JPH11279111A - 光学活性な菊酸の製造方法 - Google Patents
光学活性な菊酸の製造方法Info
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- JPH11279111A JPH11279111A JP11022348A JP2234899A JPH11279111A JP H11279111 A JPH11279111 A JP H11279111A JP 11022348 A JP11022348 A JP 11022348A JP 2234899 A JP2234899 A JP 2234899A JP H11279111 A JPH11279111 A JP H11279111A
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Abstract
性な菊酸の製造方法を提供すること。 【解決手段】 トランス体比率50%以上かつ光学純度が1
0%e.e.以上である菊酸を光学活性有機アミンを作用させ
て光学分割することを特徴とする光学活性な菊酸の製造
方法。
Description
なわち、光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体の製
造方法に関する。
活性シクロプロパンカルボン酸誘導体は医薬、農薬の中
間体として重要な化合物である。例えば,第一菊酸(以
下、単に菊酸と記す。)として知られている(+)-2,2-ジ
メチル-3-(2-メチル-1-プロペニル)シクロプロパンカ
ルボン酸は、合成ピレスロイド系殺虫剤(エステル)の
酸成分を構成するものである。殺虫効力はシス体のエス
テルよりもトランス体のエステルの方が強く、特に
(+)−トランス第一菊酸もしくは(+)−シス体を含
む(+)−トランス体からなるエステルが際だって優れ
た殺虫効果を示す。従って、工業的に有利に(+)−ト
ランス体もしくは(+)−トランス体に富む菊酸を製造
することは非常に重要である。これまでに、合成的手法
により、光学活性な菊酸誘導体を製造する方法として
は、例えば、(±)−トランス体もしくはトランス体に
富む第一菊酸に光学活性なアミンである光学分割剤を作
用させて光学活性な菊酸を取得する方法が知られている
(特公昭46−20382号公報、特公昭54-371
30号公報、特開昭49-109344号公報、特公昭
51−23497号公報)。しかしながら、かかる光学
分割の方法では、光学活性な菊酸の収率が低く必ずしも
満足できるものとは言い難かった。また、光学活性な菊
酸を不斉合成する方法として、光学活性なサリチリデン
アミノアルコール銅錯体触媒存在下に2,5−ジメチル
−2,4−ヘキサジエンとジアゾ酢酸エステルを反応さ
せる方法(Pure & Appl. Chem., Vol.57, No.12, 1839,
1985)、また、配位子に光学活性ビス[2-(4,5-ジフェ
ニル-1,3-オキサゾリニル)]メタンを用いた不斉銅錯体
の存在下に反応させる方法(Tetrahedron Lett.,32,737
3(1991))、また光学活性なジアミンを用いた不斉銅錯
体の存在下に反応させる方法(Tetrahedron Lett.,35,7
985(1994)等が知られている。しかしながら、これらの
方法では、いずれもジアゾ酢酸メンチルエステルなどの
高価なエステル残基を用いた場合は比較的高い反応結果
が得られるが、より安価な低級アルキル基を持つジアゾ
酢酸エステルを用いた場合には、トランス/シス選択
性、光学純度はともに十分満足のいくものとは言い難い
ものであった。
々検討した結果、光学活性な菊酸を製造する際に、光学
的に一方の異性体、例えば(+)-体に富む菊酸を特定の光
学分割剤を用いて晶析精製すると、ラセミの菊酸を用い
る場合に比し、予想外に効率よく光学純度の優れた(+)-
体が得られることを見いだした。この場合、トランス体
比率が50%以上であると、トランス体比率がより優れた
菊酸が得られることも併せて見いだし、本発明を完成さ
せるに至った。すなわち、本発明は、トランス体比率50
%以上かつ光学純度が10%e.e.以上である菊酸に光学活性
有機アミンを作用させて光学分割することを特徴とする
光学純度が向上した光学活性な菊酸の製造方法を提供す
るものである。また、上記製造方法においてトランス体
比率50%以上で光学純度が 10%e.e.以上である菊酸を用
いるとトランス体比率および光学純度が向上した光学活
性な菊酸が得られる。
(光学活性な菊酸)は、どのような方法によって調達し
てもよいが例えば、以下のようにして製造することがで
きる。不斉銅錯体の存在下、2,5−ジメチルー2,4
−ヘキサジエンと一般式(5) N2CHC02R7 (5) (式中、R7は炭素数1−6のアルキル基またはシクロ
アルキル基を示す。)で示されるジアゾ酢酸エステル類
とを反応させ光学活性な菊酸エステル類を製造し(シク
ロプロパン化工程)、これをアルカリまたは酸分解(分
解工程)することにより光学活性な菊酸を得ることがで
きる。
活性有機アミンを用いて光学分割する場合の光学活性有
機アミンとしては、一般式(1) (式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基またはアリール基を示し、X、Yはそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す。*は不斉炭素であることを表わ
す。)で示される光学活性有機アミンまたは一般式
(2) (式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基またはアリール基を示し、R3は炭素数1−
6のアルキル基を示す。*は不斉炭素であることを表わ
す。)で示される光学活性有機アミンまたは一般式
(3) (式中、R4はナフチル基、シクロヘキシル基;または
ハロゲン、ニトロ、低級アルキル基もしくは低級アルコ
キシで置換されていてもよいフェニル基を表わし、R5
は低級アルキル基または低級アルキル基で置換されてい
てもよいベンジル基を表わす。R6は、R5が低級アルキ
ル基である場合はp-ヒドロキシフェニル基または2-ヒド
ロキシ-3-低級アルコキシフェニル基を表わし、R5が低
級アルキル基で置換されていてもよいベンジル基である
場合はp-ヒドロキシフェニル基を表わす。*は不斉炭素
であることを表わす。)で示される光学活性有機アミン
または、一般式(4) (式中、R1,R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基を示す。*は不斉炭素であるこ
とを表わす。)で示される光学活性有機アミンが挙げら
れる。
まず、不斉銅錯体の存在下、2,5−ジメチル−2,4
−ヘキサジエンと一般式(5) N2CHC02R7 (5) (式中、R7は炭素数1−6のアルキル基またはシクロ
アルキル基を示す。)で示されるジアゾ酢酸エステル類
とを反応させ光学活性な菊酸エステルを製造し(シクロ
プロパン化工程)、これをアルカリまたは酸分解する
(分解工程)ことにより、より効率的な光学活性な菊酸
の製造法について述べる。上記シクロプロパン化工程に
用いられるジアゾ酢酸エステルのアルキル基としては、
例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、シクロヘキシル基などが挙げられる。
斉銅錯体としては銅化合物と光学活性な有機化合物(以
下、光学活性な有機化合物を光学活性な配位子と記
す。)から調製される。銅化合物としては、例えばナフ
テン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅、酢酸銅、
臭化銅、塩化銅などの1価または2価の銅化合物が挙げ
られる。これらは、それぞれ単独または2種以上を混合
して用いることができる。
スオキサゾリン化合物、光学活性なサリチリデンアミノ
アルコール化合物、光学活性なジアミン化合物、光学活
性なセミコリン化合物、光学活性なカンファー化合物な
どが挙げられるが、好ましくは光学活性なサリチリデン
アミノアルコール化合物、光学活性なビスオキサゾリン
化合物、光学活性なエチレンジアミン化合物が挙げられ
る。
式(6) (式中、R8、R9は相異なり、置換されていてもよいフ
ェニル基または水素原子を示し、R10、R11は水素原
子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていても
よいフェニル基またはアラルキル基を示し、あるいはR
10とR11が結合して環状アルキレン基を形成してもよ
い。R12は水素原子またはアルキル基を示す。)で示さ
れる化合物である。
(6)としては、例えば、2,2’−メチレンビス
[(4R)−フェニル−5,5−ジメチルオキサゾリ
ン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−フェニル−
5,5−ジエチルオキサゾリン]、 2,2’−メチレン
ビス[(4R)−フェニル−5,5−ジ−n−プロピル
オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−フ
ェニル−5,5−ジ−i−プロピルオキサゾリン]、2,
2’−メチレンビス[(4R)−フェニル−5,5−ジ
シクロヘキシルオキサゾリン]、2,2’−メチレンビ
ス[(4R)−フェニル−5,5−ジフェニルオキサゾ
リン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−フェニル−
5,5−ジ−(2−メチルフェニル)オキサゾリン]、
2,2’−メチレンビス[(4R)−フェニル−5,5
−ジ−(3−メチルフェニル)オキサゾリン]、2,
2’−メチレンビス[(4R)−フェニル−5,5−ジ
−(4−メチルフェニル)オキサゾリン]、2,2’−
メチレンビス[(4R)−フェニル−5,5−ジ−(2
−メトキシフェニル)オキサゾリン]、 2,2’−メチ
レンビス[(4R)−フェニル−5,5−ジ−(3−メ
トキシフェニル)オキサゾリン]、2,2’−メチレン
ビス[(4R)−フェニル−5,5−ジ−(4−メトキ
シフェニル)オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス
[スピロ{(4R)-フェニルオキサゾリン−5,1’
−シクロブタン}]、2,2’−メチレンビス[スピロ
{(4R)-フェニルオキサゾリン−5,1’−シクロ
ペンタン}]、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4
R)-フェニルオキサゾリン−5,1’−シクロヘキサ
ン}]、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)-
フェニルオキサゾリン−5,1’−シクロヘプタ
ン}]、および上記各化合物における(4R)が(4
S)に相当する化合物などが挙げられる。
化合物は、一般式(7) (式中、R13、R14はそれぞれアルキル基、アラルキル
基またはアリール基を示し、Zは水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アラルキル基またはア
リール基を示す。*は不斉炭素であることを表わす。)
で示される化合物である。
化合物(7)のR13としては、例えば、メチル、エチ
ル、イソプロピル、イソブチル、t−ブチル、ベンジ
ル、フェニル基が挙げられ、R14としては例えば、メチ
ル、エチル、イソプロピル、イソブチル、t−ブチル、
ベンジルあるいは、アルキル基、ハロゲン原子またはア
ルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を挙げる
ことができる。
しては以下のものを挙げることができ、その(R)あるい
は(S)体のいずれを用いてもよい。すなわち、N-サリ
チリデン-2−アミノ-1,1-ジフェニル-1-プロパノー
ル、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(3-メチルフェ
ニル)-1-プロパノール、N-サリチリデン-2−アミノ-
1,1-ジ(4-メチルフェニル)-1-プロパノール、N-サリ
チリデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−メトキシフェニル)
-1-プロパノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ
(2−メトキシフェニル)-1-プロパノール、N-サリチ
リデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−イソプロポキシフェニ
ル)-1-プロパノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1
-ジ(2−n-ブトキシ-5-t−ブチルフェニル)-1-プロ
パノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジフェニル
-3-メチル-1-ブタノール、N-サリチリデン-2−アミノ-
1,1-ジ(3-メチルフェニル)-3-メチル-1-ブタノール、
N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(4-メチルフェニ
ル)-3-メチル-1-ブタノール、N-サリチリデン-2−ア
ミノ-1,1-ジ(2−メトキシフェニル)-3-メチル-1-ブ
タノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−メ
トキシフェニル)-3-メチル-1-ブタノール、N-サリチリ
デン-2−アミノ-1,1-ジ(2−イソプロポキシフェニ
ル)3-メチル-1-プロパノール、N-サリチリデン-2−ア
ミノ-1,1-ジ(2−n-ブトキシ-5-t−ブチルフェニル)
-3-メチル-1-ブタノール、N-サリチリデン-2−アミノ-
1,1-ジフェニル-4-メチル-1-ペンタノール、N-サリチリ
デン-2−アミノ-1,1-ジ(3-メチルフェニル)-4-メチ
ル-1-ペンタノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-
ジ(4-メチルフェニル)-4-メチル-1-ペンタノール、N-
サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−メトキシフェニ
ル)-4-メチル-1-ペンタノール、N-サリチリデン-2−
アミノ-1,1-ジ(2−メトキシフェニル)-4-メチル-1-
ペンタノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(2
−イソプロポキシフェニル)-4-メチル-1-ペンタノー
ル、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−n-ブトキ
シ-5-t−ブチルフェニル)-4-メチル-1-ペンタノー
ル、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジフェニル-3-フ
ェニル-1-プロパノール、N-サリチリデン-2−アミノ-
1,1-ジ(3-メチルフェニル)-3-フェニル-1-プロパノー
ル、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(4-メチルフェ
ニル)-3-フェニル-1-プロパノール、N-サリチリデン-
2−アミノ-1,1-ジ(2−メトキシフェニル)-1-プロパ
ノール、N-サリチリデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−メト
キシフェニル)-3-フェニル-1-プロパノール、N-サリチ
リデン-2−アミノ-1,1-ジ(2−イソプロポキシフェニ
ル)-3-フェニル-1-プロパノール、N-サリチリデン-2
−アミノ-1,1-ジ(2−n-ブトキシ-5-t−ブチルフェニ
ル)-3-フェニル-1-プロパノールなどが挙げられる。
般式(8) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基を示し、m
は1〜3の整数を示す。*は不斉炭素であることを表わ
す。)で示される化合物である。
の具体的化合物としては、例えばRが水素原子、メチル
基等であり、mが1〜3の整数である化合物が挙げられ
る。
[N-(2,4,6-トリメチルフェニル)メチル-(1R),(2R)-ジフ
ェニルエチレンジアミン、および(1R)、2(R)が(1S),(2
S)に相当する化合物などが挙げられる。
銅化合物と光学活性な配位子を溶媒中で混合することに
より得ることができる。ここで用いられる溶媒はトルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタン、
ジクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化物などが挙げら
れる。また、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン
を溶媒として使用してもよい。溶媒の使用量は銅化合物
に対し、通常、10〜500重量倍程度である。
対し、通常、0.8〜5モル倍程度であり、好ましくは
1〜2モル倍程度である。なお、上記反応においては水
が存在しない方が、反応収率の点で好ましい。上記反応
温度は特に限定されないが通常0〜50℃程度の範囲で
実施される。また、本発明においては、2価の銅化合物
を用いて錯体を調整する場合は、フェニルヒドラジン等
の還元剤で1価の銅化合物に還元しなくても充分目的を
達することができる。また、銅化合物に光学活性なビス
オキサゾリン化合物(6)を反応させる際には、通常、
アルゴン、窒素等不活性ガスの雰囲気下で実施される。
体は単離してもよいし、単離することなく、2,5−ジ
メチル−2,4−ヘキサジエンとジアゾ酢酸エステル
(1)との反応にそのまま使用することができる。2,
5−ジメチル−2,4−ヘキサジエンとジアゾ酢酸エス
テル類(1)との反応に用いられる不斉銅錯体の使用量
は、ジアゾ酢酸エステル類(1)に対し、銅化合物換算
量で通常、0.0001〜0.01当量倍程度であり、好ましく
は、0.0005〜0.01当量倍程度である。
2,4−ヘキサジエンとジアゾ酢酸エステル類(1)と
を反応させる具体的な方法としては、例えば、前記のよ
うにして得られた不斉銅錯体と2,5−ジメチル−2,
4−ヘキサジエンの混合物に、溶媒に溶解させたジアゾ
酢酸エステル類(1)を加える方法が挙げられる。ここ
で溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、1,2−ジ
クロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類
が挙げられ、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン
を溶媒として用いることもできる。また、これらは混合
して用いることもできる。溶媒の使用量は、ジアゾ酢酸
エステル類(1)に対し、通常、1〜30重量倍程度、
好ましくは5〜20重量倍程度である。
とジアゾ酢酸エステル類(1)とを反応させる際には、
通常、アルゴン、窒素等不活性ガスの雰囲気下で実施さ
れる。2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエンはジア
ゾ酢酸エステル類に対し、通常1〜50モル倍程度、好
ましくは5〜30モル倍程度使用される。なお、上記反
応においては水が存在しない方が、反応収率の点で好ま
しい。上記反応温度は、特に限定されず、溶媒を用いた
場合には、該溶媒の沸点以下で実施することができる
が、通常、0〜120℃程度で、好ましくは5〜100
℃程度で実施される。上記反応で得られた光学活性な菊
酸エステル類は、溶媒を留去することによってかなり優
れた純度で得られるが必要に応じ、蒸留、カラムクロマ
トグラフィー等の通常の方法により単離することができ
る。
ル類のエステル残基としては、例えば、メチル、エチ
ル、n-プロピル、i-プロピル、i-ブチル、t-ブチル、
ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル基等を挙げること
ができる。
解あるいはアルカリ水溶液で加水分解する(分解工程)
ことによって対応する菊酸に変換することができる。ア
ルカリ水溶液のアルカリ化合物の使用量は菊酸エステル
類に対し、通常1〜20モル倍程度、好ましくは1〜1
0モル倍程度用いられる。
上、かつその光学純度が20%e.e.以上である菊酸を次の
光学分割工程にそのまま使用してもよいし、所望によっ
てはトランスリッチラセミ菊酸と混合して用いてもよ
い。かかるトランスリッチラセミ菊酸は、たとえば
(−)−シス菊酸、または(−)−トランス体に富む菊
酸をトルエン溶媒下にてt-ブチルハイドロパーオキシド
と臭化アルミニウムを作用させることによって取得する
ことができる(特公平 5-37137号公報参照)。用いるト
ランスリッチラセミ菊酸のトランス体比率は、80%以
上、好ましくは85%以上である。
一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)または一般
式(4)で示される光学活性アミン(分割剤)を作用さ
せて光学分割を行うことによってさらにトランス/シス
比率、光学純度を向上させることができる。光学分割を
行う場合のより好ましいトランス体比率は60-95%であ
り、光学純度は15-90%e.e.である。
−フェニル−2−(p−トリル)エチルアミン、α−
(1−ナフチル)−エチルアミン、α−(2−ナフチ
ル)−エチルアミン、1−フェニルエチルアミン、エリ
トロ−α,β−ジフェニル−β−ヒドロキシエチルアミ
ン、N−メチルエフェドリン、N−(2,2,2−トリ
クロロ−1−フォルムアミドエチル)ピペリジン、2−
ベンジルアミノ−1−ブタノール、エフェドリン、シス
−N−ベンジル−2−(ヒドロキシメチル)シクロヘキ
シルアミン、N−(p-ヒドロキシベンジル)−1−フ
ェニルエチルアミン、N−(p-ヒドロキシベンジル)
−1−(p−トリル)エチルアミン、N−(p-ヒドロ
キシベンジル)−1−(p−イソプロピルフェニル)エ
チルアミン、N−(p-ヒドロキシベンジル)−1−
(p−ニトロフェニル)エチルアミン、N−(p-ヒド
ロキシベンジル)−1−(p−ブロモフェニル)エチル
アミン、N−(p-ヒドロキシベンジル)−1−(1−
ナフチル)エチルアミン、N−(p-ヒドロキシベンジ
ル)−1−シクロヘキシルエチルアミン、N−(p-ヒ
ドロキシベンジル)−1−(p−メトキシフェニル)エ
チルアミン、N−(p-ヒドロキシベンジル)−1−フ
ェニルプロピルアミン、N−(p-ヒドロキシベンジ
ル)−2−メチル−1−フェニルプロピルアミン、N−
(2-ヒドロキシ−3−メトキシベンジル)−1−フェ
ニルエチルアミン、N−(2-ヒドロキシ−3−メトキ
シベンジル)−1−(p−トリル)エチルアミン、N−
(2-ヒドロキシ−3−メトキシベンジル)−1−(p
−イソプロピルフェニル)エチルアミン、N−(2-ヒ
ドロキシ−3−メトキシベンジル)−1−(p−ニトロ
フェニル)エチルアミン、N−(2-ヒドロキシ−3−
メトキシベンジル)−1−(p−ブロモフェニル)エチ
ルアミン、N−(2-ヒドロキシ−3−メトキシベンジ
ル)−1−(1−ナフチル)エチルアミン、N−(2-
ヒドロキシ−3−メトキシベンジル)−1−シクロヘキ
シルエチルアミン、N−(2-ヒドロキシ−3−メトキ
シベンジル)−1−(p−メトキシフェニル)エチルア
ミン、N−(2-ヒドロキシ−3−メトキシベンジル)
−1−フェニルプロピルアミン、N−(2-ヒドロキシ
−3−メトキシベンジル)−2−メチル−1−フェニル
プロピルアミン、N−p−ヒドロキシベンジル−α−フ
ェニル−β−パラトリルエチルアミン、エリトロ−1−
p−ニトロフェニル−2−N,N−ジメチルアミノプロ
パン−1,3−ジオール、トレオ−1−p−ニトロフェ
ニル−2−N,N−ジメチルアミノプロパン−1,3−
ジオール等の光学活性体が挙げられる。
としてはベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、
水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどのエーテル類が使用さ
れ、これらはそれぞれ単独あるいは2種類以上の混合溶
媒として使用される。かかる溶媒の使用量は使用する溶
媒や後の処理条件等によっても異なり特に限定されず、
それぞれの条件によって最適量が選択される。
〜1.2モル倍程度、好ましくは0.3〜1.1モル倍程度であ
る。分割操作は、通常、上記溶媒中で菊酸と分割剤とを
混合溶解し、その後、静置もしくは攪拌することにより
行われる。このときの温度は、通常-20℃〜150℃程度、
好ましくは-10℃〜100℃程度の範囲である。上記の処理
において、処理温度が高いときにはその後冷却し、ま
た、温度が低い場合にはそのまま、あるいは結晶が析出
したのち昇温して析出結晶の一部または全部を溶解させ
たのち冷却して結晶を析出させるなどの適宜の方法によ
り結晶を析出させたのち、析出結晶を濾過等により分離
する。かかる処理によって得られたジアステレオマー塩
を結晶として分離し、該塩を酸またはアルカリで分解処
理し、その後抽出処理を行なうことによって光学活性な
菊酸が得られ、また、使用した分割剤が回収される。例
えば、上記方法によって得たジアステレオマー塩を塩
酸、硫酸などで分解し、分解処理後有機溶媒によって抽
出することにより光学活性な菊酸が得られ、また、この
ときの水層を弱アルカリ性としたのち抽出処理を行なう
ことにより分割剤が回収される。
オマー塩を水酸化ナトリウムなどの塩基で分解し、次い
で弱アルカリ性下に有機溶媒で抽出処理を行なうことに
より分割剤が回収され、その後、水層を酸性にしたのち
抽出処理を行なうことにより、光学活性な菊酸を得るこ
とができる。これらの処理によって回収された分割剤は
再使用することができる。
/シス比率を有し、かつより向上した光学純度を持つ菊
酸を工業的に有利に製造することができる。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでな
い。 (実施例1)トランス/シス比=78/22、トランス体の
光学純度は72%e.e.,シス体の光学純度は52%e.e.の菊酸2
0.0gに対し、トルエン228gを加えて攪拌溶解し、次いで
(S)−1−フェニル−2−(p−トリル)エチルアミ
ン(分割剤)20.4gを加え加熱溶解し、室温まで冷却し
た後、析出した結晶を濾取、トルエンで洗浄後、5%苛
性ソーダ水溶液に溶解した。次いで、トルエンで分割剤
を抽出し、水層を5%硫酸水で酸性にした後、トルエン
で抽出し、トルエンを留去するとトランス/シス比=81
/19、トランス体の光学純度は98%e.e.,シス体の光学純
度は98%e.e.の菊酸が14.3g(収率71.5%)得られた。
トランス体の光学純度は40%e.e.,シス体の光学純度は1.
3%e.e.の菊酸30.0gに対し、トルエン210gを加えて攪拌
溶解し、次いで(S)−1−フェニル−2−(p−トリ
ル)エチルアミン(分割剤)24.7gを加え加熱溶解し、
室温まで冷却した後、析出した結晶を濾取、トルエンで
洗浄後、5%苛性ソーダ水溶液に溶解した。次いで、ト
ルエンで分割剤を抽出し、水層を5%硫酸水で酸性にし
た後、トルエンで抽出し、トルエンを留去するとトラン
ス/シス比=85/15、トランス体の光学純度は96%e.e.,
シス体の光学純度は95%e.e.の菊酸が15.1g(収率50.3%)
得られた。
ンク管にトリフルオロメタンスルホン酸銅18.05mg(0.0
5mmol)、ビス[4(R)-フェニル-2-オキサゾリン]メタン1
9.9mg(0.055mmol)、n-塩化ブチル5ml加えた後、室温に
て10分攪拌した。この後2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジ
エン30.0g(275mmol)をさらに添加した後,50℃にてジア
ゾ酢酸エチル5.70g(50mmol)を2時間かけて滴下した。
ジアゾ酢酸エチル滴下終了後,さらに1時間50℃にて攪
拌した。菊酸エチルエステルの生成量をガスクロマトグ
ラフィーにより定量すると8.43gであり,ジアゾ酢酸エ
チルに対する収率は86.0%,トランス/シス比=72/28で
あった。反応混合物より2,5-ジメチル−2,4−ヘキサジ
エン(沸点51℃/30mmHg)を留去後,濃縮液1gを分取し、
1規定水酸化ナトリウム水溶液10ml、エタノール5mlを
加え,100℃にて1時間攪拌しアルカリ加水分解し
た。得られた菊酸をl−メントールと反応させ生成する
ジアステレオマーエステルをガスクロマトグラフィーで
分析した。トランス体の光学純度は60%e.e.,シス体の光
学純度は27%e.e.であった。この菊酸エステルをアルカ
リ加水分解して得られる菊酸とトランスリッチなラセミ
菊酸(トランス/シス比=95/5)を重量比6:4の割
合で混合すると、トランス/シス比=82/18、トランス体
の光学純度は27%e.e.、シス体の光学純度は25%e.e.でと
なった。この混合された菊酸10.0gに、トルエンを104.5
g加えて攪拌溶解し、次いで(S)−1−フェニル−2−
(p−トリル)エチルアミン(分割剤)を7.48g加え加
熱溶解し、室温まで冷却した後、析出した結晶を濾取、
トルエンで洗浄後、5%苛性ソーダ水溶液に溶解した。
次いで、トルエンで分割剤を抽出し、水層を5%硫酸水
で酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエンを留去す
るとトランス/シス比=87/13、トランス体の光学純度
は95%e.e.,シス体の光学純度は97%e.e.の菊酸を4.19g
(収率41.9%)得た。
ンク管に酢酸銅一水和物9.98mg(0.05mmol)と、(R)−
N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(2−メト
キシフェニル)プロパノール21.5mgとから調製した銅錯
体22.6mg(0.05mmol)、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエ
ン6.0g(55mmol)を加え、フェニルヒドラジン5.4mg添加
した後,80℃にてジアゾ酢酸エチル1.14g(10mmol)を2
時間かけて滴下した。ジアゾ酢酸エチル滴下終了後,さ
らに1時間25℃にて攪拌した。菊酸エチルエステルの生
成量をガスクロマトグラフィーにより定量すると1.76g
であり,ジアゾ酢酸エチルに対する収率は90.0%,トラ
ンス/シス比=58/42であった。反応混合物より2,5-ジメ
チル−2,4−ヘキサジエン(沸点51℃/30mmHg)を留去
後,濃縮液1gを分取し、1規定水酸化ナトリウム水溶液
10ml、エタノール5mlを加え,100℃にて1時間攪拌
しアルカリ加水分解した。得られた菊酸をl−メントー
ルと反応させ生成するジアステレオマーエステルをガス
クロマトグラフィーで分析した。トランス体の光学純度
は63%e.e.,シス体の光学純度は63%e.e.であった。この
菊酸エステルをアルカリ加水分解して得られる菊酸とト
ランスリッチなラセミ菊酸(トランス/シス比=95/
5)を重量比4:6の割合で混合すると、トランス/シス
比=81/19、トランス体の光学純度は15%e.e.、シス体の
光学純度は53%e.e.となった。この混合された菊酸10.0g
にトルエンを106.2g加えて攪拌溶解し、次いで(S)−
1−フェニル−2−(p−トリル)エチルアミン(分割
剤)を7.40g加え加熱溶解し、室温まで冷却した後、析
出した結晶を濾取、トルエンで洗浄後、5%苛性ソーダ
水溶液に溶解した。次いで、トルエンで分割剤を抽出
し、水層を5%硫酸水で酸性にした後、トルエンで抽出
し、トルエンを留去するとトランス/シス比=81/19、
トランス体の光学純度は96%e.e.,シス体の光学純度は99
%e.e.の菊酸が4.02g(収率40.2%)得られた。
ンク管に酢酸銅一水和物9.98mg(0.05mmol)と、(R)−
N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジフェニルプ
ロパノール18.23mgとから調製した銅錯体19.64mg(0.05m
mol)、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン6.0g(55mmol)
を加え、フェニルヒドラジン5.4mg添加した後,50℃
にてジアゾ酢酸エチル1.14g(10mmol)を2時間かけて滴
下した。ジアゾ酢酸エチル滴下終了後,さらに1時間25
℃にて攪拌した。菊酸エチルエステルの生成量をガスク
ロマトグラフィーにより定量すると1.52gであり,ジア
ゾ酢酸エチルに対する収率は77.7%,トランス/シス比=
61/39であった。反応混合物より2,5-ジメチル−2,4−ヘ
キサジエン(沸点51℃/30mmHg)を留去後,濃縮液1gを分
取し、1規定水酸化ナトリウム水溶液10ml、エタノール
5mlを加え,100℃にて1時間攪拌しアルカリ加水分
解した。得られた菊酸をl−メントールと反応させ生成
するジアステレオマーエステルをガスクロマトグラフィ
ーで分析した。トランス体の光学純度は69%e.e.,シス体
の光学純度は68%e.e.であった。アルカリ加水分解して
得られる菊酸とトランスリッチなラセミ菊酸(トランス
/シス比=95/5)を重量比46:54の割合で混合す
ると、トランス/シス比=78/22、トランス体の光学純度
は24%e.e.、シス体の光学純度は59%e.e.となる。この混
合された菊酸に対し、トルエンを約10重量倍加えて攪
拌溶解し、次いで(S)−1−フェニル−2−(p−ト
リル)エチルアミン(分割剤)を菊酸の約0.69モル倍加
え加熱溶解し、室温まで冷却した後、析出した結晶を濾
取、トルエンで洗浄後、5%苛性ソーダ水溶液に溶解す
る。次いで、トルエンで分割剤を抽出し、水層を5%硫
酸水で酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエンを留
去するとトランス/シス比=約78/22、トランス体の光
学純度は約95%e.e.,シス体の光学純度は約99%e.e.の菊
酸を収率約46%で得ることができる。
ンク管に酢酸銅一水和物9.98mg(0.05mmol)と、(R)−
N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(2−n−
ブトキシ−5−t−ブチルフェニル)プロパノール32.3
3mg(0.055mmol)とから調製した銅錯体32.47mg(0.05mmo
l)を使用し、実施例5に準拠して行った。菊酸エチルエ
ステルの生成量をガスクロマトグラフィーにより定量す
ると1.64gであり,ジアゾ酢酸エチルに対する収率は83.
7%,トランス/シス比=57/43であった。反応混合物より
2,5-ジメチルー2,4ーヘキサジエン(沸点51℃/30mmHg)を
留去した後,濃縮液1gを分取し、1規定水酸化ナトリウ
ム水溶液10ml、エタノール5mlを加え,100℃にて1
時間攪拌しアルカリ加水分解した。得られた菊酸をl−
メントールと反応させ生成するジアステレオマーエステ
ルをガスクロマトグラフィーで分析した。トランス体の
光学純度は86%e.e.,シス体の光学純度は84%e.e.であっ
た。アルカリ加水分解して得られる菊酸とトランスリッ
チなラセミ菊酸(トランス/シス比=95/5)を重量比
51:49の割合で混合すると、トランス/シス比=76/2
4、トランス体の光学純度は33%e.e.、シス体の光学純度
は76%e.e.となる。この混合された菊酸に対し、トルエ
ンを約10重量倍加えて攪拌溶解し、次いで(S)−1−
フェニル−2−(p−トリル)エチルアミン(分割剤)
を菊酸の約0.68モル倍加え加熱溶解し、室温まで冷却し
た後、析出した結晶を濾取、トルエンで洗浄後、5%苛
性ソーダ水溶液に溶解する。次いで、トルエンで分割剤
を抽出し、水層を5%硫酸水で酸性にした後、トルエン
で抽出し、トルエンを留去するとトランス/シス比=約
72/28、トランス体の光学純度は約95%e.e.,シス体の光
学純度は約99%e.e.の菊酸を収率約51%で得ることができ
る。
比=75/25)100gに対し、トルエン390gを加えて攪拌溶解
し、次いで(S)−1−フェニル−2−(p−トリル)
エチルアミン(分割剤)47.0gを加え加熱溶解し、室温
まで冷却した後、析出した結晶を濾取、トルエンで洗浄
後、5%苛性ソーダ水溶液に溶解した。次いで、トルエ
ンで分割剤を抽出し、水層を5%硫酸水で酸性にした
後、トルエンで抽出し、トルエンを留去するとトランス
/シス比=80/20、トランス体の光学純度は96%e.e.,シ
ス体の光学純度は98%e.e.の菊酸が20.8g(収率20.8%)得
られた。
ンク管にトリフルオロメタンスルホン酸銅18.05mg(0.0
5mmol)、ビス[2-[4(R)-フェニル−5,5−ジメチル-2
-オキサゾリン]]メタン19.9mg(0.055mmol)、n-塩化ブチ
ル5ml加えた後、室温にて10分攪拌した。この後2,5−
ジメチル−2,4−ヘキサジエン6.0g(55mmol)をさらに添
加した後,25℃にてジアゾ酢酸(t-ブチル)1.41g(10mm
ol)を2時間かけて滴下した。ジアゾ酢酸t-ブチル滴下
終了後,さらに1時間25℃にて攪拌した。菊酸t-ブチル
エステルの生成量をガスクロマトグラフィーにより定量
すると1.86gであり,ジアゾ酢酸t-ブチルに対する収率
は83.1%,トランス/シス比=85/15であった。反応混合
物より2,5-ジメチル−2,4−ヘキサジエン(沸点51℃/30
mmHg)を留去した後,濃縮液を液体クロマトグラフィー
で光学純度を測定するとトランス体の光学純度は86%e.
e.,シス体の光学純度は67%e.e.であった。菊酸t−ブチ
ルをトリフルオロ酢酸で分解して得られる菊酸とトラン
スリッチなラセミ菊酸(トランス/シス比=95/5)を
重量比60:40の割合で混合すると、トランス/シス比=89
/11、トランス体の光学純度は49%e.e.、シス体の光学純
度は48%e.e.となる。この混合された菊酸に対し、トル
エンを約10重量倍を加えて攪拌溶解し、次いで(S)−
α−(1−ナフチル)−エチルアミン(分割剤)を菊酸
の約1.0モル倍、水を菊酸に対し8重量%加えて加熱溶解
し、室温まで冷却した後、析出した結晶を濾取、トルエ
ンで洗浄後、5%苛性ソーダ水溶液に溶解する。次い
で、トルエンで分割剤を抽出し、水層を5%硫酸水で酸
性にした後、トルエンで抽出し、トルエンを留去すると
トランス/シス比=約98/2、トランス体の光学純度約9
6%e.e.の菊酸を収率約57%で得ることができる。
ンク管に酢酸銅一水和物9.98mg(0.05mmol)と、(R)−
N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジフェニルプ
ロパノール18.23mgとから調製した銅錯体19.64mg(0.05m
mol)、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン6.0g(55mmol)
を加え、フェニルヒドラジン5.4mg添加した後,50℃
にてジアゾ酢酸エチル1.14g(10mmol)を2時間かけて滴
下した。ジアゾ酢酸エチル滴下終了後,さらに1時間25
℃にて攪拌した。菊酸エチルエステルの生成量をガスク
ロマトグラフィーにより定量すると1.52gであり,ジア
ゾ酢酸エチルに対する収率は77.7%,トランス/シス比=
61/39であった。反応混合物より2,5-ジメチル−2,4−ヘ
キサジエン(沸点51℃/30mmHg)を留去後,濃縮液1gを分
取し、1規定水酸化ナトリウム水溶液10ml、エタノール
5mlを加え,100℃にて1時間攪拌しアルカリ加水分
解した。得られた菊酸をl−メントールと反応させ生成
するジアステレオマーエステルをガスクロマトグラフィ
ーで分析した。トランス体の光学純度は69%e.e.,シス体
の光学純度は68%e.e.であった。アルカリ加水分解して
得られる菊酸とトランスリッチなラセミ菊酸(トランス
/シス比=95/5)を重量比43:57の割合で混合する
と、トランス/シス比=80/20、トランス体の光学純度は2
3%e.e.、シス体の光学純度は74%e.e.となる。この混合
された菊酸に対し、トルエンを菊酸の約7重量倍を加え
て攪拌溶解し、次いで(S)−α−(1−ナフチル)−
エチルアミン(分割剤)を菊酸の約1.0モル倍、水を菊
酸に対し8重量%加えて加熱溶解し、室温まで冷却した
後、析出した結晶を濾取、トルエンで洗浄後、5%苛性
ソーダ水溶液に溶解する。次いで、トルエンで分割剤を
抽出し、水層を5%硫酸水で酸性にした後、トルエンで
抽出し、トルエンを留去するとトランス/シス比=約98
/2、トランス体の光学純度約96%e.e.の菊酸を収率約40
%で得ることができる。
比=79/21)16.3gに対し、トルエン65.0gを加えて攪拌溶
解し、次いで(S)−α−(1−ナフチル)−エチルア
ミン(分割剤)16.0g、および水1.3gを加えて加熱溶解
し、室温まで冷却した後、析出した結晶を濾取、トルエ
ンで洗浄後、5%苛性ソーダ水溶液に溶解した。次い
で、トルエンで分割剤を抽出し、水層を5%硫酸水で酸
性にした後、トルエンで抽出し、トルエンを留去すると
トランス/シス比=98/2、トランス体の光学純度は97%
e.e.,シス体の光学純度は73%e.e.の菊酸の菊酸が4.13g
(収率25.3%)得られた。
Claims (7)
- 【請求項1】トランス体比率50%以上かつ光学純度が 10
%e.e.以上である菊酸を光学活性有機アミンを作用させ
て光学分割することを特徴とする光学活性な菊酸の製造
方法。 - 【請求項2】トランス体比率60-95%かつ光学純度が15-9
0%e.e.である菊酸を用いる請求項1記載の光学活性な菊
酸の製造方法。 - 【請求項3】光学分割剤が一般式(1) (式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基またはアリール基を示し、X、Yはそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す。*は不斉炭素であることを表わ
す。)で示される光学活性有機アミンまたは一般式
(2) (式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基またはアリール基を示し、R3は炭素数1−
6のアルキル基を示す。*は不斉炭素であることを表わ
す。)で示される光学活性有機アミンまたは一般式
(3) (式中、R4はナフチル基、シクロヘキシル基;または
ハロゲン、ニトロ、低級アルキル基もしくは低級アルコ
キシで置換されていてもよいフェニル基を表わし、R5
は低級アルキル基または低級アルキル基で置換されてい
てもよいベンジル基を表わす。R6は、R5が低級アルキ
ル基である場合はp-ヒドロキシフェニル基または2-ヒド
ロキシ-3-低級アルコキシフェニル基を表わし、R5が低
級アルキル基で置換されていてもよいベンジル基である
場合はp-ヒドロキシフェニル基を表わす。*は不斉炭素
であることを表わす。)で示される光学活性有機アミン
または、一般式(4) (式中、R1,R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基を示す。*は不斉炭素であるこ
とを表わす。)で示される光学活性有機アミンである請
求項1記載の光学活性な菊酸の製造方法。 - 【請求項4】不斉銅錯体の存在下、2,5−ジメチル−
2,4−ヘキサジエンと一般式(5) N2CHC02R7 (5) (式中、R7は炭素数1−6のアルキル基またはシクロ
アルキル基を示す。)で示されるジアゾ酢酸エステル類
とを反応させて光学活性な菊酸エステル類を製造し(シ
クロプロパン化工程)、これをアルカリまたは酸分解に
よって菊酸とし(分解工程)、つづいて前記一般式
(1)、一般式(2)、一般式(3)または、一般式
(4)から選ばれる少なくとも一つの光学活性有機アミ
ンを用いて光学分割(光学分割工程)することを特徴と
する光学活性な菊酸の製造方法。 - 【請求項5】不斉銅錯体の配位子が一般式(6) (式中、R8、R9は相異なり、置換されていてもよいフ
ェニル基または水素原子を示し、R10、R11は水素原
子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていても
よいフェニル基またはアラルキル基を示し、あるいはR
10とR11が結合して環状アルキレン基を形成していても
よい。R12は水素原子またはアルキル基を示す。)で示
される光学活性なビスオキサゾリン化合物である請求項
4記載の製造方法。 - 【請求項6】不斉銅錯体の配位子が一般式(7) (式中、R13、R14はそれぞれアルキル基、アラルキル
基またはアリール基を示し、Zは水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アラルキル基またはア
リール基を示す。*は不斉炭素であることを表わす。)
で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化
合物である請求項4記載の製造方法。 - 【請求項7】不斉銅錯体の配位子が一般式(8) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基を示し、m
は1〜3の整数を示す。*は不斉炭素であることを表わ
す。)で示される光学活性なエチレンジアミン化合物で
ある請求項4記載の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP02234899A JP4576642B2 (ja) | 1998-01-29 | 1999-01-29 | 光学活性な菊酸の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP10-16787 | 1998-01-29 | ||
| JP1678798 | 1998-01-29 | ||
| JP02234899A JP4576642B2 (ja) | 1998-01-29 | 1999-01-29 | 光学活性な菊酸の製造方法 |
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| JPH11279111A true JPH11279111A (ja) | 1999-10-12 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02234899A Expired - Fee Related JP4576642B2 (ja) | 1998-01-29 | 1999-01-29 | 光学活性な菊酸の製造方法 |
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