不飽和基が反応したもの。
以下「結合材−3」と略す。)溶液を得た。
名”SCXー690”Jhonson社製、酸価24
0、Mw=1万5千)855重量部を、製造例1で用い
たと同様の脂環式エポキシ含有不飽和化合物490重量
部、p−メトキシフェノール1.3重量部、テトラエチ
ルアンモニウムクロライド4.3重量部、及びプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート1800重
量部を反応容器中に加え、120℃で、15時間空気中
で攪拌反応させてエチレン性高分子結合材(酸価約17
0、(α−メチル)スチレン/アクリル酸の共重合体の
アクリル酸成分全体の5割に不飽和基が反応したもの。
以下「結合材−3」と略す。)溶液を得た。
【0092】製造例3:高分子結合材の合成(3) 羽付き撹拌棒、環流冷却、窒素管を備えた3Lの4つ口
フラスコにビニルメタアクリレート67g、メチルメタ
クリレート20g、メタアクリル酸17g、及び反応溶
剤としてエタノール1.6Lを入れ、90℃のオイルバ
スで加熱撹拌した。この溶液にアゾビスイソブチロニト
リル1.6gを400mLのエタノールに溶解して加え
た。
フラスコにビニルメタアクリレート67g、メチルメタ
クリレート20g、メタアクリル酸17g、及び反応溶
剤としてエタノール1.6Lを入れ、90℃のオイルバ
スで加熱撹拌した。この溶液にアゾビスイソブチロニト
リル1.6gを400mLのエタノールに溶解して加え
た。
【0093】3時間加熱撹拌した後窒素管をはずし、p
−メトキシフェノール0.04g、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート400mLを加え、バ
ス温を100℃に上昇させ、1時間加熱撹拌を続けた。
最後にエタノールを留去し、エチレン性高分子結合材
(Mw14万。以下「結合材−4」と略す。)の18重
量%溶液を得た。
−メトキシフェノール0.04g、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート400mLを加え、バ
ス温を100℃に上昇させ、1時間加熱撹拌を続けた。
最後にエタノールを留去し、エチレン性高分子結合材
(Mw14万。以下「結合材−4」と略す。)の18重
量%溶液を得た。
【0094】製造例4:現像液の調製(1) Na2CO30.03モル、NaHCO30.10モルを
それぞれ1Lの水に溶かし、花王社製界面活性剤ペレッ
クスNBLを80mL加えた液を現像液とした(pH=
9.3、導電率12mS/cm)。
それぞれ1Lの水に溶かし、花王社製界面活性剤ペレッ
クスNBLを80mL加えた液を現像液とした(pH=
9.3、導電率12mS/cm)。
【0095】製造例5:アルミニウム支持体の製造
(1) アルミニウム板を3%水酸化ナトリウムにて脱脂し、こ
れを11.5g/L塩酸浴中で25℃、80A/dm2
の電流密度で11秒電解エッチングし、水洗後30%硫
酸浴中で30℃、11.5A/dm2の条件で15秒間
陽極酸化した。その後、水洗、乾燥して平版印刷版用ア
ルミニウム板(以下「支持体−1」と略す。)を得た。
(1) アルミニウム板を3%水酸化ナトリウムにて脱脂し、こ
れを11.5g/L塩酸浴中で25℃、80A/dm2
の電流密度で11秒電解エッチングし、水洗後30%硫
酸浴中で30℃、11.5A/dm2の条件で15秒間
陽極酸化した。その後、水洗、乾燥して平版印刷版用ア
ルミニウム板(以下「支持体−1」と略す。)を得た。
【0096】製造例6:アルミニウム支持体の製造
(2) 支持体−1を更に1重量%オルト珪酸ナトリウム水溶液
を用い85℃で30秒間親水化処理し、水洗、乾燥して
平版印刷版用アルミニウム板(以下「支持体−2」と略
す。)を得た。
(2) 支持体−1を更に1重量%オルト珪酸ナトリウム水溶液
を用い85℃で30秒間親水化処理し、水洗、乾燥して
平版印刷版用アルミニウム板(以下「支持体−2」と略
す。)を得た。
【0097】実施例1〜7、比較例1〜5 表10,11に示す支持体上に、下記組成の光重合性組
成物塗布液−1をバーコーターを用いて乾燥膜厚2g/
m2 となるように塗布乾燥した。
成物塗布液−1をバーコーターを用いて乾燥膜厚2g/
m2 となるように塗布乾燥した。
【0098】その後、光重合性組成物にハードクロムメ
ッキ処理した10cm×10cm板をのせ、その上に2
kgの重りを置いて一晩放置した。これを各光重合性組
成物について10回行った。
ッキ処理した10cm×10cm板をのせ、その上に2
kgの重りを置いて一晩放置した。これを各光重合性組
成物について10回行った。
【0099】一晩放置後、光重合性組成物上に更にポリ
ビニルアルコール水溶液をバーコーターを用いて乾燥膜
厚3g/m2 となるように塗布乾燥した。得られた支持
体上の光重合性組成物において、以下の項目について評
価し、結果を表10,11に示した。
ビニルアルコール水溶液をバーコーターを用いて乾燥膜
厚3g/m2 となるように塗布乾燥した。得られた支持
体上の光重合性組成物において、以下の項目について評
価し、結果を表10,11に示した。
【0100】 [光重合性組成物塗布液−1 組成] 下記構造の化合物1〜4のうち表10,11に示すエチレン性単量体 合計 55 重量部 表10,11に示す高分子結合材 45 重量部 下記構造の増感剤のうち表10,11に示す増感剤 合計 2.0重量部 下記構造のチタノセン化合物 10 重量部 2−メルカプトベンゾチアゾール 5.0重量部 N,N−ジメチル安息香酸エチルエステル 10 重量部 銅フタルシアニン顔料 3.0重量部 シクロヘキサノン 1090 重量部
【0101】
【化15】
【0102】
【化16】
【0103】
【化17】
【0104】[評価項目] <増感剤結晶化発生レベル>支持体上の光重合性組成物
において、増感剤の結晶化による欠陥発生レベルについ
て評価した。即ち、上記説明通り光重合性組成物にハー
ドクロムメッキ処理した10cm×10cm板をのせ、
その上に2kgの重りを置いて一晩放置した。これを各
光重合性組成物について10回行った。10回とも全く
結晶化が発生しないレベルを○、10回の内、1〜3回
結晶化が見られるレベルを△、4〜10回結晶化が発生
するレベルを×とした。
において、増感剤の結晶化による欠陥発生レベルについ
て評価した。即ち、上記説明通り光重合性組成物にハー
ドクロムメッキ処理した10cm×10cm板をのせ、
その上に2kgの重りを置いて一晩放置した。これを各
光重合性組成物について10回行った。10回とも全く
結晶化が発生しないレベルを○、10回の内、1〜3回
結晶化が見られるレベルを△、4〜10回結晶化が発生
するレベルを×とした。
【0105】<感 度>支持体上に塗布・乾燥した光重
合性組成物において、回析分光照射装置(ナルミ社製
「RM−23」)を用いて露光現像した後、得られた硬
化画像の高さより、532nmの光線による光硬化に要
する光エネルギー量を求めた。また、増感剤の結晶化が
発生した版については結晶化発生部分の感度について同
様の手順で光硬化に要する光エネルギー量を求めた。
合性組成物において、回析分光照射装置(ナルミ社製
「RM−23」)を用いて露光現像した後、得られた硬
化画像の高さより、532nmの光線による光硬化に要
する光エネルギー量を求めた。また、増感剤の結晶化が
発生した版については結晶化発生部分の感度について同
様の手順で光硬化に要する光エネルギー量を求めた。
【0106】
【表10】
【0107】
【表11】
【0108】表10,11より、本発明の光重合性組成
物は優れた感度と安定性を有することがわかる。
物は優れた感度と安定性を有することがわかる。
【0109】なお、実施例1及び2の光重合性組成物
に、更に、旭硝子(株)製フッ素系界面活性剤「S−3
81」(商品名)を0.3重量部添加したこと以外は同
様に行ったところ、欠陥発生レベル及び感度を維持した
まま塗布性が大幅に向上し、きれいな塗布面が得られ
た。
に、更に、旭硝子(株)製フッ素系界面活性剤「S−3
81」(商品名)を0.3重量部添加したこと以外は同
様に行ったところ、欠陥発生レベル及び感度を維持した
まま塗布性が大幅に向上し、きれいな塗布面が得られ
た。
【0110】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、優
れた感度と生産安定性、経時保存安定性を併せ持つ光重
合性組成物と、このような光重合性組成物を用いた感光
性平版印刷版が提供される。
れた感度と生産安定性、経時保存安定性を併せ持つ光重
合性組成物と、このような光重合性組成物を用いた感光
性平版印刷版が提供される。
Claims (8)
- 【請求項1】 付加重合可能なエチレン性不飽和二重結
合含有単量体と、光重合開始剤と、分子内にカルボキシ
ル基を持つ高分子結合材とを含有してなる光重合性組成
物において、該光重合開始剤が、下記一般式(I)で表
される化合物の2種以上を含有することを特徴とする光
重合性組成物。 【化1】 ((I)式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、ぞ
れぞれ独立して、水素原子、置換又は非置換のアルキル
基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、置換又は非置換の炭化水素環基、置換又は非置換の
複素環基、或いは、−SO3−R8(R8は水素原子、置
換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルカリ金属原子、又は4級アンモニウム基を表
す。)を表し、R7は、水素原子、置換又は非置換のア
ルキル基、シアノ基、又はアリール基を表す。) - 【請求項2】 一般式(I)で表される化合物の少なく
とも一つが、R1〜R7の少なくとも一つにα−位又はβ
−位で分岐したアルキル基を有することを特徴とする請
求項1に記載の光重合性組成物。 - 【請求項3】一般式(I)で表される化合物の少なくと
も一つが、R2又はR5にα−位又はβ−位で分岐したア
ルキル基を有することを特徴とする請求項1又は2に記
載の光重合性組成物。 - 【請求項4】 一般式(I)で表される化合物の少なく
とも一つが、R1〜R7の少なくとも一つに下記一般式
(II)で示される分岐アルキル基を有することを特徴と
する請求項2又は3に記載の光重合性組成物。 【化2】 ((II)式中、R9及びR10は炭素数1〜10のアルキ
ル基を表し、R11は水素原子又は炭素数1〜10のアル
キル基を表し、qは0又は1を表す。) - 【請求項5】 一般式(I)におけるR1〜R7のうち一
般式(II)で示される分岐アルキル基以外の基がそれぞ
れ独立して水素原子又は炭素数1〜9のアルキル基であ
ることを特徴とする請求項4に記載の光重合性組成物。 - 【請求項6】 一般式(II)におけるR9〜R11がそれ
ぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜7のアルキル基で
あることを特徴とする請求項4又は5に記載の光重合性
組成物。 - 【請求項7】 光重合開始剤が、チタノセン化合物を含
有することを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1
項に記載の光重合性組成物。 - 【請求項8】 アルミニウム支持体上に請求項1ないし
7のいずれか1項に記載の光重合性組成物を含む感光層
を有することを特徴とする感光性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14424298A JPH11271969A (ja) | 1998-01-21 | 1998-05-26 | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP963598 | 1998-01-21 | ||
| JP10-9635 | 1998-01-21 | ||
| JP14424298A JPH11271969A (ja) | 1998-01-21 | 1998-05-26 | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271969A true JPH11271969A (ja) | 1999-10-08 |
Family
ID=26344396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14424298A Pending JPH11271969A (ja) | 1998-01-21 | 1998-05-26 | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11271969A (ja) |
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-
1998
- 1998-05-26 JP JP14424298A patent/JPH11271969A/ja active Pending
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