JPH11296806A

JPH11296806A - 磁気ヘッドおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH11296806A
Application number: JP10089916A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Ashida; 晶弘芦田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1998-04-02
Filing date: 1998-04-02
Publication date: 1999-10-29

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気コアがスライダに埋め込まれたコンポジ
ットタイプの磁気ヘッドに関して、電磁変換特性および
信頼性の優れた磁気ヘッドの提供を目的とする。【解決手段】磁気コア半体がＡｕ膜を介した加圧加熱
接着で接合された強固なギャップ強度を持つ磁気コア２
とスライダ１とが、信頼性の高い高融点のモールドガラ
ス３で接合された磁気ヘッド。モールドガラス３での接
合は金属磁性膜形成後に最も高い温度で行うことで、金
属磁性膜の磁気特性の劣化が少なく、また高融点のガラ
スが使え、高性能、高信頼性の磁気ヘッドが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドコアが
いわゆるスライダに組み込まれたコンポジットタイプの
磁気ヘッドおよびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】情報を高密度に記録再生するために金属
磁性材料を用いた磁気ヘッドが主流になっている。その
構成としてはバルクタイプのヘッドとしてフェライトギ
ャップ面に金属磁性膜を形成したいわゆるＭＩＧヘッド
（Ｍｅｔａｌ−ｉｎ−Ｇａｐヘッド）、金属磁性材料が
閉磁路を形成している積層タイプのヘッドがあげられ
る。一方ごく最近では、フォトリソ技術を使ったいわゆ
る薄膜ヘッドなどがあげられる。

【０００３】これらのヘッドで使われる金属磁性材料と
しては、Ｃｏを主成分としたアモルファス材料、センダ
スト、Ｆｅを主成分とした窒化膜などが利用されている
のは周知の通りである。

【０００４】これらのバルクタイプの磁気ヘッドをスラ
イダに埋め込んだ構成で使われるコンポジットタイプの
ヘッドにおいては、磁気コア半体をギャップを介して形
造るのにガラスボンディング技術が使われ、さらにはこ
のコアをスライダに埋め込む際にもガラス接着技術を用
いて加熱接着が行われているというように、ガラス接合
が何度か行なわれている。そのために各工程で使われる
ガラス材料に制約が発生するという問題があった。

【０００５】一方磁気コアがスライダなどに埋め込まれ
ずに単体で使われるＶＴＲなどの場合には、特開平６−
５２５１３号公報に開示されているように、ギャップを
Ａｕ等の金属で接合する報告がなされている。図８に従
来の技術を使った磁気ヘッドの斜視図を模式的に表した
図を示す。特開平６−５２５１３においては、ギャップ
材６３は、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ａｌ、Ｔａ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇのうちの少なくと
も一種類以上の金属およびこれらの酸化物、窒化物より
なり下地層として形成される第１の金属層とＡｕ、Ａ
ｇ、Ｐｔ、Ｐｄのうちの１種類の金属からなる第２の金
属層からなると報告されている。

【０００６】しかしながらＶＴＲ用のヘッドの場合はコ
ンポジットタイプのヘッドと比べると、構造、製造方法
が全く異なっていることや、さらにはコンポジットタイ
プのヘッドの場合には、ＶＴＲ用ヘッドに比べて非常に
高い信頼性を要求されること等から、ガラスに対する制
約なども大きい。従ってコンポジットタイプのヘッドの
場合には、ＶＴＲ用ヘッドとは全く異なった新しい対策
が必要である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】コンポジットタイプの
磁気ヘッドにおいては、ギャップ形成の際に磁気コア半
体をガラス接着し、さらには磁気コアをスライダに接着
する際にもガラスモールド接着を行うというように、少
なくとも２回のガラス接着を行わなければいけない。そ
のためにギャップ形成およびガラスモ−ルドを行うガラ
スに制約が発生するという課題がある。

【０００８】つまり２回目のガラス接着工程（スライダ
と磁気コアのガラスモールド接着）では、１回目のガラ
スが緩んでギャップ精度が悪くなったり、もしくはギャ
ップ部で割れなどが発生することを防ぐために、１回目
でのガラスモールドに比べて５０〜１００℃程度の低い
温度でガラスモールド接着を行わなければいけない。そ
のため、磁気コアを形造るガラス、磁気コアとスライダ
を接着するモールドガラスなど何種類かのガラスが使わ
れており、その中でも磁気コアとスライダを接着するモ
ールドガラスは磁気ヘッドを構成するガラスの中で最も
作業温度が低いガラスとなっている。

【０００９】ところで金属磁性膜にとってガラス接着と
いうのは熱処理を加えて最適な軟磁気特性を得るための
工程であるが、最適温度の領域はそれほど広くはない。
したがって異なった温度で熱処理をしなければならない
ことは金属磁性膜の特性を落とすことになる。たとえば
１回目に最適温度の熱を加えても、スライダとの接着時
に低い温度で熱処理することにより、金属磁性膜の軟磁
気特性を劣化させることや逆に２回目に最適な温度にあ
わせようとすると１回目の熱処理は非常に高い温度でし
なければならず、その温度は金属磁性膜の耐熱温度を超
えていたり、ＭＩＧタイプのヘッドにおいては擬似ギャ
ップの悪影響が大きくなったりなど不都合が発生すると
いう課題を有している。

【００１０】さらには、異なった組成のガラスを使うこ
とで、これらのガラスがガラスモールド接着工程で混ざ
ってしまいそのため気泡や結晶等が発生したりして非常
に不都合なこととなる。

【００１１】本発明はこれらの課題を解決し、総合的に
品質の優れたコンポジットタイプの磁気ヘッドおよびそ
の製造方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために以下の方法を提供するものである。

【００１３】コア半体の磁気ギャップ部の膜の構成を磁
気コア側からＳｉＯ２もしくはＳｉＯ２を主成分とする
ガラス膜、Ｃｒ膜、Ａｕ膜とし、ギャップ形成の際にこ
れらで構成されたコア半体同士を加圧加熱接着する。さ
らにこの構造の利点を生かしてスライダと磁気ヘッドコ
アを接着する際にモールドガラス材料として、金属磁性
材料を形成後に最も高い温度で接着できる材料を選択
し、ガラスモールドを行う。

【００１４】本発明の磁気ヘッドの構成により、Ａｕ接
合により強固なギャップ強度が得られ、またスライダと
磁気コアとの接着工程などの熱処理工程においても、磁
気ギャップが緩む恐れが全くない。したがって磁気ヘッ
ド製造工程での最終の熱処理工程、ここではスライダと
磁気コアの接着工程で、金属磁性膜にとっての最適温度
でモ−ルドを行うことができる。この結果、従来は比較
的低い温度での熱処理により生じた金属磁性膜の磁気的
劣化を防ぐことができ、つまり金属磁性膜の特性を最大
限に生かした磁気ヘッドであるとともにモールドガラス
材料として耐熱性、耐湿性等の信頼性に優れたガラスを
使うことができ、品質の優れた磁気ヘッドが実現できる
のである。

【００１５】さらには磁気コアの接着の信頼性をあげた
り、トラック形成加工などに対する加工負荷に対する強
度をあげるためにアペックス部にガラスを設けておく場
合でも、スライダとの接着に用いるガラスと同じガラス
を使うことにより、ガラス接着時にガラスが混ざった場
合の気泡や結晶の発生を防ぐことができ、その結果従来
よりも強いチップ強度を得ることができる。

【００１６】以上のことから、本発明により磁気ヘッド
の品質、磁気ヘッドの製造方法の工程品質を格段に向上
する効果が得られる。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、磁気ヘッドコアがスライダに埋め込まれたいわゆる
コンポジットタイプの磁気ヘッドにおいて、一対の磁気
ヘッドコア半体同士が磁気ギャップ部においてＡｕを主
成分とする材料で接合されており、スライダと磁気コア
を接合するモールドガラスが磁気ヘッドを構成するバル
クのガラス材料の中で最も作業温度の高いガラスとした
磁気ヘッドである。

【００１８】本発明の請求項２に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアがスライダに埋め込まれたいわゆるコンポジッ
トタイプの磁気ヘッドにおいて、一対の磁気ヘッドコア
半体同士が磁気ギャップ部においてＡｕを主成分とする
材料で接合されており、磁気ヘッドコアのアペックス部
に配置されたガラスと同じ組成のバルクのガラスを使っ
て、スライダと磁気コアが接合されている磁気ヘッドで
ある。

【００１９】本発明の請求項３に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアが金属磁性材料を磁気回路の一部に使用してい
ることを特徴とする請求項１、２記載の磁気ヘッドであ
る。

【００２０】本発明の請求項４に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアが主磁路がフェライトでギャップ近傍に金属磁
性膜が形成されたＭＩＧヘッドであることを特徴とする
請求項１〜３記載の磁気ヘッドである。

【００２１】本発明の請求項５に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアの主磁路が金属磁性膜で構成され、金属磁性膜
と絶縁膜が交互に積層された構造からなることを特徴と
する請求項１〜３記載の磁気ヘッドである。

【００２２】本発明の請求項６に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアの金属磁性膜がＦｅ−Ｍ（但し、ＭはＴａ、Ｔ
ｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗ、Ｃ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ａｌの少なくと
も１種類以上の元素をあらわす）を主成分とし、窒素を
含有する磁性体であることを特徴とする請求項１〜５記
載の磁気ヘッドである。

【００２３】本発明の請求項７に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアの金属磁性膜がＣｏを主成分とし、他にＴａ、
Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｈｆを含んだアモルファス合金であ
ることを特徴とする請求項１〜５記載の磁気ヘッドであ
る。

【００２４】本発明の請求項８に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコアとスライダを接合するモールドガラス材料が４
５０℃以上の温度で両者を接合できるガラス材料である
ことを特徴とする請求項１、２記載の磁気ヘッドであ
る。

【００２５】本発明の請求項９に記載の発明は、磁気ヘ
ッドコア半体のギャップ部が磁性体側からＳｉ、Ｔａ、
Ｃｒ、Ｔｉの少なくとも１つの元素からなる酸化物を含
む酸化物、Ｃｒ、Ａｕの順に構成されていることを特徴
とする請求項１、２記載の磁気ヘッドである。

【００２６】本発明の請求項１０に記載の発明は、磁気
ヘッドコア半体のギャップ部が磁性体側からＳｉＯ２も
しくはＳｉＯ２を含む酸化物、Ｃｒ、Ａｕの順に構成さ
れていることを特徴とする請求項１、２記載の磁気ヘッ
ドである。

【００２７】本発明の請求項１１に記載の発明は、磁気
コア半体同士をＡｕで加熱加圧接合する工程と、トラッ
クを所定の幅に加工する工程と、磁気コアをスライダに
ガラス材料を使って加熱接合する工程とを含むことを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法である。

【００２８】本発明の請求項１２に記載の発明は、所定
のトラック幅を得られるように薄膜作成技術を用いて金
属磁性膜を形成する工程と、磁気コア半体同士をＡｕで
加熱加圧接合する工程と、磁気コアをスライダにガラス
材料を使って加熱接合する工程とを含むことを特徴とす
る磁気ヘッドの製造方法である。

【００２９】本発明の請求項１３に記載の発明は、磁気
コアをスライダにガラスモ−ルドして接合する工程で、
加熱接合温度が金属磁性材料を形成後に最も高い温度で
あることを特徴とする請求項１１、１２記載の磁気ヘッ
ドの製造方法である。

【００３０】本発明の請求項１４に記載の発明は、磁気
コアをスライダに加熱接合する際に、モールドガラスに
圧力を加えながら接合することを特徴とする請求項１
１、１２記載の磁気ヘッドの製造方法である。

【００３１】本発明の請求項１５に記載の発明は、磁気
コア半体同士をＡｕで加熱加圧接合する際にアペックス
部に同時にガラスをモ−ルドする工程と、トラックを所
定の幅に加工する工程と、磁気コアをスライダにガラス
モ−ルドして加熱接合する際に、アペックス部にモ−ル
ドしたガラスと同じ組成のガラスを用いることを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法である。

【００３２】本発明の請求項１６に記載の発明は、所定
のトラック幅を得られるように薄膜作成技術を用いて金
属磁性膜を形成する工程と、磁気コア半体同士をＡｕで
加熱加圧接合する際にアペックス部に同時にガラスをモ
−ルドする工程、磁気コアをスライダにガラスモ−ルド
して接合する際に、アペックス部にモ−ルドしたガラス
と同じ組成のガラスを用いることを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法である。

【００３３】本発明の請求項１ないし請求項１６に記載
の発明は、Ａｕ接合により強固なギャップ強度が得ら
れ、またスライダと磁気コアとの接着工程などの熱処理
工程においても、磁気ギャップが緩む恐れが全くない。
したがって磁気ヘッド製造工程での最終の熱処理工程、
ここではスライダと磁気コアの接着工程で、金属磁性膜
にとっての最適温度でモ−ルドを行うことができる。こ
の結果、従来は比較的低い温度での熱処理により生じた
金属磁性膜の磁気的劣化を防ぐことができ、つまり金属
磁性膜の特性を最大限に生かした磁気ヘッドであるとと
もにモールドガラス材料として耐熱性、耐湿性等の信頼
性に優れたガラスを使うことができ、品質の優れた磁気
ヘッドが実現できるものである。

【００３４】さらには磁気コアの接着の信頼性をあげた
り、トラック形成加工などに対する加工負荷に対する強
度をあげるためにアペックス部にガラスを設けておく場
合でも、スライダとの接着に用いるガラスと同じガラス
を使うことにより、ガラス接着時にガラスが混ざった場
合の気泡や結晶の発生を防ぐことができ、その結果従来
よりも強いチップ強度を得ることができる。

【００３５】以上のことから、本発明により磁気ヘッド
の品質、磁気ヘッドの製造方法の工程品質を格段に向上
する効果が得られる。

【００３６】以下、本発明の実施の形態について、図面
を参照しながら説明する。（実施の形態１）図１（ａ）、（ｂ）は本発明の実施の
形態１の磁気ヘッドの斜視図および要部拡大図である。
なお、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ部の要部拡大図で
ある。図１（ａ）は、スライダ１に、磁気コア２が埋め
込まれたコンポジットタイプの磁気ヘッドである。磁気
コア２はモ−ルドガラス３によりスライダと接着されて
いる。磁気コア２の構造を図２（ａ）、（ｂ）に示す。
磁気コア２はフェライト４が主磁路で、ギャップ近傍に
金属磁性膜５が形成されたいわゆるＭＩＧヘッドであ
る。コア半体１１、１２がギャップ部のＡｕ膜８を介し
て接合されている。また摺動面側が所望のトラック幅１
７が得られるように加工され、トラックが形成されてい
る。磁気コア２のギャップ近傍の拡大図である図１
（ｂ）を見ると、フェライト４と金属磁性膜５との境界
には擬似ギャップ低減用の反応防止膜１３が形成され、
各コア半体１１、１２の金属磁性膜５側からＳｉＯ２膜
６、Ｃｒ膜７、Ａｕ膜８となっている。このＳｉＯ２膜
６、Ｃｒ膜７、Ａｕ膜８がこのヘッドの磁気ギャップ部
を構成する。またＡｕ膜８がコア半体１１、１２を接合
し、強固なギャップ強度が得られている。トラックの両
側はスライダ１と磁気コア２を接着するモ−ルドガラス
３で構成されている。このモールドガラス３は磁気ヘッ
ドコア２の電磁変換特性を最も優れた物にする温度条
件、ここでは５００℃でモールド接着できるように選択
されたガラスである。

【００３７】この構造により、磁気コア２の最適温度で
ガラスモールドできることから、すぐれた電磁変換特性
が得られるとともに、ギャップ強度の優れたヘッドチッ
プ、耐水性等の信頼性の優れたモールドガラス３を使う
ことが可能となり、総合的に品質の高い磁気ヘッドを得
ることができる。

【００３８】図２は先程示した磁気コア２の斜視図であ
る。図２（ａ）が巻線窓の上端部つまりアペックス部に
アペックスガラス９が設けられた場合である。このガラ
ス９は磁気コア２とスライダを接着するモ−ルドガラス
３と同じ材料か、もしくはモ−ルドガラス３より作業温
度の低いガラスで構成されている。これにより磁気コア
の強度をさらに向上できる。図２（ｂ）がアペックス部
にガラスが設けられていない場合である。磁気コアにガ
ラスが無いために、スライダとのガラスモールド接着時
にガラスが混合するということがなく、気泡が発生しな
い。

【００３９】なお金属磁性材料の例としてはＦｅを主成
分とした窒化膜、炭化膜や合金膜、Ｃｏを主成分とした
アモルファス膜などが挙げられる。好ましくは、Ｆｅを
主成分とした窒化膜として、ＦｅＴａＮ、ＦｅＮｂＺｒ
Ｎ、ＦｅＴａＺｒＮ、ＦｅＴｉＮ、ＦｅＳｉＮ、ＦｅＳ
ｉＡｌＮ、ＦｅＷＮ、ＦｅＴａＺｒＮ、またこれらに耐
食性を上げるために微量の元素を添加した材料などが、
また炭化膜としてはＦｅＴａＣ、ＦｅＴａなどが、合金
膜としてはＦｅＳｉＡｌ、ＦｅＳｉ、ＦｅＧａＳｉＲ
ｕ、などの合金が挙げられる。またＣｏを主成分とする
アモルファス膜としてはＣｏＴａＺｒＮｂ、ＣｏＴａＺ
ｒ、ＣｏＮｂＺｒ、ＣｏＨｆＺｒ、などが挙げられる。
なおこれらの材料はあくまでその一例でありこれらだけ
に縛られないことは言うまでもないことである。これら
の材料を使うことで、高保磁力の記録媒体に十分な記録
を行うことが可能となる。

【００４０】またギャップ部での構成としては、実施の
形態１においては、ＳｉＯ２膜、Ｃｒ膜、Ａｕ膜を例示
したが、ＳｉＯ２膜のかわりに、Ｓｉ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｔ
ｉの少なくとも１つの元素からなる酸化物を含む酸化物
膜を使うことが可能である。このＳｉＯ２で例示した部
分は、金属磁性膜とギャップ部材料が、熱拡散を起こさ
ないようにするために必要である。この構造により、磁
気的にシャープなギャップを形成することができるとと
もに、光学顕微鏡によりギャップ長を認識することが可
能となる。

【００４１】（実施の形態２）実施の形態１を示す図１
において、磁気コア２が異なった構造をとったのが、本
実施の形態２である。本実施の形態の磁気コア２の構造
を図３に示す。図３（ａ）、（ｂ）は本発明の実施の形
態２の磁気ヘッドの斜視図および要部拡大図である。な
お、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＢ部の要部拡大図であ
る。

【００４２】図３において、非磁性基板２３上に磁気コ
アを構成する磁気回路が金属磁性膜２１で構成されたも
のである。金属磁性膜２１は高周波での渦電流損失を低
減するため絶縁物（ここではＳｉＯ２膜２２）との積層
構造となっている。ここではギャップ部が実施の形態１
と同様に磁気コア側からＳｉＯ２膜６、Ｃｒ膜７、Ａｕ
膜８という構成になっており、コア半体同士がＡｕ膜８
で接合されている。

【００４３】この構造により、磁気ヘッドコア２の最適
温度でガラスモールドできることから、すぐれた電磁変
換特性が得られるとともに、ギャップ強度の優れたヘッ
ドチップ、耐水性等の信頼性の優れたモールドガラス３
を使うことが可能となり、総合的に品質の高い磁気ヘッ
ドを得ることができる。

【００４４】なお本実施の形態２でも金属磁性材料の一
例としては、実施の形態１で例示した同じ材料があげら
れ、また磁気ギャップ部１４に使われるＳｉＯ２で例示
した材料にも、実施の形態１で例示したのと同じ材料を
構成することができる。

【００４５】またこの磁気コア２の場合でも実施の形態
１で示したのと同じようにアペックス部にアペックスガ
ラス９があるヘッドとないヘッドがあげられ、その効果
も同様の効果が得られる。

【００４６】本発明の磁気ヘッドの電磁変換特性、外形
（気泡発生）、磁気コア単体でのチップ強度、耐湿性、
歩留まり等に関して検討した結果を（表１）、（表
２）、（表３）、（表４）に示す。（表１）、（表２）
はＭＩＧヘッド（実施の形態１）での比較、（表３）、
（表４）は積層タイプ（実施の形態２）のヘッドでの比
較である。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】

【表３】

【００５０】

【表４】

【００５１】表中の項目に関しては、Ａ部はアペックス
部のガラス（実施の形態ではガラス９）とギャップ形成
時の加熱温度、Ｓ部はスライダと磁気コアの接着ガラス
（実施の形態ではモ−ルドガラス３）と接合温度を示
す。ガラス単体の作業温度はＡが５００℃、Ｂが５５０
℃、Ｃが４５０℃である。

【００５２】表中の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）がギャップ
部の接合にＡｕ接合を採用した本発明の磁気ヘッド、
（ｄ）、（ｅ）が従来のガラス接着方法を採用した磁気
ヘッドである。

【００５３】この結果から評価した項目すべてに関して
本発明の磁気ヘッドは、従来の磁気ヘッドに比べて優れ
ていることがわかる。また金属磁性膜に関してはＦｅＴ
ａＮ膜およびＣｏＮｂＺｒＴａ膜を用いて検討を行った
が効果に関してはどちらも同じ結果であった。

【００５４】（実施の形態３）図４は本発明の磁気ヘッ
ドの製造方法の実施の形態３を示す工程図であり、図４
に基づき、本発明の磁気ヘッドの製造方法の実施の形態
３の工程を説明する。

【００５５】図４（ａ）において、一対のフェライトバ
−３１のギャップ面に所定の膜厚の金属磁性膜（ここで
はＦｅＴａＮ膜）３２、ギャップ３３材となるＳｉＯ２
膜、Ｃｒ膜、Ａｕ膜（図示せず）を形成する。

【００５６】図４（ｂ）において、コア半体を突き合わ
せ、加圧加熱接着を行う。ここでは温度は３５０℃で加
圧力は２０ＭＰａである。

【００５７】図４（ｃ）において、所定のトラック幅が
得られるように機械加工でトラック加工を行う。図中、
点線がトラック加工線を示す。

【００５８】図４（ｄ）において、このようにして選ら
れた磁気コア３６をスライダ３７の所定の位置にセット
して加熱接着を行う。温度はここで用いたＦｅＴａＮ膜
の最適温度として５００℃である。この時、モールドガ
ラスに圧力を加えながらモ−ルドすることで耐水性、硬
度、強度の高いガラス、つまり信頼性に優れたガラスを
使うことが可能となる。

【００５９】このようにして得られた磁気ヘッドが埋め
込まれたスライダを所定の大きさ、形に仕上げるために
研磨などを行う。

【００６０】このような製造方法により、電磁変換特性
に優れた磁気ヘッドが実現できるとともに、耐水性等に
優れたガラスが使え、チップ強度の優れた品質の良い磁
気ヘッドを製造することが可能となる。

【００６１】（実施の形態４）本実施の形態４は、実施
の形態３を示す図４（ｂ）の工程が図５（ａ）もしくは
（ｂ）となり、それ以外は図４と同じ工程である磁気ヘ
ッドの製造方法である。つまり（ｂ）工程で加圧加熱接
着を行う際同時に、アペックス先端部分をガラスモ−ル
ドする。３９がモールド後にアペックスガラスとなる。
この時の処理温度は５００℃である。図５（ａ）は自然
流動でガラスをアペックス部に充填する方法であり、図
５（ｂ）はたとえばあらかじめ摺動面からアペックス部
に貫通した溝を形成しておいたコアに圧力を加えながら
ガラスをアペックス部に加圧挿入する方法である。本方
法により耐水性がさらに優れたガラスを使うことが可能
である。

【００６２】本実施の形態４によれば、実施の形態３の
ヘッドに比べてさらにチップ強度の優れた磁気ヘッドコ
アの製造が可能となる。

【００６３】（実施の形態５）図６は本発明の磁気ヘッ
ドの製造方法の実施の形態５を示す工程図であり、図６
に基づき、本発明の磁気ヘッドの製造方法の実施の形態
５の工程を説明する。

【００６４】図６（ａ）において、鏡面研磨を行った非
磁性基板４１上に所定の膜厚の金属磁性膜４２を絶縁物
（図示せず）と積層しながら形成する。

【００６５】図６（ｂ）において、これらを所定の加工
を施して図のようなコア半体４３を形造り、ギャップ部
材としてそのギャップ面にＳｉＯ２膜、Ｃｒ膜、Ａｕ膜
を形成し、コア半体同士を加圧加熱接着する。この時の
温度は３５０℃、加圧力は２０ＭＰａである。

【００６６】図６（ｃ）において、所定の幅のチップ形
状に切断する。一点鎖線は切断線である。

【００６７】図６（ｄ）において、前述の工程で得られ
た磁気コア４９をスライダ５０の所定の位置にセットす
るため加熱接着を行う。温度はここで用いたＦｅＴａＮ
膜の最適温度として５００℃である。この時、モールド
ガラス５１に圧力を加えながらモ−ルドすることで耐水
性、硬度、強度の高いガラス、つまり信頼性に優れたガ
ラスを使うことが可能となる。このモールドガラスがモ
ールド後にアペックスガラスとなる。

【００６８】図６（ｅ）において、前述の工程で得られ
た磁気ヘッドが埋め込まれたスライダを所定の大きさ、
形に仕上げるために研磨などを行う。

【００６９】（実施の形態６）本実施の形態は、実施の
形態５を示す図６の（ｂ）工程が図７となり、それ以外
は図６と同じ工程となる磁気ヘッドの製造方法である。
つまり、ギャップの加圧加熱接着を行う際（図６
（ｂ））に、アペックス部分をガラスモ−ルドする。３
９がアペックス部のモ−ルドガラスである。この時温度
は５００℃である。

【００７０】この後（ｃ）〜（ｄ）は実施の形態５と同
じである。実施の形態５のヘッドに比べてさらにチップ
強度の優れた磁気ヘッドコアの製造が可能となる。

【００７１】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッド、磁気ヘッドの製造
方法により、電磁変換特性の優れた、また品質面にも優
れた磁気ヘッドおよびその製造方法が提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１における磁気ヘッドを示
す斜視図および要部拡大図

【図２】本発明の実施の形態１における磁気ヘッドコア
の斜視図

【図３】本発明の実施の形態２における磁気ヘッドコア
の斜視図および要部拡大図

【図４】本発明の実施の形態３における磁気ヘッドの製
造方法の工程図

【図５】本発明の実施の形態４における磁気ヘッドの製
造方法の一工程図

【図６】本発明の実施の形態５における磁気ヘッドの製
造方法の工程図

【図７】本発明の実施の形態６における磁気ヘッドの製
造方法の一工程図

【図８】従来の磁気ヘッドを示す斜視図

【符号の説明】

１，３７，５０スライダ２，３６，４９磁気コア３，３８，５１モールドガラス４フェライト５，２１，３２，４２金属磁性膜６ＳｉＯ２膜７Ｃｒ膜８Ａｕ膜９，３９アペックスガラス１１，１２，４３コア半体１４磁気ギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ヘッドコアがスライダに埋め込まれ
たいわゆるコンポジットタイプの磁気ヘッドにおいて、
一対の磁気ヘッドコア半体同士が磁気ギャップ部におい
てＡｕを主成分とする材料で接合されており、スライダ
と磁気コアを接合するモールドガラスが磁気ヘッドを構
成するバルクのガラス材料の中で最も作業温度の高いガ
ラスであることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】磁気ヘッドコアがスライダに埋め込まれ
たいわゆるコンポジットタイプの磁気ヘッドにおいて、
一対の磁気ヘッドコア半体同士が磁気ギャップ部におい
てＡｕを主成分とする材料で接合されており、磁気ヘッ
ドコアのアペックス部に配置されたガラスと同じ組成の
バルクのガラスを使って、スライダと磁気コアが接合さ
れていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項３】磁気ヘッドコアが金属磁性材料を磁気回
路の一部に使用していることを特徴とする請求項１、２
記載の磁気ヘッド。
【請求項４】磁気ヘッドコアが主磁路がフェライトで
ギャップ近傍に金属磁性膜が形成されたＭＩＧヘッドで
あることを特徴とする請求項１〜３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】磁気ヘッドコアの主磁路が金属磁性膜で
構成され、金属磁性膜と絶縁膜が交互に積層された構造
からなることを特徴とする請求項１〜３記載の磁気ヘッ
ド。
【請求項６】磁気ヘッドコアの金属磁性膜がＦｅ−Ｍ
（但し、ＭはＴａ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗ、Ｃ、Ｈｆ、
Ｓｉ、Ａｌの少なくとも１種類以上の元素をあらわす）
を主成分とし、窒素を含有する磁性体であることを特徴
とする請求項１〜５記載の磁気ヘッド。
【請求項７】磁気ヘッドコアの金属磁性膜がＣｏを主
成分とし、他にＴａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｈｆを含んだ
アモルファス合金であることを特徴とする請求項１〜５
記載の磁気ヘッド。
【請求項８】磁気ヘッドコアとスライダを接合するモ
ールドガラス材料が４５０℃以上の温度で両者を接合で
きるガラス材料であることを特徴とする請求項１、２記
載の磁気ヘッド。
【請求項９】磁気ヘッドコア半体のギャップ部が磁性
体側からＳｉ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｔｉの少なくとも１つの元
素からなる酸化物を含む酸化物、Ｃｒ、Ａｕの順に構成
されていることを特徴とする請求項１、２記載の磁気ヘ
ッド。
【請求項１０】磁気ヘッドコア半体のギャップ部が磁
性体側からＳｉＯ２もしくはＳｉＯ２を含む酸化物、Ｃ
ｒ、Ａｕの順に構成されていることを特徴とする請求項
１、２記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】磁気コア半体同士をＡｕで加熱加圧接
合する工程と、トラックを所定の幅に加工する工程と、
磁気コアをスライダにガラス材料を使って加熱接合する
工程とを含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１２】所定のトラック幅を得られるように薄
膜作成技術を用いて金属磁性膜を形成する工程と、磁気
コア半体同士をＡｕで加熱加圧接合する工程と、磁気コ
アをスライダにガラス材料を使って加熱接合する工程と
を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１３】磁気コアをスライダにガラスモ−ルド
して接合する工程で、加熱接合温度が金属磁性材料を形
成後に最も高い温度であることを特徴とする請求項１
１、１２記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１４】磁気コアをスライダに加熱接合する際
に、モールドガラスに圧力を加えながら接合することを
特徴とする請求項１１、１２記載の磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項１５】磁気コア半体同士をＡｕで加熱加圧接
合する際にアペックス部に同時にガラスをモ−ルドする
工程と、トラックを所定の幅に加工する工程と、磁気コ
アをスライダにガラスモ−ルドして加熱接合する際に、
アペックス部にモ−ルドしたガラスと同じ組成のガラス
を用いることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１６】所定のトラック幅を得られるように薄
膜作成技術を用いて金属磁性膜を形成する工程と、磁気
コア半体同士をＡｕで加熱加圧接合する際にアペックス
部に同時にガラスをモ−ルドする工程、磁気コアをスラ
イダにガラスモ−ルドして接合する際に、アペックス部
にモ−ルドしたガラスと同じ組成のガラスを用いること
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。