JPH11277448A

JPH11277448A - 研磨体

Info

Publication number: JPH11277448A
Application number: JP10076989A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Ryomo; 克己両毛
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-03-25
Filing date: 1998-03-25
Publication date: 1999-10-12

Abstract

(57)【要約】【課題】研磨体における研磨特性を改善して被研磨体
の研磨における研磨力と表面性の両立を図る。【解決手段】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けるについて、前記研磨層表面
が研磨層塗布液を塗布した際のベナール対流によるオレ
ンジピール状の微小凹部を有し、かつ該表面にカレンダ
ー処理を施した研磨層を有してなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨剤をバインダ
ーに分散してなる研磨層を可撓性支持体上に設けてな
り、光コネクターフェルール端面、ハードディスク基
板、シリコンウエハー、磁気ディスク、磁気テープ、磁
気ヘッド（オーディオ、ビデオ、コンピューター、デー
タ記録用）、ＭＲ磁気ヘッドの研磨等の用途に用いられ
る研磨体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】被研磨体としての光コネクターフェルー
ル端面等は、研磨体、研磨スラリーを用いて研磨されて
いるが、異種材質を研磨するため端面における研磨量な
どにおいて必ずしも十分な結果が得られていない。

【０００３】従来より、研磨テープ等の研磨体の研磨層
表面に微細な凹部を形成して、研磨において発生する磨
耗粉を上記凹部内に捕集するようにした技術が、例え
ば、特公平７−４１５３０号、特表平７−５０２６９７
号、特開平４−３１８３２４号、特開平３−１７８７７
６号、特許第２５７１７５０号公報に開示されている。

【０００４】また、研磨層表面の平滑性を高めるため
に、カレンダー処理を施す技術が、例えば、特開平６−
７７３号、特開昭５５−１１７７３０号、特開昭６１−
２２７２１６号公報に開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかして、前述のよう
な被研磨体の光コネクタフェルール等は、特に被研磨面
の表面性（平滑性）が要求されるものであり、微細な凹
部が形成された研磨層表面そのままでは被研磨面に傷
（スクラッチ）が発生して良好な表面性を得ることがで
きない問題を有する。一方、表面に微細な凹部を有さな
い平坦な研磨層表面では、研磨力が低く研磨処理に多大
な時間を要し効率が低くなる。

【０００６】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、可撓性支持体上に研磨剤微粉末とバインダ
ーからなる研磨層を設けてなる研磨テープ、研磨シート
等の研磨体における研磨特性を改善して被研磨面に傷が
発生しにくく且つ高い研磨力で平滑に研磨できるように
した研磨体を提供せんとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けてなり、前記研磨層表面が研
磨層塗布液を塗布した際のベナール対流によるオレンジ
ピール状の微小凹部を有し、かつ該表面にカレンダー処
理を施した研磨層を有することを特徴とするものであ
る。

【０００８】また、前記カレンダ−処理はカレンダーロ
ールの少なくとも一つが金属ロールであることが好適で
ある。さらに、前記カレンダーロールの温度が３０〜１
００℃であることが望ましい。

【０００９】一方、前記研磨剤微粉末が、酸化クロム、
アルミナ、炭化珪素、ダイヤモンドの少なくとも一つを
含むものが好適である。

【００１０】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、研磨層表
面が研磨層塗布液を塗布した際のベナール対流によるオ
レンジピール状の微小凹部を有しかつ表面にカレンダー
処理を施した研磨層を有することにより、異種材料から
なる光コネクターフェルール端面等を高い研磨力で研磨
後において傷のない平滑面に研磨することができ、高い
研磨力を維持しながら被研磨物の表面性を向上できると
いう相反した要求を満足させることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。

【００１２】本発明の研磨体は、ポリエステルフィルム
等による可撓性支持体上に、酸化クロム、アルミナ、炭
化珪素、ダイヤモンドの少なくとも一種による研磨剤微
粉末を、バインダーに分散した研磨層を設けてなり、こ
の研磨層表面には研磨層塗布液を塗布した際の塗布液の
温度差等に基づくベナール対流によって形成されたオレ
ンジピール状の微小凹部を有し、さらに、この研磨層表
面にカレンダー処理を施してなる研磨層を有するもので
ある。

【００１３】前記研磨層表面のオレンジピール状の微小
凹部の形成におけるベナール対流は、水平な液層に上下
に温度勾配を与えるとき、温度勾配がある臨界値を超え
ると、液層は４〜６角形の細胞状の渦領域（ベナールセ
ル）に分かれて、中心部では上向き、周辺部では下向き
の流れが生じるものであり、前記可撓性支持体上に所定
の研磨層塗布液を塗布した状態で乾燥する際に上記ベナ
ール対流を発生させる。そして、乾燥後の研磨層表面に
は各ベナールセルの周辺境界部分が刻み目状の凹部とな
り、中心部にも点状の凹部が形成され、全体として表面
がオレンジピール状の微小凹部を形成してなるもので、
その微小凹部の形態（セルの大きさ、深さ、幅等）につ
いては研磨層塗布液組成、乾燥条件等によって変化す
る。上記ベナール対流に関しては、Ｔ．Ｃ．パットン
著、共立出版発行の「塗料の流動と顔料分散」第346〜3
57頁の記載、また、具体的な事項については特許第２５
７１７５０号公報等に記載されたの公知の内容が参照で
きる。

【００１４】上記のようにオレンジピール状の微小凹部
が形成された研磨層表面の平坦部分の表面粗さを調整し
て平滑性を高めるためにカレンダー処理を行う。このカ
レンダー処理におけるカレンダーロールの少なくとも一
つが金属ロールで、この金属ロールが研磨層表面に接触
した状態で加圧するのが好ましい。また、カレンダーロ
ールには、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイ
ミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用
することができ、金属ロール同士で処理することもでき
る。処理温度は好ましくは３０〜１００℃、線圧力は好
ましくは５〜１００kg／cm、速度は５０〜４００ｍ／分
である。

【００１５】本発明の研磨層で用いられる研磨剤は、一
般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、α−ア
ルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミ
ナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザ
クロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガ
ーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデ
ン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、
トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト、シリカ、ジルコニ
ア、酸化チタン、ベンガラ等で、主としてモース硬度６
以上の材料が１内至４種迄の組み合わせで使用できる。
これらの研磨剤は平均粒子サイズが０．３〜１０μｍの
大きさのものが使用される。これらの研磨剤は、研磨層
の場合研磨剤１００重量部に対してバインダー１０〜１
０００重量部の範囲で用いられる。

【００１６】研磨剤の具体例としては、住友化学社製の
ＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫ
Ｐ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００などが
挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２
号、特公昭４９−３９４０２号、特開昭６３−９８８２
８号、米国特許３６８７７２５号、米国特許３００７８
０７号、米国特許３０４１１９６号、米国特許３２９３
０６６号、米国特許３６３０９１０号、米国特許３８３
３４１２号、米国特許４１１７１９０号、英国特許１１
４５３４９号、西独特許８５３２１１号等に記載されて
いる。

【００１７】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光
線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。

【００１８】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が２００
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２０
０〜８００程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。

【００１９】これらの樹脂の例示は、特公昭３７−６８
７７号、特公昭３９−１２５２８号、特公昭３９−１９
２８２号、特公昭４０−５３４９号、特公昭４０−２０
９０７号、特公昭４１−９４６３号、特公昭４１−１４
０５９号、特公昭４１−１６９８５号、特公昭４２−６
４２８号、特公昭４２−１１６２１号、特公昭４３−４
６２３号、特公昭４３−１５２０６号、特公昭４４−２
８８９号、特公昭４４−１７９４７号、特公昭４４−１
８２３２号、特公昭４５−１４０２０号、特公昭４５−
１４５００号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭４７
−２２０６３号、特公昭４７−２２０６４号、特公昭４
７−２２０６８号、特公昭４７−２２０６９号、特公昭
４７−２２０７０号、特公昭４７−２７８８６号、特開
昭５７−１３３５２１、特開昭５８−１３７１３３、特
開昭５８−１６６５３３、特開昭５８−２２２４３３、
特開昭５９−５８６４２等、米国特許４５７１３６４
号、米国特許４７５２５３０号の公報等に記載されてい
る。

【００２０】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬
化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

【００２１】これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０
３号、特公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２
号、特公昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５
号、特公昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８
１号、特公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５
０１号、特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３
１０３号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２
２０６６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−
２２０７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７
−２８０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４
７−２８９２２号等の公報に記載されている。

【００２２】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ(ＯＭ)(ＯＭ)）、ホスホ
ン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等
の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが好ましい。

【００２３】本発明の研磨層に用いるポリイソシアネー
トとしては、トリレンジイソシアネート、４・４’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレ
ン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、イソシアネート類の縮合によ
って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、ポリ
イソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基
がイソシアネートであるもの等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は１００
〜２００００のものが好適である。

【００２４】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（以上日本ポリウレタン社
製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０
Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タ
ケネート３００Ｓ、タケネート５００（以上武田薬品社
製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、ス
ミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デス
モジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲ
Ｆ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３
（以上住友バイエル社製）等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。

【００２５】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１００
０〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例
示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１
３８号等の公報において示されている。

【００２６】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤
等が加えられる。

【００２７】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼
素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪
素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、
ポリオレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉
末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉
末、ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。

【００２８】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・
硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０
の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしく
は２つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数１０個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が１１〜７０個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。

【００２９】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。

【００３０】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー１００重量部に対して
０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭４３−２３８８９号、特公昭４８−２４
０４１号、特公昭４８−１８４８２号、特公昭４４−１
８２２１、特公昭４７−２８０４３号、特公昭５７−５
６１３２、特開昭５９−８１３６号、特開昭５９−８１
３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４２３
２３３号、米国特許３４７００２１号、米国特許３４９
２２３５号、米国特許３４９７４１１号、米国特許３５
２３０８６号、米国特許３６２５７６０号、米国特許３
６３０７７２号、米国特許３６３４２５３号、米国特許
３６４２５３９号、米国特許３６８７７２５号、米国特
許４１３５０３１号、米国特許４４９７８６４号、米国
特許４５５２７９４号、アイビーエムテクニカルディ
スクロジャーブリテン（ＩＢＭＴｅｃｈｎｉｃａｌ
ＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＢｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏｌ．
９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレクト
ロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１２，
ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６７，１９
８０年丸善株発行等に記載されている。

【００３１】本発明に使用する研磨剤の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３９
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ₄ ⁺等）又
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐ
ｂ等からなる金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミ
ド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この
他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー１００重量部に対し
て０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨剤や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、
特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１
号、特公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１
号、特公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６
３号、特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９
９３号、同３４７００２１号等において示されている。

【００３２】本発明に用いる防黴剤としては、２−（４
−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロ
ジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−
オキシビスフェノキサルシン、２・４・５・６テトラク
ロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等におい
て示されている。

【００３３】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は５〜５００
ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ² であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１
０００，９００，８００，７００、三菱化成工業社製：
６５０Ｂ，９５０Ｂ，３２５０Ｂ，８５０，９００，９
６０，９８０，１０００，２３００，２４００，２６０
０等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。

【００３４】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。

【００３５】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭６０−２８０２５号、米
国特許２２７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２
８８２２６号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４
号、同２６７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７
２７８６０号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９
号、同２７３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１
５８４８４号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１
号、同３２９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４
４１４１３号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４
号、同３５４５９７４号、西独特許公開（ＯＬＳ）１９
４２６６５号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８
４５０号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』（槇書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ
著『サーフエスアクテイブエージエンツ』（インタ
ーサイエンスパブリケーションコーポレイテッド１
９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペデ
ィアオブサーフエスアクティブエージェンツ，第
２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社，
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等に記載されている。

【００３６】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨剤１００重量部当たり０．０１〜１０重
量部である。またバック層での使用量はバインダー１０
０重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。

【００３７】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量
で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等）を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
（水、アルコール、アセトン等）を使用することもでき
る。

【００３８】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗
布・乾燥する。この支持体は可撓性を有し、厚みが５０
〜３００μｍ程度（ディスクもしくはカード状の場合は
厚みが０．０３〜１０ｍｍ程度）である。素材としては
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
イン類、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビ
ニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニ
ウム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス、紙等も使
用できる。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放
電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処
理、金属蒸着処理、アルカリ処理を行ってもよい。これ
ら支持体に関しては、例えば、西独特許３３３８８５４
Ａ、特開昭５９−１１６９２６号、特開昭６１−１２９
７３１号、米国特許４３８８３６８号；三石幸夫著、
『繊維と工業』３１巻，ｐ５０〜５５，１９７５年など
に記載されている。これら支持体の中心線平均表面粗さ
Raは０．００１〜５．０μｍが好ましい。またこれら支
持体のヤング率（Ｆ５値）は目的に応じて、幅方向、長
手方向とも２〜３０Ｋｇ／ｍｍ²（１Ｋｇ／ｍ² ＝９．
８Ｐａ）を選択することができる。

【００３９】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）など
は適宜設定することができる。研磨塗料の調製には通常
の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、
ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライン
ダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトライター、
高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、高速度衝
撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボン
ブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タン
ブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイザ
ー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し出
し機、及び超音波分散機などを用いることができる。通
常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、連
続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、
Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パットン）“Ｐ
ａｉｎｔＦｌｏｗａｎｄＰｉｇｍｅｎｔＤｉｓ
ｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイントフローアンドピグメン
トディスパージョン）１９６４年ＪｏｈｎＷｉｌｅ
ｙ＆Ｓｏｎｓ社発行（ジョンウイリーアンド
サンズ））や田中信一著『工業材料』２５巻３７（１９
７７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。こ
れら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく
進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの
径のスチールボール、スチールビーズ、セラミツクビー
ズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることが
できる。またこれら材料は球形に限らない。また、米国
特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５６号など
の明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍
や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混
練分散を行い研磨層塗布液を調製することができる。

【００４０】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチ
ストークス（２５℃）に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』２５３頁〜２
７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７
−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公
報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１
６５２３９号公報の明細書等に示されている。

【００４１】このような方法により、支持体上に約１〜
２００μｍほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
２０〜１３０℃で多段階で乾燥処理を施し、表面に前述
のオレンジピール状の微小凹部を形成しつつ、研磨層を
０．０５〜１０μｍの厚みに乾燥する。そして、所望の
形状に裁断したりして、本発明の研磨体を製造する。こ
れらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分
散、塗布・乾燥、平滑処理、熱処理、ＥＢ処理、表面研
磨処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望
ましい。

【００４２】研磨層を表面のカレンダー処理は、前述の
ように研磨層表面をカレンダーロール間を通して加圧平
滑化するもので、金属ロールとナイロンロール、エポキ
シロール等の樹脂ロールが使用できる。処理温度（ロー
ル温度）と荷重条件により平滑度が変化する。多段で行
うと処理が早く完了する。これらは例えば、特公昭４０
−２３６２５号、特公昭３９−２８３６８号、特公昭４
７−３８８０２号、英国特許１１９１４２４号、特公昭
４８−１１３３６号、特開昭４９−５３６３１号、特開
昭５０−１１２００５号、特開昭５１−７７３０３号、
特公昭５２−１７４０４号、特開昭６０−７０５３２
号、特開平２−２６５６７２号、特開平６−７７３号、
特開昭５５−１１７７３０号、特開昭６１−２２７２１
６号、米国特許第３４７３９６０号、米国特許第４７２
８５６９号、米国特許４７４６５４２号等に示されてい
る。

【００４３】研磨体が研磨テープの場合には、作製した
研磨テープを裁断したあと所望のプラスチックや金属の
リールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工
程において研磨テープその他の研磨体をバーニッシュ及
び／又はクリーニングすることが望ましい。バーニッシ
ュは研磨体の表面粗度と研磨力を制御するために具体的
にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド
刃、セラミックス刃のような硬い材料により研磨面の突
起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にする。これら
材料のモース硬度は８以上が好ましいが特に制限はなく
突起を除去できるものであれば良い。これら材料の形状
は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール（回
転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても良
い）のような形状でも使用できる。また研磨体のクリー
ニングは、研磨体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する
目的で研磨体表層を不織布などでワイピングすることに
より行う。このようなワイピングの材料としては、例え
ば日本バイリーン社製の各種バイリーンや東レ社製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィ
ルム社製の各種研磨体、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９
３０９号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９
０４２９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−
２５９８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載
されている。

【００４４】本発明に使用される研磨剤、バインダー、
添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい）或いはその製法に関しては、特公昭
５６−２６８９０号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。

【００４５】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。

【００４６】＜実施例１〜５＞下記組成Ａを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートによる
支持体上に塗布し、乾燥させて研磨層を設ける。乾燥工
程においてその乾燥温度に基づく塗布液のベナール対流
により表面にオレンジピール状の微小凹部を形成した
後、所定のロール温度でカレンダー処理を施し、所望の
大きさに切り出して研磨体の試料を作製した。

【００４７】各実施例１〜４は、下記表１に示すよう
に、乾燥温度が１００℃で、カレンダーロール温度を３
０℃〜８０℃に変化させたものであり、実施例５は乾燥
温度が８０℃で、カレンダーロール温度が８０℃であ
る。

【００４８】上記実施例の研磨体によって、研磨試験を
行って、スチール球の相対磨耗量と、光ファイバー研磨
後における光損失の測定を行った結果を下記表１に示
す。

【００４９】相対磨耗量は、５mmφのスチール球を荷重
５００mgで磨耗試験を行ったときの、スチール球の磨耗
量を実施例１の測定値を１００としてそれぞれの磨耗量
を相対値で示している。また、光損失は、光ファイバー
の先端を前記研磨体でスラリーと共に研磨し、研磨後の
光ファイバーの光路における光伝達損失を測定したもの
で、被研磨表面の平滑性を評価でき、ｄＢ値（出力値）
が大きいほど伝達ロスが少なく、良好な平滑性を有する
ものである。

【００５０】＜比較例１〜４＞表１には、比較例１〜４
の研磨体による同様の研磨テストを行った結果を併記し
ている。比較例１及び２は、オレンジピール状の微小凹
部及びカレンダー処理がない例であり、比較例３はオレ
ンジピール状の微小凹部はあるが、カレンダー処理を施
していない例であり、比較例４は逆にオレンジピール状
の微小凹部がなく、カレンダー処理（ロール温度８０
℃）がある例である。

【００５１】表１の結果から、本発明実施例１〜５によ
る研磨体では、相対磨耗量すなわち研磨量は略同等で大
きく、良好な研磨力が得られると共に、光損失は出力が
大きく損失が少ない平滑面に研磨されており、良好な結
果が得られている。これに対し、比較例１及び２ではオ
レンジピール状の微小凹部が形成されていないことで、
研磨層表面が平滑で、被研磨面の表面性は良好である
が、相対磨耗量が小さい値となり研磨力が不足してい
る。比較例３はカレンダー処理を行っていないオレンジ
ピール状微小凹部を有することで相対磨耗量が非常に大
きいが、光伝達出力が小さく光損失が大きくなって被研
磨面の表面性が劣っている。比較例４はカレンダー処理
のみでオレンジピール状微小凹部がないことで、被研磨
面の表面性は良好であるが、相対磨耗量が極端に低い値
となって研磨力が不足している。

【００５２】［研磨層用塗布液組成：Ａ］研磨剤（材質：ダイヤモンド＃２０００）１００部バインダー（塩化ビニル樹脂、ＳＯ₃Ｈ含有２×10^-4eq/g）６部バインダー（ポリエステルポリウレタン）１５部硬化剤（イソシアネート：トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの反応物）６部溶剤（メチルエチルケトン）１５０部

【００５３】

【表１】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けた研磨体において、前記研磨層表面が研磨層塗布液を塗布した際のベナール
対流によるオレンジピール状の微小凹部を有し、かつ該
表面にカレンダー処理を施した研磨層を有することを特
徴とする研磨体。
【請求項２】前記カレンダ−処理はカレンダーロール
の少なくとも一つが金属ロールであることを特徴とする
請求項１に記載の研磨体。
【請求項３】前記カレンダーロールの温度が３０〜１
００℃であることを特徴とする請求項２に記載の研磨
体。
【請求項４】前記研磨剤が、酸化クロム、アルミナ、
炭化珪素、ダイヤモンドの少なくとも一つを含むことを
特徴とする請求項１に記載の研磨体。