JPH1129568A - ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】低揮発性を有し、高い熱安定性を有する有機重
合体の安定化に使用される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール誘導体を提供する。 【解決手段】２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール誘導体は一般式（I）で表される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールに係る。

【０００２】さらに詳述すれば、本発明は、分子中に
２,４−イミダゾリジンジオン基又は２,４−イミダゾリ
ジンジオン−５,５−ジ置換基を含有する２−(２'−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、その製法及び
有機重合体用の光安定剤としての使用にかかる。

【０００３】本発明は、上記ベンゾトリアゾールによっ
て安定化させた有機重合体組成物及びこれら組成物から
得られた最終製品にも係る。

【０００４】光安定剤として使用される２−(２'−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾールは当分野で知られ
ている。しかしながら、これらのバンゾトリアゾールは
各種の欠点を有する。実際のところ、これらはかなり揮
発性であり、熱安定性が低く４００ｎｍに吸収を有する
ため、これらが配合された重合体を黄色に着色する。発
明者らは、驚くべきことには、分子中に２,４−イミダ
ゾリジンジオン基又は、２,４−イミダゾリジンジオン
−５,５−ジ置換基を含有する２−(２'−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾールは当分野で公知の欠点を解
消できることを見出し、本発明に至った。事実、これら
ベンゾトリアゾールは、低い揮発性（このため、安定化
有機重合体内に長期間留まることができる）及び高い熱
安定性を有する。さらに、これらは入＝４００ｎｍに低
い吸収を有し、ベンゾトリアジンの代表的な２つの入、
すなわち約３００ｎｍ及び３４０ｎｍにおける吸収を保
持し、その結果、これらが配合された重合体を黄色に着
色することはない。

【０００５】このように、本発明は、下記一般式（I）
で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾールに係る。

【０００６】一般式（I） 式中、Ｘは、水素原子、塩素及び臭素から選ばれるハロ
ゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基、直鎖
状又は分枝状のＣ_1-18アルコキシル基、又はシアノ基で
あり；Ｒは、塩素又は臭素から選ばれるハロゲン原子、
直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基、直鎖状又は分枝
状のＣ_2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝状のＣ_2-18ア
ルキニル基、Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）、Ｃ_7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基、Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよい）、直
鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルコキシル基、酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）、
式 −ＣＯＨ で表される基、−ＣＯＲ₄又は−ＮＲ₅Ｒ₆基（ここで、
Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、同一又は異なるものであって、直
鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基；直鎖状又は分枝状
のＣ_2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_2-18アル
キニル基；Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換されていても
よい）；Ｃ_7-15アリールアルキル又はアルキルアリール
基；Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよい）；酸
素、窒素及びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテ
ロ原子を含有する５又は６員複素環基（置換されていて
もよい）である）であるか；又はＲは、一般式（II） 一般式（III） 一般式（IV） で表されるエステル基、又は一般式（V） で表されるアミド基（これら一般式において、Ｒ′は、
直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基；直鎖状又は分枝
状のＣ_2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_2-18ア
ルキニル基；Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）；Ｃ_7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基；Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよい）；直
鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルコキシル基；酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよいであ
る）であるか；又はＲは構造式（VI） を有する４,４'−エチリデンビスフェノール基であり；
Ｒ₁は、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル
基、直鎖状又は分枝状のＣ_2-18アルケニル基；直鎖状又
は分枝状のＣ_2-18アルキニル基；Ｃ_5-18シクロアルキル
基（置換されていてもよい）；Ｃ_7-15アリールアルキル
又はアルキルアリール基；Ｃ_6-14アリール基（置換され
ていてもよい）；酸素、窒素及びイオウから選ばれる少
なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又は６員複素環
基（置換されていてもよい）、一般式（VII） で表されるアシル基又は一般式（VIII） で表されるエステル基（これら一般式において、Ｒ'は
前記と同意義である）であり；Ｒ₂及びＲ₃は、同一又は
異なるものであって、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ
_1-18アルキル基、フェニル基、酸素、窒素及びイオウか
ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又
は６員複素環基（置換されていてもよい）である。

【０００７】一般式（I）で表される化合物は有機重合
体用の光安定剤として使用される。Ｃ_5-18シクロアルキ
ル基、Ｃ_6-14アリール基及び５又は６員複素環基が置換
されたものである場合、これらの基は、塩素及び臭素か
ら選ばれるハロゲン原子、直鎖状または分枝状のＣ_1-18
アルキル基、直鎖状または分枝状のＣ_2-18アルケニル
基、直鎖状または分枝状のＣ_2-18アルケニル基、ＯＨ
基、ＮＨ基、ＳＨ基で置換される。

【０００８】Ｃ_1-18アルキル基の例としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級
ブチル、第３級ブチル、第３級アミル、２−エチルヘキ
シル、ｎ−オクチル、１,１,３,３−テトラメチルブチ
ル、ｎ−ドデシル、１,１,７,７−テトラメチルオクチ
ル、ｎ−オクタデシル等がある。

【０００９】Ｃ_2-18アルケニル基の例としては、ビニ
ル、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等
がある。

【００１０】Ｃ_2-18アルキニル基の例としては、アセチ
レン、プロピン、ブチン、２−ブチン等がある。

【００１１】Ｃ_5-18シクロアル基（置換されていてもよ
い）の例は、シクロヘキシル、シクロペンチル、メチル
シクロヘキシル等である。

【００１２】Ｃ_7-15アリールアルチル又はアルチルアリ
ールの例は、ベンジル、２−フェニルエチル、４−第３
級ブチルベンジル等である。

【００１３】Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよ
い）の例は、フェニル、ナフチル、アントラセニル、２
−ヒドロキシフェニル等である。

【００１４】Ｃ_1-18アルコキシル基の例としては、メト
キシル、エトキシル、プロポキシル、ｎ−ブトキシル等
がある。

【００１５】５又は６員複素環基（置換されていてもよ
い）の例は、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、ト
リアアゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチル
ピペリジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモ
ルホリン、４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジン等
である。

【００１６】一般式（I）で表される化合物の特別な例
（本発明の範囲を限定するものではない）は、次のとお
りである。 （Iａ） （Iｂ） （Iｃ） 本発明の一般式（I）で表される化合物は各種の方法に
よって調製される。

【００１７】本発明の他の目的は、一般式（I）で表さ
れる２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ルの製法に係る。

【００１８】一般式（I）で表される化合物の製法は、
一般式（IX）（式中、Ｘ及びＲは前記と同意義である）
で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾールと、一般式（X）で表される２,４−イミダゾリ
ジンジオン−１,３−ジメチロール又は一般式（Ｘａ）
で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１−メチロ
ール（これらの式において、Ｘ及びＲは前記と同意義で
ある）とを、たとえば、濃度８０〜９６％の濃硫酸の存
在下、温度−５〜＋８０℃で反応させることからなる。
このようにして得られた混合物から、当分野で公知の方
法、たとえば水、好ましくは水−氷混合物で希釈し、得
られた固状物を瀘取し、つづいて洗浄し、不活性有機溶
媒の存在下での結晶化によって所望の化合物を単離す
る。

【００１９】上記結晶化に使用できる不活性溶媒は、た
とえば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン等の如き直鎖状又は環状の脂肪族炭化水
素；たとえばトルエンの如き芳香族炭化水素；たとえ
ば、メタノール、イソプロパノールの如きアルコール；
たとえばクロルベンゼン等の如き塩素化芳香族溶媒；た
とえば、メチルイソブチルケトン等の如きケトン；たと
えば２−メトキシエタノール（メチルセロソルブ）等の
如きエチレングリコールのモノアルチルエーテルであ
る。

【００２０】一般式（I）で表される２−(２'−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾールにおいて、Ｒが一般
式（II）、（III）又は（IV）で表されるエステル基、
又は一般式（V）で表されるアミド基である場合、上述
の一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールと、一般式（X）で表される
２、４−イミダゾリジンジオン−１,３−ジメチロール
又は一般式（Ｘａ）で表される２,４−イミダゾリジン
ジオン−１−メチルロールとの間の反応は、硫酸の不存
在下で行われなければならない。

【００２１】この反応は、触媒としてトルエン及びｐ−
トルエンスルホン酸の存在下、室温〜トルエンの沸点の
範囲の温度で行われる。

【００２２】一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾールは、たとえば独国特
許出願第４２３７８１７号に開示された如くとして調製
される。

【００２３】一般式（X）で表される２,４−イミダゾリ
ジンジオン−１,３−ジメチロールは、たとえば米国特
許第４９０８４５６号に開示された如くして調製され
る。一般式（Ｘａ）で表される２,４−イミダゾリジン
ジオン−１−メチロールは、たとえばルーマニア特許第
７２４１３号に開示された如くして調製される。

【００２４】一般式（I）で表される化合物は、上述の
一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールと一般式（XI）（ここで、Ｒ₂
及びＲ₃は前記と同意義である）で表される化合物と
を、たとえば米国特許第４０７７９７１号に開示された
如く操作して、ホルムアルデヒド及び硫酸の存在下で反
応させることによっても調製される。

【００２５】上述した如く、本発明の一般式（I）で表
される化合物は、広範囲の有機重合体用の光安定剤とし
て使用される。

【００２６】本発明の化合物によって安定化されうる有
機重合体としては次のものがある。 （１）たとえば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリ−ブテン−１，ポリ−４−メチルペンテン−１、ポ
リイソプレン又はポリブタジエンの如きモノオレフィン
及びジオレフィン重合体、たとえばシクロペンテン又は
ノルボルネンの如きシクロオレフィンの重合体；たとえ
ば、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、底密度ポリエチ
レン（ＬＤＰＥ）、直鎖状底密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）、分枝状底密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）の如
きポリエチレン（任意に架橋される）。

【００２７】たとえば上述のモノオレフィンの如きポリ
オレフィン、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレ
ンは、文献において公知の各種の方法、好ましくは次の
方法を利用して調製される。

【００２８】（ａ）ラジカル重合法（一般に高圧及び高
温で行われる） （ｂ）通常、周期律表第IVｂ、Vｂ，VIｂ，又はVIII族
の１以上の金属を含有する触媒を使用して行われる触媒
重合法。一般に、これら金属は、たとえばπ−又はα−
配位される酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エー
テル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリー
ルの如き１以上の配位子を有する。これらの金属錯体
は、たとえば活性化クロル化マグネシウム、クロル化チ
タン（III）、アルミナ又は酸化ケイ素の如き物質から
遊離しているか又はこれらに支持される。触媒は単独
で、又はたとえば金属アルキル、金属ヒドリッド、金属
アルキルのハロゲン化物、金属アルキルの酸化物又は金
属アルキルオキサン（これら金属は、周期律表第Iａ，I
Iａ、及び／又はIIIａ族に属する元素である）の如き他
の活性剤の存在下で使用される。

【００２９】活性化剤は、他のエステル、エーテル、ア
ミン又はシリル−エーテル基で変性される。これらの触
媒系は、通常、Phillips, Standard Oil Indiana, チー
グラー（ナッタ）、ＴＮＺ（Du Pont)、メタロセン又は
「シングル・サイト・触媒（ＳＳＣ）」と称される。

【００３０】（２）たとえば、ポリプロピレンとポリイ
ソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン
との混合物（たとえば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰ
Ｅ）、異なる種類のポリエチレンの混合物（たとえばＬ
ＤＰＥ／ＨＤＰＥ）の如き上記（１）に記載の重合体の
混合物。

【００３１】（３）たとえば、エチレンープロピレン共
重合体、直鎖状底密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及び
その底密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロ
ピレン／ブテン−１共重合体、プロピレン／イソブチレ
ン共重合体、エチレン／ブテン−１共重合体、エチレン
／ヘキセン共重合体、エチレン／メチルペンテン共重合
体、エチレン／ヘプテン共重合体、エチレン／オクテン
共重合体、プロピレン／ブタジエン共重合体、イソブチ
レン／イソプレン共重合体、エチレン／アルキルアクリ
レート共重合体、エチレン／アルキルメタクリレート共
重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体の如き及びこれ
らの一酸化炭素との共重合体又はエチレン／アクリル酸
共重合体及びこれらの塩（イオノマー）、エチレンとポ
リプロピレン及びジエン（たとえば、ヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエン又はエチリデンーノルボルネン）と
の三元重合体の如き、モノオレフィン及びジオレフィン
の相互の又は他のビニルモノマーとの共重合体；及びこ
れら共重合体の相互の又は上記（I）に示した重合体と
の混合物（たとえば、ポリプロピレン／エチレンープロ
ピレン共重合体、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニル（Ｅ
ＶＡ）共重合体、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸（Ｅ
ＡＡ）共重合体、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／Ｅ
ＡＡ）及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭
素共重合体及びこれらの他の重合体（たとえばポリアミ
ド）との混合物。 （４）炭化水素樹脂（たとえばＣ_5-9）（これらの水素
化変性体（たとえば接着剤）及びポリアルキレンおよび
デンプンとの混合物を包含する）。 （５）ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ（α−メチルスチレン）。 （６）たとえば、スチレン／ブタジエン、スチレン／ア
クリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、
スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレ
ン／ブタジエン／アルキルマタクリレート、スチレン
／、無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メ
タクリレートの如きスチレン又はα−メチルスチレンの
ジエン又はアクリル誘導体との共重合体；スチレン共重
合体と、たとえば、ポリアクリレート、ジエンの重合体
又はエチレン／プロピレン／ジエンシ元重合体、スチレ
ンのブロック重合体（たとえば、スチレン／ブタジエン
／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレ
ン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチ
レン／プロピレン／スチレン）の如き他の重合体との間
の高衝撃強さを有する混合物。

【００３２】（７）たとえば、ポリブタジエン中のスチ
レン、ポリブタジエン又はポリブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体中のスチレン；ポリブタジエン中のスチ
レン及びアクリロニトリル（又はメタクリロントリ
ル）；ポリブタジエン中のスチレンアクリロニトリル及
びメタクリロニトリル；ポリブタジエン中のスチレン及
び無水マレイン酸；ポリブタジエン中のスチレン、アク
リロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリ
ブタジエン中のスチレン及びマレイミド；ポリブタジエ
ン中のスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリ
レート；エチレン／プロピレン／ジエン三元重合体中の
スチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレ
ート又はポリアルキルメタクリレート中のスチレン及び
アクリロニトリル；アクリレート／ブタジエン共重合体
中のスチレン及びアクリロニトリルの如きスチレン又は
α−メチルスチレンのグラフト共重合体、上記共重合体
と、上記（６）に示した共重合体との混合物（たとえ
ば、ＡＢＳ，ＭＢＳ，ＡＳＡ又はＡＥＳの如き公知の共
重合体の混合物）。

【００３３】（８）たとえば、ポリクロロプレン、塩素
化ゴム、塩素化又はスルホクロル化ポリエチレン、エチ
レン−塩素化エチレン共重合体、エピクロルヒドリンの
ホモ重合体及び共重合体（特に、ハロゲンを含有するビ
ニル化合物の重合体、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ
ビニリデンクロリド、ポリビニルフルオライド又はポリ
ビニリデンフルオライド）の如きハロゲンを含有する重
合体；及びこれらの共重合体、たとえば塩化ビニル／ビ
ニリデンクロリド、塩化ビニル／酢酸ビニル又はビニリ
デンクロリド／酢酸ビニル。

【００３４】（９）たとえば、ポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリルアミド及びポリアクリロントリル、ブチルアクリ
レートで変性したものの如きα、β−不飽和酸及びその
誘導体から誘導された重合体。

【００３５】（１０）たとえば、アクリロニトリル／ブ
タジエン共重合体、アクリロントリル／アルキルアクリ
レート共重合体、アクリロニトリル／アルコキシアルキ
ルアクリレート共重合体又はアクリロニトリル／ビニル
ハロゲン化物共重合体又はアクリロニトリル／アルキル
メタクリレート／ブタジエン三元重合体の如き上記
（９）による単量体の相互の又は他の不飽和単量体との
共重合体。

【００３６】（１１）たとえば、ポリビニルアルコー
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビ
ニルベンゾアート、ポリビニルマレエート、ポリビニル
ブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルマレ
エートの如き不飽和アルコール及びアミン、又はこれら
のアシル又はアセチル誘導体から誘導された重合体、及
びこれらの上記の（１）に示したオレフィンとの共重合
体。

【００３７】（１２）たとえば、ポリアルキレングリコ
ール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド
の如き開放鎖エーテル又は環状エーテルのホモ重合体及
び共重合体、又は上記化合物のビスグリシジルエーテル
との共重合体。

【００３８】（１３）たとえば、ポリオキシンメチレン
及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリ
オキシメチレンの如きポリアセタール；熱可塑性ポリウ
レタン、アクリレート又はＭＢＳで変性したポリアセタ
ール。

【００３９】（１４）ポリフェニレンオキシド及びスル
フィッド及びポリフェニレンオキシドとスチレンとの混
合物又はポリアミド重合体。

【００４０】（１５）ヒドロキシル末端ポリエーテル、
ポリエステル又はポリブタジエン及び脂肪族又は芳香族
ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、かか
る化合物の前駆体。

【００４１】（１６）たとえば、ポリアミド４、ポリア
ミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１
２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド
１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸を原料とし
て得られた芳香族ポリアミドの如きジアミン及びジカル
ボン酸及び／又はアミノカルボン酸に由来する又は相当
するラクタムに由来するポリアミド及びコポリアミド；
ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテ
レッタル酸から、変性剤としてのエレストマーを併用し
又は併用することなく調製されるポリアミド、たとえば
ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタ
ルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；
及び上記ポリアミドのこれに科学的に結合又はクラフト
したポリオレフィン、オレフィン系共重合体、イオノマ
ー又はエラストマーとの、又はポリエーテル（たとえ
ば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル又はポリデトラメチレングリコール）とのブロック共
重合体；ＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又
はコポリアミド；及び加工の間に縮合したポリアミド
（「ＲＩＭポリアミド系」）。

【００４２】（１７）ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミ
ドーイミド及びポリベンゾイミダゾール。

【００４３】（１８）たとえば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１,４−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒ
ドロキシベンゾアートの如きポリカルボン酸及びジオー
ルに及び／又はヒドロキシカルボン酸に又は相当するラ
クトンに由来するポリエステル；ヒドロキシル末端基を
有するポリエーテルに由来するブロックコポリエーテル
エステル；及びポリカーボネート又はＭＢＳで変性した
ポリエステル。

【００４４】（１９）ポリカーボネート及びポリエステ
ルカーボネート。

【００４５】（２０）ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン及びポリエーテルケトン。

【００４６】（２１）たとえば、フェノール／ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミ
ン／ホルムアルデヒド樹脂の如きアルデヒド及びフェノ
ールに由来する架橋重合体。

【００４７】（２２）乾性又は非乾性アルキッド樹脂。

【００４８】（２３）多価アルコールで飽和した及び不
飽和のジカルボン酸のコポリエステルに由来の不飽和ポ
リエステル及び架橋剤としてのビニル化合物を基材とす
る樹脂、及びさらにハロゲンを含有し、良好な耐炎性を
有る上記樹脂。

【００４９】（２４）たとえば、エボキシアクリレー
ト、ウレタンクリレート又はポリエステルアクリレート
の如き置換アクリレートに由来の架橋可能なアクリル系
樹脂。 （２５）アルキッド樹脂、メラミンン樹脂で架橋したポ
リエステル又はアクリレート樹脂を基材とする樹脂、ポ
リイソシアネートを基材とする樹脂又はエポキシ樹脂。

【００５０】（２６）たとえば、ビス−グリシジルエー
テル又は脂環式ジエポキシドの如きポリエポキシドに由
来する架橋エポキシ樹脂。

【００５１】（２７）たとえば、セルロース、ゴム、ゼ
ラチンの如き天然高分子物質、及びたとえば、セルロー
ルアセテート、プロピオネート及びブチレート、又はセ
ルロースエーテル（たとえばメチルセルロース）の如き
同族高分子物質を提供するように科学的に変性した誘導
体、炭化水素樹脂（ロジン）又はこれらの誘導体。

【００５２】（２８）たとえば、ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリ
アミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ
／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／
ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰ
Ｅ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、
ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ
／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６.６及び
共重合体、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ
の如き上記重合体の混合物（ポリブレンド）。

【００５３】本発明の一般式（I）で表される化合物
は、特にポリカーボネートの安定化において有用であ
る。

【００５４】本発明の他の目的は、有機重合体及び一般
式（I）で表される１以上の化合物の有効量を含有して
なる重合体組成物にある。

【００５５】本発明の一般式（I）で表される化合物
は、上記組成物において、そのままで又は他の安定剤と
組み合わせて使用される。

【００５６】一般に、一般式（I）で表される上記化合
物は、被安定化重合体組成物の重量の約０．１〜約５重
量％の量で使用されるが、使用する量は被安定化物質及
び用途に応じて変動する好ましくは、被安定化重合体組
成物の重量の約０．５〜約３重量％の量で添加される。

【００５７】一般式（I）で表される化合物は、可及的
に他の添加剤の存在下で、常法を利用して、被安定化有
機重合体に容易に配合される。この配合は、最終製品の
製造前又は製造中に、たとえば粉末状の一般式（I）で
表される化合物を被安定化重合体と混合することによっ
て、又はこれら化合物を熔融状態又は溶液状の被安定化
重合体に添加することによって、又は被安定化重合体
に、これら化合物の溶液又は懸濁液を塗布し、任意に使
用した溶媒を蒸発させることによって行われる。エラス
トマーはラテックスとして安定化される。

【００５８】一般式（I）で表される化合物を有機重合
体に配当する他の方法は、相当する単量体の重合前又は
重合中に又は活性架橋前に、これらを添加するものであ
る。一般式（I）で表される化合物又はこれらの混合物
は、たとえば２．５〜２５重量％の濃度でこれらの化合
物を含有してなるマスターバッチの形でも被安定化重合
体に添加される。

【００５９】一般式（I）で表される化合物は、下記の
方法によって、被安定化有機重合体に便利に配合され
る。

【００６０】−エマルジョン又は懸濁液の形（たとえ
ば、エマルジョン中のラテックス又は重合体の場合）。

【００６１】−追加化合物又は有機重合体の混合物の一
般的な添加の場合においては粉末状の混合物として。

【００６２】−有機重合体の加工に使用される装道（た
とえば、押出し機、密閉式混合機）への直接添加。

【００６３】−溶液又は溶融製品の形。

【００６４】上述の如く安定化された重合体組成物は、
当分野で公知の方法、たとえば、注型法、熱成型法、紡
糸法、押出し又は射出成型法によって、たとえば、繊
維、フィルム、テープ、シート、多層シート、容器、管
及び他の形状の最終製品に変換される。

【００６５】従って、本発明は、上記重合体組成物の最
終製品の製造への使用にも係る。

【００６６】一般式（I）で表される化合物を比較的高
い含量（たとえば５〜１５重量％）で含有する上記組成
物の１つを、一般式（I）で表される化合物を含まない
または少量含有する重合体でなる成形製品に、薄い層
（厚さ１０〜１００μｍ）の形で塗布してなる多層構造
体の使用も興味深い。このような塗布は、前記製品の製
造の間に、たとえば共押出しによって行われる。また、
かかる塗布を、たとえばフィルムの積層によってより又
は溶液のコーティングによって最終成形製品に対して行
うこともできる。表面層又は最終製品の層はＵＶフィル
ターとして作用し、製品の内部をＵＶ光の劣化作用から
保護する。上層は、好ましくは、一般式（I）で表され
る少なくとも１つの化合物を５〜１５重量％、さらに好
ましくは５〜１０重量％濃度で量で含有する。

【００６７】厚さ１０〜１００μｍを有する上層がこれ
ら組成物でなり、一方、内部層が一般式（I）で表され
る化合物を含有しないか又は少量含有する多層構造体の
形成に上記組成物を使用することも、本発明の他の目的
である。

【００６８】上述の如く安定化された重合体は、大気中
の作用剤によって生ずる劣化に対する高い抵抗性、特に
ＵＶ光に対する高い抵抗性を有する。従って、外気中の
作用剤にさらされる場合にも、長期間、その色及び光沢
を維持できる。

【００６９】上述の組成物は、たとえば塗料、ラッカ
ー、プラスチック基材組成物の如きコーティング又はペ
インティング用組成物（「コーティング組成物」）とし
ても使用される。

【００７０】本発明のかかる目的には、下記の中から選
ばれる有機重合体を含有するコーティングまたはペイン
ティング組成物が好適である。

【００７１】（ａ）主鎖中にヘテロ原子（特に、窒素、
イオウ及び／又は酸素）を含有する熱可塑性重合体の中
から選ばれる熱可塑性重合体スチレン共重合体、グラフ
トスチレン重合体及びポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）；又は（ｂ）ペイントリガンド。

【００７２】主鎖中にヘテロ原子（特に、窒素、イオウ
及び／又は酸素）を含有する熱可塑性重合体（ａ）の例
としては、上述の（１３）〜（２０）に示したものであ
る。これらの中でも、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキ
シド及びポリフェニレンスルフィッドが好適である。特
に好ましくは、ポリカーボネート、ポリエステル（たと
えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリア
ミド（ＰＡ）（たとえば、ＰＡ６及びＰＡ６／６）であ
り、最も好ましくはポリカーボネートである。

【００７３】スチレン共重合体及びグラフトスチレン重
合体（ａ）の例については、上述（６）及び（７）に示
されている。

【００７４】ペイントリガンド（ｂ）は上述の有機重合
体の少なくとも１つでなるものである。特別なリガンド
を含有する塗料の例としては次のものがある。

【００７５】１．アルキッド樹脂、アクリル系樹脂、ポ
リエステル樹脂、エポキン樹脂又はメラミン樹脂を基材
とする塗料（低温又は高温で架橋される）。これら樹脂
の混合物（任意に架橋剤が添加される）； ２．ヒドロキシル基を含有するアクリル系樹脂、ポリエ
ステル樹脂又は、ポリエーテル樹脂及び脂肪族又は芳香
族イソシネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネ
ートを基材とする２成分系ポリウレタン塗料； ３．ブロックイソシアネート、イソシアヌレート又はポ
リイソシアネートを基材とする１成分系ポリウレタン塗
料（オーブン処理の間に解ブロック化される）； ４．（ポリ）ケトイミン及び脂肪族又は芳香族イソシネ
ート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートを基材
とする２成分系塗料； ５．（ポリ）ケトイミン及び不飽和アクリル系樹脂又は
ポリアセトアセテート樹脂又はメチルメタクリルアミド
グリコレートを基材とする２成分系塗料； ６．カルボキシル基又はアミン基を含有するポリアクリ
レート及びポリエポキシドを基材とする２成分系塗料； ７．アンヒドリッド基を含有するアクリル系樹脂及びポ
リヒドロキシル又はポリアミン化合物を基材とする２成
分系塗料； ８．アンヒドリッド基を含有する（ポリ）−オキサゾリ
ン及びアクリル系樹脂又は不飽和アクリル系樹脂及び脂
肪族又は芳香族イソシネート、イソシアヌレート又はポ
リイソシアネートを基材とする２成分系塗料； ９．不飽和ポリアクリレート及びポリマロネートを基材
とする２成分系塗料； １０．熱可塑性アクリル系樹脂又はエーテル化メラミン
樹脂を配合した非自己架橋性アクリル系樹脂を基材とす
る熱可塑性ポリアクリル系塗料； １１．シロキサン変性アクリル系樹脂を基材とする塗料
用システム； １２．フルオロ変性アクリル系樹脂を基材とする塗料用
システム；及び １３．アリルグリシジルエーテルを基材とする塗料用シ
ステム。

【００７６】塗料はコーティングの１つ又は２つの層
（「１又２−コート」）として塗布され、好ましくは、
一般式（I）で表される安定化化合物は、上方の無色コ
ーティングに添加される。

【００７７】塗料は、常法、たとえば、刷ぬり、噴霧、
流し、浸漬又は電気泳動を利用して基材（金属、プラス
チック、木材等）に塗布される。

【００７８】本発明の好適な１具体例は、一般式（I）
で表される少なくとも１つの化合物を含有する塗料又は
コーティング（たとえば、自動車用コーティングであ
る。かかる目的に使用されるリガンドは、たとえば上述
したものである。

【００７９】本発明の一般式（I）で表される化合物
は、既に述べたように、他の一般的な添加剤又はこれら
の混合物と組合される。これら添加剤は、被安定化重合
体塑性物の重量の約０．１〜約５重量％の量で、好まし
くは約０．５〜約３重量％の量で添加される。使用でき
る添加剤を例として下記に示す。

【００８０】１． 酸化防止剤 １.１ アルキル化モノフェノール：たとえば、２,６−
ジ−第３級ブチル−４−メチルフェノール；２−第３級
ブチル−４,６−ジメチルフェノール；２,６−ジ−第３
級ブチル−４−エチルフェノール；２,６−ジ−第３級
ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール；２,６−ジ−第３
級ブチル−４−イソブチルフェノール；２,６−ジ−シ
クロペンチル−４−メチルフェノール；２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４,６−ジメチルフェノール；２,
６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール；２,４,６
−トリシクロヘキシルフェノール；２,６−ジ−第３級
ブチル−４−メトキシメチルフェノール；２,６−ジ−
ノニル−４−メチルフェノール；２,４−ジメチル−６
−（１´−メチルウンデカ−１′−イール）フェノー
ル；２,４−ジメチル−６−（１′−エチルウンデカ−
１′−イール）フェノール；２,４−ジメチル−６−
（１′−メチルトリデカ−１′−イール）フェノール；
及びこれらの混合物。

【００８１】１.２ アルキルチオメチルフェノール：
たとえば、２,４−ジオクチルチオ−６−第３級ブチル
フェノール；２,４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール；２,４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール；２,６−ジドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノール。

【００８２】１.３ ヒドロキノン及びカルキル化ヒド
ロキノン：たとえば、２,６−ジ−第３級ブチル−４−
メトキシフェノール；２,５−ジ−第３級ブチルヒドロ
キノン；２,５−ジ−第３級アミルヒドロキノン；２,６
−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール；
２,６−ジ−第３級ブチルヒドロキノン；２,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシアニソール；３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシアニソール；３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレー
ト；ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。

【００８３】１.４ トコフェロール：たとえば、α−
トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロ
ール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。

【００８４】１.５ ヒドロキシル化チオフェニルエー
テル：たとえば２、２'−チオビス−（６−第３級ブチル
−４−メチルフェノール）；２，２'−チオビス−(４−
オクチルフェノール）；４,４'−チオビス−(６−第３
級ブチル−３−メチルフェノール）；４,４'−チオビス
−(６−第３級ブチル−２−メチルフェノール）；４,
４'−チオビス−(３,６−ジ第２級アミルフェノー
ル）；４,４−ビス−（２,６−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ジスルフィッド。

【００８５】１.６ アルキリデン−ビルフェノール：
たとえば、２,２'−メチレンビス−（６−第３級ブチル
−４−メチルフェノール）；２,２'−メチレンビス−
（６−第３級ブチル−４−メチルフェノール）；２,２'
−メチレンビス−［４−メチル−６−（α−メチルシク
ロヘキシル）フェノール］；２,２'−メチレンビス−
（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）；２,
２'−メチレンビス−（６−ノニル−４−メチルフェノ
ール）；２,２'−メチレンビス−（４,６−ジ−第３級
ブチルフェノール）；２,２'−エチリデンビス−（４,
６−ジ−第３級ブチルフェノール）；２,２'−エチリデ
ンビス−（６−ジ−第３級ブチル−４−イソブチルフェ
ノール）；２,２'−メチレンビス−［６−（α−メチル
ベンジル）−４−フェノール］；２,２'−メチレンビス
−［６−（α,α−ジ−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］；４,４′−メチレンビス（２,６−第３級
ブチルフェノール）；４,４'−メチレンビス−（６−第
３級ブチル−２−メチルフェノール）；１,１'−ビス−
（５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−ブタン；２,６'−ビス−（５−第３級ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール；１,１,３−トリス−（５−第３級ブチル−４
−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタン；１,１
−ビス−（５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン；
エチレングリコールビス−［３,３−ビス（３'−第３級
ブチル−４'−ヒドロキシフェニル）ブチレート］；ビ
ス（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジエン；ビス［２−（３'−第
３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−メチルベンジル）
−６−第３級ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレ
ート；１,１−ビス（３,５−ジメチル−２−ヒドロキシ
フェニル）ブタン；２,２−ビス(３,５−ジ−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２,２−ビ
ス（５第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン；１,１,
５,５−テトラ（５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−ペンタン。 １.７ Ｏ、Ｎ又はＳを含有するベンジル化合物：たと
えば、３,５,３',５'−テトラ−第３級ブチル−４,４'
−ジロドロキシベンジルエーテル；オクタデシル−４−
ヒドロキシ−３,５−ジメチルベンジルメルカプトアセ
テート；トリス（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）アミン；ビス（４−第３級ブチル−３
−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル）ジチオテレ
フタレート；ビス（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）スルフィッド；イソオクチル−３,
５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカ
プトアセテート。

【００８６】１.８ ヒドロキシベンジル化マロネー
ト：たとえば、ジオクタデシル−２,２−ビス（３,５−
ジ−第３級ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト；ジオクターデシル−２−（３−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート；ジドデ
シルメルカプトエチル−２,２−ビス（３,５−ジ−第３
級ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート；ビス
［４−（１,１,３,３−テトラメチルブチル）フェニ
ル］−２,２−ビス（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）マロネート。

【００８７】１.９ 芳香族ヒドロキシベンジル化合
物：たとえば、１,３，５−トリス（３,５−ジ−第３級
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２,４,６−トリメ
チルベンゼン；１,４−ビス−（３,５−ジ−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２,３,５,６−テトラ
メチルベンゼン；２,４,６−トリス（３,５−ジ−第３
級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【００８８】１.１０ トリアジン化合物：たとえば、
２,４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシアンリン）−１,３,５
−トリアジン；２−オクチルメルカプト−４,６−ビス
（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシアンリ
ン）−１,３,５−トリアジン；２−オクチルメルカプト
−４,６−ビス（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシフェノキシ）−１,３,５−トリアジン；２,４,６−
トリス−（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１,２,３−トリアジン；１,３,５−トリ
ス（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート；１,３,５−トリス（４−第３級
ブチル−３−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート；２,４,６−トリス−（３,５−ジ−
第３級ブチル−３−ヒドロキシフェニルエチル）−１,
３,５−トリアジン；１,３,５−トリス（３,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘ
キサヒドロ−１,３，，５−トリアジン；１,３,５−ト
リス−（３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート。

【００８９】１.１１ ベンジルホスホネート；たとえ
ば、ジメチル−２,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート；ジエチル−３,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート；ジ
オクタジシル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート；ジオクタジシル−５−ジ−
第３級ブチル−３−メチルベンジルホスホネート；３,
５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。

【００９０】１.１２ アシルアミノフェノール：たと
えば、４−ヒドロキシラウリルアニリド；４−ヒドロキ
システアリルアニリド；オクチル−Ｎ−（３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー
ト。

【００９１】１.１３ β−（３，５−ジ−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の一価又は
多価アルコール（たとえば、メタノール、エタノール、
オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレンングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ’−ビス（ヒドキシエチル）オキサミド、３−チオウ
ンデカノール、３−チオペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒド
ロキメチル−１−ホスホ−２，６，７−トリオキサビシ
クロ［２，２，２］オクタン）とのエステル。

【００９２】１.１４ β−（５−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の一価
又は多価アルコール（たとえば、メタノール、エタノー
ル、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレンングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドキシエチル）オキサミド、３−チ
オウンデカノール、３−チオペンタデカノール、トリメ
チルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−
ヒドロキメチル−１−ホスホ−２，６，７−トリオキサ
ビシクロ［２，２，２］オクタン）とのエステル。

【００９３】１.１５ β−（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の一価又は
多価アルコール（たとえば、メタノール、エタノール、
オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレンングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ’−ビス（ヒドキシエチル）オキサミド、３−チオウ
ンデカノール、３−チオペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒド
ロキメチル−１−ホスホ−２，６，７−トリオキサビシ
クロ［２，２，２］オクタン）とのエステル。

【００９４】１.１６ （３，５−ジ−第３級ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）酢酸の一価又は多価アルコー
ル（たとえば、メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレンングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ヒドキシエチル）オキサミド、３−チオウンデカノー
ル、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキメチル
−１−ホスホ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，
２，２］オクタン）とのエステル。

【００９５】１.１７ β−（３，５−ジ−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸のアミ
ド：たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメ
チレンジアミン；Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメ
チレンジアミン；Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第３級
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラ
ジン。

【００９６】２． 紫外線及び光安定剤

【００９７】２.１ ２−（２'−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾール誘導体：たとえば、２−（２'−ヒ
ドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル；２−（３',５'−ジ−第３級ブチル−２'−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（５'−第３級
ブチル−２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル；２−［２'−ヒドロキシ−５'−（１,１,３,３−テ
トラメチルブチル）フェニルベンゾトリアゾール；２−
（３',５'−ジ−第３級ブチル−２'−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール；２−（３'−第
３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール；２−（３'−第２級
ブチル−５'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール；２−（２'−ヒドロキシ−４'
−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−
（３',５'−ジ−第３級アミル−２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール；２−［３',５'−ビス（α,α
−ジメチルベンジル）−２'−ヒドロキシフェニル］ベ
ンゾトリアゾール；２−［３'−第３級ブチル−２'−ヒ
ドロキシ−５'−（２−オクチルオキシカルボニルエチ
ル）フェノール］−５−クロロベンゾトリアゾール；２
−［３'−第３級ブチル−５'−（２−（２−エチルヘキ
シルオキシ）カルボニルエチル）−２'−ヒドロキシフ
ェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３'
−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−（２−メトキ
シカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−［３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキ
シ−５'−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［３'−第３級ブチル−
２'−ヒドロキシ−５'−（２−オクチルオキシカルボニ
ルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３'
−第３級ブチル−５'−（２−（２−エチルヘキシルオ
キシ）カルボニルエチル）−２'−ヒドロキシフェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−（３'−ドデシル−２'−
ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル及び２−［３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−
５'−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール、２,２'−メチレン−ビス
［４−（１,１,３,３−テトラメチルブチル）−６−ベ
ンゾトリアゾール−２−イ−ル−フェノール］の混合
物；２−［３'−第３級ブチル−５'−（２−ベトキシカ
ルボニル）−２'−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベン
ソトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエ
ステル化反応生物；［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ(Ｃ
Ｈ₂)₃］₂ (式中、Ｒ＝３'−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシ−５'−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ−ル−
フェニル）。

【００９８】２.２ ２−ヒドロキシベンゾフェノン誘
導体：たとえば、４−ヒドロキシー；４−メトキシー；
４−オクチルオキシー；４−デシルオキシー；４−ドデ
シルオキシ；４−ベンジルオキシ；４,２',４'−トリヒ
ドロキシー；２'−ヒドロキシ−４,４'−ジメトキシ。

【００９９】２.３ 安息香酸（置換されていてもよ
い）のエステル：たとえば、サリチル酸フェニル：サリ
チル酸４−第３級ブチルフェニル：サリチル酸オクチル
フェニル；ベンゾイル−レゾルシノール；ビス（４−第
３級ブチルベンゾイル）−レゾルシノール；ジュベンゾ
イル−レゾルシノール；２,４−ジ−第３級ブチルフェ
ニル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾアート；ヘキサデシル−３,５−ジ−第３級ブチル−
４−ヒドロキシベンゾアート；オクタデシル−３,５−
ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート；２−
メチル−４,６−ジ−第３級ブチルフェニル−３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート。

【０１００】２.４ アクリレート：たとえば、エチル
又はイソオクチルα−シアノ−ρ,β−ジフェニルアク
リレート：メチルα−カルボメトキシシンナメート；メ
チル又は、ブチルα−シアノ−β−メチル−ρ−メトキ
シシンナメート；メチルα−カルボメトキシ−ρ−メト
キシシンナメート；Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル）−２−メチルインドリン。

【０１０１】２.５ ニッケル化合物：たとえば、２,
２'−チオ−ビス［４−（１,１,３,３−テトラメチルブ
チル）フェノール］の錯体（他の追加配位子（たとえ
ば、η−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−
シクロヘキシルジエタノールアミン）を含む又は含まな
い）（たとえば１：１又は１：２錯体）；４−ヒドロキ
シ−３,５−ジ−第３級ブチルベンジル−ホスホン酸の
モノアルキルエステル（たとえば、メチル又はエチルエ
ステル）のニッケル塩；ケトオキシム（たとえば２−ヒ
ドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシ
ム）とのニッケル錯体；１−フェニル−４−ラウロイル
−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体（追加配位
子を含む又は含まない）。

【０１０２】２.６ 立体障害アミン：たとえば、ビス
（２,２,６,６−テトラメチル−ピペリジル）セバケー
ト；ビス（２,２,６,６−テトラメチル−ピペリジル）
スクシネート；ポリ−メチルプロピル−３−オキシ［４
−（２,２,６,６−テトラメチル）ピペリジニル］シロ
キサン；ビス（１,２,２,６,６−ペンタメチル−ピペリ
ジル）セバケート；ビス（１,２,２,６,６−ペンタメチ
ル−ピペリジル）η−ブチル−３,５−ジ−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジルマロネート；１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−２,２,６,６−テトラ−４−ヒドロ
キシピペリジンとコハク酸との間の縮合生成物；Ｎ,Ｎ'
−ビス（２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第３級オクチルアミ
ノ−２,６−ジクロロ−１,３,５−トリアジンとの間の
縮合生成物；トリス（２,２,６,６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ニトリロトソアセテート；テトラキス
（２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル）１,
２,３,４−ブタンテトラカルボキシレート；１,１'−
（１,２−エタノジル）ビス（３,３,５,５−テトラメチ
ルピペラジノン）；４−ベンゾイル−２,２,６,６−テ
トラメチルピペリジン；４−ステアリルオキシ−２,２,
６,６−テトラメチルピペリジン；ビス（１,２,２,６,
６−ペンタメチルピペリジル）−２−η−ブチル−２−
（２−ヒドロキシ−３,５−ジ−第３級ブチルベンジ
ル）マロネート；３−η−オクチル−７,７,９,９−テ
トラメチル−１,３,８−トリアザスピロ［４.５］デカ
−２,４−ジオン；ビス（１−オクチルオキシ−２,２,
６,６−テトラメチルピペリジル）セパケート；ビス
（１−オクチルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピ
ペリジル）スクシネート：Ｎ,Ｎ'−ビス（２,２,６,６
−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミンと４−モルホリン−２,６−ジクロロ−１,３,５−
トリアジンとの間の縮合生成物；２−クロロ−４,６−
ジ−（４−η−ブチルアミノ−２,２,６,６−テトラメ
チルピペリジル）１,３,５−トリアジンと１,２−ビス
（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの間の縮合生成
物；２−クロロ−４,６−ジ−（４−η−ブチルアミノ
−１,２,２,６,６−ペンタメチルピペリジル）−１,３,
５−トリアジンと１,２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンとの間の縮合生成物；８−アセチル−３−
ドデシル−７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−８
トリアザスピロ［４.５］デカノ−２,４−ジオン；３−
ドデシル−１−（２,２,６,６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ピロリジン−２,５−ジオン；３−ドデシル
−１−（１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）ピロリジン−２,５−ジオン。

【０１０３】２.７ オキサミド：たとえば、４,４'−
ジオクチルオキシオキサニリド；２,２'−ジエトキシオ
キサニリド；２,２'−ジオクチルオキシ−５,５'−ジ−
第３級ブトキサニリド；２,２'−ジドテシルオキシ−
５,５'−ジ−第３級ブトキサニリド；２−エトキシ−
２'−エチルオキサニド；Ｎ,Ｎ'−ビス（３−ジメチル
アミノプロピル）オキサミド；２−エトキシ−５−第３
級ブチル−２'−エトキサニリド及びその２−エトキシ
−２'−エチル−５,４'−ジ−第３級ブロキサニリドと
その混合物；及びジ置換オルト−及びパラ−メトキサニ
リドの混合物及びジ置換オルト及びパラ−エトキシアニ
リドの混合物。

【０１０４】２.８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１,３,５−トリアジン：たとえば、２,４,６−トリス
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１,３,５−トリアジン；２−（２−ヒドロキシ−４−オ
クチルオキシフェニル）−４,６−ビス（２,４−ジメチ
ルフェニル）−１,３,５−トリアジン；２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−４,６−ビス（２,４−ジメチ
ルフェニル）−１,３,５−トリアジン；２,４−ビス
（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６
−（２,４−ジメチルフェニル）−１,３,５−トリアジ
ン；２−（２−ヒドロキシ）−４,６−ビス（４−メチ
ルフェニル）−１,３,５−トリアジン；２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４−ビス
（２,４−ジメチルフェニル）−１,３,５−トリアジ
ン；２−［−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−
ブチルオキシピロポキシ）フェニル］−４,６−ビス
（２,４−ジメチル）−１,３,５−トリアジン；２−
［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチ
オキシプロピルオキシ）フェニル］−４,６ビス（２,４
−ジメチル）−１,３,５−トリアジン。

【０１０５】３. 「金属脱活性剤」たとえば、Ｎ,Ｎ'
−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ'−サリ
チロイル−ヒドラジン、Ｎ,Ｎ'−ビス（サリチロイル）
ヒドラジン；Ｎ,Ｎ'ビス（３,５−ジ−第３級ブチル−
４−ヒドキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−
サリチロイルアミノ−１,２,４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジン、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドジド、セバコイルビスフェニ
ルヒドラジド、Ｎ,Ｎ'−ジアセチルアジポイルジヒドラ
ジド、Ｎ,Ｎ'−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒド
ラジド、Ｎ,Ｎ'−ビス（サリチロイル）チオプロピオニ
ルジヒドラジド。

【０１０６】４. ホスファイト及びホスホナイト：た
とえば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキ
ルホスホナイト、フェニルジアルキルホスファイト、ト
リス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホ
スファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス
（２,４−ジ−第３級ブチルフェニル）ホスファイト、
ジインデシルペンタエリトリトールジホスファイト、ビ
ス（２,４−ジ−第３級ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスファイト、ビス（２,５−ジ−第３級ブ
チル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホ
スファイト；ジイソデシルオキシペンタエリトリトール
ジホスファイト、ビス（２,４−ジ−第３級ブチル−６
−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイ
ト、ビス［２,４,５−トリス（第３級ブチルフェニ
ル）］ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステ
アリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス−
（２,４−ジ−第３級ブチルフェニル）４,４−ジフェニ
ルリレンジホスホナイト、５−イソオクチルオキシ−
２,４,８,１０−テトラ−第３級ブチル−１２Ｈ−ジベ
ンゾ［ｄ,ｇ］−１,３,２−ジオキサホスホシン、６−
フルオロ−２,４,８,１０テトラ−第３級ブチル−１２
−メチル−ジベンゾ［ｄ,ｇ］−１,３,２−ジオキサホ
スホシン、ビス（２,４−ジ−第３級ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２,４−ジ−
第３級ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイ
ト。

【０１０７】５. 過酸化物を分解しうる試薬：たとえ
ば、β−チオジプロピオン酸のエステル（たとえば、ラ
ウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステ
ル）、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプ
トベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカ
ルメート、ジオクタデシルスルフィッドペンタエリトリ
トールデトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオ
ネート。

【０１０８】６. ポリアミドの安定剤：たとえば、ヨ
ウ素及び／又はリンの化合物と併用される銅塩、２価マ
ンガ塩。

【０１０９】７. 塩基性助安定剤：たとえば、メラニ
ン、ポリビニルピロリドン、ジツアノジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、脂肪酸のアルカリ金
属塩及びアルカリ土類金属塩（たとえば、ステアリン酸
Ｃａ、ステアリン酸Ｚｎステアリン酸Ｍｇ、ベヘン酸Ｍ
ｇ、リシノレン酸Ｎａ、パルミチン酸Ｋ、ピロカテコー
ル酸アンチモン、ピロカテコール酸スズ。

【０１１０】８. 核生成剤：たとえば、４−第３級ブ
チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【０１１１】９. 充填剤及び強化剤：たとえば、炭酸
カルシウム、シリケートガラス繊維、石綿、タルク、カ
オリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化
物、カーボンブラック、グラファイト。

【０１１２】１０. 他の添加物：たとえば、可塑化
剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤（たとえ
ば、臭化物、塩化物、ホスフィッド及びリン／ハロゲン
混合物）、帯電防止剤、発ぽう剤（たとえば、ジラウリ
ルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピ
オネート）。

【０１１３】１１. ベンゾフラン及びインドリノン：
たとえば、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェ
ニル］−５,７−ジ−第３級ブチルベンゾフラン−２−
オン；５,７−ジ−第３級ブチル−３−［４−（２−ス
テアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−
２−オン；３,３’−ビス［５,７−ジ−第３級ブチル−
３−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ベン
ゾフラン−２−オン］；５,７−ジ−第３級ブチル−３
−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン；
３−（４−アセトキシ−３,５−ジメチルフェニル）−
５,７−ジ−第３級ブチル−ベンゾフラン−２−オン；
３−（３,５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニ
ル）−５,７−ジ−第３級ブチル−ベンゾフラン−２−
オン；又は米国特許第４,３２５,８６３号、同第４,３
３８,２４４号、同第５,１７５,３１２号、同第５,２１
６,０５２号、同第５,２５２,６４３号、同第４,３１
６,６１１号、同第４,３１６,６２２号、同第４,３１
６,８７６号又はヨーロッパ特許出願第５８９,８３９号
及び同第５９１,１０２号に開示されたもの。

【０１１４】本発明がさらに理解されるように、下記に
いくつかの実施例を例示するが、これらは本発明を限定
するものではない。

【０１１５】

【実施例１】下記の構造式を有する化合物１の製造 方法（ａ） 機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び冷却器を具備す
る４頸フラスコ（２５０ｍｌ）に温度を−５°Ｃから０
°Ｃの間に維持しながら、９６％の濃硫酸５０ｍｌ中の
２−（２'−ヒドロキシ−５'メチル）ベンゾトリアゾー
ル １１.３ｇ（０.０５モル）を充填した。 ついで、
１−メチロール−５,５−ジメチルヒダントインの３３
％水溶液９.０ｇ（０.０５７モル）を、温度を−５°Ｃ
から０°Ｃの間に維持しながら、３０分間でゆっくりと
滴加した。かかる混合物を撹拌下に放置して２０°Ｃに
昇温させ、ついで、連続して撹拌しながら、この温度に
５時間維持し、つづいて７０°Ｃにさらに２時間加熱し
た。 得られた粗生成物を水−氷混合物４００ｍｌに注
加し、濾取し、ついで中性ｐＨとなるまで洗浄した。こ
のようにして固状物が得られ、この固状物を２−メトキ
シエタノール２００ｍｌで結晶化させた。この結晶化か
ら、化合物１（その特性を後述する）に相当する白色粉
末１５ｇ（収率８２％）が得られた。方法（ｂ） 機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び冷却器を具備す
る４頸フラスコ（２５０ｍｌ）に温度を−５°Ｃから０
°Ｃの間に維持しながら、９６％の濃硫酸６７ｍｌ中の
２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチル）ベンゾトリアゾ
ール１１.３ｇ（０.０５モル）を充填した。 ついで、
１,３−ジメチロール−５,５−ジメチルヒダントインの
６０％水溶液９.４ｇ（０.０５モル）を、温度を−５°
から０°Ｃの間に維持しながら、３０分間でゆっくりと
滴加した。かかる混合物を撹拌下に放置して２０°Ｃに
昇温させ、ついで、連続して撹拌しながら、この温度に
４時間維持し、つづいて８０°Ｃにさらに２時間加熱し
た。 得られた組成成物を水−氷混合物４００ｍｌ中に
注加し、濾取し、ついで中性ｐＨとなるまで洗浄した。
このようにして固状物が得られ、この固状物を２−メタ
ノール２００ｍｌで結晶化させた。この結晶化から、下
記の特性を有する化合物１に相当する白色の粉末１３ｇ
（収率７１％）が得られた。 −融点（ＤＳＣ）：２３６°Ｃ −ＩＲ（ヌジョール中）（ｅｍ^-1）：３１００,１７７
０,１７１４ −¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：１.３８（ｓ，６Ｈ）；２.３８（ｓ,３Ｈ）；４.
７（ｓ,２Ｈ）；７.３（ｄ,Ｊ＝１.６Ｈｚ,１Ｈ）；７.
５（ｄｄ，２Ｈ）；７.９（ｄｄ，２Ｈ）；８.１５
（ｄ，Ｊ＝１.６Ｈｚ，１Ｈ）；８.３（ｂｒｓ，１
Ｈ）；１１.６（ｓ，１Ｈ） −¹³Ｃ−ＮＭＲ（５０ＮＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：２０.３；２２.８；３６,３；６３.７；１１７.
６；１２０.８；１２４.８；１２７；１２７.８；１２
９.６；１３１.７；１４２.８；１４５；１５５.４；１
７７.３ −重量分析（ｍ／ｅ）：［Ｍ⁺イオン］：３６５（１０
０）* ；２７９（９１）* ；２５３（５３）* ；２３８
（３０）* ；９１（９）*；７７（１３）* *：相対強さを括弧内に示す。 −元素分析：Ｃ₁₉Ｈ₁₉Ｎ₅０₃ Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６２.４７％ ５.２１％ １９.１７％ 実測値 ６２.４４％ ５.１９％ １９.１５％

【０１１６】

【実施例２】下記の構造式を有する化合物２の製造 機械式撹拌機、滴加ロート、温度計及び冷却機を具備す
る４頸フラスコ（２５０ｍｌ）に、温度を−５℃から０
℃の間に維持しながら、９８％の濃硫酸６７ｍｌ中の２
−（２'−ヒドロキシ−５'−第３級オクチル）ベンゾト
リアゾール１６.１５ｇ（０.０５モル）を充填した。つ
いで、１.３−ジメチロール−５.５−ジメチルヒダント
インの６０％水溶液９.４ｇ（０.０５モル）を、温度を
−５℃から０℃の間に維持しながら、３０分間でゆっく
りと滴下した。かかる混合物を撹拌下に放置して２０℃
に昇温させ、ついで、連続して撹拌しながら、この温度
に３時間維持し、つづいて、８０℃にさらに３時間加熱
した。得られた組生成物を水−氷混合物４００ｍｌ中に
注加し、濾取し、ついで、中性ｐＨとなるまで洗浄し
た。このようにして固状物が得られ、この固状物をヘキ
サン２００ｍｌで結晶化させた。この結晶化から、下記
の特性を有する化合物２に相当する白色の粉末１９ｇ
（収率８２％）が得られた。 −融点（ＤＳＣ）：１３８℃ −ＩＲ（ヌジョール中）（ｃｍ^-1）：３１００，１７７
０，１７１４ −¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：０.８（ｓ,９Ｈ）；１.３７（ｓ，６Ｈ）；１.４
（ｓ，６Ｈ）；１.７（ｓ，２Ｈ）；４.７（ｓ,２
Ｈ）；７.４（ｄｄ，２Ｈ）；７.５（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，
１Ｈ）；７.９（ｄｄ，２Ｈ）；８.３（ｄ，Ｊ＝２Ｈ
ｚ，１Ｈ）；８.６（ｂｒｓ，１Ｈ）；１１.６（ｓ，１
Ｈ） −¹³Ｃ−ＮＭＲ（５０ＮＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：２２.７；２８.９；３１；３２；３６.６；３８.
２；５６.６；６３.６；１１７.６；１１８.３；１２
４；１２６；１２７；１２９；１４２.２；１４２.７；
１４４；８１５５；１７７ −重量分析（ｍ／ｅ）：［Ｍ⁺イオン］：３９２（１０
０）* ；２６４（７４）* ；４６３（５３）* ；４１
（１０）* *：相対強さを括弧内に示す。 −元素分析：Ｃ₂₂Ｈ₃₃Ｎ₅０₃ Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６７.３９％ ７.１３％ １５.００％ 実測値 ６７.２１％ ７.０４％ １４.８０％

【０１１７】

【実施例３】下記の構造式を有する化合物３の製造 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（１００ｍｌ）に、次の物質、すなわち、前記実施
例１に記載の如くして得られた化合物１５.０ｇ（０.０
１４モル）、ジメチルホルムアミド４０ｍｌ、炭酸カリ
ウム１.９３ｇ（０.０１４モル）を充填し、最後にヨウ
化メチル２ｇ（０.０１４７モル）を滴下した。撹拌
下、温度を室温に維持し、溶離液として１／１のヘキサ
ン／酢酸エチルを使用するＴＬＣ（薄層クロマトグラフ
ィー）によって制御した。反応終了後、溶媒を蒸留によ
って除去し、粗生成物に塩化メチレンを添加し、つい
で、水で洗浄した。有機相を分離し、硫酸ナトリウムに
て脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。得られた生成物
をヘプタンから結晶化させたところ、下記の特性を有す
る化合物３に相当する白色の固体３.７ｇ（収率７０
％）が得られた。 −融点：２０８℃〜２１０℃ −¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：１.３５（ｓ，６Ｈ）；２.３６（ｓ，３Ｈ）；
３.００（ｓ，３Ｈ）；４.７２（ｓ，２Ｈ）；７.２８
（ｄ，Ｊ＝１.６Ｈｚ，１Ｈ）；７.４８（ｄｄ，２
Ｈ）；７.９０（ｄｄ，２Ｈ）；８.１３（ｄ，Ｊ＝１.
６Ｈｚ，１Ｈ）；１１.６０（ｓ，１Ｈ） −¹³Ｃ−ＮＭＲ（５０ＮＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：２０.５０；２２.８０；２４.９０；３６.５０；
６２.２０；１１７.５０；１２０.８０；１２４.６０；
１２７.２０；１２７.８０；１２９.５０；１３１.７
０；１４２.８０；１４５.００；１５６.００；１７７.
００ −元素分析：Ｃ₂₀Ｈ₂₁Ｎ₅０₃ Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６３.３％ ５.５０％ １８.５％ 実測値 ６３.０％ ５.４５％ １８.１％

【０１１８】

【実施例４】下記の構造式を有する化合物４の製造 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（１００ｍｌ）に、次の物質、すなわち、実施例１
に記載の如くして得られた化合物１５.０ｇ（０.０１４
モル）、ジメチルホルムアミド４０ｍｌ、炭酸カリウム
１.９３ｇ（０.０１４モル）を充填し、最後に臭化プ
ロピル１.８ｇ（０.０１４７モル）を滴下した。反応混
合物を１５０℃に２時間加熱し、溶離剤として２／１の
ヘキサン／酢酸エチルを使用するＴＬＣによって制御し
た。反応終了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成物
に塩化メチレンを添加し、ついで、水、ついで、酸性水
及び最後に再び水で洗浄した。有機相を分離し、硫酸ナ
トリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。得ら
れた生成物をヘプタンから結晶化させたところ、下記の
特性を有する化合物４に相当する白色の固体４.３ｇ
（収率７５％）が得られた。 −融点：１２０℃〜１２３℃ −¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：０.９０（ｔ，３Ｈ）；１.３０（ｓ，６Ｈ）；
１.６５（ｍ，２Ｈ）；２.３０（ｓ，３Ｈ）；３.５０
（ｔ，３Ｈ）；４.６８（ｓ，２Ｈ）；７.２２（ｄ，Ｊ
＝１.６Ｈｚ，１Ｈ）；７.４０（ｄｄ，２Ｈ）；７.８
０（ｄｄ，２Ｈ）；８.００（ｄ，Ｊ＝１.６Ｈｚ，１
Ｈ）；１１.５０（ｓ，１Ｈ） −¹³Ｃ−ＮＭＲ（５０ＮＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：１１.００；２０.６０；２１.４０；２２.９０；
３６.５０；４０.４０；６１.９０；１１７.６０；１２
０.００；１２４.８０；１２７.４０；１２７.８０；１
２９.５０；１３１.７０；１４２.８０；１４５.００；
１５６.１０；１７６.９０ −元素分析：Ｃ₂₂Ｈ₂₅Ｎ₅０₃ Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６４.９％ ６.１０％ １７.２０％ 実測値 ６４.３％ ５.８５％ １７.０３％

【０１１９】

【実施例５】下記の構造式を有する化合物５の製造 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（１００ｍｌ）に、次の物質、すなわち、実施例１
に記載の如くして得られた化合物１５.０ｇ（０.０１４
モル）、ジメチルホルムアミド４０ｍｌ、炭酸カリウム
１.９３ｇ（０.０１４モル）を充填し、最後にプロモオ
クタン２.８ｇ（０.０１４７モル）を滴下した。 反応
混合物を１２０℃に加熱し、溶離剤として２／１のヘキ
サン／酢酸エチルを使用するＴＬＣで制御した。反応終
了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成物に塩化メチ
レンを添加し、ついで、水、ついで、酸性水及び最後に
再び水で洗浄した。有機相を分離し、硫酸ナトリウムに
て脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。得られた生成物
をヘプタンから結晶化させたところ、下記の特性を有す
る化合物５に相当する白色の固体４.７ｇ（収率７１
％）が得られた。 −融点：９５℃〜９８℃ −¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：０.８０（ｔ，３Ｈ）；１.２０（ｍ，１０Ｈ）；
１.３０（ｓ，６Ｈ）；１.５０（ｔ,２Ｈ）；２.４０
（ｓ，３Ｈ）；３.５０（ｔ，２Ｈ）；４.７０（ｓ，２
Ｈ）；７.２０（ｄ，Ｊ＝１.６Ｈｚ，２Ｈ）；７.５０
（ｄｄ，２Ｈ）；７.９０（ｄｄ，２Ｈ）；８.１０
（ｄ，Ｊ＝１.６Ｈｚ，１Ｈ）；１１.６０（ｓ,１Ｈ） −¹³Ｃ−ＮＭＲ（５０ＮＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：１４.００；２０.６０；２２.６０；２２.９０；
２８.００；２８.７０；２９.１０；３１.８０；３６.
５０；３８.９０；６２.００；１１７.６０；１２０.８
０；１２４.８０；１２７.５０；１２７.８０；１２９.
５０；１３１.７０；１４２.８０；１４５.１０；１５
６.１０；１７６.９０ −元素分析：Ｃ₂₇Ｈ₃₅Ｎ₅０₃ Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６７.９％ ７.３４％ １４.７０％ 実測値 ６７.１％ ７.２９％ １４.２０％

【０１２０】

【実施例６】下記の構造式を有する化合物６の製造 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（１００ｍｌ）に、次の物質、すなわち、実施例１
に記載の如くして得られた化合物１５.０ｇ（０.０１４
モル）、ジメチルホルムアミド４０ｍｌ、炭酸カリウム
１.９３ｇ（０.０１４モル）を充填し、最後に臭化ベン
ジル２.５ｇ（０.０１４７モル）を滴下した。反応混合
物を１３０℃に加熱し、溶離剤として１／１のヘキサン
／酢酸エチルを使用するＴＬＣで制御した。反応終了
後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成物に塩化メチレ
ンを添加し、ついで、水、ついで、酸性水及び最後に再
び水で洗浄した。有機相を分離し、硫酸ナトリウムにて
脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。得られた生成物を
ヘプタンから結晶化させたところ、下記の特性を有する
化合物６に相当する白色の固体４.１ｇ（収率６５％）
が得られた。 −融点：９６℃〜９８℃ −¹Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：１.３４（ｓ，６Ｈ）；２.３４（ｓ，３Ｈ）；
４.７０（ｓ，４Ｈ）；７.３５（ｍ，６Ｈ）；７.４５
（ｄｄ，２Ｈ）；７.９０（ｄｄ，２Ｈ）；８.１０（ｄ
ｄ，Ｊ＝１.６Ｈｚ，１Ｈ）；１１.５８（ｓ，１Ｈ） −¹³Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐ
ｍ）：２０.６０；２２.９０；２３６.６０；４２.５
０；６２.３０；１１７.６０；１２０.８０；１２４.８
０；１２７.３０；１２７.８０；１２８.３０；１２８.
７０；１２９.６０；１３１.７０；１３６.４０；１４
２.８０；１４５.１０；１５５.８０；１７６.６ −元素分析：Ｃ₂₆Ｈ₂₅Ｎ₅０₃ Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６８.６％ ５.４９％ １５.４％ 実測値 ６８.１％ ５.４３％ １５.０％

【０１２１】

【実施例７】熱重量分析のデータ 熱重量分析のための標準装置（MettlerのＴＡ Instrum
entモデル３０００）を使用して、化合物１及び２に関
して、等温及び重量データを測定し、Ciba Geigy社によ
り製造販売されているTinuvin900 のデータと比較し
た。データを表１に示す。

【表１】 化合物 280℃で等温；N₂18Nｌ/時間; 10℃で走査；N₂18Nｌ/時間; (番号) 安定剤の重量損失(重量％) 安定剤の重量損失(重量％) を示す時間(分) を示す温度(℃) １０％ ５０％ １０％ ５０％ １ ＊ − ３３３ ３８７ ２ ＊＊ − ３０９ ３６２ Tinuvin900 ＊＊＊ ２０ ２８１ ３１９ 注） ＊：２３分後 ＊＊：１６分後 ＊＊＊：４.２分後

【０１２２】

【実施例８】ポリカーボネートにおける安定化 撹拌下、室温において、ビスフェノールＡポリカーボネ
ート２０ｇを塩化メチレン１００ｍｌ中に溶解させた。
数時間後、ポリカーボネートが完全に溶解したところ
で、化合物１又は化合物２又はTinuvin900 ０.１ｇを添
加した（添加量０.５％に等しい）。比較のため、光安
定剤を含有しない溶液も調整した。注型方によって、核
溶液から厚さ１００μmをもつフィルムを調整した。得
られたフィルムを、下記の条件下におけるAtlas CI65ウ
エザーオメーターにおける促進エージングに供した。 −ブラックパネル温度：６０℃ −相対湿度：５０％ エージングの開始前及びその後に、一定間隔で、上記フ
ィルムのイエローインデックス（ＹＩ）とASTME313の方
法によって測定した。脆化時間についても分析した。得
られた結果を表２に示す。

【表２】 化合物 暴露時間 （番号） （時間） 0 250 500 600 800 1,000 1,500 − 0.4 4.0 12.4* - - - - 1 0.3 3.0 5.0 8.0 9.5 10.6 12.6* 2 0.5 3.6 5.8 8.7 9.3 10.9 12.7* Tinuvin 900 0.4 3.2 6.0 9.5 10.8 12.0* - 注）＊：サンプルの脆化

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｚ (72)発明者 カルロ・ネーリ イタリー国ミラノ州 サン・ドナト・ミラ ネーゼ市 ビア・エウローパ 32 (72)発明者 ロザルバ・コロンボ イタリー国ミラノ州 ビメルカーテ市 ビ ア・マンゾーニ 12

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒ
   ドロキシフェンル）ベンゾトリアゾール。 一般式（Ｉ） 式中、Ｘは、水素原子、塩素及び臭素から選ばれるハロ
   ゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基、直鎖
   状又は分枝状のＣ_1-18アルコキシル基、又はシアノ基で
   あり；Ｒは、塩素又は臭素から選ばれるハロゲン原子、
   直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基、直鎖状又は分枝
   状のＣ_2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝状のＣ_2-18ア
   ルキニル基、Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換されていて
   もよい）、Ｃ_7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
   ル基、Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよい）、直
   鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルコキシル基、酸素、窒素及
   びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
   有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）、
   式 −ＣＯＨで表される基、−ＣＯＲ₄又は−ＮＲ₅Ｒ₆
   基（ここで、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、同一又は異なるもの
   であって、直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基；直鎖
   状又は分枝状のＣ_2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状
   のＣ_2-18アルキニル基；Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換
   されていてもよい）；Ｃ_7-15アリールアルキル又はアル
   キルアリール基；Ｃ_6-14アリール基（置換されていても
   よい）；酸素、窒素及びイオウから選ばれる少なくとも
   １つのヘテロ原子を含有する５又は６員複素環基（置換
   されていてもよいである）である）であるか；又はＲ
   は、一般式（II） 一般式（III） 一般式（IV） で表されるエステル基、又は一般式（V） で表されるアミド基（これら一般式において、Ｒは、直
   鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基；直鎖状又は分枝状
   のＣ_2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_2-18アル
   キニル基；Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換されていても
   よい）；Ｃ_7-15アリールアルキル又はアルキルアリール
   基；Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよい）；直鎖
   状又は分枝状のＣ_1-18アルコキシル基；酸素、窒素及び
   イオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有
   する５又は６員複素環基（置換されていてもよいであ
   る）であるか；又はＲは構造式（VI） を有する４,４’−エチリデンビスフェノール基であ
   り；Ｒ₁は、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アル
   キル基、直鎖状又は分枝状のＣ_2-18アルケニル基；直鎖
   状又は分枝状のＣ_2-18アルキニル基；Ｃ_5-18シクロアル
   キル基（置換されていてもよい）；Ｃ_7-15アリールアル
   キル又はアルキルアリール基；Ｃ_6-14アリール基（置換
   されていてもよい）；酸素、窒素及びイオウから選ばれ
   る少なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又は６員複
   素環基（置換されていてもよい）、一般式（VII） で表されるアシル基又は一般式（VIII） で表されるエステル基（これら一般式において、Ｒ'は
   前記と同意義である）であり；Ｒ₂及びＲ₃は、同一又は
   異なるものであって、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ
   _1-18アルキル基、フェニル基、酸素、窒素及びイオウか
   ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又
   は６員複素環基（置換されていてもよい）である。
2. 【請求項２】Ｃ_5-18シクロアルキル基、Ｃ_6-14アリール
   基及び５又は６員複素環基が、塩素及び臭素から選ばれ
   るハロゲン、直鎖状又は分枝状のＣ_1-18アルキル基、直
   鎖状又は分枝状のＣ_2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝
   状のＣ_2-18アルキニル基、ＯＨ基、ＮＨ基、ＳＨ基で置
   換されたものである、請求項１記載の一般式（I）で表
   される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
   ール。
3. 【請求項３】Ｃ_1-18アルキル基が、メチル、エチル、プ
   ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級ブチル、第
   ３級ブチル、第３級アミル、２−エチルヘキシル、ｎ−
   オクチル、１,１,３,３−テトラメチルブチル、ｎ−ド
   デシル、１,１,７,７−テトラメチルオクチル、ｎ−オ
   クタデシルである、請求項１記載の一般式（I）で表さ
   れる２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
   ル。
4. 【請求項４】Ｃ_2-18アルキル基が、ビニル、プロピレ
   ン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレンである、請求項
   １記載の一般式（I）で表される２−(２'−ヒドロキシ
   フェニル）ベンゾトリアゾール。
5. 【請求項５】Ｃ_2-18アルキニル基が、アセチレン、プロ
   ピン、ブチン、２−ブチンである、請求項１記載の一般
   式（I）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベ
   ンゾトリアゾール。
6. 【請求項６】Ｃ_5-18シクロアルキル基（置換されていて
   もよい）が、シクロヘキシル、シクロペンチル、メチル
   シクロヘキシルである、請求項１記載の一般式（I）で
   表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
   ゾール。
7. 【請求項７】Ｃ_7-18アリールアルキル又はアルキルアリ
   ール基が、ベンジル、２−フェニルエチル、４−第３級
   ブチルベンジルである、請求項１記載の一般式（I）で
   表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
   ゾール。
8. 【請求項８】Ｃ_6-14アリール基（置換されていてもよ
   い）が、フェニル、ナフチル、アントラセニル、２−ヒ
   ドロキシフェニルである、請求項１記載の一般式（I）
   で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
   アゾール。
9. 【請求項９】Ｃ_2-18アルコキシル基が、メトキシル、エ
   トキシル、プロポキシル、ｎ−ブトキシルである、請求
   項１記載の一般式（I）で表される２−(２'−ヒドロキ
   シフェニル）ベンゾトリアゾール。
10. 【請求項１０】５又は６員複素環基（置換されていても
    よい）が、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、トリ
    アゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピペ
    リジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモルホ
    リン、４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジンであ
    る、請求項１記載の一般式（I）で表される２−(２'−
    ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。
11. 【請求項１１】構造式 を有する、請求項１記載の２−(２'−ヒドロキシフェニ
    ル）ベンゾトリアゾール。
12. 【請求項１２】構造式 を有する、請求項１記載の２−(２'−ヒドロキシフェニ
    ル）ベンゾトリアゾール。
13. 【請求項１３】請求項１〜１２のいずれか１項記載の一
    般式（I）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）
    ベンゾトリアゾールを製造する方法において、一般式
    （IX）（式中、Ｘ及びＲは前記と同意義である）で表さ
    れる２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
    ルと、一般式（X）で表される２,４−イミダゾリジンジ
    オン−１,３−ジメチロール又は一般式（Ｘａ）で表さ
    れる２,４−イミダゾリジンジオン−１−メチロール
    （これらの式において、Ｘ及びＲは前記と同意義であ
    る）とを、濃度８０〜９６％の濃硫酸の存在下、温度−
    ５〜＋８０℃で反応させて混合物を得た後、該混合物か
    ら水−氷混合物によって希釈し、得られた固状物を瀘取
    し、洗浄し、不活性有機溶媒の存在下における結晶化に
    よって所望の化合物を単離することを特徴とする、２−
    (２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの製
    法。
14. 【請求項１４】結晶化に使用される不活性有機溶媒が、
    直鎖状又は環状の脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ア
    ルコール、塩素化芳香族溶媒、ケトン、エチレングリコ
    ールのモノアルチルエーテルである、請求項１３記載の
    ２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの
    製法。
15. 【請求項１５】一般式（I）におけるＲが、一般式（I
    I）、（III）又は（IV）で表されるエルテル基、又は一
    般式（V）で表されるアミド基である２−(２'−ヒドロ
    キシフェニル）ベンゾトリアゾールの製法において、一
    般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）
    ベンゾトリアゾールと一般式（X）で表される２,４−イ
    ミダゾリジンジオン−１,３−ジメチロール又は一般式
    （Ｘａ）で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１
    −メチロールとの反応を、触媒としてトルエン及びｐ−
    トルエンスルホン酸の存在下、室温〜トルエンの沸点の
    範囲の温度において行う、２−(２'−ヒドロキシフェニ
    ル）ベンゾトリアゾールの製法。
16. 【請求項１６】有機重合体及び請求項１〜１２のいずれ
    か１項記載の一般式（I）で表される１以上の２−(２'
    −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの有効量を
    含有してなる、重合体組成物。
17. 【請求項１７】一般式（I）で表される２−(２'−ヒド
    ロキシフェニル）ベンゾトリアゾールを他の安定剤と併
    用した、請求項１６記載の重合体組成物。
18. 【請求項１８】有機重合体がポリカーボネートから選ば
    れるものである、請求項１６又は１７記載の重合体組成
    物。
19. 【請求項１９】請求項１６〜１８のいずれか１項記載の
    重合体組成物の加工によって得られた最終製品。
20. 【請求項２０】有機重合体の光安定剤としての請求項１
    〜１５のいずれか１項記載の一般式（I）で表される２
    −(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの使
    用。
21. 【請求項２１】厚さ１０〜１００μｍを有する上層が請
    求項１６又は１７記載の重合体組成物でなり、一方、内
    側層が請求項１〜１５のいずれか１項記載の一般式
    （I）で表される化合物を含有しないか又は少量含有す
    るものである多層構造体の製造用としての請求項１６又
    は１７記載の重合体組成物の使用。
22. 【請求項２２】コーディング用又は塗装用組成物として
    の請求項１６又は１７記載の重合体組成物の使用。