JPH11277451A

JPH11277451A - 研磨体

Info

Publication number: JPH11277451A
Application number: JP7943698A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Ryomo; 克己両毛
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-03-26
Filing date: 1998-03-26
Publication date: 1999-10-12

Abstract

(57)【要約】【課題】可撓性支持体上に研磨剤微粉末とバインダー
からなる研磨層を設けた研磨体で、研磨力を研磨ごとに
回復維持すると共に凹凸模様が容易に形成し得る。【解決手段】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けるについて、前記バインダー
が紫外線硬化樹脂をバインダー総量の５０重量％以上含
み、紫外線を照射してなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨剤をバインダ
ーに分散してなる研磨層を可撓性支持体上に設けてな
り、光コネクターフェルール端面、ハードディスク基
板、シリコンウエハー、磁気ディスク、磁気テープ、磁
気ヘッド（オーディオ、ビデオ、コンピューター、デー
タ記録用）、ＭＲ磁気ヘッドの研磨等の用途に用いられ
る研磨体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、一般の研磨体における研磨層
表面は平滑であり、被研磨体としての光コネクターフェ
ルール端面等を、上記研磨体、研磨スラリーを用いて研
磨しているが、異種材質を研磨するため端面における研
磨量などにおいて必ずしも十分な結果が得られていな
い。

【０００３】また、研磨テープ等の研磨体の研磨層表面
を整形して微細な凹凸を形成し、研磨において発生する
磨耗粉を上記凹部内に捕集するようにしたものがある
が、生産や形状の自由な制御が容易でなかった。

【０００４】一例としては、特開平３−２０２２８１号
に、可撓性支持体上に研磨層を形成した後、この研磨層
の表面を紫外線レーザ等の紫外線を照射してエッチング
し、微細凹凸パターンを形成した研磨テープが開示され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、研磨具とし
ての砥石では、研磨を行うと砥粒が脱落して新しい砥粒
面が露出して目詰まりを解消し研磨力を維持するもので
あるが、研磨テープ、研磨シート等の研磨剤微粒子を樹
脂バインダーで分散固定してなる研磨体では、目詰まり
が発生すると研磨力が低下して使用できなくなる問題を
有する。

【０００６】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、可撓性支持体上に研磨剤微粉末とバインダ
ーからなる研磨層を設けてなる研磨テープ、研磨シート
等の研磨体における研磨力を維持できるようにした研磨
体を提供せんとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けてなり、前記バインダーが紫
外線硬化樹脂をバインダー総量の５０重量％以上含み、
紫外線を照射してなることを特徴とするものである。

【０００８】また、前記紫外線硬化樹脂によるバインダ
ーを含む研磨層表面に、紫外線で模様のあるパターンを
照射するのが好ましい。その際、前記紫外線で硬化した
部分以外の研磨層表面を除去して、例えばピラミッド状
の立体形状の模様を浮き立たせるのが好適である。

【０００９】本発明の研磨体では、例えば、ウェット中
で使用したときに、酸又はアルカリ液により研磨層の表
層が自己溶解を起こし、新たな研磨面を供給して研磨力
を維持するものである。

【００１０】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、研磨層の
バインダーに紫外線硬化樹脂をバインダー総量の５０重
量％以上含有させたことにより、研磨に応じて表面性状
が更新されて目詰まりの解消により良好な研磨力を維持
することができる。

【００１１】また、紫外線の照射による硬化を部分的に
行うと、微細凹凸形状が容易に形成でき、より一層研磨
力の向上が図れ、その凹凸模様の形態の自由度も高く、
生産も容易に行える。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。

【００１３】本発明の研磨体は、ポリエステルフィルム
等による可撓性支持体上に、アルミナ等の研磨剤微粉末
を、バインダーに分散した研磨層を設けてなり、この研
磨層のバインダーには紫外線硬化樹脂がバインダー総量
の５０重量％以上含有し、紫外線照射によって硬化させ
ている。

【００１４】また、支持体上に形成した前記研磨層への
紫外線の照射は、全面に行うか、模様のあるパターンに
行う。その模様としては、段々模様、市松模様、ピラミ
ッド形状、コーン形状等の平面的又は立体的パターンで
行う。このように紫外線照射によって研磨層を部分的に
硬化させた際には、未硬化の部分を溶解等によって除去
し、上記各種形状の微細な凹凸パターンを形成する。

【００１５】なお、前記支持体の厚みは５〜２００μ
ｍ、研磨層表面の中心線表面粗さRaは０．００２〜１０
μｍとするのが好ましい。

【００１６】本発明で研磨層のバインダーとして使用す
る紫外線（ＵＶ）硬化プレポリマーは、官能基としてア
クリロイル基を１〜数個もち、紫外線により光重合モノ
マーなどとラジカル重合反応を起こし架橋、重合するも
のである。プレポリマーは骨格を構成する分子の構造に
より、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ート、オリゴアクリレート、アルキドアクリレート、ポ
リオールアクリレートなどがある。プレポリマーの分子
量は１０００〜７０００位のものを使用する。

【００１７】前記光重合モノマーには、単官能アクリレ
ート、多官能アクリレートが用いられる。代表的モノマ
ーとしてはジエチレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートな
どがある。

【００１８】光重合開始剤としては、イソブチルベンゾ
インエーテルなどのベンゾインエーテル類、α−アシロ
キシムエステル類、２，２−ジメトキシ−２−フェニル
アセトフェノンなどのベンジルケタール類、ジエトキシ
アセトフェノンなどのアセトフェノン誘導体、ベンゾフ
ェノンなどのケトン類、ケトン−アミン類が用いられ
る。

【００１９】エネルギー照射装置としては市販のものを
使用できるが、フォトポリマーハンドブック（１９８９
年工業調査会発行）５１５頁以降に記載されている内容
を参考にできる。

【００２０】本発明の研磨層で用いられる研磨剤は、モ
ース硬度が６〜９でかつ粉体総量の６０％以上を含み、
一般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、α−
アルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アル
ミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザ
クロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガ
ーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデ
ン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、
トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト、シリカ、ジルコニ
ア、酸化チタン、ベンガラ等で、主としてモース硬度６
以上の材料が１内至４種迄の組み合わせで使用できる。
これらの研磨剤は平均粒子サイズが０．３〜１０μｍの
大きさのものが使用される。これらの研磨剤は、研磨層
の場合研磨剤１００重量部に対してバインダー１０〜１
０００重量部の範囲で用いられる。

【００２１】研磨剤の具体例としては、住友化学社製の
ＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫ
Ｐ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００などが
挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２
号、特公昭４９−３９４０２号、特開昭６３−９８８２
８号、米国特許３６８７７２５号、米国特許３００７８
０７号、米国特許３０４１１９６号、米国特許３２９３
０６６号、米国特許３６３０９１０号、米国特許３８３
３４１２号、米国特許４１１７１９０号、英国特許１１
４５３４９号、西独特許８５３２１１号等に記載されて
いる。

【００２２】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、前述の紫外線硬化樹脂をバインダー総量の５０
重量％以上含むが、これに加えて従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、可
視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。

【００２３】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が２００
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２０
０〜８００程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。

【００２４】これらの樹脂の例示は、特公昭３７−６８
７７号、特公昭３９−１２５２８号、特公昭３９−１９
２８２号、特公昭４０−５３４９号、特公昭４０−２０
９０７号、特公昭４１−９４６３号、特公昭４１−１４
０５９号、特公昭４１−１６９８５号、特公昭４２−６
４２８号、特公昭４２−１１６２１号、特公昭４３−４
６２３号、特公昭４３−１５２０６号、特公昭４４−２
８８９号、特公昭４４−１７９４７号、特公昭４４−１
８２３２号、特公昭４５−１４０２０号、特公昭４５−
１４５００号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭４７
−２２０６３号、特公昭４７−２２０６４号、特公昭４
７−２２０６８号、特公昭４７−２２０６９号、特公昭
４７−２２０７０号、特公昭４７−２７８８６号、特開
昭５７−１３３５２１、特開昭５８−１３７１３３、特
開昭５８−１６６５３３、特開昭５８−２２２４３３、
特開昭５９−５８６４２等、米国特許４５７１３６４
号、米国特許４７５２５３０号の公報等に記載されてい
る。

【００２５】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬
化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

【００２６】これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０
３号、特公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２
号、特公昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５
号、特公昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８
１号、特公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５
０１号、特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３
１０３号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２
２０６６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−
２２０７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７
−２８０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４
７−２８９２２号等の公報に記載されている。

【００２７】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ(ＯＭ)(ＯＭ)）、ホスホ
ン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等
の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが好ましい。

【００２８】本発明の研磨層に用いるポリイソシアネー
トとしては、トリレンジイソシアネート、４・４’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレ
ン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、イソシアネート類の縮合によ
って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、ポリ
イソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基
がイソシアネートであるもの等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は１００
〜２００００のものが好適である。

【００２９】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（以上日本ポリウレタン社
製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０
Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タ
ケネート３００Ｓ、タケネート５００（以上武田薬品社
製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、ス
ミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デス
モジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲ
Ｆ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３
（以上住友バイエル社製）等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。

【００３０】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１００
０〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例
示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１
３８号等の公報において示されている。

【００３１】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤
等が加えられる。

【００３２】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼
素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪
素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、
ポリオレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉
末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉
末、ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。

【００３３】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・
硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０
の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしく
は２つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数１０個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が１１〜７０個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。

【００３４】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。

【００３５】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー１００重量部に対して
０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭４３−２３８８９号、特公昭４８−２４
０４１号、特公昭４８−１８４８２号、特公昭４４−１
８２２１、特公昭４７−２８０４３号、特公昭５７−５
６１３２、特開昭５９−８１３６号、特開昭５９−８１
３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４２３
２３３号、米国特許３４７００２１号、米国特許３４９
２２３５号、米国特許３４９７４１１号、米国特許３５
２３０８６号、米国特許３６２５７６０号、米国特許３
６３０７７２号、米国特許３６３４２５３号、米国特許
３６４２５３９号、米国特許３６８７７２５号、米国特
許４１３５０３１号、米国特許４４９７８６４号、米国
特許４５５２７９４号、アイビーエムテクニカルディ
スクロジャーブリテン（ＩＢＭＴｅｃｈｎｉｃａｌ
ＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＢｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏｌ．
９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレクト
ロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１２，
ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６７，１９
８０年丸善株発行等に記載されている。

【００３６】本発明に使用する研磨剤の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３９
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ₄ ⁺等）又
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐ
ｂ等からなる金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミ
ド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この
他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー１００重量部に対し
て０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨剤や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、
特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１
号、特公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１
号、特公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６
３号、特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９
９３号、同３４７００２１号等において示されている。

【００３７】本発明に用いる防黴剤としては、２−（４
−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロ
ジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−
オキシビスフェノキサルシン、２・４・５・６テトラク
ロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等におい
て示されている。

【００３８】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は５〜５００
ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ² であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１
０００，９００，８００，７００、三菱化成工業社製：
６５０Ｂ，９５０Ｂ，３２５０Ｂ，８５０，９００，９
６０，９８０，１０００，２３００，２４００，２６０
０等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。

【００３９】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。

【００４０】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭６０−２８０２５号、米
国特許２２７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２
８８２２６号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４
号、同２６７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７
２７８６０号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９
号、同２７３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１
５８４８４号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１
号、同３２９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４
４１４１３号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４
号、同３５４５９７４号、西独特許公開（ＯＬＳ）１９
４２６６５号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８
４５０号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』（槇書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ
著『サーフエスアクテイブエージエンツ』（インタ
ーサイエンスパブリケーションコーポレイテッド１
９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペデ
ィアオブサーフエスアクティブエージェンツ，第
２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社，
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等に記載されている。

【００４１】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨剤１００重量部当たり０．０１〜１０重
量部である。またバック層での使用量はバインダー１０
０重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。

【００４２】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量
で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等）を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
（水、アルコール、アセトン等）を使用することもでき
る。

【００４３】研磨層組成の分散、混練の方法には特に制
限はなく、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑
剤、溶媒等）、分散・混練中の添加位置、分散温度（０
〜８０℃）などは適宜設定することができる。研磨塗料
の調製には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三
本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、
サンドグラインダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）
アトライター、高速インペラー、分散機、高速ストーン
ミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミ
キサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブ
ミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、
ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スク
リュー押し出し機、及び超音波分散機などを用いること
ができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を
複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術
の詳細は、Ｔ.Ｃ.ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パット
ン）“Paint Flow and Pigment Dispersion ”（ペイン
トフローアンドピグメントディスパージョン）
１９６４年，John Wiley ＆ Sons社発行（ジョンウイ
リーアンドサンズ））や田中信一著『工業材料』２
５巻３７（１９７７）などや当該書籍の引用文献に記載
されている。これら分散、混練の補助材料として分散・
混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜
０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビー
ズ、セラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービ
ーズを用いることができる。またこれら材料は球形に限
らない。また、米国特許第２５８１４１４号及び同第２
８５５１５６号などの明細書にも記載がある。本発明に
おいても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載さ
れた方法に準じて混練分散を行い研磨層塗布液を調製す
ることができる。

【００４４】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗
布・乾燥する。又は、他の方法としては加熱溶融状態で
支持体とともに研磨層を同時押し出し（共押し出し）を
行うか、支持体を押し出し成膜した後に、その上側に研
磨層を塗設し、その後、１２０〜１６０℃で配向延伸
し、冷却し巻き取るようにしてもよい。延伸は縦横単独
か縦横両方に行う。

【００４５】前記支持体は可撓性を有し、素材としては
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
イン類、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビ
ニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニ
ウム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス、紙等も使
用できる。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放
電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処
理、金属蒸着処理、アルカリ処理を行ってもよい。これ
ら支持体に関しては、例えば、西独特許３３３８８５４
Ａ、特開昭５９−１１６９２６号、特開昭６１−１２９
７３１号、米国特許４３８８３６８号；三石幸夫著、
『繊維と工業』３１巻，ｐ５０〜５５，１９７５年など
に記載されている。またこれら支持体のヤング率（Ｆ５
値）は目的に応じて、幅方向、長手方向とも２〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ²（１Ｋｇ／ｍ² ＝９．８Ｐａ）を選択するこ
とができる。

【００４６】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチ
ストークス（２５℃）に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』２５３頁〜２
７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７
−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公
報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１
６５２３９号公報の明細書等に示されている。

【００４７】このような方法により、支持体上に約１〜
２００μｍほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
２０〜１３０℃で多段階で乾燥処理を施し、研磨層を
０．０５〜１０μｍの厚みに乾燥する。続いて、紫外線
照射を所定のパターンで行い、必要に応じて未硬化部分
を除去する。そして、所望の形状に裁断したりして、本
発明の研磨体を製造する。これらの製造方法は粉体の予
備処理・表面処理、混練・分散、塗布・乾燥、平滑処
理、熱処理、ＥＢ処理、表面研磨処理、裁断、巻き取り
の工程を連続して行うことが望ましい。

【００４８】研磨体が研磨テープの場合には、作製した
研磨テープを裁断したあと所望のプラスチックや金属の
リールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工
程において研磨テープその他の研磨体をバーニッシュ及
び／又はクリーニングすることが望ましい。バーニッシ
ュは研磨体の表面粗度と研磨力を制御するために具体的
にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド
刃、セラミックス刃のような硬い材料により研磨面の突
起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にする。これら
材料のモース硬度は８以上が好ましいが特に制限はなく
突起を除去できるものであれば良い。これら材料の形状
は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール（回
転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても良
い）のような形状でも使用できる。また研磨体のクリー
ニングは、研磨体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する
目的で研磨体表層を不織布などでワイピングすることに
より行う。このようなワイピングの材料としては、例え
ば日本バイリーン社製の各種バイリーンや東レ社製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィ
ルム社製の各種研磨体、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９
３０９号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９
０４２９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−
２５９８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載
されている。

【００４９】本発明に使用される研磨剤、バインダー、
添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい）或いはその製法に関しては、特公昭
５６−２６８９０号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。

【００５０】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。

【００５１】＜実施例１〜３＞下記組成Ａを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートによる
支持体上に、厚みが５μｍとなるよう塗布し、乾燥さ
せ、紫外線を照射して硬化させた後、所望の大きさに切
り出して研磨体の試料を作製した。

【００５２】各実施例１〜３は、下記表１に示すよう
に、紫外線の照射パターンによる模様が異なるものであ
り、実施例１では０．１mm幅の市松模様で、実施例２で
は０．１mm幅のピラミッド模様であり、実施例３では全
面紫外線硬化による研磨層を形成している。なお、実施
例１及び２では未硬化部分の研磨層の表層は除去して凹
凸形状を設けている。

【００５３】上記実施例の研磨体によって、研磨試験を
行い、スチール球の相対磨耗量の測定を行った結果を下
記表１に示す。相対磨耗量は、５mmφのスチール球を荷
重３００mgで、５００mm掃引した磨耗試験を行ったとき
の、スチール球の磨耗量を後述の比較例１の測定値を１
００としてそれぞれの磨耗量を相対値で示している。

【００５４】＜比較例１＞表１には、比較例１の研磨体
による同様の研磨テストを行った結果を併記している。
この比較例１は、研磨層のバインダーが熱硬化樹脂によ
る例で、研磨層の厚みは５μｍである。

【００５５】表１の結果から、本発明実施例１〜３によ
る研磨体では、相対磨耗量すなわち研磨力が大きく、特
に実施例１及び２の凹凸模様を形成したものでの研磨力
が特に高くなっている。

【００５６】［研磨層用塗布液組成：Ａ］研磨剤（アルミナ：不二見研磨材製ＷＡ８０００）１００部バインダー（不飽和ポリエステル樹脂）１８部バインダー（スチレン）６部硬化剤（イソプロピルベンゾインエーテル）１部溶剤（メチルエチルケトン）１５０部アノン５０部

【００５７】

【表１】

【００５８】＜実施例４〜６＞下記組成Ｂを均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートによる
支持体上に、厚みが３０μｍとなるよう塗布し、乾燥さ
せ、紫外線を５秒間照射して硬化させた後、所望の大き
さに切り出して研磨体の試料を作製した。

【００５９】各実施例４〜６は、下記表２に示すよう
に、紫外線の照射パターンによる模様が異なるものであ
り、実施例４では０．２mm幅の市松模様で、実施例５で
は０．２mm幅のピラミッド模様であり、実施例６では全
面紫外線硬化による研磨層を形成している。なお、実施
例４及び５では未硬化部分は除去して凹凸形状を設けて
いる。

【００６０】上記実施例の研磨体によって、前記と同様
の条件で研磨試験を行い、スチール球の相対磨耗量の測
定を行った結果を下記表２に示す。なお、後述の比較例
２の測定値を１００としてそれぞれの磨耗量を相対値で
示している。

【００６１】＜比較例２＞表２には、比較例２の研磨体
による同様の研磨テストを行った結果を併記している。
比較例２は、研磨層のバインダーが熱硬化樹脂による例
で、研磨層の厚みは３０μｍである。

【００６２】表２の結果から、本発明実施例４〜６によ
る研磨体では、相対磨耗量すなわち研磨力が大きく、特
に実施例４及び実施例５の模様を形成したものでの研磨
力が高くなっている。

【００６３】［研磨層用塗布液組成：Ｂ］研磨剤（アルミナ：不二見研磨材製ＷＡ４００）１００部バインダー（トリプロピレングリコールジアクリレート）１５部バインダー（ペンタエリスリトールアクリレート）２部硬化剤（２，２−ジエトキシアセトフェノン）１部溶剤（メチルエチルケトン）１５０部

【００６４】

【表２】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】研磨剤微粉末とバインダーからなる研磨
層を可撓性支持体上に設けた研磨体において、前記バインダーが紫外線硬化樹脂をバインダー総量の５
０重量％以上含み、紫外線を照射してなることを特徴と
する研磨体。
【請求項２】前記紫外線硬化樹脂によるバインダーを
含む研磨層表面に、紫外線で模様のあるパターンを照射
し部分的に硬化させたことを特徴とする請求項１に記載
の研磨体。
【請求項３】前記紫外線で硬化した部分以外の研磨層
表面を除去して模様を浮き立たせたことを特徴とする請
求項２に記載の研磨体。
【請求項４】前記模様がピラミッド状の立体形状であ
ることを特徴とする請求項３に記載の研磨体。