JPH11277449A

JPH11277449A - 研磨体

Info

Publication number: JPH11277449A
Application number: JP10076990A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Ryomo; 克己両毛
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-03-25
Filing date: 1998-03-25
Publication date: 1999-10-12

Abstract

(57)【要約】【課題】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨層を
紙による可撓性支持体上に設けコストダウンを図るにつ
いて、研磨特性を確保しつつ再生利用可能とする。【解決手段】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けるについて、前記可撓性支持
体を再生可能なセルロースからなる塗工紙で構成してな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨剤をバインダ
ーに分散してなる研磨層を可撓性支持体上に設けてな
り、セルロースからなる紙を支持体に用いた磁気ヘッド
等の研磨などの用途に用いられる研磨体に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来より、研磨テープ等の研磨体におけ
る研磨層を設ける支持体としては、高分子樹脂（ポリエ
チレンテレフタレート、アラミド、ポリエチレンナフタ
レート等）や樹脂を含浸させた布紙が用いられてきた。
基材として用いる布紙のうち、紙としてはクラフト紙や
耐水処理したクラフト紙が用いられ、布としては綿や麻
等の天然繊維、化学繊維、これらの混紡、混織りが使用
される。

【０００３】また、実用新案登録第２５５８８０２号公
報には、植物繊維を主体とした紙による研磨層のない磁
気ヘッド用クリーニング体が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかして、前述のよう
な紙のみによる研磨体又はクラフト紙、布を支持体とし
た研磨体では十分な成形性及び研磨力を確保するのが困
難である。また、従来の高分子樹脂支持体では高価であ
ると共に再生が不能である。

【０００５】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、可撓性支持体上に研磨剤微粉末とバインダ
ーからなる研磨層を設けてなる研磨テープ、研磨シート
等の研磨体において、研磨体として要求される特性を満
足すると共に再生可能としコストの低減も図るようにし
た支持体を有する研磨体を提供せんとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けてなり、前記支持体を再生可
能なセルロースからなる塗工紙としたことを特徴とする
ものである。

【０００７】前記塗工紙は、白土、酸化チタン、炭酸カ
ルシウム等の白色顔料を塗った塗工紙であることが望ま
しい。また、前記研磨層の塗布厚みが、前記可撓性支持
体の厚みの１／２以下であることが好ましい。さらに、
前記研磨層と前記可撓性支持体との間に、防水層を設け
たものが好適である。

【０００８】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、支持体を
再生可能なセルロースからなる塗工紙としたことによ
り、研磨体として要求される成形性及び研磨力を確保し
ながら、パルプとして再生も可能で、大幅なコストダウ
ンを図ることができる。

【０００９】また、塗工紙による支持体の表面に白土、
酸化チタン、炭酸カルシウム等の白色顔料を塗ったもの
では、研磨層塗布液等の塗設時における支持体内部への
浸透を阻止して所定の研磨層を形成できる。一方、研磨
層と支持体との間に防水層を設けたものでは、研磨体の
作製時または使用時における水等によって支持体の強度
が急激に低下することが防止できる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。

【００１１】本発明の研磨体は、表面に白土、酸化チタ
ン、炭酸カルシウム等の白色顔料を塗った塗工紙による
可撓性支持体上に、アルミナ等による研磨剤微粉末をバ
インダーに分散した研磨層を、支持体の厚みの１／２以
下の厚みで設けてなり、必要に応じて研磨層と支持体と
の間に防水層を設けるものである。

【００１２】前記塗工紙としては、植物体から得られる
セルロースを主体とした再生可能な機械パルプにより製
紙され、通常印刷用紙として汎用されているアート紙、
コート紙等が使用できる。この塗工紙による支持体の厚
みは、５０〜５００μｍ、特に５０〜１５０μｍ程度が
好適である。

【００１３】本発明の研磨層で用いられる研磨剤は、モ
ース硬度６〜９でかつ粉体総量の６０％以上を含み、一
般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、α−ア
ルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミ
ナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造ダイヤモ
ンド、ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー
（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、窒化珪素、窒化硼
素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チ
タンカーバイド、シリカ、ジルコニア、酸化チタン、酸
化セリウム、ベンガラ、ガーネット等で、主としてモー
ス硬度６以上の材料が１内至４種迄の組み合わせで使用
できる。これらの研磨剤は平均粒子サイズが０．３〜１
０μｍの大きさのものが使用される。これらの研磨剤
は、研磨層の場合研磨剤１００重量部に対してバインダ
ー１０〜１０００重量部の範囲で用いられる。

【００１４】研磨剤の具体例としては、住友化学社製の
ＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫ
Ｐ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００などが
挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２
号、特公昭４９−３９４０２号、特開昭６３−９８８２
８号、米国特許３６８７７２５号、米国特許３００７８
０７号、米国特許３０４１１９６号、米国特許３２９３
０６６号、米国特許３６３０９１０号、米国特許３８３
３４１２号、米国特許４１１７１９０号、英国特許１１
４５３４９号、西独特許８５３２１１号等に記載されて
いる。

【００１５】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光
線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。

【００１６】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が２００
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２０
０〜８００程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。

【００１７】これらの樹脂の例示は、特公昭３７−６８
７７号、特公昭３９−１２５２８号、特公昭３９−１９
２８２号、特公昭４０−５３４９号、特公昭４０−２０
９０７号、特公昭４１−９４６３号、特公昭４１−１４
０５９号、特公昭４１−１６９８５号、特公昭４２−６
４２８号、特公昭４２−１１６２１号、特公昭４３−４
６２３号、特公昭４３−１５２０６号、特公昭４４−２
８８９号、特公昭４４−１７９４７号、特公昭４４−１
８２３２号、特公昭４５−１４０２０号、特公昭４５−
１４５００号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭４７
−２２０６３号、特公昭４７−２２０６４号、特公昭４
７−２２０６８号、特公昭４７−２２０６９号、特公昭
４７−２２０７０号、特公昭４７−２７８８６号、特開
昭５７−１３３５２１、特開昭５８−１３７１３３、特
開昭５８−１６６５３３、特開昭５８−２２２４３３、
特開昭５９−５８６４２等、米国特許４５７１３６４
号、米国特許４７５２５３０号の公報等に記載されてい
る。

【００１８】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬
化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

【００１９】これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０
３号、特公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２
号、特公昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５
号、特公昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８
１号、特公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５
０１号、特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３
１０３号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２
２０６６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−
２２０７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７
−２８０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４
７−２８９２２号等の公報に記載されている。

【００２０】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ(ＯＭ)(ＯＭ)）、ホスホ
ン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等
の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが好ましい。

【００２１】本発明の研磨層に用いるポリイソシアネー
トとしては、トリレンジイソシアネート、４・４’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレ
ン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、イソシアネート類の縮合によ
って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、ポリ
イソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基
がイソシアネートであるもの等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は１００
〜２００００のものが好適である。

【００２２】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（以上日本ポリウレタン社
製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０
Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タ
ケネート３００Ｓ、タケネート５００（以上武田薬品社
製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、ス
ミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デス
モジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲ
Ｆ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３
（以上住友バイエル社製）等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。

【００２３】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１００
０〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例
示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１
３８号等の公報において示されている。

【００２４】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤
等が加えられる。

【００２５】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼
素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪
素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、
ポリオレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉
末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉
末、ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。

【００２６】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・
硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０
の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしく
は２つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数１０個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が１１〜７０個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。

【００２７】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。

【００２８】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー１００重量部に対して
０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭４３−２３８８９号、特公昭４８−２４
０４１号、特公昭４８−１８４８２号、特公昭４４−１
８２２１、特公昭４７−２８０４３号、特公昭５７−５
６１３２、特開昭５９−８１３６号、特開昭５９−８１
３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４２３
２３３号、米国特許３４７００２１号、米国特許３４９
２２３５号、米国特許３４９７４１１号、米国特許３５
２３０８６号、米国特許３６２５７６０号、米国特許３
６３０７７２号、米国特許３６３４２５３号、米国特許
３６４２５３９号、米国特許３６８７７２５号、米国特
許４１３５０３１号、米国特許４４９７８６４号、米国
特許４５５２７９４号、アイビーエムテクニカルディ
スクロジャーブリテン（ＩＢＭＴｅｃｈｎｉｃａｌ
ＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＢｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏｌ．
９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレクト
ロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１２，
ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６７，１９
８０年丸善株発行等に記載されている。

【００２９】本発明に使用する研磨剤の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３９
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ₄ ⁺等）又
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐ
ｂ等からなる金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミ
ド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この
他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー１００重量部に対し
て０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨剤や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、
特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１
号、特公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１
号、特公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６
３号、特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９
９３号、同３４７００２１号等において示されている。

【００３０】本発明に用いる防黴剤としては、２−（４
−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロ
ジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−
オキシビスフェノキサルシン、２・４・５・６テトラク
ロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等におい
て示されている。

【００３１】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は５〜５００
ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ² であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１
０００，９００，８００，７００、三菱化成工業社製：
６５０Ｂ，９５０Ｂ，３２５０Ｂ，８５０，９００，９
６０，９８０，１０００，２３００，２４００，２６０
０等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。

【００３２】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。

【００３３】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭６０−２８０２５号、米
国特許２２７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２
８８２２６号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４
号、同２６７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７
２７８６０号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９
号、同２７３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１
５８４８４号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１
号、同３２９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４
４１４１３号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４
号、同３５４５９７４号、西独特許公開（ＯＬＳ）１９
４２６６５号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８
４５０号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』（槇書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ
著『サーフエスアクテイブエージエンツ』（インタ
ーサイエンスパブリケーションコーポレイテッド１
９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペデ
ィアオブサーフエスアクティブエージェンツ，第
２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社，
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等に記載されている。

【００３４】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨剤１００重量部当たり０．０１〜１０重
量部である。またバック層での使用量はバインダー１０
０重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。

【００３５】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量
で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等）を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
（水、アルコール、アセトン等）を使用することもでき
る。

【００３６】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・
乾燥する。塗布溶液の分散、混練の方法には特に制限は
なく、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶
媒等）、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０
℃）などは適宜設定することができる。研磨塗料の調製
には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロー
ルミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンド
グラインダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトラ
イター、高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、
高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサ
ー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキ
サー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモ
ジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュ
ー押し出し機、及び超音波分散機などを用いることがで
きる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数
備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳
細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パット
ン）“ＰａｉｎｔＦｌｏｗａｎｄＰｉｇｍｅｎｔ
Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイントフローアンド
ピグメントディスパージョン）１９６４年Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社発行（ジョンウイリー
アンドサンズ））や田中信一著『工業材料』２５巻３
７（１９７７）などや当該書籍の引用文献に記載されて
いる。これら分散、混練の補助材料として分散・混練を
効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５
ｍｍφの径のスチールボール、スチールビーズ、セラミ
ツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用い
ることができる。またこれら材料は球形に限らない。ま
た、米国特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５
６号などの明細書にも記載がある。本発明においても上
記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に
準じて混練分散を行い研磨層塗布液を調製することがで
きる。

【００３７】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチ
ストークス（２５℃）に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』２５３頁〜２
７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７
−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公
報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１
６５２３９号公報の明細書等に示されている。

【００３８】このような方法により、支持体上に約１〜
２００μｍほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
２５〜１３０℃で多段階で乾燥処理を施し、研磨層を
０．０５〜１０μｍの厚みに乾燥する。そして、所望の
形状に裁断したりして、本発明の研磨体を製造する。こ
れらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分
散、塗布・乾燥、平滑処理、熱処理、ＥＢ処理、表面研
磨処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望
ましい。

【００３９】研磨体が研磨テープの場合には、作製した
研磨テープを裁断したあと所望のプラスチックや金属の
リールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工
程において研磨テープその他の研磨体をバーニッシュ及
び／又はクリーニングすることが望ましい。バーニッシ
ュは研磨体の表面粗度と研磨力を制御するために具体的
にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド
刃、セラミックス刃のような硬い材料により研磨面の突
起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にする。これら
材料のモース硬度は８以上が好ましいが特に制限はなく
突起を除去できるものであれば良い。これら材料の形状
は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール（回
転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても良
い）のような形状でも使用できる。また研磨体のクリー
ニングは、研磨体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する
目的で研磨体表層を不織布などでワイピングすることに
より行う。このようなワイピングの材料としては、例え
ば日本バイリーン社製の各種バイリーンや東レ社製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィ
ルム社製の各種研磨体、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９
３０９号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９
０４２９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−
２５９８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載
されている。

【００４０】本発明に使用される研磨剤、バインダー、
添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい）或いはその製法に関しては、特公昭
５６−２６８９０号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。

【００４１】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。

【００４２】＜実施例１〜３＞下記組成Ａを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、厚さ５０〜１５０μｍの塗工紙（コート紙）による
支持体上に塗布し、乾燥させて研磨層を設ける。紫外線
を照射して研磨層バインダーを硬化させた後、所望の大
きさに切り出して研磨体の試料を作製した。

【００４３】各実施例１〜３は、下記表１に示すよう
に、塗工紙（コート紙）の厚みが５０μｍ、１００μ
ｍ、１５０μｍと異なるものである。

【００４４】上記実施例の研磨体によって、磁気ヘッド
（ＶＨＳヘッド）の研磨試験を行って、研磨量（研削厚
み：μｍ）と、研磨前後の出力差（ｄＢ）を測定した結
果を下記表１に示す。磁気ヘッドの研磨条件は、張力１
００ｇ、１５秒研磨である。研磨量は、磁気ヘッドの研
磨前後での寸法差を測定したものであり、その値が大き
いほど研磨力が大きい。出力は、磁気ヘッド表面の成形
性を示し、プラス側の値を示す方が良好な特性である。

【００４５】＜比較例１〜６＞表１には、比較例１〜６
の研磨体による同様の研磨テストを行った結果を併記し
ている。比較例１〜３は順に厚みが大きくなるポリエス
テルフィルムによる支持体に同様に研磨層を設けたもの
であり、比較例４〜６は順に厚みが大きくなるポリエス
テル繊維による支持体に同様に研磨層を設けたものであ
る。

【００４６】表１の結果から、本発明実施例１〜３によ
る研磨体では、磁気ヘッドの研磨体としての要求を満足
する研磨力（研磨量）及び研磨特性（成形性）が確保で
き、塗工紙支持体による研磨体が十分に使用可能である
ことが判明した。これに対して、比較例１〜６によるも
のでは、同等の研磨量が得られても、成形性の点で出力
差がマイナスの値となっている。

【００４７】［研磨層用塗布液組成：Ａ］研磨剤（アルミナ：不二見研磨材製ＷＡ８０００）１００部バインダー（紫外線硬化樹脂、ＳＯ₃Ｈ含有１×10^-4eq/g）１４部バインダー（イソシアネート）２部溶剤（メチルエチルケトン）１５０部

【００４８】

【表１】

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１０年４月３日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４７】［研磨層用塗布液組成：Ａ］研磨剤（アルミナ：株フジミインコーポレーテッド製WA8000）１００部バインダー（紫外線硬化樹脂、ＳＯ₃Ｈ含有１×10^-4eq/g）１４部バインダー（イソシアネート）２部溶剤（メチルエチルケトン）１５０部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けた研磨体おいて、前記可撓性支持体が再生可能なセルロースからなる塗工
紙であることを特徴とする研磨体。
【請求項２】前記塗工紙が、白土、酸化チタン、炭酸
カルシウム等の白色顔料を塗った塗工紙であることを特
徴とする請求項１に記載の研磨体。
【請求項３】前記研磨層の塗布厚みが、前記可撓性支
持体の厚みの１／２以下であることを特徴とする請求項
１に記載の研磨体。
【請求項４】前記研磨層と前記可撓性支持体との間
に、防水層を設けたことを特徴とする請求項１に記載の
研磨体。