JPH1149738A - カルボン酸誘導体、その製造法及びそれを用いるピリダジン−３−オン誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた除草活性を有する化合物の製造法と製
造中間体を提供することを課題とする。 【解決手段】一般式 化１ 【化１】 [式中、Ｒ²は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表
し、Ｒ³は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表
し、Ｑは置換されていてもよいフェニル基を表す。]で示
されるカルボン酸エステル誘導体を用いる、一般式 化
２ 【化２】 [式中、Ｒ²、Ｒ³及びＱは前記と同じ意味を表す。]で示
されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法及び一般式
化１で示されるカルボン酸エステル誘導体の製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カルボン酸誘導
体、その製造法及びそれを用いるピリダジン−３−オン
誘導体の製造法に関する。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】式 化８

【化８】 で示されるようなピリダジン−３−オン誘導体は、優れ
た除草活性を有しており、これらのピリダジン−３−オ
ン誘導体の有利な製造方法の開発が望まれていた。

【課題を解決するための手段】本発明者は、該ピリダジ
ン−３−オン誘導体の有利な製造法を見いだすべく鋭意
検討を重ねた結果、一般式 化９

【化９】 [式中、Ｒ²は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表
し、Ｒ³は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表
し、Ｑは置換されていてもよいフェニル基を表す。]で示
されるカルボン酸誘導体またはその塩が、前記の式 化
８で示されるピリダジン-３-オン誘導体等に導けること
から、その重要な中間体であることを見出し、本発明に
至った。即ち、本発明は、一般式 化９で示される化合
物（以下、本発明化合物−１と記す）、本発明化合物−
１の塩（以下、本発明化合物−２と記す）（尚、以下、
本発明化合物−１と本発明化合物−２をあわせて、本発
明化合物と総称する）、本発明化合物−１の製造法、及
び本発明化合物−１から一般式 化１０

【化１０】 [式中、Ｑ、Ｒ²およびＲ³は前記と同じ意味を表す。]で
示されるピリダジン-３-オン誘導体を製造する製造法を
提供する。

【０００３】ここで、Ｑで表される置換されていてもよ
いフェニル基としては、例えば以下の一般式 化１１で
示されるＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−３、Ｑ−４またはＱ−５
基があげられる。

【化１１】 ［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロ
メチル基を表し、Ｚ¹およびＺ²はそれぞれ酸素原子また
は硫黄原子を表し、ｎは０または１を表し、Ｒ⁴は水素
原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−
Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、（Ｃ３−
Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ
６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−
Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シア
ノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ
１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１
−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、カルボキシ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カル
ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アル
キル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ
１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ₂ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、
−ＣＨ₂ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４
アルキル）ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４
アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基（ここで、Ｒ¹²およ
びＲ¹³はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキ
ニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４ア
ルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキ
ルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６
アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル）カルボニルオキシＣ２−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
Ｃ６アルキル）カルボニルアミノＣ２−Ｃ６アルキル
基、ヒドロキシＣ２−Ｃ６アルキル基、置換されていて
もよいベンジル基、置換されていてもよいフェニル基ま
たは｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝
カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを表すか、あるいは、Ｒ
¹²とＲ ¹³とでトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメ
チレン、エチレンオキシエチレンまたはエチレンチオエ
チレンを表す。）、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−
Ｃ４アルキル基またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基
を表し、Ｒ⁶はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロ
アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシＣ
１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−
Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ
６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ア
ルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６ア
ルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基
を表し、Ｒ⁷ は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を
表し、Ｒ⁸はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３
アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アル
キル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１
−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボ
ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、カルボキシ基、カルボキシ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カル
ボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル
基、（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルコキシ）カルボニル基、
（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３
−Ｃ８アルキニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６
アルキル）アミノカルボニル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル）アミノカルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミ
ノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基またはジ（Ｃ
１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６
アルキル基を表し、Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基、クロロスルホニル基、ＯＲ¹基、Ｓ
Ｒ¹基、ＳＯ₂ＯＲ²¹基、ＣＯＯＲ²²基、ＣＲ²³＝ＣＲ²⁴
ＣＯＯＲ²⁵基またはＣＨ₂ＣＨＷＣＯＯＲ²⁵基を表わ
す。{ここでＷは水素原子、塩素原子、または、臭素原
子を表し、Ｒ¹は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ
１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル
基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６
ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ
６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ
１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボ
キシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）
カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１
−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニル
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキ
シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シ
クロアルキル）（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ
１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ₂ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ
¹³基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）
Ｒ¹³基、−ＣＨ₂ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１
−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基（ここで、Ｒ¹²
とＲ¹³は前記と同じ意味を表す。）、（Ｃ２−Ｃ６アル
ケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
３−Ｃ６ハロアルケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６
アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６アルキニル）オキシカルボニ
ルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニ
ル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
Ｃ６アルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６
アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６アルケニルチオ）カルボニル
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルチ
オ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ア
ルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
３−Ｃ６ハロアルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルチオ）カルボニ
ルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロハロアル
キルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（（Ｃ３
−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）カル
ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル）Ｃ＝ＮＯカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（置換
されていてもよいベンジルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６
アルキル基、（置換されていてもよいフェニルチオ）カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ（Ｃ２−Ｃ
６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシ（Ｃ２−Ｃ６アル
コキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ
６アルキル）カルボニルアミノ（Ｃ２−Ｃ６アルコキ
シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ６
アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６
アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１
−Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロ
アルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ
６アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジ
ルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されて
いてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基、置換されていてもよいフリルオキシカルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフリル（Ｃ１
−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基、置換されていてもよいチエニルオキシカルボニルＣ
１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいチエニル
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基、置換されていてもよいピロリルオキシカルボ
ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピロ
リルオキシ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ
１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイミダゾイ
ルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されて
いてもよいイミダゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシ
カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよ
いピラゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピラゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換され
ていてもよいチアゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基、置換されていてもよいチアゾイル（Ｃ１−Ｃ
６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいオキサゾイルオキシカルボニルＣ
１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいオキサゾイ
ル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６
アルキル基、置換されていてもよいイソチアゾイルオキ
シカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていても
よいイソチアゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカル
ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイ
ソキサゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソキサゾイル（Ｃ１−Ｃ６アル
キル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換さ
れていてもよいピリジルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
ルキル基、置換されていてもよいピリジル（Ｃ１−Ｃ６
アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置
換されていてもよいピラジニルオキシカルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピラジニル（Ｃ
１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
ル基、置換されていてもよいピリミジニルオキシカルボ
ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリ
ミジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリダジニル
オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されてい
てもよいピリダジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよい
インドリジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基、置換されていてもよいインドリジニル（Ｃ１−Ｃ６
アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置
換されていてもよいインドリルオキシカルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインドリル（Ｃ
１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
ル基、置換されていてもよいインダゾリルオキシカルボ
ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイン
ダゾリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいキノリルオキ
シカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていても
よいキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニル
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイソキノ
リルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、または置
換されていてもよいイソキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表すか、
一般式 化１２

【化１２】 {式中、Ｒ¹⁴はＣ１−Ｃ５アルキル基を表し、Ｒ¹⁵は水
素原子、ヒドロキシル基または−Ｏ−ＣＯＲ¹⁶で表され
る基（Ｒ¹⁶は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロ
アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ８シク
ロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換
されていてもよいベンジル基、またはＣ１−Ｃ６アルコ
キシ基を表す。）を表す。}で示される基を表すか、あ
るいは、一般式 化１３

【化１３】 〈式中、Ｒ¹⁷は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ
６アルキル基を表し、Ｒ¹⁸はＣ３−Ｃ８シクロアルキル
基、ベンジル基、炭素鎖にエポキシ基を有するＣ２−Ｃ
１０アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−
Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ２−
Ｃ６アルケニル基、同一の炭素原子がＯＲ¹⁹およびＯＲ
²⁰で置換されたＣ１−Ｃ６アルキル基、同一の炭素原子
がＯＲ¹⁹およびＯＲ²⁰で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニ
ル基、同一の炭素原子がＳＲ¹⁹およびＳＲ²⁰で置換され
たＣ１−Ｃ６アルキル基、同一の炭素原子がＳＲ¹⁹およ
びＳＲ²⁰で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニル基（ここで
Ｒ¹⁹とＲ²⁰はそれぞれ独立してＣ１−Ｃ６アルキル基、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基を表すか、Ｒ¹⁹とＲ²⁰とで、
ハロゲン原子で置換されていてもよいエチレン、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよいトリメチレン、ハロゲン
原子で置換されていてもよいテトラメチレン、ハロゲン
原子で置換されていてもよいペンタメチレンまたはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいエチレンオキシエチレ
ンを表す。）、カルボキシＣ２−Ｃ６アルケニル基、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケ
ニル基、（Ｃ１−Ｃ８ハロアルコキシ）カルボニルＣ２
−Ｃ６アルケニル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１
−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル
基、または、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニ
ルＣ２−Ｃ６アルケニル基を表す。〉で示される基を表
し、Ｒ²¹はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアル
キル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アル
ケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ア
ルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基またはベンジ
ル基を表し、Ｒ²²は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル
基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６
ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ
６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ
１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボ
キシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）
カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１
−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニル
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキ
シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ア
ルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ
６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
{（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル}カルボ
ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキ
ル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ₂ＣＯＯ
Ｎ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯ
ＯＮ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基、−ＣＨ₂ＣＯＮ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基、
−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基
（ここで、Ｒ²⁶とＲ²⁷はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ
１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３
−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１
−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−
Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
ル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１
−Ｃ６アルキル基または、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）
Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを
表すか、あるいは、Ｒ²⁶とＲ²⁷とでテトラメチレン、ペ
ンタメチレン、またはエチレンオキシエチレンを表
す。）、{（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル}オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ
²³およびＲ²⁴は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ²⁵は水素
原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル
基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基またはＣ３−Ｃ６アル
ケニル基を表す。}]

【０００４】

【発明の実施の形態】本発明化合物において、Ｘおよび
Ｙで示されるハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、
臭素原子またはヨウ素原子を意味し、Ｒ²およびＲ³で示
されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基等があげられ、Ｒ¹で示されるＣ１−Ｃ６アルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基（こ
こで「ｔ」は［第３級］を示す：以下、同じ）、アミル
基、イソアミル基、ｔ−アミル基等があげられ、Ｃ１−
Ｃ６ハロアルキル基としては、２−クロロエチル基、２
−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基
等があげられ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケ
ニル基としては、アリル基、メタリル基、１−メチル−
２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、
３−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニ
ル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基として
は、２−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ
−２−プロペニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニ
ル基としては、プロパルギル基、１−メチル−２−プロ
ピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プ
ロピニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基
としては、３−ブロモプロパルギル基等があげられ、シ
アノＣ１−Ｃ６アルキニル基としては、シアノメチル基
等があげられ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４ア
ルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル
基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等があげら
れ、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基
としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基等
があげられ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基として
は、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２
−カルボキシエチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ８アル
コキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メ
トキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソ
ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニル
メチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミ
ルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボ
ニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−
エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニ
ルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、
１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカ
ルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル
基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソア
ミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカル
ボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル
基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ
−アミルオキシカルボニルエチル基等があげられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カ
ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメト
キシカルボニルメチル基、メトキシエトキシカルボニル
メチル基、１−メトキシエトキシカルボニルエチル基等
があげられ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニ
ルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシ
カルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニル
メチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、
１−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シク
ロペンチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキ
シルオキシカルボニルエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ
６アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル
基、イソブトキシカルボニル基またはｔ−ブトキシカル
ボニル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカル
ボニル基としては、２，２，２−トリクロロエチルカル
ボニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカ
ルボニル基としては、シクロプロピルオキシカルボニル
基、シクロブチルオキシカルボニル基等があげられ、Ｃ
３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基としては、アリ
ルオキシカルボニル基等があげられ、｛（Ｃ１−Ｃ６ア
ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカル
ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（メトキシカル
ボニル）メトキシカルボニルメチル基、（エトキシカル
ボニル）メトキシカルボニルメチル基等があげられ、Ｒ
¹²およびＲ¹³で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基
等があげられ、Ｒ⁴で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基と
しては、メチル基等があげられ、Ｒ⁵で示されるＣ１−
Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、イソブチル基、ブチル基、イソ
アミル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基とし
ては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−
クロロブチル基、３−ブロモブチル基、ジフルオロメチ
ル基等が挙げられ、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１
−Ｃ６アルキル基としては、シクロペンチルメチル基等
があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル
基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、
２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メ
チル−３−ブテニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロア
ルケニル基としては、２−クロロ−２−プロペニル基、
３，３−ジクロロ−２−プロペニル基等があげられ、Ｃ
３−Ｃ６アルキニル基としては、プロパルギル基、１−
メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチ
ニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基等があげ
られ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−ヨ−
ド−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基
等があげられ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としては、
シアノメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メトキシメチル
基、１−メトキシエチル基、エトキシメチル基等があげ
られ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カル
ボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボ
キシエチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）
カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカ
ルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロ
ポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニル
メチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシ
カルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル
基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキ
シカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメ
チル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキ
シカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチ
ル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブ
トキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニ
ルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１
−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオ
キシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニル
エチル基等があげられ、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ
１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基
としては、メトキシエトキシカルボニルメチル基、１−
メトキシメトキシカルボニルエチル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６
アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボニルメ
チル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シ
クロヘキシルオキシカルボニルメチル基、１−シクロブ
チルオキシカルボニルエチル基、１−シクロペンチルオ
キシカルボニルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカ
ルボニルエチル基等があげられ、ヒドロキシＣ１−Ｃ６
アルキル基としてはヒドロキシメチル基、ヒドロキシエ
チル基、ヒドロキシプロピル基等があげられ、Ｒ⁶で示
される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては
ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル
基、１−ブロモエチル基、クロロメチル基、ジクロロメ
チル基、トリクロロメチル基等があげられ、ヒドロキシ
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはヒドロキシメチル基等が
あげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキ
ル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基等があげ
られ、{（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルコキ
シ}Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメトキシ
メチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメトキ
シメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カル
ボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、アセチル
オキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、イ
ソプロピルカルボニルオキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ
６アルキル基としては、トリフルオロアセチルオキシメ
チル基、クロロアセチルオキシメチル基、トリクロロア
セチルオキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アル
コキシ）カルボニル基としては、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イ
ソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル
基、イソアミルオキシカルボニル基等があげられ、Ｒ⁷
で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基等が
あげられ、Ｒ⁸で示される、Ｃ１−Ｃ６アルキル基とし
てはメチル基、エチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロ
アルキル基としては、クロロメチル基、ブロモメチル基
等があげられ、ヒドルキシＣ１−Ｃ６アルキル基として
はヒドロキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ４アル
コキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としてはメトキシメチル
基、エトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブト
キシメチル基、イソブトキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ
１−Ｃ３アルキル基としてはメトキシメトキシメチル
基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメトキシメチ
ル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニル
オキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはアセチルオキシメ
チル基、エチルカルボニルオキシメチル基、イソプロピ
ルカルボニルオキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ
６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基とし
ては２−クロロエチルカルボニルオキシメチル基等があ
げられ、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはカル
ボキシメチル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ８アルコキ
シ）カルボニル基としてはメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、イソア
ミルオキシカルボニル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ６ハ
ロアルコキシ）カルボニル基としては２−クロロエトキ
シカルボニル基、２−ブロモエトキシカルボニル基、３
−クロロブトキシカルボニル基、１−クロロ−２−プロ
ポキシカルボニル基、１，３−ジクロロ−２−プロポキ
シカルボニル基、２，２−ジクロロエトキシカルボニル
基、２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル基、
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２，
２，２−トリブロモエトキシカルボニル基等があげら
れ、（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルコキシ）カルボニル基と
してはシクロブチルオキシカルボニル基、シクロペンチ
ルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニ
ル基等があげられ、（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カ
ルボニル基としてはアリルオキシカルボニル基、３−ブ
テニルオキシカルボニル基、１−メチル−２−プロペニ
ルオキシカルボニル基等があげられ、（Ｃ３−Ｃ８アル
キニルオキシ）カルボニル基としてはプロパルギルオキ
シカルボニル基、３−ブチニルオキシカルボニル基、１
−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル基等があげ
られ、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基とし
てはメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニ
ル基、プロピルアミノカルボニル基等があげられ、ジ
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基としてはジ
メチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル
基、ジイソプロピルアミノカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−
Ｃ６アルキル基としてはメチルアミノカルボニルオキシ
メチル基、エチルアミノカルボニルオキシメチル基、プ
ロピルアミノカルボニルオキシメチル基等があげられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１
−Ｃ６アルキル基としてはジメチルアミノカルボニルオ
キシメチル基、ジエチルアミノカルボニルオキシメチル
基等があげられる。Ｒ²²で示されるＣ１−Ｃ６アルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ア
ミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基などが挙げられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−クロロエチル
基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエ
チル基などが挙げられ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基と
しては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６
アルケニル基としては、アリル基、１−メチル−２−プ
ロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メ
チル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基等
があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、２
−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−
プロペニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基と
しては、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル
基、２−ブチニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ6ハロアル
キニル基としては、３−ブロモプロパルギル基等があげ
られ、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シアノエ
チル基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−
Ｃ４アルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシ
エチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等があ
げられ、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキ
ル基としては、メチルチオエチル基等があげられ、カル
ボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボキシメチ
ル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル
基等があげられ、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニル
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカルボニルメ
チル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカル
ボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニル
メチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオ
キシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニル
メチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル基、１−
メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニル
エチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イ
ソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボ
ニルエチル基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、
１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−アミルオキ
シカルボニルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニ
ルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１
−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオ
キシカルボニルエチル基、１−ｔ−アミルオキシカルボ
ニルエチル基等があげられ、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
シ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アル
キル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル
基、メトキシエトキシカルボニルメチル基、１−メトキ
シエトキシカルボニルエチル基等があげられ、（Ｃ３−
Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
基としては、シクロブチルオキシカルボニルメチル基、
シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキ
シルオキシカルボニルメチル基、１−シクロブチルオキ
シカルボニルエチル基、１−シクロペンチルオキシカル
ボニルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカルボニル
エチル基等があげられる。Ｒ²³およびＲ²⁴で示されるＣ
１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基等があげられ、
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等があげら
れ、Ｒ²⁵で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソア
ミル基、ｔ−アミル基等が挙げられ、Ｃ１−Ｃ６ハロア
ルキル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエ
チル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等が挙げら
れ、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基として
は、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブ
テニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル
基、２−メチル−３−ブテニル基等があげられる。Ｒ²⁶
およびＲ²⁷で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が
あげられる。また、本発明化合物−２の塩としては、リ
チウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム
塩、カルシウム塩、メチルアミン塩、ジメチルアミン
塩、トリメチルアミン塩、エチルアミン塩、ジエチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩、ジイソプロピルエチルア
ミン塩、トリ−ｎ−プロピルアミン塩、トリ−ｎ−ブチ
ルアミン塩、ピリジン塩、４−ジメチルアミノピリジン
塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン塩またはＮ，Ｎ−ジエチ
ルアニリン塩等があげられる。尚、本発明化合物には、
二重結合に由来する幾可異性体、不斉炭素に由来する光
学異性体及びジアステレオマ−が存在するが、本発明化
合物には、これらの異性体及びその混合物も含まれる。

【０００５】つぎに本発明化合物を製造する方法につい
て説明する。 １）本発明化合物−１の製造法 本発明化合物−１は、一般式 化１４

【化１４】 [式中ＱおよびＲ³は前記と同じ意味を表す。]で示される
ヒドラゾン化合物と一般式 化１５

【化１５】Ｒ²ＣＨ（ＣＯＯＨ）₂ [式中、Ｒ²は前記と同じ意味を表す。]で示されるマロ
ン酸誘導体とを、塩基の存在下に反応させることにより
製造される。（以下、本発明工程１と称す） 本反応の反応条件としては次の本発明工程１−１または
本発明工程１−２に示す条件があげられる。

【０００６】Ｉ）本発明工程１−１ 一般式 化１４で示されるヒドラゾン化合物と一般式
化１５で示されるマロン酸誘導体とを、第２級アミン、
および、ピリジンまたはキノリンのいずれか１種以上の
存在下に反応させる方法 該反応は、通常、ピリジンおよび／またはキノリン中で
行われ、反応温度の範囲は、通常４０〜１４０℃であ
り、好ましくは、６０〜１００℃である。反応時間の範
囲は瞬時〜２４時間である。反応に供される試剤の量
は、一般式 化１４で示されるヒドラゾン化合物１モル
に対して、式 化１５で示されるマロン酸誘導体は１〜
１０モルであり、第２級アミンは０．１〜５モル、好ま
しくは０．８〜２モル、より好ましくは１〜２モルであ
る。第２級アミンとしては、ピペリジン、モルホリン、
ピロリジン等の環状アミン類、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン等のジアルキルアミン類等があげられ
る。また、本反応においては共溶媒として、ヘキサン、
ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフ
ルオリド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエーテル類、アセ
トニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、酢酸
エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール
等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の
酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物類あるいはその混合物を使用することも可能で
ある。

【０００７】ＩＩ）本発明工程１−２ 一般式 化１４で示されるヒドラゾン化合物と一般式
化１５で示されるマロン酸誘導体とを、ジアルキルアニ
リン誘導体、第３級アミン類等の有機塩基等の塩基の存
在下の反応させる方法 該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範
囲は、通常２０〜２００℃好ましくは４０〜１５０℃で
ある。反応時間の範囲は、通常瞬時〜７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式 化１４で示される
ヒドラゾン化合物１モルに対して、一般式 化１５で示
されるマロン酸誘導体の量は、通常１〜１０モルであ
り、好ましくは１〜２モルであり、塩基の量は、一般式
化１５で示されるマロン酸誘導体１モルに対して通
常、１モル〜大過剰量、好ましくは１〜１０モルであ
る。塩基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−
ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジ
ルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メ
チルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類等の有機
塩基があげられ、好ましくはトリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ト
リ−ｎ−ブチルアミン等のトリアルキルアミン類であ
る。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エ−テル等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，
１，１−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テ
ル等のエ−テル類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香
族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド
類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、イソブ
チロニトリル等のニトリル類、メタノ−ル、エタノ−
ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソプロパノ−ル等の
アルコ−ル類、水あるいはそれらの混合物などが挙げら
れる。本発明工程１−１および１−２の反応終了後の反
応液は、 反応液をそのまま濃縮する。 反応液を塩酸、希硫酸等の鉱酸の水溶液に注加するな
どし、これを酸性条件下有機溶媒で抽出した後、有機層
を乾燥、濃縮する。 反応液を水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の水溶液に注加し
た後、アルカリ性条件下有機層を除去し、水層に塩酸、
希硫酸等の鉱酸の水溶液を加えて溶液を酸性にした後、
水層を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する。 等の後処理を行い、必要ならば、再結晶、カラムクロマ
トグラフィ−等の操作によって精製することにより、本
発明化合物−１を得ることができる。また、本発明化合
物−１は以下に記載の方法により、本発明化合物−２と
した後、これを水に溶解させ、該水溶液を有機溶媒で抽
出し、水に不溶な不純物を有機層に溶解させ、該有機層
を除去し、水層に塩酸、希硫酸等の鉱酸の水溶液を加え
て溶液を酸性にした後、水層を有機溶媒で抽出し、有機
層を乾燥、濃縮することにより精製することも可能であ
る。

【０００８】２）本発明化合物−２の製造法 本発明化合物−２は、本発明化合物−１を塩基と反応す
ることにより製造することができる。本反応に用いられ
る塩基としては例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウム等の無機
塩基、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミ
ン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピル
アミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のアルキルアミン
類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の置換さ
れていてもよいピリジン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン
類等の有機塩基があげられる。反応の条件としては、例
えば、 本発明化合物−１を無機塩基の水溶液に加えた後、該
反応液を有機溶媒で抽出し、有機層を除去した後、水層
を濃縮する方法（なお、この場合本発明化合物−１、１
モルに対して、無機塩基１当量を用いることが好まし
い）。 本発明化合物−１を有機溶媒中で有機塩基と反応させ
た後、該反応液を濃縮することにより製造する方法。 等があげられる。これらの方法で得られた本発明化合物
−２は、必要があれば再結晶等により精製することがで
きる。なお、本発明化合物は通常、ジアステレオマ−の
混合物として得られ、これらのジアステレオマ−は、特
に分離することなく次の反応の原料として供することが
でき、また、必要に応じて、さらに精密なクロマトグラ
フィ−等の分離操作を施した後、各々を次の反応に供す
ることも可能である。

【０００９】上記、製造法に用いられる一般式 化１５
で示されるマロン酸誘導体は、市販のものを用いるか、
公知の方法に準じて製造することができる。また、一般
式 化１４で示されるヒドラゾン化合物は、一般式 化
１６

【化１６】ＣＦ₃Ｃ（＝Ｏ）ＣＶ₂Ｒ³ ［式中、Ｒ³は前記と同じ意味を表わし、Ｖは、ヨウ素
原子、臭素原子、または塩素原子を表わす。］で示され
る化合物と水とを塩基の存在下に反応させることによ
り、一般式 化１７

【化１７】ＣＦ₃Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ³ ［式中、Ｒ³は前記と同じ意味を表わす］で示されるカ
ルボニル化合物、又はその水和体、又はアセタ−ル誘導
体に導き（以下、反応１と記す）、次いで、これと一般
式 化１８

【化１８】Ｑ−ＮＨＮＨ₂ [式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。]で示されるヒドラ
ジン誘導体とを反応させる（以下、反応２と記す）こと
によって製造することができる。上記、反応１は、通
常、溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜１００
℃、反応時間の範囲は通常瞬時から７２時間であり、反
応に供される試剤の量は、一般式 化１６で表わされる
化合物１モルに対して水および塩基の量は各々２モルの
割合が理論量であるが、必要に応じて過剰量を用いるこ
ともできる。塩基としては、有機塩基、無機塩基共に使
用することができ、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリ
ウム等があげられる。なお、一般式 化１７で示される
カルボニル化合物は、水またはアルコ−ルの存在下に、
水和体またはアセタ−ル誘導体として反応させることも
できる。

【００１０】上記、反応２は、通常溶媒中で行われ、反
応温度の範囲は通常０〜１００℃、反応時間の範囲は、
通常、瞬時〜７２時間である。反応に供される試剤の量
は、前記反応１に用いた一般式 化１６で示される化合
物１モルに対して一般式 化１８で示されるヒドラジン
誘導体は１モルの割合が理論量であるが、必要に応じ
て、一般式 化１６で示される化合物を過剰量用いるこ
ともできる。該ヒドラジン誘導体は、その塩酸塩や硫酸
塩等の塩として用いることもできる。尚、反応１および
反応２に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオ
リド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジ
イソプロピルエ−テル、１，４−ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メ
チル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノ−
ル、エタノ−ル、エチレングリコ−ル、イソプロパノ−
ルなどのアルコ−ル類、水あるいはそれらの混合物など
が挙げられる。反応終了後の反応液は、必要に応じて水
を加えた後、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶
媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば
クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によってさらに精
製することにより、目的物を単離することができる。一
般式 化１８で示されるヒドラジン誘導体は、一般式
化１９

【化１９】Ｑ−ＮＨ₂ [式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。]で示されるアニリ
ン誘導体を酸性条件下、亜硝酸、亜硝酸ナトリウム等で
ジアゾ化した後、塩化第１スズ等により還元することに
より製造することができる。（例えば、オルガニックシ
ンセシスコレクティブボリュウム１、ｐ４４２参照） 一般式 化１９で示されるアニリン誘導体は、例えばヨ
−ロッパ特許出願公開明細書ＥＰ−６１７４１−Ａ、米
国特許明細書ＵＳＰ４，６７０，０４６、ＵＳＰ４，７
７０，６９５、ＵＳＰ４，７０９，０４９、ＵＳＰ４，
６４０，７０７、ＵＳＰ４，７２０，２９７、ＵＳＰ
５，１６９，４３１、特開昭６３−１５６７８７号公報
で公知であるか、または、そこに記載された方法に準じ
て製造することができる。

【００１１】一般式 化１４で示されるヒドラゾン化合
物において、そのＲ³が水素原子である化合物は、下記
スキ−ム 化２０に従って一般式 化１９で示されるア
ニリン誘導体から製造することもできる。

【化２０】 [式中、Ｑは前記と同じ意味を表し、Ｒ²⁸はＣ１−Ｃ６
アルキル基を表す。]各工程の反応は例えば下記の通り
である。 （１）化合物［Ｉ］から化合物［ＩＩ］を製造する工程 化合物［ＩＩ］は、化合物［Ｉ］を酸性条件下、水中で
亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸塩と反応
させて、対応するジアゾニウム塩とした後、該ジアゾニ
ウム塩と一般式 化２１

【化２１】ＣＦ₃Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ₂Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ²⁸ [式中、ＱおよびＲ²⁸は前記と同じ意味を表す。]で示さ
れる化合物とを、酢酸ナトリウム、ピリジン等の塩基の
存在下で反応させることにより製造することができる(T
etrahedron,Vol.35,p2013(1979)参照） （２）化合物〔ＩＩ〕から化合物〔ＩＩＩ〕を製造する
工程 化合物〔ＩＩＩ〕は化合物〔ＩＩ〕を通常、溶媒中塩基
の存在下で加水分解することにより製造することができ
る。反応温度の範囲は通常０〜１００℃であり、反応時
間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。反応に供される
試剤の量は、化合物〔ＩＩ〕１モルに対して、塩基の量
は１モルの割合が理論量であるが、必要に応じて変化さ
せる事ができる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化リチウム１水和物、水酸化バリウ
ム、水酸化カリウム等の無機塩基があげられる。用いら
れる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチル
エ−テル等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、エ
チレングリコ−ル、イソプロパノ−ルなどのアルコ−ル
類、水等あるいはそれらの混合物があげられる。 （３）化合物〔ＩＩＩ〕から化合物〔ＩＶ〕を製造する
工程 化合物〔ＩＶ〕は化合物〔ＩＩＩ〕を溶媒中で加熱し、
脱炭酸することにより製造することができる。該反応の
温度範囲は、通常５０〜２００℃であり、反応時間の範
囲は、通常瞬時〜７２時間である。反応に用いられる溶
媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
−テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭
素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テ
ル等のエ−テル類、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−
メチルモルホリン等の第三級アミン類、ピリジン、ピコ
リン等の含窒素芳香族化合物、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、ギ酸、酢酸、プロピオン酸
等の脂肪酸類、メタノ−ル、エタノ−ル、エチレングリ
コ−ル、イソプロパノ−ルなどのアルコ−ル類、水等あ
るいはそれらの混合物などが挙げられる。本反応は、必
要に応じて銅等の金属を触媒として用いることもでき
る。反応終了後の反応液は、生じた結晶を濾集するか、
又は有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、
必要ならばクロマトグラフィ−、再結晶等の操作によっ
て更に精製することにより、目的物を単離することがで
きる。なお、化合物〔ＩＶ〕において、ＱがＱ−１を表
わし、そのＢがＯＲ¹またはＳＲ¹であり、Ｒ¹がカルボ
キシＣ１−Ｃ６アルキル基を表すヒドラゾン化合物は、
化合物〔ＩＩ〕において、ＢがＯＲ¹またはＳＲ¹であ
り、Ｒ¹が（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−
Ｃ６アルキル基を表す化合物を経由し、これを、加水分
解および脱炭酸することにより製造することもできる。

【００１２】次に、かかる製造法により得られる本発明
化合物を（表１）から(表２２)に、また、本発明反応工
程１で用いられる、一般式 化１４で示されるヒドラゾ
ン化合物および一般式 化１５で示されるマロン酸誘導
体を、それぞれ、（表２３）および（表２４）に例示す
るが、本発明はこれらに限られるものではない。尚、各
表中のｃはシクロ、ｉはイソを意味し、Ｅｔはエチル
基、Ｂｕはブチル基を意味する。 一般式 化２２

【化２２】 で示される化合物。

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【表６】

【表７】

【表８】

【表９】

【表１０】

【表１１】

【表１２】

【表１３】

【表１４】

【表１５】

【表１６】

【表１７】

【表１８】

【表１９】

【表２０】

【００１３】一般式 化２３

【化２３】 で示される化合物

【表２１】

【表２２】

【００１４】一般式 化１４で示されるヒドラゾン化合
物。

【表２３】 一般式 化１５で示されるマロン酸誘導体

【表２４】

【００１５】次に、本発明化合物−１から一般式 化１
０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造する工
程（以下、本発明工程２と称す）について説明する。本
発明工程２は、種々の反応条件下で行うことができ、そ
の中でも代表的な条件として以下の７通りの方法（本発
明工程２−１，２−２，２−３，２−４，２−５，２−
６，２−７）をあげることができる。尚、本発明工程２
で用いられる原料化合物としては、一般に本発明化合物
−１を用いるが、反応条件（たとえば本発明工程２−
３、２−４の条件を用いる場合）によっては、本発明化
合物−２を用いて反応系内で本発明化合物−１を生成さ
せながら反応を行うこともできる。

【００１６】１）本発明工程２−１ 本発明化合物−１は、これを８０〜２５０℃の反応温度
で反応させることにより、一般式 化１０で示されるピ
リダジン−３−オン誘導体を製造することができる。該
反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は通常８０〜２５０℃、好ましくは１２０〜１６０℃で
ある。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。反応
に用いられる溶媒としては、ヘプタン、オクタン、リグ
ロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水
素類、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオ
リド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、
エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブ
チルエ−テル等のエ−テル類、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド等の酸アミド類、プロパノ−ル、ブタノ−
ル、アミルアルコ−ル、エチレングリコ−ル、ジエチレ
ングリコ−ル等のアルコ−ル類あるいはそれらの混合物
などが挙げられる。反応終了後の反応液は、これをその
まま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、こ
れを有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの
後処理操作を行ない、必要ならば再結晶、カラムクロマ
トグラフィ−等の操作によって精製することにより、一
般式 化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を
得ることができる。

【００１７】２）本発明工程２−２ 本発明化合物−１は、これに塩基を作用させることによ
り、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−オン誘
導体を製造することができる。反応に用いられる塩基と
しては、ピリジン、キノリン、イソキノリン、４−ジメ
チルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４
−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、
２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジ
ン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチ
ル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリ
ジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン
誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミ
ン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザ
ビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジア
ザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン
類、等があげられる。好ましい塩基としては、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プ
ロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のトリアルキ
ルアミン類またはピリジン、２−ピコリン、３−ピコリ
ン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジ
ン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ル
チジン、３，５−ルチジン、２−エチル−３−メチルピ
リジン、５−エチル−２−メチルピリジン等のアルキル
基で置換されていてもよいピリジン類があげられる。用
いられる塩基の量は、本発明化合物−１、１モルに対し
て触媒量〜大過剰量であり、好ましくは触媒量〜１０モ
ルである。反応温度の範囲は用いる塩基によって異なる
が通常８０〜２５０℃、好ましくは１２０〜１６０℃で
ある。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。該反
応は、通常溶媒中または無溶媒で行われ、反応に用いら
れる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リ
グロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化
水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化
水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチ
ルエ−テル等のエ−テル類、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等の酸アミド類、エタノ−ル、プロパノ−ル、
ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、エチレングリコ−ル、
ジエチレングリコ−ル等のアルコ−ル類あるいはそれら
の混合物などが挙げられる。反応終了後の反応液は、こ
れをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注
加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなど
の後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムク
ロマトグラフィ−等の操作によって精製することによ
り、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−オン誘
導体を得ることができる。尚、本反応工程においてはモ
レキュラ−シ−ブ等の乾燥剤を用いる等、反応系から水
を除きながら反応を行うこともできる。

【００１８】３）本発明工程２−３ 本発明化合物は、これに酸を作用させることにより、一
般式 化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を
製造することができる。反応に用いられる酸としては、
酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、クロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸、フェニル酢酸、酪酸、イソ酪酸、吉草
酸、イソ吉草酸等の脂肪酸類、安息香酸、４−ニトロ安
息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香
酸、４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸類、
等の有機酸類、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸類、アン
バ−ライトＣＧ−５０、アンバ−ライトＩＲ−１２０等
の酸性型陽イオン交換樹脂等があげられる。用いられる
酸の量は、本発明化合物１モルに対して触媒量〜大過剰
量であり、好ましくは触媒量〜１０モルである。反応温
度の範囲は用いる酸によって異なるが通常５０〜２５０
℃である。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いら
れる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リ
グロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化
水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等
のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、
メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ある
いはそれらの混合物などが挙げられる。反応終了後の反
応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応
液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃
縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結
晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製す
ることにより、一般式 化１０で示されるピリダジン−
３−オン誘導体を得ることができる。なお、酸性型陽イ
オン交換樹脂を用いた場合には、濾過により該イオン交
換樹脂を除いてから上記後処理操作を行う。

【００１９】４）本発明工程２−４ 本発明化合物は、これに酸および塩基を作用させること
により、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−オ
ン誘導体を製造することができる。反応に用いられる酸
としては、酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、トリ
クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、フェニル酢酸、酪酸、
イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸等の脂肪酸類、安息香
酸、４−ニトロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５
−ジニトロ安息香酸、４−メトキシ安息香酸等の安息香
酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸、
塩酸、リン酸等の無機酸類があげられ、反応に用いられ
る塩基としては、ピリジン、キノリン、４−ジメチルア
ミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコ
リン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−
ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，
５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−
メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の
含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、
ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン
等の第２級アミン類、トリエチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ
−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチル
ジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，
５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、
１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第
３級アミン類、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の無機塩基類、アンモニア等があげられ
る。本反応工程では、これらの酸および塩基のいずれの
組み合わせでも反応を行うことができるが、好ましい酸
と塩基の組み合わせとしては酢酸、プロピオン酸、トリ
メチル酢酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸またはフェ
ニル酢酸等の脂肪酸類もしくは安息香酸、４−ニトロ安
息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香
酸または４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類とピリジ
ン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコ
リン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジ
ン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ル
チジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−ク
ロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジンまたは
５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合
物もしくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルア
ミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザ
ビシクロ［４．３．０］ノン−５−エンまたは１，４−
ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミ
ン類の組み合わせがあげられる。用いられる酸の量は、
本発明化合物１モルに対して触媒量〜大過剰量である。
用いられる塩基の量は、本発明化合物１モルに対して触
媒量〜大過剰量である。また、本反応は酸と塩基とから
得られる塩を用いて行うこともできる。該塩の具体例と
しては、上述した好ましい酸と好ましい塩基とから得ら
れる塩、酢酸、プロピオン酸、ピバリン酸(pivalic aci
d)、トリフルオロ酢酸、フェニル酢酸等の脂肪酸のナト
リウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、安息香酸、４
−ニトロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５-ジニ
トロ安息香酸、４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類の
ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、さらに、
ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２
−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３-ル
チジン、２，４-ルチジン、２，５-ルチジン、２，６-
ルチジン、３，４-ルチジン、３，５-ルチジン、３−ク
ロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−
エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物や
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ
−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベン
ジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−
メチルモルホリン等の第３級アミンの塩酸塩や硫酸塩、
塩化アンモニウム、硫酸アンモニウムなどがあげられ
る。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間であり、反応温
度の範囲は用いる酸及び塩基によって変わり得るが、通
常８０〜２５０℃である。該反応は、無溶媒または溶媒
中で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾト
リフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメ
チルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テ
ル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、アミルアルコ
−ル、エチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル等の
アルコ−ル類あるいはそれらの混合物などが挙げられ
る。また、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類を溶媒として用いることもできるが、塩基
として第２級アミンを用いる場合においては、こうした
ケトン類を溶媒として用いることは好ましくない。反応
終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、
または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層
を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要なら
ば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によっ
て精製することにより、一般式 化１０で示されるピリ
ダジン−３−オン誘導体を得ることができる。尚、本反
応においてはモレキュラ−シ−ブ等の乾燥剤を用いる
等、反応系から水を除きながら反応を行うこともでき
る。

【００２０】５）本発明工程２−５ 本発明化合物−１は、これを塩基の存在下、ハロギ酸エ
ステルと反応させることにより、一般式 化１０で示さ
れるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができ
る。反応に用いられるハロギ酸エステルとしては、クロ
ロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸プロピ
ル、ブロモギ酸メチル等があげられる。反応に用いられ
る塩基としては、ピリジン、キノリン、４−ジメチルア
ミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコ
リン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−
ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，
５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−
メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の
含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ
−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベン
ジル−ジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類、等の
有機塩基があげられる。反応に用いられる試剤の量は、
本発明化合物−１、１モルに対して、ハロギ酸エステル
の量は１〜１０モルであり、塩基の量は１〜２０モルで
ある。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。反応
温度の範囲は、通常−２０〜１００℃である。該反応
は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶
媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチル
ベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，
２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハ
ロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチ
ル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、あるいはそれ
らの混合物などが挙げられる。反応終了後の反応液は、
これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に
注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するな
どの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラム
クロマトグラフィ−等の操作によって精製することによ
り、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−オン誘
導体を得ることができる。

【００２１】６）本発明工程２−６ 本発明化合物−１は、これを塩基の存在下、縮合剤と反
応させることにより、一般式 化１０で示されるピリダ
ジン−３−オン誘導体を製造することができる。反応に
用いられる縮合剤としては、１，３−ジシクロヘキシル
カルボジイミド、１−エチル−３−（３’−ジメチルア
ミノプロピル）カルボジイミド、ジエチルリン酸シアニ
ド、無水酢酸、塩化アセチル等があげられる。反応に用
いられる塩基としては、ピリジン、４−ジメチルアミノ
ピリジン等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン
等の第３級アミン類、等の有機塩基があげられる。反応
に用いられる試剤の量は、本発明化合物−１、１モルに
対して、縮合剤の量は１〜１０モルであり、塩基の量は
１〜２０モルである。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時
間であり、反応温度の範囲は、通常−２０〜１５０℃で
ある。該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ト
リクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン
化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ
−ブチルエ−テル等のエ−テル類あるいはそれらの混合
物などが挙げられる。反応終了後の反応液は、これをそ
のまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、
有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処
理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマト
グラフィ−等の操作によって精製することにより、一般
式 化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得
ることができる。

【００２２】７）本発明工程２−７ 本発明化合物−１は、これを塩基の存在下、ハロゲン化
剤と反応させることにより、一般式 化１０で示される
ピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられるハロゲン化剤としては、塩化チオニ
ル、ホスゲン、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リ
ン、オキシ塩化リン等があげられる。反応に用いられる
塩基としては、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリ
ン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ル
チジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５
−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メ
チルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含
窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−
ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジ
ル−ジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−
メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類、等の有
機塩基があげられる。反応に用いられる試剤の量は、本
発明化合物−１、１モルに対して、ハロゲン化剤の量は
１〜１０モルであり、塩基の量は１〜２０モルである。
反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間であり、反応温度の
範囲は、通常−２０〜１５０℃である。該反応は、無溶
媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶媒として
は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシ
チレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベ
ンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４
−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−
ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等の
エ−テル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
さらに、本反応にはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを触
媒量添加して反応することもできる。反応終了後の反応
液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液
を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮
するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、
カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製するこ
とにより、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−
オン誘導体を得ることができる。

【００２３】尚、本発明工程２−２及び本発明工程２−
４を行う場合は、本反応工程１を行った後、本発明化合
物−１を単離することなく、そのまま本発明工程２を行
うこともできる。この場合は、一般式 化１４で示され
るヒドラゾン化合物と一般式 化１５で示されるマロン
酸誘導体とを、本発明工程１−１または１−２に記載の
方法により反応させ本発明化合物−１を生成させた後、 １）引き続き本発明工程２−２に記載の条件により反応
を行うか、 ２）反応液中に本発明工程２−４において例示した酸を
加え、本発明工程２−４に記載の条件により反応を行う
ことにより、一般式 化１０で示されるピリダジン−３
−オン誘導体を得ることができる。尚、本発明工程２に
於いて、その条件によっては、ピリダジン−３−オン環
が生成するとともに、ベンゼン環の置換基が変換された
ピリダジン−３−オン誘導体が得られることもある。例
えば、Ｑが、一般式 化１１において、Ｑ−１であり、
ＢがＯＲ¹であり、Ｒ¹がＣ１−Ｃ６アルキル基である本
発明化合物を用い、本発明工程２−３を行うと、一般式
化１０において、ＱがＱ−１でありＢがＯＨであるピ
リダジン−３−オン誘導体が得られることもある。

【００２４】本発明工程２により製造することができる
化合物の一部を（表２５）に示す。 一般式 化２４

【化２４】 で示される化合物。

【表２５】

【００２５】一般式 化１０で示されるピリダジン−３
−オン誘導体は、優れた除草効力を有し、畑地の茎葉処
理および土壌処理において、次に挙げられる問題となる
種々の雑草に対して除草効力を有する。 タデ科雑草 ソバカズラ(Polygonum convolvulus)、サナエタデ(Pol
ygonum lapathiolium)、アメリカサナエタデ(Polygonu
m pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、
ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rume
x obtusifolius)、イタドリ(Polygonum cuspidatum) スベリヒユ科雑草 スベリヒユ（Portulaca oleracea) ナデシコ科雑草 ハコベ(Stellaria media) アカザ科雑草 シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scopari
a) ヒユ科雑草 アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲ
イトウ(Amaranthus hybridus) アブラナ科雑草 ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum)、ノハ
ラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa
−pastoris) マメ科雑草 アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata)、エビスグ
サ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガ−ウィ−ド(Des
modium tortuosum)、シロツメクサ(Trifoliumrepens) アオイ科雑草 イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(S
ida spinosa) スミレ科雑草 フィ−ルドパンジ−(Viola arvensis)、ワイルドパンジ
−(Viola tricolor) アカネ科雑草 ヤエムグラ(Galium aparine) ヒルガオ科雑草 アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアサガ
オ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomo
ea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ(Ipom
oea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arvens
is) シソ科雑草 ヒメオドリコソウ (Lamium purpureum)、ホトケノザ(La
mium amplexicaule) ナス科雑草 シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、イ
ヌホオズキ(Solanum nigrum) ゴマノハグサ科雑草 オオイヌノフグリ(Veronica persica)、フラサバソウ(V
eronica hederaefolia) キク科雑草 オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Hel
ianthus annuus)、イヌカミツレ (Matricaria perforat
a or inodora)、コ−ンマリ−ゴ−ルド (Chrysanthemum
segetum)、オロシャギク(Matricaria matricarioide
s)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタク
サ(Ambrosia trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron ca
nadensis)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカア
ワダチソウ(Solidago altissima) ムラサキ科雑草 ワスレナグサ(Myosotis arvensis) ガガイモ科雑草 オオトウワタ(Asclepias syriaca) トウダイグサ科雑草 トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソ
ウ(Euphorbia maculata) イネ科雑草 イヌビエ(Echinochloa crus−galli)、エノコログサ(Se
taria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faber
i)、メヒシバ(Digitaria sanguinalis)、オヒシバ(Eleu
sine indica)、スズメノカタビラ(Poa annua)、ブラッ
クグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena
fatua)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シバ
ムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus tect
orum)、ギョウギシバ(Cynodon dactylon)、オオクサキ
ビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Pani
cum texanum)、シャタ−ケ−ン(Sorghum vulgare) ツユクサ科雑草 ツユクサ(Commelina communis) トクサ科雑草 スギナ(Equisetum arvense) カヤツリグサ科雑草 コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rot
undus)、キハマスゲ (Cyperus esculentus) また、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−オン
誘導体は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽
培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草する
ことができる。

【００２６】また、一般式 化１０で示されるピリダジ
ン−３−オン誘導体は、水田の湛水処理において、次に
挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有
する。イネ科雑草 タイヌビエ（Echinochloa oryzicola) ゴマノハグサ科雑草 アゼナ(Lindernia procumbens) ミソハギ科雑草 キカシグサ(Rotala indica)、ヒメミソハギ(Ammannia m
ultiflora) ミゾハコベ科雑草 ミゾハコベ(Elatine triandra) カヤツリグサ科雑草 タマガヤツリ(Cyperus difformis)、ホタルイ(Scirpus
juncoides)、マツバイ(Eleocharis acicularis)、ミズ
ガヤツリ(Cyperus serotinus)、クログワイ (Eleochari
s kuroguwai) ミズアオイ科雑草 コナギ(Monochoria vaginalis) オモダカ科雑草 ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria
trifolia)、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum) ヒルムシロ科雑草 ヒルムシロ(Potamogeton distinctus) セリ科雑草 セリ(Oenanthe javanica) さらに、一般式 化１０で示されるピリダジン−３−オ
ン誘導体は、樹園地、牧草地、芝生地、林業地または水
路、運河あるいはその他の非農耕地に発生する広範囲の
雑草を除草できる。また、一般式 化１０で示されるピ
リダジン−３−オン誘導体は、水路、運河等に発生する
ホテイアオイ(Eichhornia crassipes)等の水生雑草に除
草効力を有する。さらに、一般式 化１０で示されるピ
リダジン−３−オン誘導体は、トウモロコシ(Zea may
s)、コムギ(Triticum aestivum)、オオムギ(Hordeum vu
lgare)、イネ(Oryza sativa)、ソルガム(Sorghum bicol
or)、ダイズ(Glycine max)、ワタ(Gossypium spp.)、テ
ンサイ(Beta vulgaris)、ピ−ナッツ(Arachis hypogae
a)、ヒマワリ(Helianthus annuus)、ナタネ(Brassica n
apus)等の主要作物、花卉・蔬菜等の園芸作物、移植水
稲に対して作物、雑草間の選択性を発揮し得る。

【００２７】一般式 化１０で示されるピリダジン−３
−オン誘導体を除草剤の有効成分として用いるに際して
は、通常、固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製
剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、
濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤して用いる。こ
れらの製剤には、有効成分として一般式 化１０で示さ
れるピリダジン−３−オン誘導体を重量比で 0.001〜８
０％、好ましくは 0.005〜７０％含有する。固体担体と
しては、カオリンクレ−、アタパルジャイトクレ−、ベ
ントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪
藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物
微粉末、尿素等の水溶性有機物微粉末、硫酸アンモニウ
ム等の無機塩微粉末および合成含水酸化珪素の微粉末等
が挙げられ、液体担体としては、メチルナフタレン、フ
ェニルキシリルエタン、キシレン等のアルキルベンゼン
等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレング
リコ−ル、２−エトキシエタノ−ル等のアルコ−ル類、
フタル酸ジアルキルエステル等のエステル類、アセト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、マシ
ン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチル
スルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸
塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホ
コハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−
テルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオ
キシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンア
ルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。その他の製剤
用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸
塩、ポリビニルアルコ−ル、アラビアガム、ＣＭＣ（カ
ルボキシメチルセルロ−ス）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソ
プロピル）等が挙げられる。

【００２８】一般式 化１０で示されるピリダジン−３
−オン誘導体は、通常、製剤化して雑草の出芽前または
出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌
処理としては、土壌表面処理、土壌混和処理等があげら
れ、茎葉処理としては、植物体の上方からの処理のほ
か、作物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処
理等があげられる。一般式 化１０で示されるピリダジ
ン−３−オン誘導体を除草剤の有効成分として用いる場
合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処
理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草等によっても変
わり得るが、１ヘクタ−ル当たり通常0.01ｇ〜10000
ｇ、好ましくは１ｇ〜8000ｇであり、乳剤、水和剤、懸
濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所
定量を１ヘクタ−ル当たり１０リットル〜1000リットル
の（必要ならば展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈
して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈す
ることなくそのまま処理する。ここで、必要に応じて用
いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリ
オキシエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン
酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
塩、クロップオイルコンセントレイト（crop oil conce
ntrate)、大豆油、コ−ン油、綿実油、ヒマワリ油等の
植物油等が挙げられる。

【００２９】

【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。 １）本発明化合物の製造例（本発明工程１） 製造例１−１ 窒素気流下、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプ
ロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒ
ドロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）３．０
８６ｇをピリジン２０ｍｌに溶解した。該溶液にピペリ
ジン１．０７ｍｌとメチルマロン酸２．５６１ｇを加
え、８０℃に加熱し１．５時間攪拌した。反応溶液を室
温まで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テ
ル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２
０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラ
ムクロマトグラフィ−に付し、一般式 化２２で示され
る化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＨ、Ｒ²＝
ＣＨ₃，Ｒ³＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物(本発明化合物１
−２)２．１６４ｇを、下記２種の異性体混合物として
得た。 異性体Ａ¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，acetone−ｄ₆，ＴＭＳ）
δ（ｐｐｍ）：１．３４（３Ｈ，ｄ）、３．２０（１
Ｈ，ｑ）、７．０８（１Ｈ，ｄ）、７．２２（１Ｈ，
ｄ）、７．７２（１Ｈ，ｂｒｓ）、９．６８（１Ｈ，ｂ
ｒｓ） 異性体Ｂ¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，acetone−ｄ₆，ＴＭＳ）
δ（ｐｐｍ）：１．３５（３Ｈ，ｄ）、３．２０（１
Ｈ，ｑ）、７．０８（１Ｈ，ｄ）、７．１９（１Ｈ，
ｄ）、７．５２（１Ｈ，ｂｒｓ）、９．５８（１Ｈ，ｂ
ｒｓ）

【００３０】製造例１−２ 窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロ
パナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒド
ロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）２．００
ｇをトルエン７．０ｇに溶解した。該溶液にトリエチル
アミン１．７ｇとメチルマロン酸１．１ｇを加え、８０
℃に加熱し、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷
した後、析出した結晶を濾別し、トルエン２．０ｍｌで
２回洗浄を行ない、一般式 化２２で示される化合物の
うち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＨ、Ｒ²＝ＣＨ₃、Ｒ³
＝Ｈ、Ｍ＝ＨＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃である化合物（本発明化合
物１−４２４）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ₆，ＴＭＳ）
δ（ｐｐｍ）：１．０−１．４（１２Ｈ，ｍ）、２．６
−３．２（７Ｈ，ｍ）、６．８−７．６（３Ｈ，ｍ）
９．９−１０．３（１Ｈ，ｍ） 製造例１−３ 製造例１−２で得られた、本発明化合物１−４２４に酢
酸エチル１００ｍｌと１０％塩酸５０ｍｌを加え、分液
操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮し、一般式 化２２で示される化合物のうち、Ｘ
＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＨ、Ｒ²＝ＣＨ₃、Ｒ³＝Ｈ、Ｍ
＝Ｈである化合物（本発明化合物１−２）２．６ｇをを
粗生成物として得た。

【００３１】製造例１−４ 窒素気流下、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプ
ロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イ
ソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）
０．５０ｇをピリジン３．０ｍｌに溶解した。該溶液に
ピペリジン０．１６７ｍｌとメチルマロン酸０．１９９
ｇを加え、８０℃に加熱し３．５時間攪拌した。反応溶
液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチ
ルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規
定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残
渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、一般式 化２２
で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣ
Ｈ（ＣＨ₃）₂、Ｒ²＝ＣＨ₃，Ｒ³＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化
合物(本発明化合物１−５)０．４６７ｇを、下記２種の
異性体混合物として得た。 異性体Ａ¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ
（ｐｐｍ）：１．３２（３Ｈ，ｄ）、１．３５（３Ｈ，
ｄ）、１．３７（３Ｈ，ｄ）、３．２６（１Ｈ，ｑ）、
４．４８（１Ｈ，ｍ）、７．０２−７．１０（２Ｈ，
ｍ）、７．２５（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．０４（１Ｈ，ｂ
ｒｓ） 異性体Ｂ¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ
（ｐｐｍ）：１．３５−１．４３（９Ｈ，ｍ）、３．２
２（１Ｈ，ｂｒｑ）、４．４７（１Ｈ，ｍ）、６．９８
（１Ｈ，ｄ）、７．０７（１Ｈ，ｄ）、７．１６（１
Ｈ，ｂｒｓ）、７．９０（１Ｈ，ｂｒｓ） 製造例１−５ ３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシ
フェニルヒドラゾン）（化合物３−３）０．２５ｇをエ
タノ−ル１．０ｇに溶解し、トリエチルアミン０．１５
ｇおよびメチルマロン酸０．１８ｇを加え８０℃で３．
５時間反応することにより、本発明化合物１−５を収率
９５％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標
準法により確認）。

【００３２】製造例１−６ ３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １
−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフ
ェニルヒドラゾン）（化合物３−３）３．０ｇをトルエ
ン １０．０ ｇに溶解した。この溶液にトリエチルアミ
ン １．４ｇとメチルマロン酸１．６ ｇを加え、８０
℃に加熱し３．５時間撹拌した。反応溶液を室温にまで
放冷した後、析出した結晶を濾別し、一般式 化２２で
示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ
（ＣＨ₃）₂、Ｒ²＝ＣＨ₃、Ｒ³＝Ｈ、Ｍ＝ＨＮ（Ｃ
₂Ｈ₅）₃である化合物（本発明化合物１−４２７）２．
８５ｇを得た。¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．１−１．５（１８
Ｈ，ｍ）、２．６−３．２（７Ｈ，ｍ）、４．４−４．
７（１Ｈ，ｍ）、６．１（１Ｈ，ｓ）、６．９−７．２
（３Ｈ，ｍ）、７．７（１Ｈ，ｓ）、１０．９（１Ｈ，
ｓ） 製造例１−７ 窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロ
パナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（１
−メチル−２−プロピニル）オキシフェニルヒドラゾ
ン）(化合物３−５)０．４２５ｇをトルエン３．０ ｍ
ｌに加えた。この溶液にトリエチルアミン０．２６ ｍ
ｌとメチルマロン酸０．１７９ ｇを加え、８０℃で２
時間撹拌した。反応液を室温にまで放冷した後、減圧濃
縮を行い、ジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。こ
の希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回洗浄した。有機
層を、飽和重曹水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、有
機層を除去し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付
し、一般式 化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、
Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ₃）Ｃ≡ＣＨ、Ｒ²＝Ｃ
Ｈ₃、Ｒ³＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物（本発明化合物１−
８）の２種の異性体(１４０ｍｇ+ ５８ｍｇ)を得た。 異性体１(１４０ｍｇの成分)¹ Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz, CDCl₃, TMS ）δ（ｐｐｍ）：
1.35(brd，3H)、1.69(d，3H)、2.54(s，1H)、3.19(br
s，1H)、4.83(brd，1H)、7.07(d，1H)、7.16(brs，1
H)、7.28(m，1H)、7.98(brs，1H) 異性体２(５８ｍｇの成分)¹ Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz, CDCl₃, TMS ）δ（ｐｐｍ）：
1.34(brd，3H)、1.71(m，3H)、2.54(m， 1H)、3.24(br
t，1H)、4.86(brq，1H)、7.07(d ，1H)、7.26(m ，1
H)、7.35(brs，1H)、8.09(brd ，1H)

【００３３】製造例１−８ 窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロ
パナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（エ
トキシカルボニル）メトキシフェニルヒドラゾン）（化
合物３−８）０．４６６ｇをトルエン５．０ｍｌに加え
た。該溶液にトリエチルアミン０．４６ｍｌとメチルマ
ロン酸０．３５６ｇを加え、８０℃に加熱し２時間撹拌
した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮を行
い、ジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈
溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回洗浄した。有機層を飽
和重曹水１００ｍｌで抽出し、水層に、そのｐＨが４に
なるまで、３規定塩酸を加えた。この水層をジエチルエ
−テル１００ｍｌで抽出し、有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮を行うことにより一般式 化２２で
示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ
₂ＣＯＯＣ₂Ｈ₅、Ｒ₂＝ＣＨ₃、Ｒ³＝Ｈ，Ｍ＝Ｈである化
合物(本発明化合物１−１１)0.３３８ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz, CDCl₃, TMS ）δ（ｐｐｍ）：
1.17(t，3H)、1.23(d ，3H)、3.08(q，1H)、4.16(q，2
H)、4.59(s，2H)、6.82(d ，1H)、 6.92(d，1H)、7.13
(s ，1H)、 8.22(s，1H) 製造例１−９ 窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロ
パナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソ
プロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）１．
００ｇをトルエン３ｇに溶解した。該溶液にトリエチル
アミン ０．４ｇとマロン酸０．４ｇを加え、８０℃に
加熱し３．５時間撹拌した。反応溶液を室温にまで放冷
した後、減圧濃縮を行い、残渣を酢酸エチル３０ｍｌで
希釈した。この希釈溶液を１０％塩酸２０ｍｌで１回洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮を行
い、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、一般式
化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ
＝ＯＣＨ（ＣＨ₃）₂、Ｒ²＝Ｈ，Ｒ³＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである
化合物(本発明化合物１−６５)を０．９ｇ得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（２５０ MHz,CDCl₃, TMS ）δ（ｐｐ
ｍ）： 1.３１(ｄ，3H)、 1.3７(d ，3H)、 2.91(d，１
H)、3.14(d，１H)、4.30−4．50(m ，1H)、 6．96(d，1
H)、7.04(s ，1H)、 7.06(d ，1H)、7．57(brs，1H)

【００３４】製造例１−１０ ３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １
−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフ
ェニルヒドラゾン）（化合物３−３）０．６５ｇ、エチ
ルマロン酸０．５３ｇをトリエチルアミン４．０ｍｌに
溶解し、３０分間室温で攪拌したのち、１．５時間加熱
還流した。反応溶液を室温にまで放冷した後、溶媒を減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−に付し一般式 化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝
Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ₃）₂、Ｒ²＝ＣＨ₂ＣＨ
₃、Ｒ³＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物（本発明化合物１−１
５３）を粗生成物として得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ
（ｐｐｍ）：１．０３（３Ｈ，ｔ）、１．３７（６Ｈ，
ｄ）、１．８１（２Ｈ，ｍ）、３．０５（１Ｈ，ｍ）、
４．４８（１Ｈ，ｍ）、６．９８（１Ｈ，ｄ）、７．０
８（１Ｈ，ｄ）、７．１５（１Ｈ，ｓ）７．９０（１
Ｈ，ｂｒｓ）

【００３５】２）本発明化合物からピリダジン−３−オ
ン誘導体の製造例（本発明工程２） 製造例２−１ 本発明化合物（１−２） ０．３１５ｇを窒素気流下、
酢酸１．０ｍｌおよびピリジン１．０ｍｌに溶解し１２
０℃で８時間攪拌した。反応溶液を室温にまで放冷した
後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで
希釈した。該希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽
和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフ
ィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒ
ドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメ
チルピリダジン−３−オン（化合物５−１）０．２２７
ｇを得た。（ｍ．ｐ．１７７．６℃）

【００３６】製造例２−２ 本発明化合物（１−２）０．５０２５ｇをプロピオン酸
２．０ｍｌに溶解し、１３０℃で７．５時間加熱し、２
−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニ
ル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン
−３−オン（化合物５−１）を収率５４．６％（収率
は、ＬＣ−ＥＳ法により算出した。ＬＣ−ＥＳ法；あら
かじめ単離した目的物の一定濃度における液体クロマト
グラフィー分析による検出強度を測定し、次に反応終了
後の反応液を一定濃度に調整した溶液を、同一の条件で
液体クロマトグラフィー分析を行い目的物の検出強度を
測定する。これらの検出強度を比較することにより、反
応液中の目的物の濃度を算出する方法をいう。以下同
じ）で得た。 製造例２−３ 本発明化合物（１−２）２７．８７ｇをクロロベンゼン
５５１．９４ｇに溶解し、５−エチル―２―メチルピリ
ジン４４．１８ｇ、吉草酸１６ｍｌを加え、２４時間加
熱還流下、共沸脱水し２−（２−フルオロ−４−クロロ
−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフ
ルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）収
率７３．７％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。

【００３７】製造例２−４ 本発明化合物（１−２）２０．９４ｇをトルエン２６．
１８ｇに溶解し、５−エチル−２―メチルピリジン １
３．３２ｇ、プロピオン酸８．１６ｇを加え、２２．５
時間加熱還流下、共沸脱水し２−（２−フルオロ−４−
クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−
トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−
１）収率７４．２％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。 製造例２−５ 本発明化合物（１−２）０．１１８２ｇをクロロベンゼ
ン３．０ｇに溶解し、５−エチル−２―メチルピリジン
０．０４９８ｇを加え、２１．５時間加熱還流して２−
（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニ
ル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン
−３−オン（化合物５−１）収率５８．２％（ＬＣ−Ｅ
Ｓ法）を得た。

【００３８】製造例２−６ 本発明化合物（１−２）０．３４６９ｇをクロロベンゼ
ン５．０ｍｌに溶解し、５−エチル−２―メチルピリジ
ン０．３８ｍｌと触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドを加え、さらに３０℃で塩化チオニル０．１４ｍｌを
加え、６０℃で１時間攪拌して２−（２−フルオロ−４
−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５
−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５
−１）収率４５．０％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。 製造例２−７ 本発明化合物（１−５） １．０ｇをキシレン３ｍｌに
溶解し、４時間加熱還流した。反応溶液を室温にまで放
冷した後、減圧下反応溶液を濃縮し、残渣をカラムクロ
マトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロ
ロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−
トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−
２）０．３６ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ
（ｐｐｍ）：１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
２．４３（３Ｈ，ｑ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．４７（１
Ｈ，ｍ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、
７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、８．００（１
Ｈ，ｓ）

【００３９】製造例２−８ 本発明化合物（１−５） ０．４６７ｇを窒素気流下、
酢酸２．０ｍｌに溶解し１２０℃で１１．５時間攪拌し
た。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮し、残
渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈
溶液を飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマ
トグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ
−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−ト
リフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−
２）０．３３４ｇを得た。 製造例２−９ 本発明化合物（１−５） ０．５１２ｇをキシレン２．
０ｇに溶解し、４−ニトロ安息香酸０．２１５ｇを加え
加熱還流下で６時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−
クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−
５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物
５−２）を収率５６％で得た（液体クロマトグラフィ−
を用いた内部標準法により確認）。 製造例２−１０ 本発明化合物（１−５） １５．０ｇをキシレン７５．
０ｇに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．７
２ｇを加え８１℃で１５時間攪拌し、２−（２−フルオ
ロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−
メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン
（化合物５−２）を収率４９％で得た（液体クロマトグ
ラフィ−を用いた内部標準法により確認）。

【００４０】製造例２−１１ 本発明化合物（１−５）５．０ｇをキシレン２５ｇに溶
解し、トリ−ｎ−ブチルアミン２．３ｇを加えモレキュ
ラ−シ−ブ３Ａで脱水しながら１４５〜１６０℃で２６
時間還流させた。反応終了後、反応液を室温まで放冷し
た後、酢酸エチルと１０％塩酸を加え、分液操作に付し
た。有機層を乾燥した後、濃縮して得られた残渣をカラ
ムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４
−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル
−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合
物５−２）３．４ｇを得た。 製造例２−１２ 本発明化合物（１−５）１５．０４ｇをキシレン７５．
１２ｇに溶解し、トリエチルアミン３．８４ｇを加え、
モレキュラ−シブ３Ａを用いて脱水しながら１３２℃で
２１時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５
−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフ
ルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を
収率７１％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内
部標準法により確認）。

【００４１】製造例２−１３ 本発明化合物（１−５） １４．９９ｇをキシレン７
４．９ｇに溶解し、４−ピコリン３．４９ｇを加えディ
−ン−スタ−クトラップを用いて、脱水しながら１３１
−１３７℃で２６時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４
−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル
−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合
物５−２）を収率８５％で得た（液体クロマトグラフィ
−を用いた内部標準法により確認）。 製造例２−１４ 本発明化合物（１−５） ０．２５ｇを室温でキシレン
１．０ｇに溶解し、キノリン０．１４ｇを加え４時間加
熱還流し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソ
プロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロ
メチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率５
５％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準
法により確認）。 製造例２−１５ 本発明化合物（１−５） ０．２５ｇを室温でキシレン
１．０ｇに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン０．０９
ｇを加えた後、４時間加熱還流し、２−（２−フルオロ
−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メ
チル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン
（化合物５−２）を収率６０％で得た（液体クロマトグ
ラフィ−を用いた内部標準法により確認）。 製造例２−１６ 本発明化合物（１−５） １５．０５ｇを酢酸６．０３
ｇおよびピリジン２９．４５ｇに溶解し１２７℃で８時
間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソ
プロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロ
メチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率８
２％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準
法により確認）。

【００４２】製造例２−１７ 本発明化合物（１−５） ５．００ｇをキシレン２５ｇ
に溶解し、プロピオン酸０．９１９ｇおよび４−ピコリ
ン１．１５９ｇを加えモレキュラ−シブ３Ａを用いて脱
水しながら１４２℃で１３．５時間攪拌し、２−（２−
フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）
−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３
−オン（化合物５−２）を収率９０．１％で得た（液体
クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。 製造例２−１８ 本発明化合物（１−５） ５．００１ｇをキシレン２５
ｇに溶解し、４−ニトロ安息香酸２．０８４ｇおよび４
−ピコリン１．１６０ｇを加えモレキュラ−シブ３Ａを
用いて脱水しながら１４８℃で６時間攪拌し、２−（２
−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニ
ル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン
−３−オン（化合物５−２）を収率９３．５％で得た
（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確
認）。 製造例２−１９ 本発明化合物（１−５）６．７７ｇをキシレン５９ｇに
溶解し、５−エチル−２−メチルピリジン２．４５ｇ、
プロピオン酸１．２５ｇおよび炭酸カルシウム０．６８
ｇを混合し、１０時間還流加熱下、共沸脱水した。反応
終了後室温まで冷却し、反応液を５％塩酸２０ｍｌにあ
け酢酸エチルで抽出した。有機層を２０％食塩水２０ｍ
ｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー精製し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソ
プロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロ
メチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）４．９１
ｇ（８０％）得た。 製造法２−２０ 本発明化合物（１−５） ０．５ｇをテトラヒドロフラ
ン１０ｍｌに溶解し、該溶液にトリエチルアミン０．２
５ｇを加え３０℃で１０分間攪拌した。その後、同温度
でクロロぎ酸エチル０．２ｇをテトラヒドロフラン３ｍ
ｌに溶解した溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了
後、反応溶液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有
機層を５％塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−
（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェ
ニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジ
ン−３−オン（化合物５−２）０．１９ｇを得た。

【００４３】製造例２−２１ 本発明化合物（１−４２７） ０．２５ｇをキシレン
２．０ｇに溶解し、９時間加熱還流し、２−（２−フル
オロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４
−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オ
ン（化合物５−２）を収率２０％で得た（液体クロマト
グラフィ−を用いた内部標準法により確認）。 製造例２−２２ 本発明化合物（１−８） 0．１９８ｇにピリジン１ｍ
ｌおよび酢酸１ｍｌを加え、１２０℃で５時間攪拌し
た。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧下に濃縮し、
残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（４−ク
ロロ−２−フルオロ−５−（（１−メチル−２−プロピ
ニル）オキシ）フェニル）−４−メチル−５−トリフル
オロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−４）０．
０８６ｇを得た。 ｍ．ｐ．１１４．１℃ 製造例２−２３ 本発明化合物（１−１１） 0.３２１ｇにピリジン１ｍ
ｌおよび酢酸１ｍｌを加え、１２０℃で５時間攪拌し
た。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧下に濃縮し、
残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−ク
ロロ−４−フルオロ−５−（５−メチル−６−オキソ−
４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロ−１−ピリ
ダジニル）フェノキシ）酢酸エチル（化合物５−６）
０．１８９ｇを得た。 ｍ．ｐ．１０２．０℃

【００４４】製造例２−２４ 本発明化合物（１−１５３）０．４３ｇを酢酸２．０ｍ
ｌ、ピリジン１．０ｍｌの混合物を３時間加熱還流し
た。反応溶液を室温まで放冷した後、酢酸とピリジンを
減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−に付し、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソ
プロポキシフェニル）−４−エチル−５−トリフルオロ
メチルピリダジン−３−オン（化合物５−９）８４ｍｇ
を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ
（ｐｐｍ）：１．２６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、
１．３８（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．８６（ｄ
ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１．３Ｈｚ）、４．４９
（ｑｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，６．２Ｈｚ）、７．０
０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、７．２９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ）、７．９９（ｓ，１Ｈ） 製造例２−２５ 本発明化合物（１−６５）１．０ｇを酢酸４．３５ｇお
よびピリジン２．１７ｇに溶解し１２０℃で８．５時間
攪拌した。室温まで放冷した後、反応液を希塩酸にあけ
酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和重曹水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して粗生成物を得た。こ
の粗生成物をカラムクロマトグラフィ−に付し２−（２
−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニ
ル）−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン
（化合物５−１０）０．４７ｇを得た。ｍ．ｐ．６８．
６℃

【００４５】３）本発明化合物を単離しない方法 製造例３−１ 窒素気流下、室温にて３，３，３−トリフルオロ−２−
オキソプロパナ−ル１−（４−クロロ−２−フルオロ−
５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）
０．２９５ｇをピリジン２．０ｍｌに溶解した。この溶
液にピペリジン０．１１３ｍｌとメチルマロン酸０．２
９５ｇを加え、７０℃に加熱し２．５時間攪拌した後、
酢酸２．０ｍｌを加え、更に１３０℃にて７時間攪拌を
継続した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧濃縮
し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。こ
の希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３
０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過
後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付
し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシ
フェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリ
ダジン−３−オン（化合物５−１）０．１８４ｇを得
た。 製造例３−２ 窒素気流下、室温にて３，３，３−トリフルオロ−２−
オキソプロパナ−ル１−（４−クロロ−２−フルオロ−
５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−
３）０．３９９ｇをピリジン２．４ｍｌに溶解した。該
溶液にピペリジン０．１３３ｍｌとメチルマロン酸０．
１５９ｇを加え、７０℃に加熱し３．５時間攪拌した
後、酢酸２．４ｍｌを加え、更に１３０℃にて８時間攪
拌を継続した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧濃
縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。
この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水
３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過
後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付
し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポ
キシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチル
ピリダジン−３−オン（化合物５−２）０．２５５ｇを
得た。

【００４６】製造例３−３ ３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（カルボキシメ
トキシ）フェニルヒドラゾン）（化合物３−６）０．６
２ｇをピリジン４．６ｍｌに溶解し、その中にメチルマ
ロン酸０．５ｇとピペリジン０．１４ｇを加え、７０℃
で３時間攪拌した。その後、酢酸４．６ｍｌを加え、外
温１３０℃で１０時間攪拌した。反応終了後、反応液を
水に注加し、該溶液をジエチルエ−テルで抽出した。有
機層を水及び希塩酸で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、得られた結晶
を、ヘキサン：ジエチルエ−テル＝３：１の溶媒で再結
晶し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−（カルボ
キシメトキシ）フェニル）−４−メチル−５−トリフル
オロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１１）
０．３４ｇを得た。 製造例３−４ ３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル
１−（４−クロロフェニルヒドラゾン）（化合物３−１
１）０．２５ｇをピリジン２ｍｌに溶解し、該溶液中に
メチルマロン酸０．２４ｇとピペリジン０．０９ｇを加
え、８０℃で４時間攪拌した。その後、該反応液に酢酸
２．０ｍｌを加え、８０℃で６．５時間さらに１２０℃
で４時間攪拌した。反応終了後、反応液を水に注加し、
これをジエチルエ−テルで抽出した。有機層を水及び希
塩酸で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジ
エチルエ−テルを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−に付し、２−（４−クロロフェニル）−
４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−
オン（化合物５−１２）０．１５ｇを得た。ｍ．ｐ．８
０．８℃

【００４７】次に、本発明工程１で用いる原料化合物の
合成法につき、参考例で説明する。 参考例１ 酢酸ナトリウム５．３ｇ（53.5mmol）と水約１００ｍｌ
を混合した溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，
３，３−トリフルオロアセトン６．６ ｇ（24.3mmol）
を加え、７０℃で２０分間反応させた。次に反応液を室
温まで放冷した後、これに２−フルオロ−４−クロロ−
５−イソプロポキシフェニルヒドラジン５．８ｇ（21.5
mmol）をジエチルエ−テル約２０ｍｌに溶解した溶液を
加え、室温で１時間攪拌した。有機層を分離し、これを
飽和食塩水１０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、３，３，３−
トリフルオロ−２−オキソ−プロパナ−ル １−（４−
クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒ
ドラゾン）（化合物３−３）６．５ｇ（20.0mmol）を得
た。¹ Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ₃、TMS，δ(ppm)]1.39
(6H, d, J=6.0Hz)、4.38−4.52(1H, m)、7.15(1H, d, J
=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H, q,J=1.7H
z)、9.18(1H, brs) 参考例２ ５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノ−ル（該
化合物はヨ−ロッパ特許出願公開明細書ＥＰ−６１７４
１−Ａに記載の方法に準じて製造した）32.3ｇを濃塩酸
１５０ｍｌと混合し、５０℃で３０分間攪拌した。該混
合液に、亜硝酸ナトリウム１５ｇを水４０ｍｌに溶解し
た溶液を、０℃で１０分かけて滴下した。０℃で１時間
攪拌した後、反応液を−５０℃に冷却し、塩化第１スズ
１３２ｇを濃塩酸１３２ｇに溶解した溶液を−５０℃で
すばやく滴下し、徐々に室温に戻し、１時間攪拌した。
生じた固体を濾集し、減圧下８０℃で乾燥し、２−フル
オロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン
塩酸塩の粗結晶７５ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ[ＤＭＳＯ−ｄ₆，TMS,δ(ppm)] 3〜5(2H,ｂ
ｒ)、6.73(1H, d) 、7.22(1H, d) 、8.20(1H, s) 、9
〜11(2H, brs) 酢酸ナトリウム４９．２ｇおよび１，１−ジブロモ−
３，３，３−トリフルオロアセトン40.5ｇを水400 ｍｌ
に溶解し、８０〜９０℃で４０分間加熱した。該溶液を
０℃に冷却し、上述の方法で得られた２−フルオロ−４
−クロロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラジン塩酸塩の
粗結晶７５ｇを加えた。反応液を室温で７０分間攪拌
し、生じた結晶をロ集し、減圧乾燥して、３，３，３−
トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−ク
ロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾ
ン）（化合物３−１）３５．４ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ[ 300MHz、ＣＤＣｌ₃、TMS δ(ppm)] 5.49
(s, 1H)、7.15(d, J=10.5Hz, 1H) 、7.24(d, J=7.4Hz,
1H)、7.38(q, J=1.8Hz, 1H)、8.75(s, 1H)

【００４８】参考例３ 下記、スキ−ム化２５に基づく製法

【化２５】 ４，４，４−トリフルオロアセト酢酸エチル２０．１ｇ
と酢酸ナトリウム２５ｇを水１５０ｍｌに溶解させた溶
液に、化合物［Ｉ−１］から誘導されるジアゾニウム塩
酸溶液（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキ
シアニリン２０．３ｇ、濃塩酸２０ｍｌ、水２０ｍｌお
よび亜硝酸ナトリウム７．３ｇから調製）を１０℃以下
の温度で滴下した。滴下終了後、１時間室温で攪拌した
後、生じた結晶を濾集し、水で洗浄した後、乾燥し、ス
キ−ム化１６中の化合物［ＩＩ−１］３４ｇを結晶とし
て得た。（収率８５％） １，４−ジオキサン３０ｍｌと水３ｍｌ中に上記反応で
得られた化合物［ＩＩ−１］１５．９ｇと水酸化リチウ
ム１水和物１．７ｇを加え、６時間加熱還流した。反応
液を氷水に注加し、希塩酸で中和した後、酢酸エチルで
抽出し、有機層を乾燥した後、濃縮した。残渣をヘキサ
ンで洗浄し、化合物［ＩＩＩ−１］１１．３ｇを得た。
（収率７６．３％） 上記反応で得られた化合物［ＩＩＩ−１］７．４ｇを
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４２ｍｌに溶解し、１０
０℃に反応液を昇温し、そのまま３０分間保温した。そ
の後室温まで冷却し、反応液を水に注加し、酢酸エチル
で抽出した。有機層を希塩酸水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濃縮して、（化合物３−３：スキー
ム化２５における化合物［ＩＶ−１］）５．９ｇを得
た。（収率９０％）¹ Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ₃、TMS 、δ(ppm)] 1.3
9(6H, d, J=6.0Hz) 、4.38〜4.52(1H, m) 、7.15(1H,
d, J=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H,q, J=
1.7Hz)、9.18(1H, br)

【００４９】参考例４ 下記スキ−ム 化２６に基づく製法

【化２６】 参考例３の方法に準じて、化合物［Ｉ−２］から化合物
［ＩＩ−２］を製造した。 （反応１）１，４−ジオキサン３０ｍｌと水２ｍｌとの
混合液に化合物［ＩＩ−２］５．０ｇと水酸化リチウム
１水和物０．６７ｇを加え、１．５時間加熱還流した。
反応液を氷水に注加し、希塩酸で中和した後、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を乾燥した後、濃縮した。得られ
た結晶をヘキサン−ジエチルエ−テル混合溶媒（ヘキサ
ン：ジエチルエ−テル＝２：１）で洗浄して化合物［Ｉ
ＩＩ−２］３．３ｇを得た。（収率７３％） （反応２） 上記（反応１）に準じて得られた化合物
［ＩＩＩ−２］３．３ｇをジメチルスルホキシド１０ｍ
ｌに溶解させ、反応液を１００℃に昇温し、そのまま１
０分間保温した。その後室温まで冷却し、反応液をその
ままシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）に付し、化合物［ＩＶ
−２］２．５５ｇを得た。（収率９１％） （反応３）トルエン４０ｍｌ中に、上記（反応１）に準
じて得られた化合物［ＩＩＩ−２］５．０ｇ、キノリン
０．５ｍｌおよび銅粉０．１ｇを加えた反応溶液を１０
０℃に昇温し、そのまま２０分間保温した。反応液を室
温まで冷却し、そのままシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）に
付し、（化合物３−１１：スキーム化２６における化合
物［ＩＶ−２］）３．６ｇを得た。（収率８６％）

【００５０】参考例５ 下記スキ−ム 化２７に基づく製法

【化２７】 ５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ酢酸
エチル２４．７ｇを水４０mlに懸濁させて室温で濃塩酸
４０mlを滴下し、３０分間攪拌した。この溶液を０℃ま
で冷却し、亜硝酸ナトリウム７．６ｇを水２０mlに溶解
させた溶液を５℃以下で滴下した後、さらに1時間攪拌
した。上記操作で得られたジアゾニウム溶液を、４，
４，４−トリフルオロアセト酢酸エチル２１ｇ、酢酸ナ
トリウム５２ｇ、水105 ｍｌからなる水溶液へ、１０℃
以下で滴下し、３０分間攪拌した。その後、析出した結
晶をロ取し、その結晶を酢酸エチルに溶解させ、溶媒を
硫酸マグネシウムで乾燥させた後減圧濃縮し、得られた
残査をシリカゲルクロマトグラフィ−に付し、化合物
［ＩＩ−３］１９．５ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ₃、TMS 、δ(ppm)] 1.3
1(3H, t, J=7.16Hz)、1.42(3H, t,J=7.1Hz) 、4.27(2H,
q, J=7.16Hz) 、4.43(2H, q, J=7.12Hz) 、4.72(2H,
s) 、7.18(1H, d, J=6.73Hz) 、7.27(1H, d, J=10.0Hz) 上記反応で得られた化合物［ＩＩ−３］４．４ｇを１，
４−ジオキサン２０ｍｌに溶解し、水酸化リチウム１水
和物１．２６ｇを加えて３時間還流した。反応終了後、
反応液を水にあけ、酢酸エチルで水層を洗浄した。水層
に希塩酸を加えて酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、
有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶
媒を減圧濃縮して、化合物［ＩＩＩ−３］２．９２ｇを
得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ₃、TMS 、δ(ppm)]4.78
(2H, s) 、7.25(1H, d,J=6.42Hz) 、7.35(1H, d, J=9.8
2Hz) 上記反応で得られた化合物［ＩＩＩ−３］２．５ｇをピ
リジン１０ｍｌに溶解し、１００℃で１時間攪拌した。
反応終了後、反応液を水にあけ、ジエチルエ−テルで抽
出し、有機層を希塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥させ、溶媒を減圧濃縮し、（化合物３−６：スキーム
化２７における化合物［ＩＶ−３］）で示される、３，
３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル１−
［４−クロロ−２−フルオロ−５−（カルボキシメトキ
シ）フェニルヒドラゾン］１．８１ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ₃、TMS 、δ(ppm)]4.77
(2H, s) 、7.25(1H, d,J=10.1Hz) 、7.30(1H, d, J=6.7
5Hz) 、7.44(1H, s)

【００５１】参考例６ 酢酸ナトリウム１．２４９ｇと水１０ｍｌを混合した溶
液に、１，１−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロア
セトン１．３６６ｇを加え、８０℃で３０分攪拌した。
この反応溶液を室温まで放冷した後、４−クロロ−２−
フルオロ−５−（エトキシカルボニル）メトキシフェニ
ルヒドラジン１．００ｇをジエチルエ−テル１０ｍｌに
溶解した溶液を加え、室温で２時間攪拌した。その後、
反応液を酢酸エチル１００ｍｌで抽出し、有機層を、飽
和重曹水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄後、
無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥、濃縮して粗生成物
を得た。この粗生成物をトルエンから再結晶して３,３,
３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４
−クロロ−２−フルオロ−５−（エトキシカルボニル）
メトキシフェニルフェニルヒドラゾン）（化合物３−
８）１．１５１ｇを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（250 MHz,ＣＤＣｌ₃, TMS ）δ（ｐｐ
ｍ）：1.32(t，3H)、4.29(q，2H)、4.71(s，2H)、7.06
(d ，1H)、7.20(d ，1H)、7.36(m ，1H)、8.77(brs，1
H) 参考例７ 酢酸ナトリウム２．８７０ｇと水２０ｍｌを混合した溶
液に、１，１−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロア
セトン３．１３９ｇを加え、８０℃で３０分攪拌した。
この反応溶液を室温まで放冷した後、４−クロロ−２−
フルオロ−５−（１−メチル−２−プロピニル）オキシ
フェニルヒドラジン２．０００ｇをジエチルエ−テル１
０ｍｌに溶解した溶液を加え、室温で２時間攪拌した。
反応終了後、反応液を酢酸エチル１００ｍｌで抽出し、
有機層を飽和重曹水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌ
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥、濃
縮して粗生成物を得た。この粗生成物をトルエンを用い
て再結晶を行ない、３,３,３−トリフルオロ−２−オキ
ソプロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５
−（１−メチル−２−プロピニル）オキシフェニルフェ
ニルヒドラゾン）（化合物３−５）２．１２０ｇを得
た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz,ＣＤＣｌ₃, TMS ）δ（ｐｐ
ｍ）：1.74(d，3H)、2.55(d，1H)、4.83(m， 1H)、7.17
(d，1H)、7.39(m，1H)、7.53(d，1H)、8.91(brs，1H) 参考例８ 酢酸ナトリウム５．３ｇと水１００ｍｌを混合した溶液
に、氷冷下、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフル
オロアセトン４．４ ｇを加え、９０℃で３０分間反応
させた。次に反応液を室温まで放冷した後、これに２−
フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニルヒ
ドラジン５．８ｇをジエチルエ−テル２０ｍｌに溶解し
た溶液を加え、室温で１時間攪拌した。有機層を分離
し、これを飽和食塩水１０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、
３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル
１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシ
フェニルヒドラゾン）６．５ｇ(化合物３−３)を得た。

【００５２】参考例９ ５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ酢酸
エチル９．３４０ｇを３６％塩酸３０ｍｌに注加し、２
８℃で１時間撹拌した。この懸濁溶液に０℃で亜硝酸ナ
トリウム２．６４２ｇを水８ｍｌに溶解した溶液を１０
分かけて滴下し、さらに０℃で１時間攪拌してジアゾニ
ウム塩溶液を調製した。塩化スズ（ＩＩ）２５．０３４
ｇの３６％塩酸２５ｍｌ溶液を０℃に冷却し激しく撹拌
している中に調製したジアゾニウム塩溶液を滴下し、さ
らに０℃〜室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応液
に３０％水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ７に中和し
た後、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮することにより２−クロロ−４−
フルオロ−５−ヒドラジノ−フェノキシ酢酸エチル１．
８４０ｇを得た。

【００５３】次に製剤例を示す。なお、化合物は前記
（表２５）に記載の化合物番号で示す。部は重量部であ
る。 製剤例１ 化合物５−１〜５−９の各々５０部、リグニンスルホン
酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および
合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して各々の水和
剤を得る。 製剤例２ 化合物５−１〜５−９の各々１０部、ポリオキシエチレ
ンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム６部、キシレン３５部およびシク
ロヘキサノン３５部をよく混合して各々の乳剤を得る。 製剤例３ 化合物５−１〜５−９の各々２部、合成含水酸化珪素２
部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト
３０部およびカオリンクレ−６４部をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して各々の粒
剤を得る。 製剤例４ 化合物５−１〜５−９の各々２５部、ポリビニルアルコ
−ル１０％水溶液５０部および水２５部を混合し、平均
粒径が５マイクロメ−トル以下になるまで湿式粉砕して
各々の懸濁剤を得る。

【００５４】次に、一般式 化１０で示されるピリダジ
ン−３−オン誘導体が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。除草効力および薬害の評価は、
調査時の供試植物（雑草および作物）の出芽または生育
の状態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違
いがないものを「０」とし、供試植物が完全枯死または
出芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「５」
として、０〜５の６段階に区分し、０、１、２、３、
４、５で示す。除草効力の評価「４」および「５」は優
れた除草効力を意味し、評価「３」以下は不十分な除草
効力を意味する。

【００５５】試験例１ 畑地茎葉処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種
し、温室内で１９日間育成した。その後、製剤例２に準
じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ル
あたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈
し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理
した。処理後、１９日間温室内で育成し、除草効力を調
査した。その結果を（表２６）に示す。

【表２６】

【００５６】試験例２ 畑地土壌表面処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種し
た。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定
量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の水で希
釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に処理した。処理
後、１９日温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を（表２７）に示す。

【表２７】

【００５７】試験例３ 水田湛水処理試験 直径９cm、深さ１１cmの円筒型プラスチックポットに土
壌を詰め、タイヌビエを播種した。湛水して水田状態に
した後、温室内で育成した。７日後に製剤例２に準じて
供試化合物を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、１ヘ
クタ−ルあたり５０リットルを水面に処理した。処理後
１９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を（表２８）に示す。

【表２８】

【発明の効果】本発明により、一般式 化１０で示され
るピリダジン−３−オン誘導体を簡便に製造することが
できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 237/14 Ｃ０７Ｄ 237/14

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 [式中、Ｒ²は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表
   し、Ｒ³は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表
   し、Ｑは置換されていてもよいフェニル基を表す。]で示
   されるカルボン酸誘導体またはその塩。
2. 【請求項２】前記一般式 化１において、Ｑが一般式
   化２ 【化２】 ［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは
   ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロ
   メチル基を表し、Ｚ¹およびＺ²はそれぞれ酸素原子また
   は硫黄原子を表し、ｎは０または１を表し、Ｒ⁴は水素
   原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−
   Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、（Ｃ３−
   Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ
   ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−
   Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シア
   ノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ
   １−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１
   −Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、カルボキシ
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カル
   ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキ
   シ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アル
   キル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ
   １−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ₂ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、
   −ＣＨ₂ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４
   アルキル）ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４
   アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基（ここで、Ｒ¹²およ
   びＲ¹³はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキ
   ル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロア
   ルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキ
   ニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４ア
   ルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキ
   ルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６
   アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１
   −Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カ
   ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキ
   ル）カルボニルオキシＣ２−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
   Ｃ６アルキル）カルボニルアミノＣ２−Ｃ６アルキル
   基、ヒドロキシＣ２−Ｃ６アルキル基、置換されていて
   もよいベンジル基、置換されていてもよいフェニル基ま
   たは｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝
   カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを表すか、あるいは、Ｒ
   ¹²とＲ ¹³とでトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメ
   チレン、エチレンオキシエチレンまたはエチレンチオエ
   チレンを表す。）、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−
   Ｃ４アルキル基またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基
   を表し、Ｒ⁶はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロ
   アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシＣ
   １−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−
   Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ
   ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ア
   ルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
   １−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６ア
   ルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基
   を表し、Ｒ⁷は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を
   表し、Ｒ⁸はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロア
   ルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
   Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３
   アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アル
   キル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１
   −Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボ
   ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、カルボキシ基、カルボキシ
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カル
   ボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル
   基、（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルコキシ）カルボニル基、
   （Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３
   −Ｃ８アルキニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６
   アルキル）アミノカルボニル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキ
   ル）アミノカルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミ
   ノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基またはジ（Ｃ
   １−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６
   アルキル基を表し、Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、ニ
   トロ基、シアノ基、クロロスルホニル基、ＯＲ¹基、Ｓ
   Ｒ¹基、ＳＯ₂ＯＲ²¹基、ＣＯＯＲ²²基、ＣＲ²³＝ＣＲ²⁴
   ＣＯＯＲ²⁵基またはＣＨ₂ＣＨＷＣＯＯＲ²⁵基を表わ
   す。{ここでＷは水素原子、塩素原子、または、臭素原
   子を表し、Ｒ¹は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ
   １−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル
   基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６
   ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ
   ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、
   （Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ
   １−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボ
   キシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）
   カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロア
   ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１
   −Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニル
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキ
   シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シ
   クロアルキル）（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ
   １−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ₂ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ
   ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ¹²）
   Ｒ¹³基、−ＣＨ₂ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基、−ＣＨ（Ｃ１
   −Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ¹²）Ｒ¹³基（ここで、Ｒ¹²
   とＲ¹³は前記と同じ意味を表す。）、（Ｃ２−Ｃ６アル
   ケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
   ３−Ｃ６ハロアルケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６
   アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６アルキニル）オキシカルボニ
   ルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニ
   ル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−
   Ｃ６アルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
   （Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６
   アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６アルケニルチオ）カルボニル
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルチ
   オ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ア
   ルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
   ３−Ｃ６ハロアルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６ア
   ルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルチオ）カルボニ
   ルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロハロアル
   キルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（（Ｃ３
   −Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）カル
   ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキ
   ル）Ｃ＝ＮＯカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（置換
   されていてもよいベンジルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６
   アルキル基、（置換されていてもよいフェニルチオ）カ
   ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ（Ｃ２−Ｃ
   ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
   １−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシ（Ｃ２−Ｃ６アル
   コキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ
   ６アルキル）カルボニルアミノ（Ｃ２−Ｃ６アルコキ
   シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ６
   アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカ
   ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６
   アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１
   −Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロ
   アルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ
   カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ
   ６アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジ
   ルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されて
   いてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
   基、置換されていてもよいフリルオキシカルボニルＣ１
   −Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフリル（Ｃ１
   −Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
   基、置換されていてもよいチエニルオキシカルボニルＣ
   １−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいチエニル
   （Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
   ルキル基、置換されていてもよいピロリルオキシカルボ
   ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピロ
   リルオキシ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ
   １−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイミダゾイ
   ルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されて
   いてもよいイミダゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシ
   カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよ
   いピラゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
   置換されていてもよいピラゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキ
   ル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換され
   ていてもよいチアゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
   ルキル基、置換されていてもよいチアゾイル（Ｃ１−Ｃ
   ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
   置換されていてもよいオキサゾイルオキシカルボニルＣ
   １−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいオキサゾイ
   ル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６
   アルキル基、置換されていてもよいイソチアゾイルオキ
   シカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていても
   よいイソチアゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカル
   ボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイ
   ソキサゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
   置換されていてもよいイソキサゾイル（Ｃ１−Ｃ６アル
   キル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換さ
   れていてもよいピリジルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６ア
   ルキル基、置換されていてもよいピリジル（Ｃ１−Ｃ６
   アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置
   換されていてもよいピラジニルオキシカルボニルＣ１−
   Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピラジニル（Ｃ
   １−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
   ル基、置換されていてもよいピリミジニルオキシカルボ
   ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリ
   ミジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１
   −Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリダジニル
   オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されてい
   てもよいピリダジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカ
   ルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよい
   インドリジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
   基、置換されていてもよいインドリジニル（Ｃ１−Ｃ６
   アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置
   換されていてもよいインドリルオキシカルボニルＣ１−
   Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインドリル（Ｃ
   １−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
   ル基、置換されていてもよいインダゾリルオキシカルボ
   ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイン
   ダゾリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１
   −Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいキノリルオキ
   シカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていても
   よいキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニル
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイソキノ
   リルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、または置
   換されていてもよいイソキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキ
   ル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表すか、
   一般式 化３ 【化３】 {式中、Ｒ¹⁴はＣ１−Ｃ５アルキル基を表し、Ｒ¹⁵は水
   素原子、ヒドロキシル基または−Ｏ−ＣＯＲ¹⁶で表され
   る基（Ｒ¹⁶は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロ
   アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ８シク
   ロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換
   されていてもよいベンジル基、またはＣ１−Ｃ６アルコ
   キシ基を表す。）を表す。}で示される基を表すか、あ
   るいは、一般式 化４ 【化４】 〈式中、Ｒ¹⁷は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ
   ６アルキル基を表し、Ｒ¹⁸はＣ３−Ｃ８シクロアルキル
   基、ベンジル基、炭素鎖にエポキシ基を有するＣ２−Ｃ
   １０アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−
   Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ２−
   Ｃ６アルケニル基、同一の炭素原子がＯＲ¹⁹およびＯＲ
   ²⁰で置換されたＣ１−Ｃ６アルキル基、同一の炭素原子
   がＯＲ¹⁹およびＯＲ²⁰で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニ
   ル基、同一の炭素原子がＳＲ¹⁹およびＳＲ²⁰で置換され
   たＣ１−Ｃ６アルキル基、同一の炭素原子がＳＲ¹⁹およ
   びＳＲ²⁰で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニル基（ここで
   Ｒ¹⁹とＲ²⁰はそれぞれ独立してＣ１−Ｃ６アルキル基、
   Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基を表すか、Ｒ¹⁹とＲ²⁰とで、
   ハロゲン原子で置換されていてもよいエチレン、ハロゲ
   ン原子で置換されていてもよいトリメチレン、ハロゲン
   原子で置換されていてもよいテトラメチレン、ハロゲン
   原子で置換されていてもよいペンタメチレンまたはハロ
   ゲン原子で置換されていてもよいエチレンオキシエチレ
   ンを表す。）、カルボキシＣ２−Ｃ６アルケニル基、
   （Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケ
   ニル基、（Ｃ１−Ｃ８ハロアルコキシ）カルボニルＣ２
   −Ｃ６アルケニル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１
   −Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル
   基、または、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニ
   ルＣ２−Ｃ６アルケニル基を表す。〉で示される基を表
   し、Ｒ²¹はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアル
   キル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アル
   ケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ア
   ルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基またはベンジ
   ル基を表し、Ｒ²²は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、
   Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル
   基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６
   ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ
   ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、
   （Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ
   １−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボ
   キシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）
   カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロア
   ルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１
   −Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニル
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキ
   シ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ア
   ルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ
   ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
   {（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル}カルボ
   ニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキ
   ル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ₂ＣＯＯ
   Ｎ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯ
   ＯＮ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基、−ＣＨ₂ＣＯＮ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基、
   −ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ²⁶）Ｒ²⁷基
   （ここで、Ｒ²⁶とＲ²⁷はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ
   １−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３
   −Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノ
   Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１
   −Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−
   Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、
   （Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
   ル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１
   −Ｃ６アルキル基または、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）
   Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを
   表すか、あるいは、Ｒ²⁶とＲ²⁷とでテトラメチレン、ペ
   ンタメチレン、またはエチレンオキシエチレンを表
   す。）、{（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−
   Ｃ６アルキル}オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル
   基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ
   ²³およびＲ²⁴は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲ
   ン原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ²⁵は水素
   原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル
   基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基またはＣ３−Ｃ６アル
   ケニル基を表す。}]で示されるＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−
   ３、Ｑ−４またはＱ−５である請求項１記載のカルボン
   酸誘導体またはその塩。
3. 【請求項３】請求項２記載のカルボン酸誘導体またはそ
   の塩において、ＱがＱ−１であるカルボン酸誘導体また
   はその塩。
4. 【請求項４】請求項３記載のカルボン酸誘導体またはそ
   の塩において、Ｂが水素原子、ＯＲ¹基またはＳＲ¹基
   （Ｒ¹は請求項２と同じ意味を表す。）であるカルボン
   酸誘導体またはその塩。
5. 【請求項５】請求項３記載のカルボン酸誘導体またはそ
   の塩において、Ｙがハロゲン原子であり、Ｂが水素原
   子、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、ＯＲ¹基また
   はＳＲ¹基であり、ここで、そのＲ¹が水素原子、Ｃ１−
   Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ
   ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニ
   ル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキ
   ニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ
   ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４ア
   ルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アル
   キル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ
   ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ
   １−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキ
   ル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキ
   シ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シ
   クロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ
   １−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアル
   コキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカル
   ボニル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基、
   ベンジルオキシカルボニル基またはＣ１−Ｃ６アルキル
   カルボニル基であるカルボン酸誘導体またはその塩。
6. 【請求項６】請求項３記載のカルボン酸誘導体またはそ
   の塩において、ここで、そのＹがハロゲン原子であり、
   そのＢがＯＲ¹基またはＳＲ¹基であり、ここで、そのＲ
   ¹が水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アル
   ケニル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−
   Ｃ６アルキル基またはカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基
   であるカルボン酸誘導体またはその塩。
7. 【請求項７】請求項５に記載のカルボン酸誘導体または
   その塩において、ＢがＯＲ¹であるカルボン酸誘導体ま
   たはその塩。
8. 【請求項８】請求項６に記載のカルボン酸誘導体または
   その塩において、ＢがＯＲ¹であるカルボン酸誘導体ま
   たはその塩。
9. 【請求項９】請求項１、２、３、４、５、６、７または
   ８記載のカルボン酸誘導体。
10. 【請求項１０】塩がアルカリ金属塩、アルカリ土類金属
    塩またはアミン塩である請求項１、２、３、４、５、
    ６、７または８記載のカルボン酸誘導体の塩。
11. 【請求項１１】一般式 化５ 【化５】 [式中、ＱおよびＲ³は請求項１と同じ意味を表す。]で
    示されるヒドラゾン化合物と一般式 化６ 【化６】Ｒ²ＣＨ（ＣＯＯＨ）₂ [式中、Ｒ²は請求項１と同じ意味を表す。]で示される
    マロン酸誘導体を塩基の存在下に反応させることを特徴
    とする、一般式 化１で示される化合物の製造法。
12. 【請求項１２】塩基がトリアルキルアミンである請求項
    １１記載の方法。
13. 【請求項１３】一般式 化１で示される化合物を８０〜
    ２５０℃の反応温度で反応させることを特徴とする一般
    式 化７ 【化７】 [式中、Ｑ、Ｒ²およびＲ³は請求項１と同じ意味を表
    す。]で示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造
    法。
14. 【請求項１４】一般式 化１で示される化合物に、塩基
    を作用させることを特徴とする一般式化７で示されるピ
    リダジン−３−オン誘導体の製造法。
15. 【請求項１５】一般式 化１で示される化合物に、酸を
    作用させることを特徴とする一般式 化７で示されるピ
    リダジン−３−オン誘導体の製造法。
16. 【請求項１６】一般式 化１で示される化合物に、酸お
    よび塩基を作用させることを特徴とする一般式 化７で
    示されるピリダジン−３−オン誘導体の製造法。
17. 【請求項１７】一般式 化１で示される化合物を、塩基
    の存在下、ハロギ酸アルキルエステルと反応させること
    を特徴とする一般式 化７で示されるピリダジン−３−
    オン誘導体の製造法。