JPH11282115A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法Info
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- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ランニング処理で汚れが発生せず、低補充で
も最高濃度が低下、カブリ増加または網点品質劣化がな
く、かつ固体化された場合にも使用時に微粉の発生のな
い感光材料の処理方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）などで表される化合物
の１種を含有するハロゲン化銀写真感光材料を処理する
にあたり、実質的にジヒドロキシベンゼン類を含有せ
ず、下記一般式（３）で表される化合物を含有する処理
剤で処理することを特徴とする。
も最高濃度が低下、カブリ増加または網点品質劣化がな
く、かつ固体化された場合にも使用時に微粉の発生のな
い感光材料の処理方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）などで表される化合物
の１種を含有するハロゲン化銀写真感光材料を処理する
にあたり、実質的にジヒドロキシベンゼン類を含有せ
ず、下記一般式（３）で表される化合物を含有する処理
剤で処理することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料（以下、単に感光材料ともいう）の自動現像機に
よる処理方法に関し、特に固体処理剤を使用した感光材
料の処理方法に関する。
光材料（以下、単に感光材料ともいう）の自動現像機に
よる処理方法に関し、特に固体処理剤を使用した感光材
料の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に感光材料は露光後、現像、定着、
水洗或いは安定化及び乾燥工程により処理される。処理
は通常自動現像機を用いた連続処理で処理される。その
ため、処理液の活性度を一定に保つため、処理液を補充
する方法が一般に広く用いられている。処理液の補充は
処理される感光材料からの溶出物の希釈、蒸発量の補充
及び消費成分の補充を目的としている。
水洗或いは安定化及び乾燥工程により処理される。処理
は通常自動現像機を用いた連続処理で処理される。その
ため、処理液の活性度を一定に保つため、処理液を補充
する方法が一般に広く用いられている。処理液の補充は
処理される感光材料からの溶出物の希釈、蒸発量の補充
及び消費成分の補充を目的としている。
【０００３】このような現像液は、通常、濃縮状態で製
造、輸送、保管され、使用時に一定の水で希釈して現像
開始液または現像補充液として用いられる。
造、輸送、保管され、使用時に一定の水で希釈して現像
開始液または現像補充液として用いられる。
【０００４】印刷用原稿などの硬調画像を得るための感
光材料の現像処理の多くは、ハイドロキノンなどのジヒ
ドロキシベンゼン類を現像主薬として用い、補助現像剤
としてピラゾリドン系化合物又はメトールと組み合わせ
た現像液が用いられる。特に硬調化剤として感光材料中
にヒドラジン化合物を含有する場合、前記の現像液で処
理を行うことが一般的になされてきた。
光材料の現像処理の多くは、ハイドロキノンなどのジヒ
ドロキシベンゼン類を現像主薬として用い、補助現像剤
としてピラゾリドン系化合物又はメトールと組み合わせ
た現像液が用いられる。特に硬調化剤として感光材料中
にヒドラジン化合物を含有する場合、前記の現像液で処
理を行うことが一般的になされてきた。
【０００５】しかしながら、ジヒドロキシベンゼン系化
合物を現像主薬として用いる場合、現像液が経時により
ポリマー化して黒化し、処理中の感光材料に付着するこ
とによるランニング汚れが発生するという問題があっ
た。米国特許第５，２３６，８１５号にはアスコルビン
酸及びその誘導体を現像主薬に用いた技術が開示されて
いる。
合物を現像主薬として用いる場合、現像液が経時により
ポリマー化して黒化し、処理中の感光材料に付着するこ
とによるランニング汚れが発生するという問題があっ
た。米国特許第５，２３６，８１５号にはアスコルビン
酸及びその誘導体を現像主薬に用いた技術が開示されて
いる。
【０００６】しかし、近年の低補充化の傾向に伴い、低
補充での処理で最高感度が大幅に低下したり、カブリが
増加するなどの扱いにくいものとなっている。又、写真
性能上においても、近年のスキャナーフィルムの画質に
おいて、網点品質の劣化という重大な問題があり、解決
が強く望まれていた。
補充での処理で最高感度が大幅に低下したり、カブリが
増加するなどの扱いにくいものとなっている。又、写真
性能上においても、近年のスキャナーフィルムの画質に
おいて、網点品質の劣化という重大な問題があり、解決
が強く望まれていた。
【０００７】また一方、液体処理剤の容器として用いら
れるプラスチックボトルは、液体危険物の輸送に対する
安全性や使用後の廃棄に対する規制が強化され、固体処
理剤の開発が強く求められているが、固体処理剤では微
粉の発生が多いという問題を生じていた。
れるプラスチックボトルは、液体危険物の輸送に対する
安全性や使用後の廃棄に対する規制が強化され、固体処
理剤の開発が強く求められているが、固体処理剤では微
粉の発生が多いという問題を生じていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ラン
ニング処理で汚れが発生せず、低補充でも最高濃度が低
下、カブリ増加または網点品質劣化がなく、かつ固体化
された場合にも使用時に微粉の発生のない感光材料の処
理方法を提供することにある。
ニング処理で汚れが発生せず、低補充でも最高濃度が低
下、カブリ増加または網点品質劣化がなく、かつ固体化
された場合にも使用時に微粉の発生のない感光材料の処
理方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成される。
下の構成により達成される。
【００１０】１．下記一般式（１）または一般式（２）
で表される化合物の少なくとも１種を含有するハロゲン
化銀写真感光材料を実質的にジヒドロキシベンゼン類を
含有せず、下記一般式（３）で表される化合物を含有す
る処理剤で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法。
で表される化合物の少なくとも１種を含有するハロゲン
化銀写真感光材料を実質的にジヒドロキシベンゼン類を
含有せず、下記一般式（３）で表される化合物を含有す
る処理剤で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法。
【００１１】
【化５】
【００１２】式中、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3は、各々、独立に−
Ｎ（Ｒ5）−基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テ
ルル原子を表し、Ｚ1は縮合されてもよい５〜６員の含
窒素複素環基を形成するに必要な非金属原子群を表す。
Ｒ1は水可溶化基を置換した炭素数８以下の脂肪族基を
表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、脂肪族基、アリー
ル基又は複素環基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のうち
の少なくとも二つの基は水可溶化基で置換された基であ
る。
Ｎ（Ｒ5）−基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テ
ルル原子を表し、Ｚ1は縮合されてもよい５〜６員の含
窒素複素環基を形成するに必要な非金属原子群を表す。
Ｒ1は水可溶化基を置換した炭素数８以下の脂肪族基を
表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、脂肪族基、アリー
ル基又は複素環基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のうち
の少なくとも二つの基は水可溶化基で置換された基であ
る。
【００１３】Ｗは酸素原子、硫黄原子または＝Ｃ＜（Ｅ
1）（Ｅ2）基を表し、Ｅ1及びＥ2は各々、独立に電子吸
引性の基を表すか又は、互いに結合してケト環又は酸性
の複素環を形成してもよい。Ｌ1、Ｌ2は各々、独立に置
換または無置換のメチン基を表し、ｍ1は０又は１を表
し、Ｍ1は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオン
を表し、ｎ1は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイ
オンの数を表す。
1）（Ｅ2）基を表し、Ｅ1及びＥ2は各々、独立に電子吸
引性の基を表すか又は、互いに結合してケト環又は酸性
の複素環を形成してもよい。Ｌ1、Ｌ2は各々、独立に置
換または無置換のメチン基を表し、ｍ1は０又は１を表
し、Ｍ1は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオン
を表し、ｎ1は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイ
オンの数を表す。
【００１４】
【化６】
【００１５】式中、Ｙ4、Ｙ5及びＹ6は、各々、独立に
−Ｎ（Ｒ10）−基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子を
表し、Ｚ2は縮合されてもよ５〜６員の含窒素複素環基
を形成するに必要な非金属原子群を表す。Ｒ6は水可溶
化基を置換した炭素数８以下の脂肪族基を表す。Ｒ10、
Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々、脂肪族基、アリール基又は複
素環基を表し、Ｒ10、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9のうちの少なく
とも三つの基は、水可溶化基を置換した基を表す。
−Ｎ（Ｒ10）−基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子を
表し、Ｚ2は縮合されてもよ５〜６員の含窒素複素環基
を形成するに必要な非金属原子群を表す。Ｒ6は水可溶
化基を置換した炭素数８以下の脂肪族基を表す。Ｒ10、
Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々、脂肪族基、アリール基又は複
素環基を表し、Ｒ10、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9のうちの少なく
とも三つの基は、水可溶化基を置換した基を表す。
【００１６】Ｌ3、Ｌ4は各々、独立に置換または無置換
のメチン基を表し、Ｍ2は分子内の総電荷を相殺させる
に必要なイオンを表し、ｎ2は分子内の総電荷を相殺さ
せるに必要なイオンの数を表す。
のメチン基を表し、Ｍ2は分子内の総電荷を相殺させる
に必要なイオンを表し、ｎ2は分子内の総電荷を相殺さ
せるに必要なイオンの数を表す。
【００１７】
【化７】
【００１８】式中、Ｒ31、Ｒ32は各々独立して置換又は
無置換のアルキル基、置換又は無置換のアミノ基、置換
又は無置換のアルコキシ基、置換又は無置換のアルキル
チオ基又はＲ31とＲ32が互いに結合して環を形成しても
良く、ｋは０又は１を表し、ｋ＝１のときＸは−ＣＯ−
又は−ＣＳ−を表し、Ｍ31、Ｍ32は水素原子又はアルカ
リ金属原子を表す。
無置換のアルキル基、置換又は無置換のアミノ基、置換
又は無置換のアルコキシ基、置換又は無置換のアルキル
チオ基又はＲ31とＲ32が互いに結合して環を形成しても
良く、ｋは０又は１を表し、ｋ＝１のときＸは−ＣＯ−
又は−ＣＳ−を表し、Ｍ31、Ｍ32は水素原子又はアルカ
リ金属原子を表す。
【００１９】２．前記ハロゲン化銀写真感光材料中に、
下記一般式（４）で表される化合物を含有することを特
徴とする１に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
下記一般式（４）で表される化合物を含有することを特
徴とする１に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
【００２０】
【化８】
【００２１】式中、Ａは脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環
基を表し、置換基を有してもよい。Ｂはアシル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルス
フィニル基、アリールスルフィニル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、スルファモイル基、スルフィナモイル基、アルコ
キシスルホニル基、チオアシル基、チオカルバモイル
基、オキザリル基又はヘテロ環基を表す。また、ＢはＡ
42及びそれらが結合する窒素原子とともに、ヘテロ環を
形成してもよい。Ａ41、Ａ42はともに水素原子又は一方
が水素原子で他方はアシル基又はオキサゾリル基を表
す。
基を表し、置換基を有してもよい。Ｂはアシル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルス
フィニル基、アリールスルフィニル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、スルファモイル基、スルフィナモイル基、アルコ
キシスルホニル基、チオアシル基、チオカルバモイル
基、オキザリル基又はヘテロ環基を表す。また、ＢはＡ
42及びそれらが結合する窒素原子とともに、ヘテロ環を
形成してもよい。Ａ41、Ａ42はともに水素原子又は一方
が水素原子で他方はアシル基又はオキサゾリル基を表
す。
【００２２】３．前記処理方法における処理剤が固体処
理剤であることを特徴とする１又は２に記載のハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
理剤であることを特徴とする１又は２に記載のハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
【００２３】４．前記固体処理剤中に、下記一般式
（７）で表される化合物を含有することを特徴とする３
に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
（７）で表される化合物を含有することを特徴とする３
に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【００２４】一般式（７） Ｒ71−（Ｏ）ｎ71−ＳＯ3Ｍ71 式中、Ｒ71は直鎖又は分岐のアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基を表し、ｎ71は０または１を表し、Ｍ
71は水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を表
す。
基、アルキニル基を表し、ｎ71は０または１を表し、Ｍ
71は水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を表
す。
【００２５】以下、本発明を詳述する。
【００２６】本発明の一般式（１）又は（２）で表され
る本発明の化合物について説明する。
る本発明の化合物について説明する。
【００２７】一般式（１）、（２）において、Ｒ5、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ10、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9で表
わされる脂肪族基としては例えば、炭素原子数１〜１０
の分岐或は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｎ−ペンチル、イソブチル等の各
基）、炭素原子数３〜１０のアルケニル基（例えば、３
−ブテニル、２−プロペニル等の各基）或は炭素原子数
３〜１０のアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチ
ル等の各基）が挙げられる。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ10、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9で表
わされる脂肪族基としては例えば、炭素原子数１〜１０
の分岐或は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｎ−ペンチル、イソブチル等の各
基）、炭素原子数３〜１０のアルケニル基（例えば、３
−ブテニル、２−プロペニル等の各基）或は炭素原子数
３〜１０のアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチ
ル等の各基）が挙げられる。
【００２８】Ｒ5、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ10、Ｒ6、Ｒ
7、Ｒ8及びＲ9で表わされるアリール基としては例え
ば、フェニル基が挙げられ、複素環基としては例えば、
ピリジル基（２−、４−）、フリル基（２−）、チエニ
ル基（２−）、スルホラニル基、テトラヒドロフリル
基、ピペリジニル基等が挙げられる。Ｒ5、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ10、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9の各基は、ハロ
ゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基
等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−
トリルオキシ基等）、シアノ基、カルバモイル基（例え
ば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，
Ｎ−テトラメチレンカルバモイル基等）、スルファモイ
ル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−３−オキサ
ペンタメチレンアミノスルホニル基等）、メタンスルホ
ニル基、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アリール基
（例えば、フェニル基、カルボキシフェニル基等）、ア
シル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）等の置
換基で置換されていても良い。
7、Ｒ8及びＲ9で表わされるアリール基としては例え
ば、フェニル基が挙げられ、複素環基としては例えば、
ピリジル基（２−、４−）、フリル基（２−）、チエニ
ル基（２−）、スルホラニル基、テトラヒドロフリル
基、ピペリジニル基等が挙げられる。Ｒ5、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ10、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9の各基は、ハロ
ゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基
等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−
トリルオキシ基等）、シアノ基、カルバモイル基（例え
ば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，
Ｎ−テトラメチレンカルバモイル基等）、スルファモイ
ル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−３−オキサ
ペンタメチレンアミノスルホニル基等）、メタンスルホ
ニル基、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アリール基
（例えば、フェニル基、カルボキシフェニル基等）、ア
シル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）等の置
換基で置換されていても良い。
【００２９】Ｒ5、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ10、Ｒ6、Ｒ
7、Ｒ8及びＲ9に置換する水可溶化基としては例えばス
ルホ基、カルボキシ基、ホスフォノ基、スルファート
基、スルフィノ基等の各酸基が挙げられる。
7、Ｒ8及びＲ9に置換する水可溶化基としては例えばス
ルホ基、カルボキシ基、ホスフォノ基、スルファート
基、スルフィノ基等の各酸基が挙げられる。
【００３０】水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例
として、カルボキシメチル、スルホエチル、スルホプロ
ピル、スルホブチル、スルホペンチル、３−スルホブチ
ル、６−スルホ−３−オキサヘキシル、ω−スルホプロ
ポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピルアミノ
カルボニルメチル、３−スルフィノブチル、３−ホスフ
ォノプロピル、４−スルホ−３−ブテニル、２−カルボ
キシ−２−プロペニル、ｏ−スルホベンジル、ｐ−スル
ホフェネチル、ｐ−カルボキシベンジル等の各基があ
り、水可溶化基を置換したアリール基の具体的例とし
て、ｐ−スルホフェニル基、ｐ−カルボキシフェニル基
等の各基があり、水可溶化基を置換した複素環基の具体
的例として、４−スルホチエニル基、５−カルボキシピ
リジル基等の各基がある。
として、カルボキシメチル、スルホエチル、スルホプロ
ピル、スルホブチル、スルホペンチル、３−スルホブチ
ル、６−スルホ−３−オキサヘキシル、ω−スルホプロ
ポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピルアミノ
カルボニルメチル、３−スルフィノブチル、３−ホスフ
ォノプロピル、４−スルホ−３−ブテニル、２−カルボ
キシ−２−プロペニル、ｏ−スルホベンジル、ｐ−スル
ホフェネチル、ｐ−カルボキシベンジル等の各基があ
り、水可溶化基を置換したアリール基の具体的例とし
て、ｐ−スルホフェニル基、ｐ−カルボキシフェニル基
等の各基があり、水可溶化基を置換した複素環基の具体
的例として、４−スルホチエニル基、５−カルボキシピ
リジル基等の各基がある。
【００３１】これらにおいて、Ｒ1及びＲ6はスルホ基で
置換されたアルキル基であり、Ｒ5Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ10、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9のいづれか少なくとも二つの基
が各々、カルボキシメチル基であるものが好ましい。
置換されたアルキル基であり、Ｒ5Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ10、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9のいづれか少なくとも二つの基
が各々、カルボキシメチル基であるものが好ましい。
【００３２】Ｚ1、Ｚ2で表わされる置換基、並びに形成
される縮合環上には任意の位置に置換基を有していても
良く、例えば、ハロゲン原子（フッソ原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子）、トリフルオロメチル基、アルコ
キシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の非
置換アルキル各基、２−メトキシエトキシ、ベンジルオ
キシ等の置換アルコキシ各基）、ヒドロキシ基、シアノ
基、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、トリルオ
キシ等の置換、非置換の各基）、またはアリール基（例
えば、フェニル、ｐ−クロロフェニル等の置換、非置換
の各基）、スチリル基、複素環基（例えば、フリル、チ
エニル等の各基）、カルバモイル基（例えば、カルバモ
イル、Ｎ−エチルカルバモイル等の各基）、スルファモ
イル基（例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルス
ルファモイル等の各基）、アシルアミノ基（例えば、ア
セチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ
等の各基）、アシル基（例えばアセチル、ベンゾイル等
の各基）、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキシ
カルボニル等の基）、スルホンアミド基（例えば、メタ
ンスルホニルアミド、ベンゼンスルホンアミド等の各
基）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｐ−
トルエンスルホニル等の各基）、カルボキシ基等の任意
の基が挙げられる。一般式（１）におけるｍ1は０又は
１である。
される縮合環上には任意の位置に置換基を有していても
良く、例えば、ハロゲン原子（フッソ原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子）、トリフルオロメチル基、アルコ
キシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の非
置換アルキル各基、２−メトキシエトキシ、ベンジルオ
キシ等の置換アルコキシ各基）、ヒドロキシ基、シアノ
基、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、トリルオ
キシ等の置換、非置換の各基）、またはアリール基（例
えば、フェニル、ｐ−クロロフェニル等の置換、非置換
の各基）、スチリル基、複素環基（例えば、フリル、チ
エニル等の各基）、カルバモイル基（例えば、カルバモ
イル、Ｎ−エチルカルバモイル等の各基）、スルファモ
イル基（例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルス
ルファモイル等の各基）、アシルアミノ基（例えば、ア
セチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ
等の各基）、アシル基（例えばアセチル、ベンゾイル等
の各基）、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキシ
カルボニル等の基）、スルホンアミド基（例えば、メタ
ンスルホニルアミド、ベンゼンスルホンアミド等の各
基）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｐ−
トルエンスルホニル等の各基）、カルボキシ基等の任意
の基が挙げられる。一般式（１）におけるｍ1は０又は
１である。
【００３３】Ｌ1、Ｌ2及びＬ3、Ｌ4で表わされるメチン
炭素に置換される基としては、例えば、低級アルキル基
（例えば、メチル、エチル等の各基）、フェニル基（例
えば、フェニル、カルボキシフェニル等の各基）、アル
コキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ等の各基）、ア
ラルキル（例えば、ベンジル等の基）等の基がある。
炭素に置換される基としては、例えば、低級アルキル基
（例えば、メチル、エチル等の各基）、フェニル基（例
えば、フェニル、カルボキシフェニル等の各基）、アル
コキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ等の各基）、ア
ラルキル（例えば、ベンジル等の基）等の基がある。
【００３４】本発明の色素は、Ｌ1及びＬ2及びＬ3、Ｌ4
で示されるメチン炭素のいづれか一方が置換されている
場合に、概して高い分光感度が得られ、色素が処理浴中
で漂白され易い特性を与えることが分かり、残色汚染を
軽減させる好ましい効果を有する。
で示されるメチン炭素のいづれか一方が置換されている
場合に、概して高い分光感度が得られ、色素が処理浴中
で漂白され易い特性を与えることが分かり、残色汚染を
軽減させる好ましい効果を有する。
【００３５】Ｍ1及びＭ2は各々、カチオンあるいは酸ア
ニオンを表し、カチオンの具体例としてはプロトン、有
機アンモニウムイオン（例えばトリエチルアンモニウ
ム、トリエタノールアンモニウム等の各イオン）、無機
カチオン（例えばリチウム、ナトリウム、カルシウム等
の各カチオン）が挙げられ、酸アニオンの具体例として
は例えばハロゲンイオン（例えば塩素イオン、臭素イオ
ン、沃素イオン等）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、
過塩素酸イオン、４−フッ化ホウ素イオン等が挙げられ
る。ｎ1及びｎ2は分子内塩を形成して電荷が中和される
場合は０となる。
ニオンを表し、カチオンの具体例としてはプロトン、有
機アンモニウムイオン（例えばトリエチルアンモニウ
ム、トリエタノールアンモニウム等の各イオン）、無機
カチオン（例えばリチウム、ナトリウム、カルシウム等
の各カチオン）が挙げられ、酸アニオンの具体例として
は例えばハロゲンイオン（例えば塩素イオン、臭素イオ
ン、沃素イオン等）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、
過塩素酸イオン、４−フッ化ホウ素イオン等が挙げられ
る。ｎ1及びｎ2は分子内塩を形成して電荷が中和される
場合は０となる。
【００３６】Ｅ1及びＥ2で表される電子吸引性の基とし
てはハメットσp値が０．３より大きな基から選択さ
れ、具体的にはシアノ基、カルバモイル基（例えば、カ
ルバモイル基、モルホリノカルボニル基、Ｎ−メチルカ
ルバモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、ス
ルファモイル基（例えば、スルファモイル基、モルフォ
リノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基
等）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基
等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、エ
タンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基等）等が挙げられる。
てはハメットσp値が０．３より大きな基から選択さ
れ、具体的にはシアノ基、カルバモイル基（例えば、カ
ルバモイル基、モルホリノカルボニル基、Ｎ−メチルカ
ルバモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、ス
ルファモイル基（例えば、スルファモイル基、モルフォ
リノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基
等）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基
等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、エ
タンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基等）等が挙げられる。
【００３７】ハメットσp値はＨａｍｍｅｔｔ等によっ
て安息香酸エステルの加水分解に及ぼす置換基の電子的
効果から求められた置換基定数であり、ジャーナル・オ
ブ・オーガニック・ケミストリー，２３巻，４２０−４
２７（１９５８）、実験化学講座１４巻（丸善出版
社）、フィジカル・オーガニック・ケミストリー（Ｍｃ
Ｇｒａｗ Ｈｉｌｌ Ｂｏｏｋ社，１９４０年）、ドラ
ックデザイン，VII巻（Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ
Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９７６）、薬物の構造活性相関
（南江堂１９７９年）等に詳しく記載されている。
て安息香酸エステルの加水分解に及ぼす置換基の電子的
効果から求められた置換基定数であり、ジャーナル・オ
ブ・オーガニック・ケミストリー，２３巻，４２０−４
２７（１９５８）、実験化学講座１４巻（丸善出版
社）、フィジカル・オーガニック・ケミストリー（Ｍｃ
Ｇｒａｗ Ｈｉｌｌ Ｂｏｏｋ社，１９４０年）、ドラ
ックデザイン，VII巻（Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ
Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９７６）、薬物の構造活性相関
（南江堂１９７９年）等に詳しく記載されている。
【００３８】Ｅ1及びＥ2で形成されるケト環、並びに酸
性の複素環としては例えば以下に示す化合物群が挙げら
れる。
性の複素環としては例えば以下に示す化合物群が挙げら
れる。
【００３９】
【化９】
【００４０】式中、Ｒa及びＲbは各々、低級アルキル
基、アリール基、複素環基を表し、低級アルキル基の具
体例としてはメチル、エチル、プロピル、２−ヒドロキ
シエチル、２−メトキシエチル、トリフルオロエチル、
アリル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、２−ス
ルホエチル、ベンジル等の置換・非置換の各基が挙げら
れる。アリール基、複素環基としては、前記Ｒ1〜Ｒ4な
どで示した内容のものが挙げられる。
基、アリール基、複素環基を表し、低級アルキル基の具
体例としてはメチル、エチル、プロピル、２−ヒドロキ
シエチル、２−メトキシエチル、トリフルオロエチル、
アリル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、２−ス
ルホエチル、ベンジル等の置換・非置換の各基が挙げら
れる。アリール基、複素環基としては、前記Ｒ1〜Ｒ4な
どで示した内容のものが挙げられる。
【００４１】次に本発明の一般式（１）及び（２）で表
される増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
される増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】
【００４４】
【化１２】
【００４５】
【化１３】
【００４６】
【化１４】
【００４７】
【化１５】
【００４８】
【化１６】
【００４９】
【化１７】
【００５０】
【化１８】
【００５１】
【化１９】
【００５２】
【化２０】
【００５３】
【化２１】
【００５４】
【化２２】
【００５５】
【化２３】
【００５６】上記の化合物は、例えばエフ・エム・ハー
マ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・コン
パウンズ」（１９６４，インター・サイエンス・パブリ
ッシャーズ発刊）、米国特許２，４５４，６２９号、同
２，４９３，７４８号、英国特許４８９，３３５号、欧
州特許７３０，００８号等に記載された従来公知の方法
を参考にして容易に合成することができる。
マ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・コン
パウンズ」（１９６４，インター・サイエンス・パブリ
ッシャーズ発刊）、米国特許２，４５４，６２９号、同
２，４９３，７４８号、英国特許４８９，３３５号、欧
州特許７３０，００８号等に記載された従来公知の方法
を参考にして容易に合成することができる。
【００５７】次に本発明の一般式（３）の化合物につい
て説明する。
て説明する。
【００５８】本発明の現像液は、実質的にジヒドロキシ
ベンゼン類を含有せず、現像剤として前記一般式（３）
で表される化合物を含有する。ここで、実質的にジヒド
ロキシベンゼン類を含有せずとは、全く含有しないか、
もしくはアレルギー作用や現像効果を発現しない程度に
含有するものを言うが、本発明においては全く含有しな
いものが好ましい。
ベンゼン類を含有せず、現像剤として前記一般式（３）
で表される化合物を含有する。ここで、実質的にジヒド
ロキシベンゼン類を含有せずとは、全く含有しないか、
もしくはアレルギー作用や現像効果を発現しない程度に
含有するものを言うが、本発明においては全く含有しな
いものが好ましい。
【００５９】一般式（３）において、Ｒ31、Ｒ32は各々
独立して置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換
のアミノ基、置換又は無置換のアルコキシ基、置換又は
無置換のアルキルチオ基又はＲ31とＲ32が互いに結合し
て環を形成しても良く、ｋは０又は１を表し、ｋ＝１の
ときＸは−ＣＯ−又は−ＣＳ−を表す。また、Ｍ31、Ｍ
32のいずれか１個は水素原子又はアルカリ金属原子（例
えば、ナトリウム原子、カリウム原子等）である。
独立して置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換
のアミノ基、置換又は無置換のアルコキシ基、置換又は
無置換のアルキルチオ基又はＲ31とＲ32が互いに結合し
て環を形成しても良く、ｋは０又は１を表し、ｋ＝１の
ときＸは−ＣＯ−又は−ＣＳ−を表す。また、Ｍ31、Ｍ
32のいずれか１個は水素原子又はアルカリ金属原子（例
えば、ナトリウム原子、カリウム原子等）である。
【００６０】一般式（３）において、Ｒ31とＲ32が互い
に結合して環を形成した下記一般式（３−ａ）で表され
る化合物が好ましい。
に結合して環を形成した下記一般式（３−ａ）で表され
る化合物が好ましい。
【００６１】
【化２４】
【００６２】一般式（３−ａ）において、Ｒ33は水素原
子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のア
リール基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換
のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基を表し、Ｙ31はＯ又はＳを表し、
Ｙ32はＯ、Ｓ又はＮＲ34を表す。Ｒ34は置換又は無置換
のアルキル基、置換又は無置換のアリール基を表す。ま
た、Ｍ33、Ｍ34のいずれか１個は水素原子又はアルカリ
金属原子（例えば、ナトリウム原子、カリウム原子等）
である。
子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のア
リール基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換
のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基を表し、Ｙ31はＯ又はＳを表し、
Ｙ32はＯ、Ｓ又はＮＲ34を表す。Ｒ34は置換又は無置換
のアルキル基、置換又は無置換のアリール基を表す。ま
た、Ｍ33、Ｍ34のいずれか１個は水素原子又はアルカリ
金属原子（例えば、ナトリウム原子、カリウム原子等）
である。
【００６３】一般式（３）又は一般式（３−ａ）におけ
るアルキル基としては、低級アルキル基が好ましく、特
に炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、アミノ基とし
ては無置換のアミノ基あるいは低級アルコキシ基が好ま
しく、アリール基としては好ましくはフェニル基あるい
はナフチル基等であり、これらの基は置換基を有してい
てもよく、置換し得る基としてはヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、ア
ミド基、スルホンアミド基等が好ましい置換基として挙
げられる。また、Ｍ31、Ｍ32のいずれか１個は水素原子
又はアルカリ金属原子（例えば、ナトリウム原子、カリ
ウム原子等）である。
るアルキル基としては、低級アルキル基が好ましく、特
に炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、アミノ基とし
ては無置換のアミノ基あるいは低級アルコキシ基が好ま
しく、アリール基としては好ましくはフェニル基あるい
はナフチル基等であり、これらの基は置換基を有してい
てもよく、置換し得る基としてはヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、ア
ミド基、スルホンアミド基等が好ましい置換基として挙
げられる。また、Ｍ31、Ｍ32のいずれか１個は水素原子
又はアルカリ金属原子（例えば、ナトリウム原子、カリ
ウム原子等）である。
【００６４】本発明に係る前記一般式（３）又は一般式
（３−ａ）で表される化合物の具体的化合物を以下に各
一般式の置換基を示すことにより示すが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
（３−ａ）で表される化合物の具体的化合物を以下に各
一般式の置換基を示すことにより示すが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
【００６５】
【化２５】
【００６６】
【化２６】
【００６７】
【化２７】
【００６８】
【化２８】
【００６９】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸あるいはエリソルビン酸（イソ−アスコルビン酸）
又はそれらから誘導される誘導体であり、市販品として
入手できるか、あるいは容易に公知の合成法で合成する
ことができる。
ン酸あるいはエリソルビン酸（イソ−アスコルビン酸）
又はそれらから誘導される誘導体であり、市販品として
入手できるか、あるいは容易に公知の合成法で合成する
ことができる。
【００７０】これら一般式（３）で表される化合物の使
用量は０．２〜０．４モル／リットルであり、好ましく
は０．１５〜０．２５モル／リットルである。
用量は０．２〜０．４モル／リットルであり、好ましく
は０．１５〜０．２５モル／リットルである。
【００７１】本発明に係る現像剤、一般式（３）で示さ
れる化合物と超加成性を示す補助現像剤としては、３−
ピラゾリドン誘導体及びｐ−アミノフェノール誘導体が
挙げられる。
れる化合物と超加成性を示す補助現像剤としては、３−
ピラゾリドン誘導体及びｐ−アミノフェノール誘導体が
挙げられる。
【００７２】これらの化合物は従来より補助現像剤とし
て良く知られた化合物であり、以下にこれらの具体的化
合物例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
て良く知られた化合物であり、以下にこれらの具体的化
合物例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【００７３】１−フェニル−３−ピラゾリドン １−フェニル−４，４′−ジメチル−３−ピラゾリドン １−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３
−ピラゾリドン １−フェニル−５−メチル−３−ピラゾリドン １−ｐ−アミノフェニル−４，４′−ジメチル−３−ピ
ラゾリドン １−ｐ−トリル−４，４′−ジメチル−３−ピラゾリド
ン １−ｐ−トリル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−
３−ピラゾリドン Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ−アミノフェノール Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）グリシン ２−メチル−ｐ−アミノフェノール ｐ−ベンジルアミノフェノール 本発明に好ましく用いられる一般式（４）について説明
する。
−ピラゾリドン １−フェニル−５−メチル−３−ピラゾリドン １−ｐ−アミノフェニル−４，４′−ジメチル−３−ピ
ラゾリドン １−ｐ−トリル−４，４′−ジメチル−３−ピラゾリド
ン １−ｐ−トリル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−
３−ピラゾリドン Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ−アミノフェノール Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）グリシン ２−メチル−ｐ−アミノフェノール ｐ−ベンジルアミノフェノール 本発明に好ましく用いられる一般式（４）について説明
する。
【００７４】一般式（４）において、Ａで表される脂肪
族基は炭素数１〜３０のものが好ましく、特に炭素数１
〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であることが
好ましい。例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙
げられ、これらはさらに適当な置換基（例えばアリール
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アリールオキシ基、スルホキ基、スルホンアミド基、ア
シルアミド基、ウレイド基等）で置換されてもよい。Ａ
で表される芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が
好ましく、例えば、ベンゼン環又はナフタレン環などが
挙げられる。Ａで表されるヘテロ環としては、単環又は
縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる一つ
のヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、例えば、ピロ
リジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モ
ルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、
チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フ
ラン環などが挙げられる。
族基は炭素数１〜３０のものが好ましく、特に炭素数１
〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であることが
好ましい。例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙
げられ、これらはさらに適当な置換基（例えばアリール
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アリールオキシ基、スルホキ基、スルホンアミド基、ア
シルアミド基、ウレイド基等）で置換されてもよい。Ａ
で表される芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が
好ましく、例えば、ベンゼン環又はナフタレン環などが
挙げられる。Ａで表されるヘテロ環としては、単環又は
縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる一つ
のヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、例えば、ピロ
リジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モ
ルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、
チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フ
ラン環などが挙げられる。
【００７５】Ａとして特に好ましいものは、アリール基
及びヘテロ環基である。Ａのアリール基及びヘテロ環基
は置換基を有してもよい。この場合の代表的な置換基と
してはアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０のも
の）、アラルキル基（好ましくはアルキル部分の炭素数
が１〜３の単環又は縮合環のもの）、アルコキシ基（好
ましくはアルキル部分の炭素数が１〜２０のもの）、置
換アミノ基（好ましくは炭素数１から２０のアルキル基
又はアルキリデン基で置換されたアミノ基）、アシルア
ミノ基（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、スルホン
アミド基（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、ウレイ
ド基（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、ヒドラジノ
カルボニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０のも
の）、ヒドロキシル基、ホスホアミド基（好ましくは、
炭素数１〜４０のもの）などがある。
及びヘテロ環基である。Ａのアリール基及びヘテロ環基
は置換基を有してもよい。この場合の代表的な置換基と
してはアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０のも
の）、アラルキル基（好ましくはアルキル部分の炭素数
が１〜３の単環又は縮合環のもの）、アルコキシ基（好
ましくはアルキル部分の炭素数が１〜２０のもの）、置
換アミノ基（好ましくは炭素数１から２０のアルキル基
又はアルキリデン基で置換されたアミノ基）、アシルア
ミノ基（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、スルホン
アミド基（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、ウレイ
ド基（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、ヒドラジノ
カルボニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０のも
の）、ヒドロキシル基、ホスホアミド基（好ましくは、
炭素数１〜４０のもの）などがある。
【００７６】また、Ａは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも一つを含むことが好ましい。耐拡散
基としては、カプラーなどの不動性写真用添加剤にて常
用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭
素数８以上の写真性能に対して比較的不活性である、例
えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノ
キシ基などが挙げられる。
促進基を少なくとも一つを含むことが好ましい。耐拡散
基としては、カプラーなどの不動性写真用添加剤にて常
用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭
素数８以上の写真性能に対して比較的不活性である、例
えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノ
キシ基などが挙げられる。
【００７７】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基あるいは特開昭６４−９０４３９号に記載の吸
着基などが挙げられる。
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基あるいは特開昭６４−９０４３９号に記載の吸
着基などが挙げられる。
【００７８】Ｂで表される置換基としては、具体的には
アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオ
ニル基、トリフルオロアセチル基、メトキシアセチル
基、フェノキシアセチル基、メチルチオアセチル基、ク
ロロアセチル基、ベンゾイル基、２−ヒドロキシメチル
ベゾイル基、４−クロロベゾイル基等）、アルキルスル
ホニル基（例えば、メタンスルホニル基、２−クロロエ
タンスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例え
ば、ベンゼンスルホニル基等）、アルキルスルフィニル
基（例えば、メタンスルフィニル基等）、アリールスル
フィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル基等）、カ
ルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、フェニ
ルカルバモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例え
ば、メトキシカルボニル基、メトキシエトキシカルボニ
ル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェ
ノキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、
ジメチルスルファモイル基等）、スルフィナモイル基
（例えば、メチルスルフィナモイル基等）、アルコキシ
スルホニル基（例えば、メトキシスルホニル基等）、チ
オアシル基（例えば、メチルチオカルボニル基等）、チ
オカルバモイル基（例えば、メチルチオカルバモイル基
等）、オキサゾリル基又はヘテロ環（例えばピリジン
環、ピリジニウム環等）を表す。ＢはＡ42及びそれらが
結合する窒素原子とともに、
アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオ
ニル基、トリフルオロアセチル基、メトキシアセチル
基、フェノキシアセチル基、メチルチオアセチル基、ク
ロロアセチル基、ベンゾイル基、２−ヒドロキシメチル
ベゾイル基、４−クロロベゾイル基等）、アルキルスル
ホニル基（例えば、メタンスルホニル基、２−クロロエ
タンスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例え
ば、ベンゼンスルホニル基等）、アルキルスルフィニル
基（例えば、メタンスルフィニル基等）、アリールスル
フィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル基等）、カ
ルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、フェニ
ルカルバモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例え
ば、メトキシカルボニル基、メトキシエトキシカルボニ
ル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェ
ノキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、
ジメチルスルファモイル基等）、スルフィナモイル基
（例えば、メチルスルフィナモイル基等）、アルコキシ
スルホニル基（例えば、メトキシスルホニル基等）、チ
オアシル基（例えば、メチルチオカルボニル基等）、チ
オカルバモイル基（例えば、メチルチオカルバモイル基
等）、オキサゾリル基又はヘテロ環（例えばピリジン
環、ピリジニウム環等）を表す。ＢはＡ42及びそれらが
結合する窒素原子とともに、
【００７９】
【化２９】
【００８０】を形成してもよい。
【００８１】Ｒ41はアルキル基、アリール基又はヘテロ
環基を表し、Ｒ42は水素原子、アルキル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。Ｂとしては、アシル基又はオキ
ザリル基が特に好ましい。
環基を表し、Ｒ42は水素原子、アルキル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。Ｂとしては、アシル基又はオキ
ザリル基が特に好ましい。
【００８２】Ａ41、Ａ42はともに水素原子又は一方が水
素原子で他方はアシル基（アセチル基、トリフルオロア
セチル基、ベゾイル基等）、スルホニル基（例えば、メ
タンスルホニル基、トルエンスルホニル基等）又はオキ
サゾリル基（例えば、エトキザリル基等）を表す。
素原子で他方はアシル基（アセチル基、トリフルオロア
セチル基、ベゾイル基等）、スルホニル基（例えば、メ
タンスルホニル基、トルエンスルホニル基等）又はオキ
サゾリル基（例えば、エトキザリル基等）を表す。
【００８３】これら一般式（４）で表されるヒドラジン
化合物のうち、特に好ましくは一般式（４−ａ）で表さ
れる化合物である。
化合物のうち、特に好ましくは一般式（４−ａ）で表さ
れる化合物である。
【００８４】
【化３０】
【００８５】一般式（４−ａ）において、Ｒ43はアリー
ル基又はヘテロ環基を表し、Ｒ44は、
ル基又はヘテロ環基を表し、Ｒ44は、
【００８６】
【化３１】
【００８７】を表す。
【００８８】Ｒ45、Ｒ46はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基
又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ45とＲ46でＮ原子とと
もに環を形成してもよい。Ｒ47は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。Ａ43及びＡ44は一般式（４）のＡ41及び
Ａ42のそれと同義である。
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基
又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ45とＲ46でＮ原子とと
もに環を形成してもよい。Ｒ47は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。Ａ43及びＡ44は一般式（４）のＡ41及び
Ａ42のそれと同義である。
【００８９】一般式（４−ａ）についてさらに詳しく説
明する。
明する。
【００９０】Ｒ43で表されるアリール基としては、単環
又は縮合環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナ
フタレン環などが挙げられる。Ｒ44で表されるヘテロ環
基としては、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、
酸素から選ばれる一つのヘテロ原子を含む５員又は６員
の不飽和ヘテロ環が好ましく、例えばピリジン環、キノ
リン環、ピリミジン環、チオフェン環、フラン環、チア
ゾール環又はベンゾチアゾール環等が挙げられる。
又は縮合環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナ
フタレン環などが挙げられる。Ｒ44で表されるヘテロ環
基としては、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、
酸素から選ばれる一つのヘテロ原子を含む５員又は６員
の不飽和ヘテロ環が好ましく、例えばピリジン環、キノ
リン環、ピリミジン環、チオフェン環、フラン環、チア
ゾール環又はベンゾチアゾール環等が挙げられる。
【００９１】Ｒ43として好ましいものは、置換、無置換
のアリール基である。この置換基としては一般式（４）
のＡの置換基と同義のものが挙げられるが、ｐＨ１１．
２以下の現像液で硬調化する場合はスルホアミド基を少
なくとも一つ有することが好ましい。
のアリール基である。この置換基としては一般式（４）
のＡの置換基と同義のものが挙げられるが、ｐＨ１１．
２以下の現像液で硬調化する場合はスルホアミド基を少
なくとも一つ有することが好ましい。
【００９２】Ａ43及びＡ44は一般式（４）のＡ41及びＡ
42と同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最
も好ましい。Ｒ46は、
42と同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最
も好ましい。Ｒ46は、
【００９３】
【化３２】
【００９４】を表し、ここでＲ48及びＲ49はそれぞれ水
素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ベン
ジル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、ブテニ
ル基等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、ブ
チニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフ
チル基等）、ヘテロ環基（例えば、２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジニル基、Ｎ−ベンジルピペリジニル
基、キノリジニル基、Ｎ，Ｎ′−ジエチルピラゾリジニ
ル基、Ｎ−ベンジルピロリジニル基、ピリジル基等）、
アミノ基（例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ジベンジルアミノ基等）、ヒドロキシ基、
アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、
アルケニルオキシ基（例えば、アリルオキシ基等）、ア
ルキニルオキシ基（例えば、プロパルギルオキシ基
等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）又は
ヘテロ環オキシ基（ピリジルオキシ基等）を表し、Ｒ48
とＲ49で窒素原子とともに環（ピリジン環、モルホリン
環等）を形成してもよい。Ｒ50は水素原子、アルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、メトキシエチル基、ヒ
ドロキシエチル基等）、アルケニル基（例えば、アリル
基、ブテニル基等）、アルキニル基（例えば、プロパギ
ル基、ブチニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフ
チル基等）、ヘテロ環基（例えば、２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジニル基、Ｎ−メチルピペリジニル
基、ピリジル基等）を表す。
素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ベン
ジル基等）、アルケニル基（例えば、アリル基、ブテニ
ル基等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、ブ
チニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフ
チル基等）、ヘテロ環基（例えば、２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジニル基、Ｎ−ベンジルピペリジニル
基、キノリジニル基、Ｎ，Ｎ′−ジエチルピラゾリジニ
ル基、Ｎ−ベンジルピロリジニル基、ピリジル基等）、
アミノ基（例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ジベンジルアミノ基等）、ヒドロキシ基、
アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、
アルケニルオキシ基（例えば、アリルオキシ基等）、ア
ルキニルオキシ基（例えば、プロパルギルオキシ基
等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）又は
ヘテロ環オキシ基（ピリジルオキシ基等）を表し、Ｒ48
とＲ49で窒素原子とともに環（ピリジン環、モルホリン
環等）を形成してもよい。Ｒ50は水素原子、アルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、メトキシエチル基、ヒ
ドロキシエチル基等）、アルケニル基（例えば、アリル
基、ブテニル基等）、アルキニル基（例えば、プロパギ
ル基、ブチニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフ
チル基等）、ヘテロ環基（例えば、２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジニル基、Ｎ−メチルピペリジニル
基、ピリジル基等）を表す。
【００９５】一般式（４）で表される化合物の具体例を
以下に示す。但し、本発明はこれらに限定されるもので
はない。この他、一般式（４）で表される化合物の具体
例は特開平５−２４１２６４号に記載されているものが
挙げられる。
以下に示す。但し、本発明はこれらに限定されるもので
はない。この他、一般式（４）で表される化合物の具体
例は特開平５−２４１２６４号に記載されているものが
挙げられる。
【００９６】
【化３３】
【００９７】本発明の一般式（４）で表される化合物の
合成法は、特開昭６２−１８０３６１号、同６２−１７
８２４６号、同６３−２３４２４５号、同６３−２３４
２４６号、同６４−９０４３９号、特開平２−３７号、
同２−９４７号、同２−１２０７３６号、同２−２３０
２３３号、同３−１２５１３４号、米国特許４，６８
６，１６７号、同４，９８８，６０４号、同４，９９
４，３６５号、ヨーロッパ特許２５３，６６５号、同３
３３，４３５号などに記載の方法を参考に合成すること
ができる。
合成法は、特開昭６２−１８０３６１号、同６２−１７
８２４６号、同６３−２３４２４５号、同６３−２３４
２４６号、同６４−９０４３９号、特開平２−３７号、
同２−９４７号、同２−１２０７３６号、同２−２３０
２３３号、同３−１２５１３４号、米国特許４，６８
６，１６７号、同４，９８８，６０４号、同４，９９
４，３６５号、ヨーロッパ特許２５３，６６５号、同３
３３，４３５号などに記載の方法を参考に合成すること
ができる。
【００９８】上記、一般式（４）で表される化合物の使
用量は、ハロゲン化銀１モル当たり５×１０-7〜５×１
０-1モルの範囲が好ましく、特に５×１０-6〜５×１０
-2モルの範囲が好ましい。
用量は、ハロゲン化銀１モル当たり５×１０-7〜５×１
０-1モルの範囲が好ましく、特に５×１０-6〜５×１０
-2モルの範囲が好ましい。
【００９９】一般式（４）で表される化合物を感光材料
中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層又は該ハ
ロゲン化銀乳剤に隣接する親水性コロイド層に含有させ
る。
中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層又は該ハ
ロゲン化銀乳剤に隣接する親水性コロイド層に含有させ
る。
【０１００】本発明に好ましく用いられる造核促進剤と
しては、下記一般式（５）又は（６）で表される化合物
が挙げられる。
しては、下記一般式（５）又は（６）で表される化合物
が挙げられる。
【０１０１】
【化３４】
【０１０２】
【化３５】
【０１０３】一般式（５）において、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表す。Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53で環を形成する
ことができる。特に好ましくは脂肪族の３級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有することが好ましい。耐拡散性基
を有するためには分子量１００以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量３００以上である。
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表す。Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53で環を形成する
ことができる。特に好ましくは脂肪族の３級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有することが好ましい。耐拡散性基
を有するためには分子量１００以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量３００以上である。
【０１０４】また、好ましい吸着基としては複素環基、
メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、チオウレア
基などが挙げられる。具体的化合物としては、以下に示
すものが挙げられる。
メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、チオウレア
基などが挙げられる。具体的化合物としては、以下に示
すものが挙げられる。
【０１０５】
【化３６】
【０１０６】
【化３７】
【０１０７】
【化３８】
【０１０８】
【化３９】
【０１０９】一般式（６）において、Ａｒは置換、無置
換のアリール基、複素芳香環を表す。Ｒ61は置換されて
いてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐拡散性
基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好
ましい耐拡散性基を持たせるためには分子量１２０以上
が好ましく、特に好ましくは３００以上である。
換のアリール基、複素芳香環を表す。Ｒ61は置換されて
いてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐拡散性
基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好
ましい耐拡散性基を持たせるためには分子量１２０以上
が好ましく、特に好ましくは３００以上である。
【０１１０】以下に一般式（６）で表される化合物の具
体的化合物を挙げる。
体的化合物を挙げる。
【０１１１】
【化４０】
【０１１２】
【化４１】
【０１１３】本発明の感光材料の処理方法は、処理剤中
に下記一般式（７）で表される化合物を含有する。
に下記一般式（７）で表される化合物を含有する。
【０１１４】一般式（７） Ｒ71−（Ｏ）ｎ71ＳＯ3Ｍ71 式中、Ｒ71は炭素数４〜１０の直鎖又は分岐のアルキル
基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ペン
チル、イソブチル等の各基）、炭素数３〜８のアルケニ
ル基（例えば、３−ブテニル、２−プロペニル等の各
基）、炭素数３〜８のアルキニル基（例えば、エチニ
ル、プロピニル、ブチニル等の各基）が挙げられる。ｎ
71は０又は１を表し、Ｍ71は水素原子、アルカリ金属
（ナトリウム、カリウム、リチウム等）又はアンモニウ
ム基を表す。
基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ペン
チル、イソブチル等の各基）、炭素数３〜８のアルケニ
ル基（例えば、３−ブテニル、２−プロペニル等の各
基）、炭素数３〜８のアルキニル基（例えば、エチニ
ル、プロピニル、ブチニル等の各基）が挙げられる。ｎ
71は０又は１を表し、Ｍ71は水素原子、アルカリ金属
（ナトリウム、カリウム、リチウム等）又はアンモニウ
ム基を表す。
【０１１５】前記、一般式（７）で表される具体的化合
物例を以下に示すが、これらに限定されるものではな
い。
物例を以下に示すが、これらに限定されるものではな
い。
【０１１６】
【化４２】
【０１１７】本発明の現像処理には固体処理剤を用い
る。写真処理剤を固体化するには、濃厚液又は微粉ない
し粒状写真処理剤と水溶性結着剤を混練、成型するか、
仮成型した写真処理剤の表面に水溶性結着剤を噴霧して
被覆層を形成する等、任意の手段が採用できる（特開平
４−２９１３６号、同４−８５５３５号、同４−８５５
≠R６号、同４−８５５３３号、同４−８５５３４号、
同４−１７２３４１号等を参照）。
る。写真処理剤を固体化するには、濃厚液又は微粉ない
し粒状写真処理剤と水溶性結着剤を混練、成型するか、
仮成型した写真処理剤の表面に水溶性結着剤を噴霧して
被覆層を形成する等、任意の手段が採用できる（特開平
４−２９１３６号、同４−８５５３５号、同４−８５５
≠R６号、同４−８５５３３号、同４−８５５３４号、
同４−１７２３４１号等を参照）。
【０１１８】固体処理剤は、粉末状、顆粒状、錠剤状
等、様々な形態が採りうるが、これらの中でも錠剤状処
理剤が好ましい。
等、様々な形態が採りうるが、これらの中でも錠剤状処
理剤が好ましい。
【０１１９】本発明の固体処理剤の好ましい造粒法とし
ては、乾燥工程を用いずに処理剤を作製することが好ま
しい。
ては、乾燥工程を用いずに処理剤を作製することが好ま
しい。
【０１２０】また、錠剤形成後の含水率が２％以下であ
ることが好ましく、水の添加量としては、処理剤の構成
素材の全量に対して２％以下であることが好ましく、よ
り好ましくは０．０１〜２．０％、さらに好ましくは
０．０５〜１．５％である。
ることが好ましく、水の添加量としては、処理剤の構成
素材の全量に対して２％以下であることが好ましく、よ
り好ましくは０．０１〜２．０％、さらに好ましくは
０．０５〜１．５％である。
【０１２１】即ち、含水率が２％以上では錠剤が割れを
生じ、微粉を発生し錠剤のメリットが生かされない。
生じ、微粉を発生し錠剤のメリットが生かされない。
【０１２２】水の添加を少なくして造粒する手段として
は、一般に用いられている攪拌造粒機やヘンシェルミキ
サーを用いる方法があるが、ヘンシェルミキサーを用い
る方法が混合性がよく好ましい。
は、一般に用いられている攪拌造粒機やヘンシェルミキ
サーを用いる方法があるが、ヘンシェルミキサーを用い
る方法が混合性がよく好ましい。
【０１２３】得られた顆粒は顆粒のまま用いてもよく、
また、通常のロータリー打錠機を用いて打錠してもよ
い。
また、通常のロータリー打錠機を用いて打錠してもよ
い。
【０１２４】好ましい錠剤の製造法としては、粉末状の
固体処理剤を造粒した後、打錠工程を行い形成する方法
である。単に固体処理剤成分を混合し、打錠工程により
形成された固体処理剤より、溶解性や保存性が改良さ
れ、結果として写真性能も安定になるという利点があ
る。
固体処理剤を造粒した後、打錠工程を行い形成する方法
である。単に固体処理剤成分を混合し、打錠工程により
形成された固体処理剤より、溶解性や保存性が改良さ
れ、結果として写真性能も安定になるという利点があ
る。
【０１２５】錠剤形成のための造粒方法には、転動造
粒、押出し造粒、圧縮造粒、解砕造粒、攪拌造粒、流動
層造粒、噴霧乾燥造粒等、公知の方法を用いることがで
きる。錠剤形成のためには、得られた造粒物の平均粒径
は、造粒物を混合し加圧圧縮する際、成分の不均一化、
いわゆる偏析が起こり難いという点で、１００〜８００
μｍのものを用いることが好ましく、より好ましくは２
００〜７５０μｍである。更に、粒度分布は、造粒物粒
子の６０％以上が±（１００〜１５０）μｍの偏差内に
あるものが好ましい。
粒、押出し造粒、圧縮造粒、解砕造粒、攪拌造粒、流動
層造粒、噴霧乾燥造粒等、公知の方法を用いることがで
きる。錠剤形成のためには、得られた造粒物の平均粒径
は、造粒物を混合し加圧圧縮する際、成分の不均一化、
いわゆる偏析が起こり難いという点で、１００〜８００
μｍのものを用いることが好ましく、より好ましくは２
００〜７５０μｍである。更に、粒度分布は、造粒物粒
子の６０％以上が±（１００〜１５０）μｍの偏差内に
あるものが好ましい。
【０１２６】得られた造粒物を加圧、圧縮する際には、
公知の圧縮機、例えば油圧プレス機、単発式打錠機、ロ
ータリー式打錠機、ブリケッティングマシンを用いるこ
とができる。加圧、圧縮されて得られる固体処理剤は任
意の形状を採ることが可能だが、生産性、取扱い性の観
点から、又はユーザーサイドで使用する場合の粉塵の問
題からは円筒型、いわゆる錠剤が好ましい。
公知の圧縮機、例えば油圧プレス機、単発式打錠機、ロ
ータリー式打錠機、ブリケッティングマシンを用いるこ
とができる。加圧、圧縮されて得られる固体処理剤は任
意の形状を採ることが可能だが、生産性、取扱い性の観
点から、又はユーザーサイドで使用する場合の粉塵の問
題からは円筒型、いわゆる錠剤が好ましい。
【０１２７】更に好ましくは、造粒時、各成分毎、例え
ばアルカリ剤、還元剤、保恒剤等を分別造粒することに
よって更に上記効果が顕著になる。
ばアルカリ剤、還元剤、保恒剤等を分別造粒することに
よって更に上記効果が顕著になる。
【０１２８】錠剤処理剤の製造方法は、例えば特開昭５
１−６１８３７号、同５４−１５５０３８号、同５２−
８８０２５号、英国特許１，２１３，８０８号等に記載
される一般的な方法で製造でき、更に顆粒処理剤は、例
えば特開平２−１０９０４２号、同２−１０９０４３
号、同３−３９７３５号及び同３−３９７３９号等に記
載される一般的な方法で製造できる。更に又、粉末処理
剤は、例えば特開昭５４−１３３３３２号、英国特許７
２５，８９２号、同７２９，８６２号及びドイツ特許
３，７３３，８６１号等に記載されるが如き一般的な方
法で製造できる。
１−６１８３７号、同５４−１５５０３８号、同５２−
８８０２５号、英国特許１，２１３，８０８号等に記載
される一般的な方法で製造でき、更に顆粒処理剤は、例
えば特開平２−１０９０４２号、同２−１０９０４３
号、同３−３９７３５号及び同３−３９７３９号等に記
載される一般的な方法で製造できる。更に又、粉末処理
剤は、例えば特開昭５４−１３３３３２号、英国特許７
２５，８９２号、同７２９，８６２号及びドイツ特許
３，７３３，８６１号等に記載されるが如き一般的な方
法で製造できる。
【０１２９】固体処理剤の嵩密度は、その溶解性と本発
明の目的の効果の点から、錠剤である場合、１．０〜
２．５ｇ／ｃｍ3が好ましい。１．０ｇ／ｃｍ3より大き
いと得られる固形物の強度の点で、また、２．５ｇ／ｃ
ｍ3より小さいと固形物の溶解性の点でより好ましい。
明の目的の効果の点から、錠剤である場合、１．０〜
２．５ｇ／ｃｍ3が好ましい。１．０ｇ／ｃｍ3より大き
いと得られる固形物の強度の点で、また、２．５ｇ／ｃ
ｍ3より小さいと固形物の溶解性の点でより好ましい。
【０１３０】また、本発明に好ましく用いられる固体処
理剤は、錠剤形成後の含水率が２％以下であることが好
ましい。即ち、含水率が２％以下では錠剤が割れを生
じ、微粉を発生し錠剤のメリットが生かされない。
理剤は、錠剤形成後の含水率が２％以下であることが好
ましい。即ち、含水率が２％以下では錠剤が割れを生
じ、微粉を発生し錠剤のメリットが生かされない。
【０１３１】本発明の固体現像剤中には、現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を含有せず、前記一般式
（３）で表されるレダクトン類を含有する。その他、補
助現像剤として、アミノフェノール類、ピラゾリドン類
も好ましく用いられる。ピラゾリドン類は４位が置換さ
れているもの（ジメゾン、ジメゾンＳ等）は水溶性や固
体処理剤自身の経時による変化が少なく好ましい。
てジヒドロキシベンゼン類を含有せず、前記一般式
（３）で表されるレダクトン類を含有する。その他、補
助現像剤として、アミノフェノール類、ピラゾリドン類
も好ましく用いられる。ピラゾリドン類は４位が置換さ
れているもの（ジメゾン、ジメゾンＳ等）は水溶性や固
体処理剤自身の経時による変化が少なく好ましい。
【０１３２】現像剤には、保恒剤として亜硫酸塩の他、
有機還元剤を保恒剤として用いることができる。その
他、キレート剤や硬膜剤の重亜硫酸塩付加物を用いるこ
とができる。又、銀スラッジ防止剤を添加することも好
ましい。シクロデキストリン化合物の添加も好ましく、
特開平１−１２４８５３号記載の化合物が特に好まし
い。
有機還元剤を保恒剤として用いることができる。その
他、キレート剤や硬膜剤の重亜硫酸塩付加物を用いるこ
とができる。又、銀スラッジ防止剤を添加することも好
ましい。シクロデキストリン化合物の添加も好ましく、
特開平１−１２４８５３号記載の化合物が特に好まし
い。
【０１３３】現像剤にはアミン化合物を添加することも
でき、米国特許４，２６９，９２９号記載の化合物が特
に好ましい。
でき、米国特許４，２６９，９２９号記載の化合物が特
に好ましい。
【０１３４】現像剤には、緩衝剤を用いることが必要
で、緩衝剤としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、燐酸三ナトリウム、
燐酸三カリウム、燐酸二カリウム、硼酸ナトリウム、硼
酸カリウム、四硼酸ナトリウム（硼砂）、四硼酸カリウ
ム、ｏ−ヒドロキシ安息香酸ナトリウム（サリチル酸ナ
トリウム）、サリチル酸カリウム、５−スルホ−２−ヒ
ドロキシ安息香酸ナトリウム（５−スルホサリチル酸ナ
トリウム）、５−スルホサリチル酸カリウム等を挙げる
ことができる。
で、緩衝剤としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、燐酸三ナトリウム、
燐酸三カリウム、燐酸二カリウム、硼酸ナトリウム、硼
酸カリウム、四硼酸ナトリウム（硼砂）、四硼酸カリウ
ム、ｏ−ヒドロキシ安息香酸ナトリウム（サリチル酸ナ
トリウム）、サリチル酸カリウム、５−スルホ−２−ヒ
ドロキシ安息香酸ナトリウム（５−スルホサリチル酸ナ
トリウム）、５−スルホサリチル酸カリウム等を挙げる
ことができる。
【０１３５】現像促進剤としては、チオエーテル系化合
物、ｐ−フェニレンジアミン系化合物、４級アンモニウ
ム塩類、ｐ−アミノフェノール類、アミン系化合物、ポ
リアルキレンオキサイド、その他１−フェニル−３−ピ
ラゾリドン類、ヒドラジン類、メソイオン型化合物、イ
ミダゾール類等を必要に応じて添加することができる。
物、ｐ−フェニレンジアミン系化合物、４級アンモニウ
ム塩類、ｐ−アミノフェノール類、アミン系化合物、ポ
リアルキレンオキサイド、その他１−フェニル−３−ピ
ラゾリドン類、ヒドラジン類、メソイオン型化合物、イ
ミダゾール類等を必要に応じて添加することができる。
【０１３６】カブリ防止剤としては、沃化カリウムの如
きアルカリ金属ハロゲン化物又は有機カブリ防止剤が使
用できる。有機カブリ防止剤としては、例えばベンゾト
リアゾール、６−ニトロベンズイミダゾール、５−ニト
ロイソインダゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、
５−ニトロベンゾトリアゾール、５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−チアゾリルベンズイミダゾール、２−チ
アゾリルメチルベンズイミダゾール、インダゾール、ヒ
ドロキシアザインドリジン、アデニンの如き含窒素複素
環化合物（代表例として１−フェニル−５−メルカプト
テトラゾール）等を挙げることができる。
きアルカリ金属ハロゲン化物又は有機カブリ防止剤が使
用できる。有機カブリ防止剤としては、例えばベンゾト
リアゾール、６−ニトロベンズイミダゾール、５−ニト
ロイソインダゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、
５−ニトロベンゾトリアゾール、５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−チアゾリルベンズイミダゾール、２−チ
アゾリルメチルベンズイミダゾール、インダゾール、ヒ
ドロキシアザインドリジン、アデニンの如き含窒素複素
環化合物（代表例として１−フェニル−５−メルカプト
テトラゾール）等を挙げることができる。
【０１３７】現像剤組成物には、更に必要に応じて、メ
チルセロソルブ、メタノール、アセトン、ジメチルホル
ムアミド、シクロデキストリン化合物等を現像主薬の溶
解度向上の溶剤として使用することができる。更に、そ
の他のステイン防止剤、スラッジ防止剤、重層効果促進
剤等の各種添加剤を用いることができる。
チルセロソルブ、メタノール、アセトン、ジメチルホル
ムアミド、シクロデキストリン化合物等を現像主薬の溶
解度向上の溶剤として使用することができる。更に、そ
の他のステイン防止剤、スラッジ防止剤、重層効果促進
剤等の各種添加剤を用いることができる。
【０１３８】固体現像剤を現像開始液として用いる場合
は、それらを定められた水に溶解して調製して用いる。
は、それらを定められた水に溶解して調製して用いる。
【０１３９】補充液として用いる場合は予め水と混合溶
解して用いるか、直接自動現像機の処理槽に投入して用
いてもよい。
解して用いるか、直接自動現像機の処理槽に投入して用
いてもよい。
【０１４０】本発明の固体定着剤は２種以上の化合物か
ら成型された固体処理剤の単独物または混合物である。
ら成型された固体処理剤の単独物または混合物である。
【０１４１】定着主薬としては、チオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸アンモニウムが使用でき、チオ硫酸イオンを必
須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫酸ア
ンモニウムが特に好ましい。定着主薬の使用量は適宜変
えることができ、一般には固体定着剤を溶解した定着液
１リットル当たり０．１〜６モルが好ましい。
チオ硫酸アンモニウムが使用でき、チオ硫酸イオンを必
須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫酸ア
ンモニウムが特に好ましい。定着主薬の使用量は適宜変
えることができ、一般には固体定着剤を溶解した定着液
１リットル当たり０．１〜６モルが好ましい。
【０１４２】固体定着剤には、通常硬膜剤として作用す
る水溶性アルミニウム塩を含む。これらには、例えば硫
酸アルミニウム、カリ明礬などが好ましい。定着液のア
ルミニウム含有量は定着液１リットル当たり０．０５モ
ル以下であり、好ましくは０．０３モル以下が好まし
い。
る水溶性アルミニウム塩を含む。これらには、例えば硫
酸アルミニウム、カリ明礬などが好ましい。定着液のア
ルミニウム含有量は定着液１リットル当たり０．０５モ
ル以下であり、好ましくは０．０３モル以下が好まし
い。
【０１４３】固体定着剤には通常硼酸を含有するが、含
有量は定着液１リットル当たり４ｇ以下が好ましい。硼
酸の含有量が４ｇより多いとローラーに汚れが生じた
り、処理後のフイルムの硬膜度が低下する傾向がある。
有量は定着液１リットル当たり４ｇ以下が好ましい。硼
酸の含有量が４ｇより多いとローラーに汚れが生じた
り、処理後のフイルムの硬膜度が低下する傾向がある。
【０１４４】固体定着剤は、定着主薬の他、キレート
剤、ｐＨ緩衝剤及び保恒剤などが添加でき、これらは例
えば特開平４−２４２２４６号（４頁）や特開平５−１
１３６３２号（２〜４頁）記載のものが使用できる。そ
の他に、公知の定着促進剤も用いることができる。
剤、ｐＨ緩衝剤及び保恒剤などが添加でき、これらは例
えば特開平４−２４２２４６号（４頁）や特開平５−１
１３６３２号（２〜４頁）記載のものが使用できる。そ
の他に、公知の定着促進剤も用いることができる。
【０１４５】開始液として用いる場合は、それらを定め
られた水に溶解して調製して用いる。
られた水に溶解して調製して用いる。
【０１４６】処理に先立ちスターターを添加することも
好ましく、スターターを固形化して添加することも好ま
しい。スターターとしては、ポリカルボン酸化合物の如
き有機酸の他に臭化カリウムの如きアルカリ土類金属の
ハロゲン化物や有機抑制剤、現像促進剤等が用いられ
る。
好ましく、スターターを固形化して添加することも好ま
しい。スターターとしては、ポリカルボン酸化合物の如
き有機酸の他に臭化カリウムの如きアルカリ土類金属の
ハロゲン化物や有機抑制剤、現像促進剤等が用いられ
る。
【０１４７】開始液として用いる場合は、それらを定め
られた水に溶解して調製して用いる。
られた水に溶解して調製して用いる。
【０１４８】補充液として用いる場合は予め水に溶解し
て用いるか、直接自動現像機の処理槽に投入して用いて
もよい。
て用いるか、直接自動現像機の処理槽に投入して用いて
もよい。
【０１４９】感光材料の処理において、廃液量の低減の
要望から感光材料の面積に比例した一定量の処理液を補
充しながら処理されるが、本発明の固体処理剤処理にお
ける好ましい補充量は感光材料１ｍ2当たりそれぞれ５
０〜２５０ｍｌが好ましく、より好ましくは、それぞれ
１ｍ2当たり５０〜１９０ｍｌである。
要望から感光材料の面積に比例した一定量の処理液を補
充しながら処理されるが、本発明の固体処理剤処理にお
ける好ましい補充量は感光材料１ｍ2当たりそれぞれ５
０〜２５０ｍｌが好ましく、より好ましくは、それぞれ
１ｍ2当たり５０〜１９０ｍｌである。
【０１５０】補充量とは、補充される液の量を示し、具
体的には処理剤母液などと同じ液を補充する処理剤の量
であり、固体定着剤を水で溶解した液で補充する場合、
固体定着剤の容積と水の容積の合計量である。また、固
体定着剤と水とを別々に補充する場合、固体定着剤の容
積と水の容積の合計量である。
体的には処理剤母液などと同じ液を補充する処理剤の量
であり、固体定着剤を水で溶解した液で補充する場合、
固体定着剤の容積と水の容積の合計量である。また、固
体定着剤と水とを別々に補充する場合、固体定着剤の容
積と水の容積の合計量である。
【０１５１】処理剤が固体定着剤で補充される場合、自
動現像機の定着槽に直接投入する固体処理剤の容積と別
に加える補充水の容積を合計した量で表す。
動現像機の定着槽に直接投入する固体処理剤の容積と別
に加える補充水の容積を合計した量で表す。
【０１５２】固体処理剤のそれぞれの一回に投入される
補充剤の量は、０．１〜５０ｇが好ましく、さらに５〜
５０ｇが好ましい。この範囲の固体処理剤を一般的な小
型自動現像機の定着槽に直接投入し、徐々に溶解させな
がら処理しても仕上がり状態に影響はない。なぜなら
ば、固体定着剤はＤ−マンニトール、Ｄ−ソルビット等
の糖アルコールなどの溶解調節剤を含有し、急激には溶
解しないため、一回の添加量が多くても処理しながら消
費される量と見合った組成にバランスされ、安定した処
理性能を示すためである。また、補充水を溶解に合わせ
て注入することも写真性能を一定に保つことのできる理
由である。
補充剤の量は、０．１〜５０ｇが好ましく、さらに５〜
５０ｇが好ましい。この範囲の固体処理剤を一般的な小
型自動現像機の定着槽に直接投入し、徐々に溶解させな
がら処理しても仕上がり状態に影響はない。なぜなら
ば、固体定着剤はＤ−マンニトール、Ｄ−ソルビット等
の糖アルコールなどの溶解調節剤を含有し、急激には溶
解しないため、一回の添加量が多くても処理しながら消
費される量と見合った組成にバランスされ、安定した処
理性能を示すためである。また、補充水を溶解に合わせ
て注入することも写真性能を一定に保つことのできる理
由である。
【０１５３】それぞれの処理液は常に処理温度に温度調
節されており、ほぼ一定の温度に維持されている。即
ち、溶解スピードはほぼ一定であるため、計算された固
体処理剤の投入と成分のバランスが達成される。
節されており、ほぼ一定の温度に維持されている。即
ち、溶解スピードはほぼ一定であるため、計算された固
体処理剤の投入と成分のバランスが達成される。
【０１５４】現像、定着、水洗及び／または安定化浴の
温度は１０〜４５℃の範囲内にあることが好ましく、そ
れぞれ別々に温度調整されていてもよい。
温度は１０〜４５℃の範囲内にあることが好ましく、そ
れぞれ別々に温度調整されていてもよい。
【０１５５】自動現像機としては、６０℃以上の伝熱体
（６０〜１３０℃のヒートローラー等）又は１５０℃以
上の輻射物体（タングステン、炭素、ニクロム、酸化ジ
ルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混合
物、炭化ケイ素等に直接電流を通して発熱放射させた
り、抵抗は地熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックス等の放射体に伝達させたり
して赤外線を放出するもの）で乾燥するゾーンをもつも
のが好ましい。
（６０〜１３０℃のヒートローラー等）又は１５０℃以
上の輻射物体（タングステン、炭素、ニクロム、酸化ジ
ルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混合
物、炭化ケイ素等に直接電流を通して発熱放射させた
り、抵抗は地熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックス等の放射体に伝達させたり
して赤外線を放出するもの）で乾燥するゾーンをもつも
のが好ましい。
【０１５６】また、自動現像機としては、下記に記載の
方法又は機能を採用したものを好ましく用いることがで
きる。
方法又は機能を採用したものを好ましく用いることがで
きる。
【０１５７】１）脱臭装置：特開昭６４−３７５６０号
第５４４（２）頁左上欄〜５４５（３）頁左上欄 ２）水洗水再生浄化剤及び装置：特開平６−２５０３５
２号第（３）頁段落「００１１」〜段落（８）頁段落
「００５８」 ３）廃液処理方法：特開平２−６４６３８号第３８８
（２）頁左下欄〜第３９１（５）頁左下欄 ４）現像槽と定着槽の間のリンス浴：特開平４−３１３
７４９号第（１８）頁段落「００５４」〜第（２１）頁
段落「００６５」 ５）補充水補充方法：特開平１−２８１４４６号第２５
０（２）頁左下欄〜右下欄 ６）外気の温度及び湿度を検出して乾燥風を制御：特開
平１−３１５７４５号第４９６（２）頁右下欄〜第５０
１（７）頁右下欄及び特開平２−１０８０５１号第５８
８（２）頁左下欄〜第５８９（３）頁左下欄 ７）定着廃液からの銀回収：特開平６−２７６２３号第
（４）頁段落「００１２」〜第（７）頁「００７１」。
第５４４（２）頁左上欄〜５４５（３）頁左上欄 ２）水洗水再生浄化剤及び装置：特開平６−２５０３５
２号第（３）頁段落「００１１」〜段落（８）頁段落
「００５８」 ３）廃液処理方法：特開平２−６４６３８号第３８８
（２）頁左下欄〜第３９１（５）頁左下欄 ４）現像槽と定着槽の間のリンス浴：特開平４−３１３
７４９号第（１８）頁段落「００５４」〜第（２１）頁
段落「００６５」 ５）補充水補充方法：特開平１−２８１４４６号第２５
０（２）頁左下欄〜右下欄 ６）外気の温度及び湿度を検出して乾燥風を制御：特開
平１−３１５７４５号第４９６（２）頁右下欄〜第５０
１（７）頁右下欄及び特開平２−１０８０５１号第５８
８（２）頁左下欄〜第５８９（３）頁左下欄 ７）定着廃液からの銀回収：特開平６−２７６２３号第
（４）頁段落「００１２」〜第（７）頁「００７１」。
【０１５８】本発明の処理を行う感光材料のハロゲン組
成は、特に制限はないが、塩化銀含有率が６０モル％以
上の塩臭化銀又は塩沃臭化銀乳剤であることが補充量の
低減や迅速処理にとって好ましい。
成は、特に制限はないが、塩化銀含有率が６０モル％以
上の塩臭化銀又は塩沃臭化銀乳剤であることが補充量の
低減や迅速処理にとって好ましい。
【０１５９】ハロゲン化銀粒子の平均粒径は１．２μｍ
以下が好ましく、特に０．１〜０．８μｍが好ましい。
また、粒径分布は狭い方が好ましく、いわゆる単分散乳
剤を用いるのが好ましい。また、粒子形状は（１００）
面を主平面とする平板状粒子からなる乳剤が好ましく、
そのような乳剤の調製方法については、米国特許第５，
２６４，３３７号、同５，３１４，７９８号、同５，３
２０，９５８号の記載を参考にして得ることができる。
以下が好ましく、特に０．１〜０．８μｍが好ましい。
また、粒径分布は狭い方が好ましく、いわゆる単分散乳
剤を用いるのが好ましい。また、粒子形状は（１００）
面を主平面とする平板状粒子からなる乳剤が好ましく、
そのような乳剤の調製方法については、米国特許第５，
２６４，３３７号、同５，３１４，７９８号、同５，３
２０，９５８号の記載を参考にして得ることができる。
【０１６０】更に、高照度特性を得るためイリジウム化
合物をハロゲン化銀１モル当たり１０-9〜１０-3モルの
範囲でドーピングしたり、乳剤を硬調化するためロジウ
ム、ルテニウム、オスミウム及びレニウムなどの塩から
選ばれる少なくとも１種をハロゲン化銀１モル当たり１
０-9〜１０-3モルの範囲内でドーピングしたりするのが
好ましい。
合物をハロゲン化銀１モル当たり１０-9〜１０-3モルの
範囲でドーピングしたり、乳剤を硬調化するためロジウ
ム、ルテニウム、オスミウム及びレニウムなどの塩から
選ばれる少なくとも１種をハロゲン化銀１モル当たり１
０-9〜１０-3モルの範囲内でドーピングしたりするのが
好ましい。
【０１６１】ハロゲン化銀乳剤には、硫黄増感、セレン
増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感等公知の化
学増感を施すことができる。
増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感等公知の化
学増感を施すことができる。
【０１６２】本発明の処理を行う感光材料には、以下に
記載する技術を採用するのが好ましい。
記載する技術を採用するのが好ましい。
【０１６３】１）染料の固体分散微粒子：特開平７−５
６２９号（３）頁段落「００１７」〜第（１６）頁段落
「００２４」 ２）酸基を有する化合物：特開昭６２−２３７４４５号
２９２（８）頁左下欄１１行目〜第３０９（２５）頁右
下欄３行目 ３）酸性ポリマー：特開平６−１８６６５９号（１０）
頁段落「００３６］〜第１７頁段落「００６２」 ４）増感色素：特開平５−２２４３３０号第（３）頁段
落「００１７」〜第（１３）頁段落「００４０」 特開平６−１９４７７１号第（１１）頁段落「００４
２」〜第（２２）頁段落「００９４」 特開平６−２４２５３３号（２）頁段落「００１５」〜
第（８）頁段落「００３４」 特開平６−３３４９２号第（３）頁段落「００１２」〜
第（３４）頁段落「００５６」 特開平６−３３７４９４号第（４）頁段落「００１３」
〜第（１４）頁段落「００３９」 ５）強色増感剤：特開平６−３４７９３８号第（３）頁
段落「００１１」〜第（１６）頁段落「００６６」 ６）テトラゾリウム化合物：特開平６−２０８１８８号
第（８）頁段落「００５９」〜第（１０）頁段落「００
６７」 ７）ピリジニウム化合物：特開平７−１１０５５６号第
（５）頁段落「００２８」〜第（２９）頁段落「００６
８」 ８）レドックス化合物：特開平４−２４５２５３号第２
３５（７）頁〜第２５０（２９）頁 ９）シンジオタクチックポリスチレン支持体：特開平３
−１３１８４３号第３２４（２）頁〜第３２７（５）頁 その他、添加剤については、例えばリサーチ・ディスク
ロージャーＮｏ．１７６４３（１９７８年１２月）、同
Ｎｏ．１８７１６（１９７９年１１月）及び同Ｎｏ．３
０８１１９（１９８９年１２月）に記載の化合物を採用
することができる。これら三つの（ＲＤ）の記載箇所を
下記に示す。
６２９号（３）頁段落「００１７」〜第（１６）頁段落
「００２４」 ２）酸基を有する化合物：特開昭６２−２３７４４５号
２９２（８）頁左下欄１１行目〜第３０９（２５）頁右
下欄３行目 ３）酸性ポリマー：特開平６−１８６６５９号（１０）
頁段落「００３６］〜第１７頁段落「００６２」 ４）増感色素：特開平５−２２４３３０号第（３）頁段
落「００１７」〜第（１３）頁段落「００４０」 特開平６−１９４７７１号第（１１）頁段落「００４
２」〜第（２２）頁段落「００９４」 特開平６−２４２５３３号（２）頁段落「００１５」〜
第（８）頁段落「００３４」 特開平６−３３４９２号第（３）頁段落「００１２」〜
第（３４）頁段落「００５６」 特開平６−３３７４９４号第（４）頁段落「００１３」
〜第（１４）頁段落「００３９」 ５）強色増感剤：特開平６−３４７９３８号第（３）頁
段落「００１１」〜第（１６）頁段落「００６６」 ６）テトラゾリウム化合物：特開平６−２０８１８８号
第（８）頁段落「００５９」〜第（１０）頁段落「００
６７」 ７）ピリジニウム化合物：特開平７−１１０５５６号第
（５）頁段落「００２８」〜第（２９）頁段落「００６
８」 ８）レドックス化合物：特開平４−２４５２５３号第２
３５（７）頁〜第２５０（２９）頁 ９）シンジオタクチックポリスチレン支持体：特開平３
−１３１８４３号第３２４（２）頁〜第３２７（５）頁 その他、添加剤については、例えばリサーチ・ディスク
ロージャーＮｏ．１７６４３（１９７８年１２月）、同
Ｎｏ．１８７１６（１９７９年１１月）及び同Ｎｏ．３
０８１１９（１９８９年１２月）に記載の化合物を採用
することができる。これら三つの（ＲＤ）の記載箇所を
下記に示す。
【０１６４】
【表１】
【０１６５】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、当然のことではあるが、本発明は以下に述べる実
施例に限定されるものではない。
るが、当然のことではあるが、本発明は以下に述べる実
施例に限定されるものではない。
【０１６６】実施例１ （ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）同時混合法を用いて塩化
銀７０モル％、残りは臭化銀からなる平均厚み０．０５
μｍ平均直径０．１５μｍの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にＫ3ＲｈＣｌ6を銀１モル当たり８
×１０-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を
用いてシェルを付けた。その際Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モル
当たり３×１０-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚
み０．０１μｍ、平均直径０．２５μｍのコア／シェル
型単分散（変動係数１０％）の［１００］面を主平面と
して有する塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、沃化銀０．
２モル％、残りは臭化銀からなる）平板粒子の乳剤であ
った。
銀７０モル％、残りは臭化銀からなる平均厚み０．０５
μｍ平均直径０．１５μｍの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にＫ3ＲｈＣｌ6を銀１モル当たり８
×１０-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を
用いてシェルを付けた。その際Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モル
当たり３×１０-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚
み０．０１μｍ、平均直径０．２５μｍのコア／シェル
型単分散（変動係数１０％）の［１００］面を主平面と
して有する塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、沃化銀０．
２モル％、残りは臭化銀からなる）平板粒子の乳剤であ
った。
【０１６７】この乳剤を４０℃に冷却し、凝集高分子剤
としてフェニルカルバモイル基で変性（置換率９０％）
された変性ゼラチン１３．８重量％水溶液１８００ｍｌ
を添加し、３分間攪拌した、その後、酢酸５６重量％水
溶液を添加して乳剤のｐＨを４．６に調整し、３分間攪
拌した後、２０分間静置させデカンテーションにより上
澄み液を排水した。
としてフェニルカルバモイル基で変性（置換率９０％）
された変性ゼラチン１３．８重量％水溶液１８００ｍｌ
を添加し、３分間攪拌した、その後、酢酸５６重量％水
溶液を添加して乳剤のｐＨを４．６に調整し、３分間攪
拌した後、２０分間静置させデカンテーションにより上
澄み液を排水した。
【０１６８】その後、４０℃の蒸留水９．０リットルを
加え、攪拌静置後上澄み液を除去し、さらに蒸留水１
１．２５リットルを加え、攪拌静置後、上澄み液を除去
した。
加え、攪拌静置後上澄み液を除去し、さらに蒸留水１
１．２５リットルを加え、攪拌静置後、上澄み液を除去
した。
【０１６９】続いて、ゼラチン水溶液と炭酸ナトリウム
１０重量％水溶液を加えてｐＨが５．８０になるように
調整し、５０℃で３０分間攪拌し再分散した。再分散
後、４０℃にてｐＨを５．８０、ｐＡｇを８．０６に調
整した。脱塩後のこの乳剤のＥＡｇは５０℃で１９０ｍ
Ｖであった。
１０重量％水溶液を加えてｐＨが５．８０になるように
調整し、５０℃で３０分間攪拌し再分散した。再分散
後、４０℃にてｐＨを５．８０、ｐＡｇを８．０６に調
整した。脱塩後のこの乳剤のＥＡｇは５０℃で１９０ｍ
Ｖであった。
【０１７０】得られた乳剤に４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モル当
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、ｐ−トルエンチオスルホン酸ナトリウム１×１０-3
モルを添加後、銀１モル当たりクロラミンＴを３５０ｍ
ｇ、無機硫黄（Ｓ8）を０．６ｍｇ、トリクロロオーレ
イト６ｍｇを添加して温度６０℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モル当
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、ｐ−トルエンチオスルホン酸ナトリウム１×１０-3
モルを添加後、銀１モル当たりクロラミンＴを３５０ｍ
ｇ、無機硫黄（Ｓ8）を０．６ｍｇ、トリクロロオーレ
イト６ｍｇを添加して温度６０℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
【０１７１】熟成終了後、銀１モル当たり４−ヒドロキ
シ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
を２×１０-3モル、１−フェニル−５−メルカプトテト
ラゾールを３×１０-4モル、沃化カリウムを３００ｍｇ
を添加した。
シ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
を２×１０-3モル、１−フェニル−５−メルカプトテト
ラゾールを３×１０-4モル、沃化カリウムを３００ｍｇ
を添加した。
【０１７２】（ハロゲン化銀乳剤Ｂの調製）同時混合法
を用いて塩化銀６０モル％、沃化銀２．５モル％、残り
は臭化銀からなる平均厚み０．０５μｍ、平均直径０．
１５μｍの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合
時にＫ3Ｒｈ（Ｈ2Ｏ）Ｂｒを銀１モル当たり８×１０-8
モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用いてシ
ェルを付けた。その際Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モル当たり３
×１０-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み０．０
１μｍ、平均直径０．４２μｍのコア／シェル型単分散
（変動係数１０％）の塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、
沃化銀０．５モル％、残りは臭化銀からなる）平板粒子
の乳剤であった。ついで前記ハロゲン化銀乳剤Ａの調製
と全く同様にして脱塩を行った。脱塩後のこの乳剤のＥ
Ａｇは５０℃で１９０ｍＶであった。
を用いて塩化銀６０モル％、沃化銀２．５モル％、残り
は臭化銀からなる平均厚み０．０５μｍ、平均直径０．
１５μｍの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合
時にＫ3Ｒｈ（Ｈ2Ｏ）Ｂｒを銀１モル当たり８×１０-8
モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用いてシ
ェルを付けた。その際Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モル当たり３
×１０-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み０．０
１μｍ、平均直径０．４２μｍのコア／シェル型単分散
（変動係数１０％）の塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、
沃化銀０．５モル％、残りは臭化銀からなる）平板粒子
の乳剤であった。ついで前記ハロゲン化銀乳剤Ａの調製
と全く同様にして脱塩を行った。脱塩後のこの乳剤のＥ
Ａｇは５０℃で１９０ｍＶであった。
【０１７３】得られた乳剤に４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モル当
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、塩化金酸を２×１０-5モル添加した後、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′−トリメチル−Ｎ＝|ヘプタフルオロセレノ尿素を
３×１０-5モル添加して温度温度６０℃で最高感度がで
るまで化学熟成を行った。
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モル当
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、塩化金酸を２×１０-5モル添加した後、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′−トリメチル−Ｎ＝|ヘプタフルオロセレノ尿素を
３×１０-5モル添加して温度温度６０℃で最高感度がで
るまで化学熟成を行った。
【０１７４】熟成終了後、銀１モル当たり４−ヒドロキ
シ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
を銀１モル当たり２×１０-3モル、１−フェニル−５−
メルカプトテトラゾールを３×１０-4モル及びゼラチン
を添加した。
シ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
を銀１モル当たり２×１０-3モル、１−フェニル−５−
メルカプトテトラゾールを３×１０-4モル及びゼラチン
を添加した。
【０１７５】（Ｈｅ−Ｎｅレーザー光源用印刷製版スキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製）支持体上の
一方の下塗層上に、下記の処方１のゼラチン下塗層をゼ
ラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように塗布し、その上
に処方２のハロゲン化銀乳剤層１を銀量１．５ｇ／
ｍ2、ゼラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように、さらに
その上層に中間保護層として下記処方３の塗布液をゼラ
チン量が０．３ｇ／ｍ2になるように、さらにその上層
に下記処方４のハロゲン化銀乳剤層２を銀量１．４ｇ／
ｍ2、ゼラチン量が０．４ｇ／ｍ2になるように、さらに
下記処方５の塗布液をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2にな
るように同時重層塗布した。
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製）支持体上の
一方の下塗層上に、下記の処方１のゼラチン下塗層をゼ
ラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように塗布し、その上
に処方２のハロゲン化銀乳剤層１を銀量１．５ｇ／
ｍ2、ゼラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように、さらに
その上層に中間保護層として下記処方３の塗布液をゼラ
チン量が０．３ｇ／ｍ2になるように、さらにその上層
に下記処方４のハロゲン化銀乳剤層２を銀量１．４ｇ／
ｍ2、ゼラチン量が０．４ｇ／ｍ2になるように、さらに
下記処方５の塗布液をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2にな
るように同時重層塗布した。
【０１７６】また、反対側の下塗層上には下記処方６の
バッキング層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2になるよう
に、その上に下記処方７の疎水性ポリマー層を、さらに
その上に下記処方８のバッキング保護層をゼラチン量が
０．４ｇ／ｍ2になるように乳剤層側と同時重層塗布す
ることで試料を得た。なお、上記ゼラチンは前記Ｎａ+
型カチオン交換樹脂で処理した。
バッキング層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2になるよう
に、その上に下記処方７の疎水性ポリマー層を、さらに
その上に下記処方８のバッキング保護層をゼラチン量が
０．４ｇ／ｍ2になるように乳剤層側と同時重層塗布す
ることで試料を得た。なお、上記ゼラチンは前記Ｎａ+
型カチオン交換樹脂で処理した。
【０１７７】 処方１（ゼラチン下引層組成） ゼラチン ０．５ｇ／ｍ2 染料ＡＤ−１の固体分散微粒子（平均粒径０．１μｍ） ２５ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ ０．４ｍｇ／ｍ2 処方２（ハロゲン化銀乳剤層１組成） ハロゲン化銀乳剤Ａ 銀量１．５ｇ／ｍ2相当量 染料ＡＤ−８の固体分散微粒子（平均粒径０．１μｍ） ２５ｍｇ／ｍ2 シクロデキストリン（親水性ポリマー） ０．５ｇ／ｍ2 表２に記載の一般式（１）又は（２）の化合物 ５ｍｇ／ｍ2 感光色素ｄ−１ ５ｍｇ／ｍ2 表２に記載の一般式（４）の化合物 ２０ｍｇ／ｍ2 一般式（５）の例示５−２３ １４ｍｇ／ｍ2 レドックス化合物ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 化合物 ｅ １００ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマー ｆ ０．５ｇ／ｍ2 硬膜剤 ｇ ５ｍｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ ０．７ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ2 ＥＤＴＡ ３０ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 処方３（中間層組成） ゼラチン ０．３ｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ ２ｍｇ／ｍ2 処方４（ハロゲン化銀乳剤層２組成） ハロゲン化銀乳剤Ｂ 銀量１．５ｇ／ｍ2相当量 表２に記載の一般式（１）又は（２）の化合物 ６ｍｇ／ｍ2 表２に記載の一般式（４）の化合物 ２０ｍｇ／ｍ2 一般式（５）例示５−２４ １４ｍｇ／ｍ2 レドックス化合物ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ2 ＥＤＴＡ ２０ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ １．７ｍｇ／ｍ2 処方５（乳剤保護層組成） ゼラチン ０．６／ｍ2 染料ＡＤ−１１の固体分散物（平均粒径０．１μｍ） ４０ｍｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ １２ｍｇ／ｍ2 マット剤：平均粒径３．５μｍの単分散シリカ ２５ｍｇ／ｍ2 １，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール ４０ｍｇ／ｍ2 界面活性剤 ｈ １ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤 ｊ ３０ｍｇ／ｍ2 処方６（バッキング層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ ５ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマー ｆ ０．３ｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） ７０ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ２０ｍｇ／ｍ2 化合物 ｉ １００ｍｇ／ｍ2 処方７（疎水性ポリマー層組成） ラテックス（メチルメタクリレート：アクリル酸＝９７：３） １．０ｇ／ｍ2 硬膜剤 ｇ ６ｍｇ／ｍ2 処方８（バッキング保護層） ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2 マット剤：平均粒径５μｍの単分散ポリメチルメタクリレート ５０ｍｇ／ｍ2 ソジウム−ジ−（２−エチルヘキシル）スルホサクシナート １０ｍｇ／ｍ2 界面活性剤 ｈ １ｍｇ／ｍ2 染料 ｋ ２０ｍｇ／ｍ2 Ｈ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）68−ＯＨ ５０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤 ｊ ２０ｍｇ／ｍ２
【０１７８】
【化４３】
【０１７９】
【化４４】
【０１８０】
【化４５】
【０１８１】
【化４６】
【０１８２】 （処理剤の調製） 〈開始現像剤〉 現像Ａパーツの作製（使用液１リットル当たり） １−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ０．０３ｇ ８−メルカプトアデニン ０．０６ｇ １−フェニル−４−ヒドロキシメチル−４−メチル−３−ピラゾリドン ０．８７ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ０．２１ｇ 亜硫酸ナトリウム ７ｇ 表２に記載の一般式（３）の化合物 ７２ｇ Ｄ−ソルビトール ５．０ｇ 現像Ｂパーツの作製（使用液１リットル当たり） ＤＴＰＡ・５Ｎａ １．４５ｇ 炭酸ナトリウム ２８．７７ｇ 炭酸カリウム ５５ｇ 臭化カリウム ２．０ｇ 亜硫酸ナトリウム ４５ｇ Ｄ−マンニット １１．７ｇ Ｄ−ソルビトール ５．０ｇ 〈固体現像補充剤〉 造粒Ａパーツの作製（補充液１リットル分） ８−メルカプトアデニン ０．０９ｇ １−フェニル−４−ヒドロキシメチル−４−メチル−３−ピラゾリドン １．３ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ０．２６ｇ 亜硫酸ナトリウム ７．１ｇ 表２に記載の一般式（３）で表される化合物 ７２ｇ Ｄ−ソルビトール ５．０ｇ 造粒Ｂパーツの作製（補充液１リットル分） ＤＴＰＡ・５Ｎａ ４．３５ｇ 炭酸ナトリウム ２８．７７ｇ 炭酸カリウム ３７．５ｇ 臭化カリウム ２．０ｇ 亜硫酸ナトリウム ４９．５ｇ ＬｉＯＨ・Ｈ２Ｏ ８．８ｇ Ｄ−マンニット １１．７ｇ Ｄ−ソルビトール ５．０ｇ 開始定着錠剤の作製 定着Ａパーツ錠剤の作製（開始定着液１リットル分） チオ硫酸アンモニウム（１０％Ｎａ塩：ヘキスト社製） １４０ｇ 重亜硫酸ナトリウム １４ｇ 亜硫酸ナトリウム ８ｇ 酢酸ナトリウム ２３ｇ パインフロー〔松谷化学（株）製〕 ９ｇ 定着Ｂパーツ錠剤の作製（開始定着液１リットル分） 硼酸 １０ｇ 酒石酸 ３ｇ 琥珀酸 １３．２ｇ 硫酸アルミニウム・８水塩 １８ｇ 酢酸ナトリウム １５ｇ Ｄ−マンニトール ２．５ｇ Ｄ−ソルビット １．２ｇ マクロゴールＰＥＧ♯４０００ ０．７５ｇ 〈補充定着錠剤〉 補充定着Ａパーツ錠剤の作製（補充液１リットル分） チオ硫酸アンモニウム（１０％Ｎａ塩；ヘキスト社製） １４０ｇ 重亜硫酸ナトリウム １４ｇ 亜硫酸ナトリウム １．０ｇ 酢酸ナトリウム １８ｇ パインフロー（商品名：松谷化学（株）製） ９ｇ 補充定着Ｂパーツ錠剤の作製（補充液１リットル分） 硼酸 ６ｇ 酒石酸 ３ｇ 琥珀酸 １３．２ｇ 硫酸アルミニウム８水塩 １８ｇ 酢酸ナトリウム １０ｇ Ｄ−マンニトール ２．５ｇ Ｄ−ソルビット １．２ｇ マクロゴールＰＥＧ♯４０００ ０．７５ｇ 現像Ａパーツ用原料、現像Ｂパーツ用原料及び定着Ａパ
ーツ用原料、定着Ｂパーツ用原料に、それぞれ別々に表
２記載の本発明の一般式（７）で表される化合物を２重
量％づつ添加し、ヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｃ／１型
（三井鉱山〔株〕製）を用い１０分間混合した後、ブリ
ケッタＢＳＳ−ＩＨ型（新東工業〔株〕製）を用いて直
径３〜５ｍｍの顆粒を３００ｋｇを成形した。これらの
顆粒をそれぞれ４リットル分づつアルミピローに包装
し、キット形態にした。なお、造粒及び乾燥工程は用い
ていない。
ーツ用原料、定着Ｂパーツ用原料に、それぞれ別々に表
２記載の本発明の一般式（７）で表される化合物を２重
量％づつ添加し、ヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｃ／１型
（三井鉱山〔株〕製）を用い１０分間混合した後、ブリ
ケッタＢＳＳ−ＩＨ型（新東工業〔株〕製）を用いて直
径３〜５ｍｍの顆粒を３００ｋｇを成形した。これらの
顆粒をそれぞれ４リットル分づつアルミピローに包装
し、キット形態にした。なお、造粒及び乾燥工程は用い
ていない。
【０１８３】なお、現像開始剤を溶解したときのｐＨは
９．８、定着開始剤を溶解したときのｐＨは４．８５で
あった。現像補充液を溶解したきのｐＨは１０．１、定
着補充液を溶解したときのｐＨは４．２であった。
９．８、定着開始剤を溶解したときのｐＨは４．８５で
あった。現像補充液を溶解したきのｐＨは１０．１、定
着補充液を溶解したときのｐＨは４．２であった。
【０１８４】なお、比較として現像剤、定着剤ともに上
記素材をＡ、Ｂパートの区別せずに４リットル分を順に
溶解し、水で４リットルに仕上げた。このときのｐＨは
現像液９．８、定着液のｐＨは４．８５であった。
記素材をＡ、Ｂパートの区別せずに４リットル分を順に
溶解し、水で４リットルに仕上げた。このときのｐＨは
現像液９．８、定着液のｐＨは４．８５であった。
【０１８５】上記で作製された感光材料を黒化率５０％
になるように露光し、自動現像機はＧＲ−２６ＳＲにミ
キサーＳＭ−１０（共にコニカ（株）製）を装着したも
のを用い、上記処方の現像剤、定着剤を使用して、感光
材料１ｍ2当たり、現像補充液１３０ｍｌ／ｍ2、定着補
充液１３０ｍｌ／ｍ2の補充を行い２０００枚処理し
た。この際、大全（５０５×６００ｍｍ）１枚の露光部
分は全面積の２０％で、２０日間２００枚／日で処理
し、その液をランニング液とした。
になるように露光し、自動現像機はＧＲ−２６ＳＲにミ
キサーＳＭ−１０（共にコニカ（株）製）を装着したも
のを用い、上記処方の現像剤、定着剤を使用して、感光
材料１ｍ2当たり、現像補充液１３０ｍｌ／ｍ2、定着補
充液１３０ｍｌ／ｍ2の補充を行い２０００枚処理し
た。この際、大全（５０５×６００ｍｍ）１枚の露光部
分は全面積の２０％で、２０日間２００枚／日で処理
し、その液をランニング液とした。
【０１８６】処理条件 （工程） （温度） （時間） 現像 ３５℃ １２秒 定着 ３５℃ １０秒 水洗 常温 １０秒 乾燥 ４８℃ １０秒 合計 ５２秒 （評価方法） 〈フィルムの汚れ評価〉ランニング試験後の処理フィル
ムについて、以下の評価基準で評価した。
ムについて、以下の評価基準で評価した。
【０１８７】 Ａ：汚れが全くない Ｂ：ローラー部がやや黒くなるがフィルムには汚れがな
い Ｃ：ローラー部とフィルムがやや黒くなる Ｄ：ローラー部に黒く析出し、一部に黒い析出物が付着
している Ｅ：ローラー部に黒く析出し、フィルム全面に黒い析出
物が付着している 上記評価規準のうち、Ａ，Ｂが実用可能のレベルであ
る。
い Ｃ：ローラー部とフィルムがやや黒くなる Ｄ：ローラー部に黒く析出し、一部に黒い析出物が付着
している Ｅ：ローラー部に黒く析出し、フィルム全面に黒い析出
物が付着している 上記評価規準のうち、Ａ，Ｂが実用可能のレベルであ
る。
【０１８８】〈カブリの評価〉得られた現像済み試料の
未露光部を濃度計Ｘ−Ｒｉｔｅ３６１を用いて濃度を測
定した。カブリ濃度は０．０２５以下が好ましい値であ
る。
未露光部を濃度計Ｘ−Ｒｉｔｅ３６１を用いて濃度を測
定した。カブリ濃度は０．０２５以下が好ましい値であ
る。
【０１８９】〈網点品質〉ＳＧ−７４７ＲＵで８μｍの
ランダムパターンの網点（ＦＭスクリーン）で露光を行
ったものを中点（目標５０％）を１００倍のルーペを用
い網点品質（キレ）を評価した。最高ランクを５とし、
網点品質に応じて４、３、２、１にランク付けをして評
価した。ランク１、２は実用上好ましくない。
ランダムパターンの網点（ＦＭスクリーン）で露光を行
ったものを中点（目標５０％）を１００倍のルーペを用
い網点品質（キレ）を評価した。最高ランクを５とし、
網点品質に応じて４、３、２、１にランク付けをして評
価した。ランク１、２は実用上好ましくない。
【０１９０】〈実技最大濃度〉上記の評価における５０
％の原稿をフィルム試料上に５０％の面積となるように
露光を与えたときの最大濃度を評価した。
％の原稿をフィルム試料上に５０％の面積となるように
露光を与えたときの最大濃度を評価した。
【０１９１】〈輸送テスト〉得られた処理剤キットを市
販の段ボール箱に現像剤４キット、定着剤４キットを詰
め、一般の宅配便業者に依頼して北海道（札幌）から九
州（福岡）まで輸送した。この段ボール箱に入ったキッ
トのうち、現像剤、定着剤の各１キットを取り出し、中
の顆粒を高さ１ｍから直径３０ｃｍのステンレス製の円
形バットに自由落下させ、粉末発生量（重量％）を測定
した。粉末発生量は１％を越えないものが望ましい。
販の段ボール箱に現像剤４キット、定着剤４キットを詰
め、一般の宅配便業者に依頼して北海道（札幌）から九
州（福岡）まで輸送した。この段ボール箱に入ったキッ
トのうち、現像剤、定着剤の各１キットを取り出し、中
の顆粒を高さ１ｍから直径３０ｃｍのステンレス製の円
形バットに自由落下させ、粉末発生量（重量％）を測定
した。粉末発生量は１％を越えないものが望ましい。
【０１９２】以上の結果をまとめて表２に示した。
【０１９３】
【表２】
【０１９４】表２より、本発明の感光材料は、実質的に
ジヒドロキシベンゼン類を含まないアスコルビン酸を現
像主薬とする顆粒処理剤での低補充ランニング処理で、
感光材料の汚れもなく、実技最大濃度、カブリに優れて
いることが分かる。また、本発明の処理方法に用いられ
る顆粒処理剤は、輸送などによる振動で粉末の発生量の
極めて少ない錠剤であることが分かる。
ジヒドロキシベンゼン類を含まないアスコルビン酸を現
像主薬とする顆粒処理剤での低補充ランニング処理で、
感光材料の汚れもなく、実技最大濃度、カブリに優れて
いることが分かる。また、本発明の処理方法に用いられ
る顆粒処理剤は、輸送などによる振動で粉末の発生量の
極めて少ない錠剤であることが分かる。
【０１９５】実施例２ 実施例１のＨｅ−Ｎｅレーザー光源用印刷製版スキャナ
ー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製において、一般式
（１）又は（２）の化合物、一般式（４）の化合物を表
３記載のごとく変えた以外は実施例１と同様にしてＨｅ
−Ｎｅレーザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化
銀写真感光材料を調製した。また、現像剤は一般式
（３）の化合物及び一般式（７）の化合物を表３記載の
ごとく変え、形態を顆粒から錠剤にした以外は実施例１
と同様にして評価した。
ー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製において、一般式
（１）又は（２）の化合物、一般式（４）の化合物を表
３記載のごとく変えた以外は実施例１と同様にしてＨｅ
−Ｎｅレーザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化
銀写真感光材料を調製した。また、現像剤は一般式
（３）の化合物及び一般式（７）の化合物を表３記載の
ごとく変え、形態を顆粒から錠剤にした以外は実施例１
と同様にして評価した。
【０１９６】現像剤、定着剤ともに上記各素材を、各素
材パートごとにヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｃ／１型
（三井鉱山〔株〕製）にて水を３重量％添加し、室温で
１０分間造粒した後、回分式中凍結乾燥機を用い、内圧
５ｍｍＨｇまで下げた後、冷却した。その後、−２０℃
で１２時間処理し、含水率１％になるまで乾燥して各造
粒物を得た。
材パートごとにヘンシェルミキサーＦＭ１０Ｃ／１型
（三井鉱山〔株〕製）にて水を３重量％添加し、室温で
１０分間造粒した後、回分式中凍結乾燥機を用い、内圧
５ｍｍＨｇまで下げた後、冷却した。その後、−２０℃
で１２時間処理し、含水率１％になるまで乾燥して各造
粒物を得た。
【０１９７】開始剤用、補充剤用の各現像顆粒Ａパーツ
とＢパーツに表３に記載の一般式（７）で表される化合
物をそれぞれ２重量％づつ添加して１０分間完全に混合
し、得られた混合物を打錠装置ＵＤ・ＤＦＥ３０・４０
（〔株〕マシーナ製）を用いて１．５トン・ｍ2で圧縮
打錠により直径３０ｍｍ、厚さ１０ｍｍ、重量１０ｇの
錠剤を得た。
とＢパーツに表３に記載の一般式（７）で表される化合
物をそれぞれ２重量％づつ添加して１０分間完全に混合
し、得られた混合物を打錠装置ＵＤ・ＤＦＥ３０・４０
（〔株〕マシーナ製）を用いて１．５トン・ｍ2で圧縮
打錠により直径３０ｍｍ、厚さ１０ｍｍ、重量１０ｇの
錠剤を得た。
【０１９８】これらの錠剤をそれぞれ４リットル分（現
像錠剤Ａ剤１７個、Ｂ剤４２個、定着錠剤Ａ剤７２個、
Ｂ剤１９個をそれぞれを現像錠剤キット、定着錠剤キッ
トとしてアルミピローに包装し、５０℃、７０％ＲＨの
環境下で２週間保存した。
像錠剤Ａ剤１７個、Ｂ剤４２個、定着錠剤Ａ剤７２個、
Ｂ剤１９個をそれぞれを現像錠剤キット、定着錠剤キッ
トとしてアルミピローに包装し、５０℃、７０％ＲＨの
環境下で２週間保存した。
【０１９９】これらの錠剤を使用する際、ミキサーＳＭ
−１０（コニカ［株］製）を用いて溶解し、４リットル
に仕上げた。
−１０（コニカ［株］製）を用いて溶解し、４リットル
に仕上げた。
【０２００】なお、現像開始剤を溶解したときのｐＨは
９．８、定着開始剤を溶解したときのｐＨは４．８５で
あった。現像補充液を溶解したきのｐＨは１０．１、定
着補充液を溶解したときのｐＨは４．２であった。
９．８、定着開始剤を溶解したときのｐＨは４．８５で
あった。現像補充液を溶解したきのｐＨは１０．１、定
着補充液を溶解したときのｐＨは４．２であった。
【０２０１】（評価方法）フィルムの黒汚れ評価、カブ
リの評価、網点品質、実技最大濃度の評価については、
実施例１と全く同様に行い輸送テストについては、下記
のように行った。
リの評価、網点品質、実技最大濃度の評価については、
実施例１と全く同様に行い輸送テストについては、下記
のように行った。
【０２０２】〈輸送テスト〉得られた処理剤キットを市
販の段ボール箱に現像剤４キット、定着剤４キットを詰
め、一般の宅配便業者に依頼して北海道（札幌）から九
州（福岡）まで輸送した。この段ボール箱に入ったキッ
トのうち、現像剤、定着剤の各１キットを取り出し、微
粉発生量と錠剤の割れた数を測定した。錠剤は割れのな
いものが好ましく、微粉発生量は１％を越えないものが
好ましい。
販の段ボール箱に現像剤４キット、定着剤４キットを詰
め、一般の宅配便業者に依頼して北海道（札幌）から九
州（福岡）まで輸送した。この段ボール箱に入ったキッ
トのうち、現像剤、定着剤の各１キットを取り出し、微
粉発生量と錠剤の割れた数を測定した。錠剤は割れのな
いものが好ましく、微粉発生量は１％を越えないものが
好ましい。
【０２０３】結果を表３に示す。
【０２０４】
【表３】
【０２０５】表３より、錠剤は微粉の発生が抑えられ、
輸送時に錠剤が割れたりすることなく、低補充ラニング
処理で汚れの発生がなく、最高濃度の低下、カブリが上
昇せず、かつ、網点品質の劣化のない感光材料の処理方
法であることが分かる。
輸送時に錠剤が割れたりすることなく、低補充ラニング
処理で汚れの発生がなく、最高濃度の低下、カブリが上
昇せず、かつ、網点品質の劣化のない感光材料の処理方
法であることが分かる。
【０２０６】
【発明の効果】本発明により、ランニング処理で汚れが
発生せず、低補充でも最高濃度の低下、カブリの増加ま
たは網点品質の劣化がなく、かつ固体化された場合にも
使用時に微粉の発生のない感光材料の処理方法が得られ
た。
発生せず、低補充でも最高濃度の低下、カブリの増加ま
たは網点品質の劣化がなく、かつ固体化された場合にも
使用時に微粉の発生のない感光材料の処理方法が得られ
た。
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（１）または一般式（２）で
表される化合物の少なくとも１種を含有するハロゲン化
銀写真感光材料を実質的にジヒドロキシベンゼン類を含
有せず、下記一般式（３）で表される化合物を含有する
処理剤で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。 【化１】 〔式中、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3は、各々、独立に−Ｎ（Ｒ5）−
基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子を表
し、Ｚ1は縮合されてもよい５〜６員の含窒素複素環基
を形成するに必要な非金属原子群を表す。Ｒ1は水可溶
化基を置換した炭素数８以下の脂肪族基を表し、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々、脂肪族基、アリール基又は複
素環基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のうちの少なくと
も二つの基は水可溶化基で置換された基である。Ｗは酸
素原子、硫黄原子または＝Ｃ＜（Ｅ1）（Ｅ2）基を表
し、Ｅ1及びＥ2は各々、独立に電子吸引性の基を表すか
又は、互いに結合してケト環又は酸性の複素環を形成し
てもよい。Ｌ1、Ｌ2は各々、独立に置換または無置換の
メチン基を表し、ｍ1は０又は１を表し、Ｍ1は分子内の
総電荷を相殺させるに必要なイオンを表し、ｎ1は分子
内の総電荷を相殺させるに必要なイオンの数を表す。〕 【化２】 〔式中、Ｙ4、Ｙ5及びＹ6は、各々、独立に−Ｎ
（Ｒ10）−基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子を表
し、Ｚ2は縮合されてもよい５〜６員の含窒素複素環基
を形成するに必要な非金属原子群を表す。Ｒ6は水可溶
化基を置換した炭素数８以下の脂肪族基を表す。Ｒ10、
Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々、脂肪族基、アリール基又は複
素環基を表し、Ｒ10、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9のうちの少なく
とも三つの基は、水可溶化基を置換した基を表す。
Ｌ3、Ｌ4は各々、独立に置換または無置換のメチン基を
表し、Ｍ2は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオ
ンを表し、ｎ2は分子内の総電荷を相殺させるに必要な
イオンの数を表す。〕 【化３】 〔式中、Ｒ31、Ｒ32は各々独立して置換又は無置換のア
ルキル基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換
のアルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチオ基又は
Ｒ31とＲ32が互いに結合して環を形成しても良く、ｋは
０又は１を表し、ｋ＝１のときＸは−ＣＯ−又は−ＣＳ
−を表し、Ｍ31、Ｍ32は水素原子又はアルカリ金属原子
を表す。〕 - 【請求項２】 前記ハロゲン化銀写真感光材料中に、下
記一般式（４）で表される化合物を含有することを特徴
とする請求項１記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法。 【化４】 〔式中、Ａは脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基を表し、
置換基を有してもよい。Ｂはアシル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、アルキルスフィニル
基、アリールスルフィニル基、カルバモイル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スル
ファモイル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホ
ニル基、チオアシル基、チオカルバモイル基、オキザリ
ル基又はヘテロ環基を表す。また、ＢはＡ42及びそれら
が結合する窒素原子とともに、ヘテロ環を形成してもよ
い。Ａ41、Ａ42はともに水素原子又は一方が水素原子で
他方はアシル基又はオキサゾリル基を表す。〕 - 【請求項３】 前記処理方法における処理剤が固体処理
剤であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載
のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項４】 前記固体処理剤中に、下記一般式（７）
で表される化合物を含有することを特徴とする請求項３
に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式（７） Ｒ71−（Ｏ）ｎ71−ＳＯ3Ｍ71 〔式中、Ｒ71は直鎖又は分岐のアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基を表し、ｎ71は０または１を表し、Ｍ
71は水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を表
す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8128998A JPH11282115A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8128998A JPH11282115A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11282115A true JPH11282115A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13742232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8128998A Pending JPH11282115A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11282115A (ja) |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP8128998A patent/JPH11282115A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040302 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |