JPH1151610A - 変位センサ及びその目標造作を作成するための方法 - Google Patents

変位センサ及びその目標造作を作成するための方法

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JPH1151610A
JPH1151610A JP10160511A JP16051198A JPH1151610A JP H1151610 A JPH1151610 A JP H1151610A JP 10160511 A JP10160511 A JP 10160511A JP 16051198 A JP16051198 A JP 16051198A JP H1151610 A JPH1151610 A JP H1151610A
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signal
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Michael Hercher
マイケル・ヘーシェル
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 単純かつ精確な光学式変位センサ用の目標造
作を形成する方法を提供すること。 【解決手段】 入射光ヒ゛ームを生成する固定光源を備えた
可動物体の変位を測定するための装置。目標造作が、物
体に取り付けられ、入射光ヒ゛ームを反射し、該目標造作に
近接して光源の第1のイメーシ゛を形成する。イメーシ゛ンク゛レンス゛
が、第1のイメーシ゛を受容し、該第1のイメーシ゛を光源の第2のイ
メーシ゛として光検出器上に再形成する。光検出器は、物体
から隔置され、第2のイメーシ゛を受容し、光検出器上におけ
る第2のイメーシ゛の受容位置に比例すると共に物体の位置を
表す特性(振幅等)を有する電気信号を生成する。目標造
作は、光源の小さな点状又は線状のイメーシ゛が形成されて
光検出器上に第2のイメーシ゛として再集束されるよう光ヒ゛ーム
を反射する曲面を有している。該変位センサ装置はテ゛ィスクト゛
ライフ゛のサーホ゛システムの用とで特に有用なものとなる。目標造
作は、物体の表面に溝を刻むことにより形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は一般に、可動物体の
微小変位を精確に測定する光学装置に関し、特に、該光
学装置で用いられる目標造作を形成するための方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】多くの用途において、所望の位置に対す
る可動物体の位置を監視することが大いに必要とされて
いる。例えば、ディスクドライブのサーボシステムで
は、所望の既知の位置に対する回転式読み出し/書き込
みヘッドアームの位置を精確に検出し、これにより、ヘ
ッドアームを移動させてディスク上の所望の半径方向の
トラック位置と位置合わせし、かかるトラックに対し読
み出し/書き込みヘッドが読み出し又は書き込みを行う
ことができるようにするのが望ましい。位置検知装置
は、かかる位置検出を可能にすることを目的とした装置
である。変位センサは、所望の位置からの可動物体の変
位を繰り返し測定することにより該物体の位置を監視す
る位置検知装置である。
【0003】従来の変位センサの例には、キャパシタン
スゲージ装置、光ファイバ近接センサ、及び、一般にデ
ィスクドライブサーボシステムに用いられる干渉センサ
等の光学センサが含まれる。先行技術によるセンサの多
くは、所定の用途(ディスクドライブサーボシステム
等)によって必要とされる分解能(最小測定可能変位)
を達成することができないか、又はかかる分解能を達成
するために高価であり及び/又は複雑な回路及びハード
ウェアを必要とするものとなる。高分解能を達成するた
めに、変位センサによっては、例えば、精確かつ強力な
レーザ光源を必要とし、または検知素子と可動物体との
間を極度に近接させることを必要とし、かかる装置はそ
の実施が高価で困難なものとなる。従って、装置の性能
と単純さとの間でバランスがとれるようにしなければな
らない。
【0004】Tsaiに対する米国特許第5,315,372号に
は、光学変位センサを用いた先行技術によるディスクド
ライブサーボシステムが解説されている。該Tsaiの装置
には、光源と、間隔をあけた位置でディスクドライブの
外部に配置された回転式マスタアームに取り付けられた
光検出器アレイとが含まれている。リフレクタが、読み
出し/書き込みヘッドとアームの回転軸との間の位置で
回転式読み出し/書き込みヘッドアームに取り付けられ
ている。動作時には、まず干渉計装置(interferometric
device)を用いて、マスタアームが、ディスク上の所望
の半径方向のトラック位置に精確に位置合わせされる。
次に、変位センサが作動してマスタアームに対するヘッ
ドアームの位置を測定し、これによりヘッドアームを移
動させてマスタアームに位置合わせすることができるよ
うにする。
【0005】変位センサの光源が入射光ビームを生成
し、該ビームがリフレクタにより反射されて光検出器ア
レイへと送られる。光ビームが反射により送り込まれる
光検出器アレイ上の位置は、ヘッドアーム及びマスタア
ームの相対的な半径方向位置によって決まる。該アレイ
の各光検出素子は、受光強度に比例した振幅を有する電
気信号を生成する。このため、該アレイにより生成され
る信号は、ヘッドアームとマスタアームとの相対的な半
径方向位置を表すものとなる。処理回路は、該光検出器
アレイにより出力される信号を受信しデコードして相対
的なヘッドアーム位置を決定し、それに従ってモータを
制御し、ヘッドアームが正しく位置合わせされるまで該
ヘッドアームを回転させる。
【0006】Tsaiの特許に開示された該装置は幾つかの
欠点を有するものである。該Tsaiの装置は、構造が比較
的単純で実施コストがかなり安価なものであるが操作が
厄介なものとなる。Tsaiの装置は、光検出器アレイによ
り生成される電気信号を精確に解釈するために、各マス
タアーム位置及び相対的なヘッドアーム位置に関する予
備知識を必要とする。また、リフレクタとヘッドアーム
上の読み出し/書き込みヘッドとの間の間隔がかなり大
きいこと、またヘッドアーム及びマスタアーム回転軸が
二重に存在することに起因して、性能上の精度がかなり
犠牲にされる。更に、Tsaiの変位センサは、マスタアー
ムに対するヘッドアームの半径方向移動(軸を中心とし
た回転により生じる移動)を監視することを目的として
いる。リフレクタは、入射ビームを、該リフレクタから
大きく隔置された光検出器に対して直接反射するので、
センサは、ヘッドアームの半径方向移動だけでなくリフ
レクタの角移動にも感応する。従って、ヘッドアーム上
のリフレクタの精確な角配向は、精確な動作にとって重
大なものとなる。ヘッドアームに対するリフレクタの角
移動によって、誤った測定結果が生じる可能性がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の一般的な目的
は、単純であるが精確な光学式変位センサで用いられる
目標造作を形成するための方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の一実施例は、可
動物体の変位を測定するための装置を目的としたもので
ある。該装置では、固定光源が入射光ビームを生成す
る。物体に取り付けられた目標造作(target feature)に
よって該入射光ビームが反射され、該光源の第1のイメ
ージが該目標造作に近接して形成される。イメージング
レンズが第1のイメージを受容し、第1のイメージを光
源の第2のイメージとして光検出器上に再形成する。物
体から隔置された光検出器が該第2のイメージを受容
し、該第2のイメージの光検出器における受像位置に比
例し物体の位置を表す特性を有する電気信号を生成す
る。目標造作は、物体内に溝を画定する(rule)ことによ
って形成される。
【0009】一実施例では、目標造作は半円柱状のもの
となる。
【0010】一実施例では、目標造作は、0.2〜5.0mmの
範囲内の曲率半径を有するものとなる。
【0011】本発明の別の実施例は、ディスクドライブ
におけるマスタアームの位置に対する読み出し/書き込
みヘッドアームの位置を検知するための光学位置検知装
置を目的としたものである。該装置には、マスタアーム
に取り付けられて入射光ビームを生成する光源が含まれ
る。ヘッドアームに取り付けられた目標造作は、入射光
ビームを反射し、該目標造作に近接して光源の第1のイ
メージを形成する。目標造作と光検出器との間の光路中
に配置されたイメージングレンズが、反射光ビームを受
容し、該光源の第1のイメージを第2のイメージとして
光検出器上に再集束させる。マスタアームに取り付けら
れた光検出器は、該第2のイメージを受容して、該第2
のイメージの光検出器上における受像位置に比例しヘッ
ドアームの相対的な位置を表す特性を有する電気信号を
生成する。該目標造作は、物体内に溝を画定することに
よって形成される。
【0012】本発明のもう1つの実施例は、物体内に目
標造作を形成する方法を目的とするものである。この場
合、物体の変位は変位センサにより検知され、該変位セ
ンサは、目標造作によって反射されることになる入射光
ビームを生成する光源と、該目標造作により生成された
光源からのイメージを受容する光検出器とを備えてい
る。該方法は、刻線(ruling)ツールの刻線表面を物体表
面に接触させ、該物体表面に対する前記刻線ツールの押
圧を維持すると共に該物体表面に目標造作を画定する、
という各ステップを有している。
【0013】一実施例では、前記刻線ステップは、物体
を固定状態に保持するステップを有している。
【0014】別の実施例では、前記刻線ステップは、前
記ツールを固定状態に保持するステップを有している。
【0015】本発明の特徴及び利点については、添付の
図面と併せて読むのが望ましい本発明に関する下記の詳
細な説明及び特許請求の範囲から容易に理解され、明ら
かになるであろう。
【0016】
【発明の実施の形態】図1は、本発明に従って形成され
た目標造作を用いた変位センサの一実施例の概要を示す
説明図である。図示のように、センサは、固定光源10、
可動物体14、固定イメージングレンズ26、及び固定光検
出器20を備えている。目標造作16は、可動物体14に取り
付けられ、または該可動物体14と一体的に形成される。
該物体14は、矢印Xで示す方向に移動可能であり、変位
センサは、基準位置からの物体14の変位を測定すること
により該物体14の位置を監視する。
【0017】光源10は入射光ビーム12を生成し、該入射
光ビーム12が反射光ビーム18として目標造作16により反
射される。該目標造作16の僅かに湾曲した反射表面に起
因して、光源10の第1の点状または線状イメージ(図示
せず)が、目標造作16に近接して形成される。該第1の
イメージは目標造作の移動と共に移動する。反射光ビー
ム18は、レンズ26によって集束され、光源10の(第1の
イメージと同様の)第2のイメージ19が光検出器20に形
成される。光検出器20は、反射光ビーム18(及び第2の
イメージ)の受光に応じて電気信号を生成する。該電気
信号は、光検出器20の表面上における反射光ビームを受
光した(即ち、第2のイメージが形成された)位置に比
例し、従って物体14の現在位置に対応する、特性を有す
るものとなる。光検出器に処理回路(その特定実施例を
図7に関連して後述する)を接続することにより、光検
出器が生成する電気信号を受信し、前記信号に処理を施
して、物体の位置及び/又は既知の基準位置からの物体
の変位を決定することが可能になる。該回路は、アナロ
グ信号処理回路とディジタル信号処理回路との両方を備
えることが可能である。
【0018】図10に関連して後に詳述するように、目
標造作16は、入射光ビーム12を反射する曲面17を備えて
おり、これにより、光源10の小さくて好適には点状又は
線状の第1のイメージが目標造作に近接して形成され、
該第1のイメージがレンズ26によって第2のイメージと
して光検出器20の表面上に再形成される。光検出器20
は、該イメージのサイズが小さくなるほど、一層小さな
変位に感応するようになる。したがって、光源の小さな
点状又は線状のイメージを光検出器の表面上に再集束さ
せることが望ましい。
【0019】以下で一層詳細に説明するように、目標造
作16の曲面17は、凹状又は凸状にすることが可能であ
る。目標造作16は、図11ないし図14に関して後述す
るように、物体14と一体的に形成することが可能であ
る。例えば、目標造作16は、物体14の一部に形成された
曲面を備えることが可能である。代替的には、目標造作
16は、物体14に固定される独立した部材とすることも可
能である。例えば、目標造作16は、物体14に対して溶
接、ろう付け、ハンダ付け、ねじ込み、又は別様の固定
が施されるピンのような円柱形部材とすることが可能で
ある。目標造作16の曲面17は、目標造作16が独立した部
材として取り付けられる場合には、入射光ビームが効率
よく反射されるように十分に平滑にし、好適には研磨す
べきである。
【0020】ここで図1を参照する。物体14が矢印Xの
方向に移動すると、光検出器20の表面上における反射ビ
ーム18の受光位置が矢印X'で示す逆方向に移動する。光
検出器20は、これに応じて電気信号を生成する。該電気
信号は、反射ビーム18の光検出器表面上における位置に
比例し、従って物体14の相対的な位置にも比例する、と
いった特性(即ち、振幅又は周波数)を有するものであ
る。
【0021】光検出器の表面上へと反射される光源のイ
メージのサイズが小さくなるにつれて、センサの変位分
解能が高くなる。更に、入射光ビームの光強度が高くな
るにつれて、センサの変位分解能が高くなる。曲面を備
えた目標造作を利用することにより、光検出器の表面上
に反射される光源イメージのサイズが大幅に縮小される
(即ち、点状又は線状イメージまで縮小される)ため、
高度の分解能を達成するために高効率で高価なレーザ光
源が必要になるという要件が大幅に緩和される。
【0022】図2は、本発明の変位センサの特定の実施
例を一層詳細に示す説明図である。同図の構成要素のう
ち図1と同様のものには図1と同じ符号が付してある。
図示のように、該センサは、レーザダイオード光源22、
目標造作16が取り付けられ又は目標造作16が一体的に形
成される物体14、及びバイセル(bi-cell)光検出器28を
備えている。該センサはまた、屈折率分布型(GRIN)入
射レーザダイオードビーム平行化レンズ24、及び反射ビ
ーム集束レンズ26を備えている。
【0023】レーザダイオード22は、従来と同様に入射
レーザビーム12(図2に2つの独立したレーザビームと
して示す)を生成し、入射レーザビーム12がGRIN平行化
レンズ24を介して目標造作16へと送られる。レーザダイ
オード22、GRIN平行化レンズ24、及びバイセル光検出器
28は、それぞれ従来と同様のものとすることができる。
入射レーザビーム12は、目標造作16の曲面17により反射
されて、該目標造作16に近接して光源の第1の小さな点
状又は線状イメージ(図示せず)を形成し、及び反射ビ
ーム18として反射される。小さな点状又は線状の第1の
イメージは、レンズ26によってバイセル光検出器28の上
面上に第2のイメージ30として再形成される。レンズ26
は、ビーム18を受光し、光検出器28上に第2のイメージ
30を集束させる。目標造作16の曲面17により、光検出器
28の表面31上に光源22の小さな点状又は線状イメージ30
を再集束させることが可能になる。
【0024】更に詳細に後述するように、物体内に円筒
状の目標造作が形成される場合には、前記第1のイメー
ジは、該目標造作により反射される光ビームの交差又は
収束位置に形成される。これとは対照的に、円柱状の目
標造作が物体の表面に取り付けられて該物体の表面から
外方に延びている場合には、前記第1のイメージは、実
際には、反射ビームが生じたように見える目標造作内の
一点における虚像となる。
【0025】第1の点状イメージが目標造作に近接して
形成されるため、該システムは、測定を求められていな
い物体及び目標造作の移動(半径方向の移動等)に対し
ては大幅に感度が鈍くなる。例えば、物体14が、Y方向
に(目標造作の長手軸と平行に)形成された軸を中心と
して僅かに回転する場合、測定値に影響は生じない。こ
れは、レンズ26の表面上における反射ビーム18(及び第
1のイメージ)の位置は変化するが、光検出器31上にお
ける第2のイメージの位置は変化しないためである。従
って、本発明のシステムは、物体の半径方向における僅
かな移動には感応しないものとなる。
【0026】バイセル検出器28は、狭いストリップ32に
より分離された2つの光検出器セルA,Bを備えている。
物体14が方向Xに移動すると、点イメージ30がバイセル
検出器28の表面31を横切ってセルAからセルBへと逆方向
X'に移動する。点イメージ30の中心は、図2ではセルA,
B間のストリップ32上に位置している。該センサは、点
イメージ30の中心がセルA,B間のストリップ上に集束し
ている場合にゼロ又は基準位置(物体14が所望の場所に
つく位置)を有するように較正することが可能である。
【0027】バイセル光検出器28の各セルA,Bは、セル
表面における点イメージ30の位置によって決まる振幅を
有するアナログ電気信号を生成する。各セルは、点イメ
ージ30全体が該セルの表面上に位置した場合に最強の電
気信号を生成する。(A−B)/(A+B)(ここで、A,B
は、検出器28のセルA,Bにより生成される電気信号の振
幅をそれぞれ表している)の比を監視することにより、
光検出器28の表面上における点イメージ30の位置を監視
することができ、これにより、(固定光源及び光検出器
に対する)物体14の位置を監視することも可能となる。
これは、光検出器28の表面上における点イメージ30の位
置を物体14の相対的な位置と線形的な関係にすることが
可能だからである。(A−B)/(A+B)の比は、バイセ
ル検出器28の出力に電気的に接続された処理回路(図7
参照)を用いて監視することができる。かかる回路は、
ユーザが物体14の位置を容易に視覚的に監視できるよう
に、表示装置を有するコンピュータに接続することが可
能なディジタル信号処理回路を備えることが可能であ
る。
【0028】該センサは、Y方向、Y'方向、Z方向、又は
(Y軸を中心とした)角方向の移動には感応しない。物
体の垂直方向(レーザダイオード及び光検出器から離れ
又はそれらに向かう方向)への移動に対するセンサの感
度を下げるため、入射レーザビーム12及び反射レーザビ
ーム18により形成される平面は、セルAの中心点とセルB
の中心点との間に形成される軸とほぼ直交し、ストリッ
プ32とほぼ平行になっている。このため、例えば、物体
14が、図2に示す位置のような第1の位置から矢印Zの
方向で垂直方向に(レーザダイオード及び光検出器から
離れるように)第2の位置へと移動する場合には、点イ
メージ30は、光検出器28の表面上を、方向Xと垂直な方
向Y'に移動することになる。
【0029】図2に示すように、センサが側方(Y方向
又はY'方向)への僅かな移動に感応しなくなるように、
目標造作16は、入射レーザビーム12及び反射レーザビー
ム18により形成される(破線で示す)平面と平行であ
り、光検出器28のストリップ32と平行であり、及びバイ
セル検出器の各セルの中心点を通るように形成された軸
と垂直である縦軸を有することが可能である。
【0030】上述の構成によれば、Z方向(上方)、Y方
向又はY'方向(入射光ビーム及び反射光ビームにより形
成される平面内における側方)、及び(Y方向に形成さ
れた軸を中心とした)半径方向における物体の移動に対
する不感応性が提供される。X方向(入射ビーム及び反
射ビームにより形成される平面と垂直な方向)における
物体の移動だけが測定されることになる。
【0031】図3は、物体14が(図2に示す)矢印Xの
方向に移動する場合における「信号A,Bの振幅の差(A−
B)」対「時間」を示すグラフである。この例の場合、
物体14は、時間ゼロにおける位置にあり、点イメージ30
は(セルAの表面に達する前に)バイセル光検出器28の
表面31から外れた位置に集束しているものと仮定する。
物体14がX方向に移動すると、点イメージ30は、まずセ
ルAの表面31に到達し、その後、引き続きストリップ32
を横切ってセルBに到達する。
【0032】点イメージ30(A,B間のギャップ幅よりも
かなり大きい有限のサイズを有するもの)の前縁が(時
刻1の後に)セルAの縁部に達すると、信号(A−B)がゼ
ロから増大し始め、該点イメージ30全体がセルA上に位
置したとき(時刻2)に最大値に達する。点イメージ30
の前縁がセルA,B間のギャップに達すると(時刻3)、信
号(A−B)が減少し始め、該点イメージ30の中心がセル
A,B間のギャップの中央に位置した際にゼロに達し、セ
ルA,B上に等しく位置することになる。該点イメージ30
が引き続きセルBに向かうと、信号(A−B)が減少し続
け、該点イメージ30全体がセルB上に位置すると(時刻
4)その最小値に達する。該点イメージ30がセルBを離れ
ると(時刻5)、信号(A−B)が増大してゼロに戻る。
曲線「信号(A−B)対イメージ位置」の勾配は、イメー
ジがセルA,Bの両方の上に位置する際に最大になり、点
イメージのサイズが小さくなるにつれてその値を増す
(ただし、この場合も点イメージのサイズはセルA,B間
のギャップ幅よりも大きいものとする)。
【0033】従って、信号(A−B)を観測することによ
り、バイセル光検出器28の表面31上における点イメージ
30の位置、ひいては線形に関連する物体14の相対的な位
置を、監視することができる、ということが理解されよ
う。同様に、物体14の第1の位置と第2の位置との間に
おける変位を測定することが可能である。
【0034】該センサのダイナミックレンジ(精確な測
定が可能な物体の位置の範囲)は、信号曲線(A−B)の線
形範囲内であり、これを図3のグラフにおけるDRと示す
破線間(ほぼ時刻2.5と時刻3.5との間)に示す。更に、
該システムは、信号(A−B)の最低精度の検出可能レベル
である最小捕捉範囲を有している。該捕捉範囲を符号CR
で示す破線間に示す。線形ダイナミックレンジ(単位:
mA/μm)内における信号曲線(A−B)の勾配は、バイセ
ル検出器の応答度(又は感度)に対応する。該領域内に
おける曲線の勾配が増すと、該センサで達成可能な分解
能(物体の検出可能な最小変位)が高くなるが、該セン
サのダイナミックレンジは狭くなる。従って、上述のセ
ンサの場合には、ダイナミックレンジと変位分解能との
間でバランスがとれるようにしなければならない、とい
うことが理解されよう。
【0035】信号(A+B)の振幅は(点イメージ30がバイ
セル検出器28の表面31上に集束する場合には)ほぼ一定
に維持することができるので、信号(A−B)を監視するだ
けで比(A−B)/(A+B)の監視を一層簡単に実施する
ことが可能である。信号(A+B)を一定に維持すること
は、レーザダイオード22に電気的に結合された自動利得
制御(AGC)回路(その一実施例を図7に関して後述
する)を用いて入力レーザビーム12の強度を制御するこ
とにより達成することができる。後述するように、該A
GC回路は、信号(A+B)を監視すると共にレーザダイオ
ードに供給される電力を制御する。したがって、バイセ
ル検出器28により生成される出力電気信号の監視に必要
な処理回路を一層単純化するために、該AGC回路を用
いることができる。
【0036】光源10は、特定用途における感度要件を満
たすよう光検出器によって検出されるだけの十分な強度
を有する入射光ビームを生成する任意のタイプの光源と
することが可能である。該光源には、例えば、レーザダ
イオード、発光ダイオード(LED)、LED、タング
ステン光源、又は光ファイバ光源が含まれる。光ファイ
バ光源が用いられる場合には、一対の光ファイバ、即ち
分岐ファイバ(bifurcated fiber)を用いて、反射レーザ
ビームを光検出器に送る。一実施例では、光源の出力は
好適には0.1mW〜20mWの範囲内となる。また入射レーザ
ビームの強度は好適にはほぼ1mW/100μに等しくなる。
【0037】様々なタイプの集束用光学素子を用いて、
入射及び反射光又はレーザビームの方向付けを行うこと
が可能である。例えば、従来のレンズ、球面又は円柱ミ
ラー、GRINレンズ、又は成形による非球面レンズを用い
ることが可能である。
【0038】光検出器は、該光検出器の表面上における
受光ビームの位置に比例する特性(振幅又は周波数等)
を有する電気信号を生成する任意のタイプの光検出器と
することが可能である。該光検出器は、例えば、生成さ
れる電気信号の振幅が、センサ上の反射ビームが受光さ
れる位置に正比例する、位置センサとすることが可能で
ある。該光検出器には好適には、所定の比率((A−B)
/(A+B)等)の生成を可能にする信号を生成すること
が可能な空間的に配列された光検出器が含まれる。該光
検出器は、例えば、バイセル検出器、クワド(quad)セル
検出器、CCDアレイ等とすることが可能である。
【0039】上述のセンサの利点は、比(A−B)/(A
+B)を監視することにより、センサが、光源の強度、
目標造作の反射率、及び光検出器の感度に対して幾分か
感度が鈍くなる点にある。
【0040】一実施例では、バイセル検出器の各セル
は、0.6mm×1.2mmの寸法を有し、該セル間のギャップ
(ストリップ32の幅)は、ほぼ10μmに等しい。イメー
ジ30の幅は、50μm〜100μmの範囲内とすることが可能
である。かかる光検出器の標準的な感度は、ほぼ0.4A/
Wに等しい。
【0041】(後述するような)サーボシステム用途と
いった典型的な用途では、レンズ26は、目標造作16と光
検出器28との間に、その各々から約20mmのほぼ等距離だ
け隔置することが可能である。反射ビームレンズ26の焦
点距離は従来と同様に10mmである。目標造作16の曲面17
の曲率半径は、一実施例では0.5〜5.0mmの範囲内とな
る。
【0042】図4は、光学変位センサがディスクドライ
ブサーボシステムで用いられる別の実施例を示す説明図
である。図示のように、該サーボシステムは、従来と同
様に、(ディスクドライブ(図示せず)の外部に配置され
た)回転式マスタアーム40と、(ディスクドライブ内に
配置された)読み出し/書き込みヘッドアーム42とを備
えている。該マスタアーム40及びヘッドアーム42は共通
軸44を中心として回転する。ヘッドアーム42の端部54の
上面には、可撓性部材(図示せず)を介して、読み出し
/書き込みヘッド(図示せず)が取り付けられている。
目標造作は、本発明によるヘッドアームと一体的に形成
されている。データの書き込み及び読み出しが行われる
ディスク(図示せず)は、ヘッドアームの上方に配置さ
れる。
【0043】従来のディスクドライブサーボシステムの
場合と同様に、まず、書き込み又は読み出しを行うべき
半径方向のトラック位置と整列する基準位置へとマスタ
アームを回転させる。次いで、本発明の光学変位センサ
システムを使用し、ヘッドアームがマスタアームと位置
合わせされて読み出し/書き込みヘッドがディスクの所
望の半径方向のトラック位置に対して読み出し又は書き
込みを行うことができるように該ヘッドアームを回転さ
せる。ヘッドアーム及びマスタアームは、上述とは異な
る順序で回転させることも可能であり、例えば、精確な
位置合わせが達成されるまで交互に回転させることが可
能である。
【0044】マスタアームは、まず最初に光学式干渉計
システムを用いてその位置合わせが行われる。該干渉計
システムは、マスタアーム40の下方に取り付けられたレ
ーザ光源46、折り返しミラー48、レーザ干渉計50、再帰
反射器52、及び干渉計出力信号検出器61(図5参照)を
備えている。マスタアーム40の回転運動を制御するマス
タアームVCM駆動回路63が、干渉計出力信号検出器61
とボイスコイルモータ(VCM)65との間に結合されて
いる。
【0045】該レーザ干渉計は、移動する目標(即ち再
帰反射器52)から反射される第1のレーザビームと、一
定距離を進行する基準レーザビームとを用いて、前記移
動する目標の位置を決定する、ということが理解されよ
う。レーザ光源46により生成されたレーザビームは、折
り返しミラー48により反射され、レーザ干渉計50を通っ
て、再帰反射器52へと送られる。該ビームは、再帰反射
器52により反射され、干渉計50により基準ビームと組み
合わされる。該干渉計50は、前記結合ビームを検出器61
に提供し、次いで該検出器61が、これに応じてマスタア
ーム40の変位(又は位置の変化)を決定する。次いで、
該検出器61が、位置変化を表す信号を駆動回路63に送
り、次いで該駆動回路63が、選択された半径方向のトラ
ック位置と位置合わせされるまでマスタアーム40を回転
させる信号をVCM65に提供する。
【0046】マスタアーム40が正しく位置合わせされる
と、次いで既述の変位センサを用いてヘッドアーム42が
マスタアーム40と位置合わせされる。該センサは、光源
モジュール56(好適にはレーザダイオードを含むも
の)、リフレクタ58、及び検出器モジュール60(好適に
はバイセル光検出器を含むもの)を備えており、それら
全てがマスタアーム40の上面に取り付けられる。図1及
び図2に関して上述した変位センサの一般的な実施例と
同様に、動作時には、光源モジュール56内のレーザダイ
オードが入射レーザビームを生成し、該入射レーザビー
ムがリフレクタ58によって反射されて、ヘッドアーム42
の端部54の下側と一体的に形成され又はそこに取り付け
られた目標造作(図示せず)へと送られる。上述のよう
に、該目標造作は、曲面を有しており、該曲面により入
射レーザビームが反射されて、該目標造作に近接して光
源のイメージが形成される。次いで該反射レーザビーム
がリフレクタ58から検出器モジュール60へと反射され
る。該イメージはモジュール60内の光検出器上に再集束
される。
【0047】該システムは、ヘッドアーム42がマスタア
ーム40と正しく位置合わせされた際に、小さな点状又は
線状イメージ30(図2参照)が、検出器モジュール60内
におけるバイセル検出器のセルA,B間の分割ストリップ3
2の表面上に集束されるように、較正される。変位セン
サ処理制御回路67(図5参照)は、光源モジュール56及
び検出器モジュール(図4参照)に電気的に接続され、
以下で一層詳細に説明するように、ヘッド及びマスタア
ームの相対的な位置を表す信号(A+B),(A−B)の値を決
定し監視する回路を備えている。ヘッドアームVCM駆
動回路69は、変位センサ処理回路67とヘッドアームVC
M71との間に接続されている。変位センサ処理制御回路
67は、相対的なヘッドアーム及びマスタアームの位置を
表すディジタル出力信号をヘッドアームVCM駆動回路
69に与え、次いで該駆動回路69がこれに応じてVCM71
に制御信号を与えて、ヘッドアーム42がマスタアーム40
と位置合わせされるまで該ヘッドアーム42を回転させ
る。図6に関して以下で更に詳述するように、該センサ
はまた、光検出器とレーザダイオードとの間に接続され
た、信号(A+B)を一定に保つためのAGC回路も備えて
いる。
【0048】図6は、該センサのAGC回路を示すブロ
ック図である。説明の便宜上、該回路は、バイセル検出
器62(検出器モジュール60内に含まれるもの)とレーザ
ダイオード72(光源モジュール56内に含まれるもの)と
を備えたものとして示してある。該回路は、バイセル検
出器62からの出力信号A,Bをそれぞれ受信するように接
続された従来のアナログ信号増幅器64,66を備えてい
る。アナログ増幅器64,66はそれぞれアナログ信号A,Bを
増幅する。増幅されたアナログ信号A,Bは、出力として
送出され、AGC回路73にも加えられる。AGC回路73
は、アナログ加算回路68とレーザ出力制御回路70とから
構成される。加算回路68は和信号(A+B)を生成する。該
和信号(A+B)は、レーザ出力制御回路70に加えられ、該
レーザ出力制御回路70は、該和信号(A+B)の大きさを監
視し、レーザダイオード72の出力を制御する出力信号を
送出して、該信号(A+B)がほぼ一定に保たれるようにす
る。レーザダイオードにより生成される入射レーザビー
ムの強度は、信号(A+B)が一定に保たれるようにするた
めに、例えば、目標の反射率の変動に応じて変化させる
ことが可能である。
【0049】図7は、ヘッドアームVCM71を制御する
ヘッドアーム処理制御回路69を示すブロック図である。
図示のように、信号A,Bはブロック74によって受信され
る。該ブロック74は、増幅器と、信号(A−B),(A+B)を
生成するための加算回路及び減算回路とを備えている。
信号(A−B)は、アナログディジタル変換器(ADC)7
6に送られ、該ADC76が該アナログ信号(A−B)をデ
ィジタル信号へと変換する。該ディジタル信号は、従来
と同様のバッファ78に送られ、該バッファ78が信号(A−
B)を表すディジタル出力が送出する。
【0050】また、信号(A+B)はコンパレータ80に送ら
れ、該コンパレータ80が、該信号(A+B)を基準信号(最
低しきい値レベル(即ちゼロ))と比較して、信号(A+
B)が該最低しきい値レベルよりも大きいか否かを表すス
テータス出力ビットを送出する。回路69は、VCM71を
制御して、信号(A−B)がゼロに等しくなるまでヘッドア
ーム42を回転させ、かかる(信号(A−B)の)ゼロ交差点
が、バイセル検出器のセル間のストリップ上に点イメー
ジが集束するときの点と一致する(これは、ヘッドアー
ム42とマスタアーム40とが位置合わせ状態にあることを
示している)か否かが判定される。なお、信号(A−B)
は、(図3に関して上述したように)点イメージがバイ
セル検出器の何れか一方のセルの表面上に位置していな
い(これは、ヘッドアーム42とマスタアーム40とが位置
合わせ状態から大幅にずれていることを表している)場
合にも値ゼロを有することになる、ということが理解さ
れよう。該回路は、コンパレータ80で信号(A+B)を監視
することにより、適切なゼロ交差点に達したことを判定
する。図3を参照すると、信号(A−B)がゼロに等しくて
信号(A+B)がゼロよりも大きい場合に信号(A−B)の適切
なゼロ交差点に到達する、ということが理解されよう。
コンパレータ80が、信号(A+B)がゼロよりも大きいと判
定すると、ステータスビットが出力される。したがっ
て、バッファ78により提供されるディジタル出力信号と
コンパレータ80により提供されるステータスビットとが
一緒になって、ヘッドアーム42とマスタアーム40とが正
しく位置合わせされたことを示す。
【0051】図8は、ヘッドアーム42の端部54を一層詳
細に示す斜視図である。ヘッドアーム42の底面は、目標
造作86を例示するように描かれている。ヘッドアーム42
の上面には、スライダ可撓性部材84が溶接により取り付
けられる。スポット溶接部82が示されている。スライダ
及び読み出し/書き込みヘッド(図示せず)は、可撓性
部材84の先端に接続される。可撓性部材、スライダ、及
び読み出し/書き込みヘッドを有するかかる構成は、従
来と同様のものである。
【0052】本発明の一実施例では、目標造作86は、ヘ
ッドアーム42の端部54と一体的に形成される。以下で一
層詳細に説明するように、目標造作は、刻線ツールを用
いてヘッドアーム42の端部54に「画定する(rule:刻み込
む)」ことが可能であり、該刻線ツールは、該ヘッドア
ームの長手軸と平行な長手軸を有することが望ましい曲
面を形成するものである。例えば、目標造作は、図示の
ように、ヘッドアーム42内の円筒状凹部88とすることが
可能である。該円筒状凹部88は、入射レーザビームを反
射する目標造作86の曲面を提供するものとなる。該曲面
の曲率半径は、この実施例の場合には、0.5〜5.0mmの範
囲内にあることが望ましい。
【0053】図9は、可撓性部材84に取り付けられたス
ライダ92を示す、ヘッドアーム42の端部54に関する側面
図である。図示のように、スライダ92は、ヘッドアーム
42に沿ったほぼ同じ長手方向の点で目標造作86の下方に
配置されている。同図には、目標造作86をヘッドアーム
42の残りの部分よりも僅かに上方に持ち上げるショルダ
部90も示されている。
【0054】図10は、光源の第1及び第2のイメージ
の形成を示す、(図1及び図2と同様の)システムの一
部についての説明図である。図10には、システムのほ
んの一部しか示されていない。図示の部分には、目標造
作16、イメージングレンズ26、及び検出器20が含まれて
いる。
【0055】図10には、目標造作16の2つの位置、即
ち(目標造作が実線で示されている)第1の位置と(目
標造作が破線で示されている)第2の位置とが示されて
いる。該第2の位置には、該第1の位置から横方向Xに
変位された目標造作が示されており、この変位が本発明
のシステムにより測定されることになる。
【0056】図示のように、入射ビーム12は、目標造作
16の曲面17により反射ビーム18として反射される。光源
の小さな点状の第1のイメージ100Aが、目標造作16に近
接して形成される。目標造作16がその第1の位置(位置
Aと称す)からその第2の位置(位置Bと称す)へと移動
すると、前記第1の点状イメージもまた該目標造作16と
共にその第1の位置(100Aで示す)からその第2の位置
(100Bで示す)へと移動する。
【0057】各々の位置で、反射ビーム18の一部がイメ
ージングレンズ26により受光され、光検出器20の表面上
へと集束される。位置Aの場合には、第2のイメージ100
A'が光検出器20の表面上に形成される。また位置Bの場
合には、第2のイメージ100B'が光検出器20の表面上に
形成される。目標造作16が位置Aから位置Bへと横方向X
に移動すると、第2の点状イメージが位置100A'から位
置100B'へと移動する(これは図2における光検出器20
の表面31上のイメージ30のX'方向への移動に対応す
る)、ということが理解されよう。また、第2のイメー
ジ100A'(及び100B')が図2の第2のイメージ30に対応
することが理解されよう。
【0058】(図4に示す)サーボシステムの実施例で
は、(図2における物体14のX方向への移動に対応す
る)軸44を中心としたヘッドアーム回転運動だけが測定
されることになる。(図2のY軸を中心とした物体14の
回転に対応する)ヘッドアームに対する目標造作の半径
方向の移動、(図2のZ方向の移動に対応する)マスタ
アームから離れ又はマスタアームに向かうヘッドアーム
の垂直方向の移動、及び(図2のY方向の移動に対応す
る)ヘッドアームの長手軸により形成される何れか任意
の方向における目標造作の移動は、該システムによって
検出されることはない。
【0059】目標造作は、本発明によるプロセスによっ
て、物体(即ち、ディスクドライブサーボシステムの用
途で用いる場合には、ヘッドアームが取り付けられるE
ブロック)と一体的に形成することが可能である。該プ
ロセスには、刻線部分を有するツールによって物体の表
面に目標造作を画定することが含まれる。
【0060】図11は、本発明による目標造作を画定す
るために使用することが可能な刻線ツールの一実施例を
示している。図示のように、刻線ツール200は、ハンド
ル部分202と刻線部分204とを備えている。ハンドル部分
は、全体的に細長いものであり、その断面は、(図示の
ような)矩形、正方形、八角形、円形その他の任意の形
状を有することが可能である。刻線部分204は、機械的
な係合、接着剤による接着といった任意の適当な手段に
よって、ハンドル202の末端に取り付けられる。該刻線
部分204は、それ自体とハンドル202との境界210に沿っ
て緊密な公差が存在するようにハンドル202の末端にし
っかりと保持することが可能である。
【0061】該刻線部分204は好適には、刻線部分204の
末端に刻線表面206を有するものとなる。一実施例にお
ける刻線表面206は、物体の表面に半円筒形の目標造作
が画定されるように丸くなっている。図示の実施例の場
合、刻線部分204は、好適には平坦である面212を有して
いる。また、刻線部分204の表面208は、面212から後方
に延び、及び表面206からほぼ上方に(末端から離れる方
向に)延びている。
【0062】ハンドル202は、曲がることなく(後述
の)刻線プロセスに耐える強度を有する鋼その他の任意
の適当な材料から作成することが可能である。刻線部
分、又は少なくとも刻線部分の刻線表面は、後述のプロ
セスによって物体の表面に目標造作が画定されるよう
に、該物体の表面を形成する材料よりも十分に強い材料
から作成すべきである。ディスクドライブサーボシステ
ムの用途では、典型的には、Eブロック物体(ヘッドア
ームが取り付けられ、その表面に目標造作が形成される
ことになるもの)はアルミニウムから製造される。好適
には、刻線ツールの刻線部分がダイヤモンドから作成さ
れ、その刻線表面206と平坦な面212との境界が鋭い線を
なすように該刻線表面部分が研磨される。かかる用途の
場合には、刻線部分は、代替的に、タングステン、サフ
ァイア、又はアルミニウムに溝を画定することが可能な
他の材料から作成することが可能である。
【0063】図12は、目標造作を画定することが可能
なプロセスを示す説明図である。同図には、刻線ツール
200及び物体220が示されている。物体220は、目標造作
が画定されることになる表面222を有している。ツール2
00は、側面図で示されており、ハンドル202及び刻線部
分204を備えている。平坦な面212は、以下で一層詳細に
説明するように、画定されることになる溝の長手軸に沿
って、目標造作が刻み込まれる方向に面している。該ツ
ール200は側面から見たものであるため、同図には刻線
表面206の丸い特性は示されていない。
【0064】該プロセスにおいて、刻線ツール200の表
面206が物体220の表面222に接触させられる。これは、
好適にはハンドル202の長手軸を表面222と垂直に維持す
ると共に、ツール200を表面222に向かって方向Y1に移動
させ、及び/又は、物体220をツール200の刻線表面206
に向かって方向Y2に移動させることにより、達成するこ
とができる。刻線表面206が物体220の表面222に接触す
るとき、該刻線表面206は位置Sにつくことになる。次い
で、刻線表面206は、増分量△だけ更に方向Y1に移動さ
れる。これは、ツール200を方向Y1に移動させ、及び/
又は、物体220を方向Y2に移動させることにより実施で
きる。この時点で、表面206は、物体220の表面222に食
い込んでおり、表面222下方の位置S−△にある。本発明
の好適実施例では、△は、0.02〜0.05mmの範囲内とな
る。
【0065】物体220の表面222に向かって進み、該表面
222と接触することになる刻線表面206の初期の移動は、
画定される目標造作の所望の始点(端点の一方)である
開始点dで生じる。次いで、ツール200を方向X1に移動さ
せ、及び/又は、画定される目標造作の所望の終点であ
る点(D+d)まで物体220を方向X2に距離Dだけ移動させる
ことにより、目標造作が画定される。該ステップ中に、
表面206がレベル(S+△)に保たれ、及び画定される目標
造作の溝が表面222から△の深さになるように、ツール2
00に対する方向Y1の圧力が維持され、及び/又は、物体
220に対する方向Y2の圧力が維持される。好適には、結
果的に得られる溝の対称性を確保するために、ハンドル
202の長手軸が表面222に対して垂直に保たれる。結果的
に得られる溝は半円筒状であり、丸い刻線表面206とほ
ぼ等しい半径を有している。該半径は好適には、0.2〜
5.0mmの範囲内となる。
【0066】表面206が終点(d+D)に達すると、表面206
が表面222から離れるまで、ツール200を方向Y2に移動さ
せ、及び/又は、物体220を方向Y1に移動させ、これに
より目標造作の溝の画定が完了する。
【0067】物体220だけを移動させ、ツール200を固定
した状態に保持することが可能である。代替的に、物体
220を固定した状態に保持することも可能である。該保
持は万力を用いて行うことが可能である。このプロセス
は、手動により又はフライス盤のような機械を用いて実
施することが可能である。後者の場合には、物体がフラ
イス盤のステージによって保持され、ツールがフライス
盤に対して垂直方向に取り付けられる。
【0068】図13には、物体220の表面222内に、刻線
部分204の刻線表面200によって画定された半円筒状の溝
224が示されている。
【0069】図14には、ハンドル302及び刻線部分304
を備えた代替的で好適な刻線ツール300が示されてい
る。
【0070】ツール300の刻線部分304は、図15に一層
詳細に示されているように、刻線表面306、平坦な面31
2、及びテーパ状の前縁部308を備えている。符号310
は、刻線部分304とハンドル302との境界である。かかる
ツールの1つとして、オハイオ州クリーヴランドにある
E.C.Kitzel & Sons,Inc.から1135−020Natural Di
amond Toolという商品名で入手できるものがある。
【0071】上述のように、本発明の例証となる少なく
とも1つの実施例について説明してきたが、当業者であ
れば、さまざまな変更、修正、及び改良を容易に実施す
ることができよう。例えば、本発明のセンサは、バイセ
ル検出器を用いて、物体の一次元(又は方向)における
位置を監視するものとして説明されたが、本発明はかか
る制限を受けるものではないことが理解されよう。該セ
ンサは、クワドセル検出器を用いることにより、物体の
位置を二次元のそれぞれについて監視することが可能で
ある。かかる変更、修正、及び改良を本発明の思想及び
範囲内に含めることが意図されている。従って、上記説
明は、単なる例示を目的とするものであって、制限を意
図したものではない。本発明は、特許請求の範囲におけ
る請求項及びそれと等価なものにしか制限されないもの
である。
【0072】以下においては、本発明の種々の構成要件
の組み合わせからなる例示的な実施態様を示す。
【0073】1.可動物体の変位を測定するための装置
であって、入射光ビームを生成する固定光源と、前記物
体に取り付けられた目標造作であって、前記入射光ビー
ムを反射して該目標造作に近接して前記光源の第1のイ
メージを形成する、目標造作と、前記第1のイメージを
受容し、該第1のイメージを前記光源の第2のイメージ
として光検出器上に再形成する、イメージングレンズと
を備えており、前記光検出器が、前記物体から隔置され
ており、前記第2のイメージを受容し、それに応じて、
前記光検出器上における前記第2のイメージの受容位置
に比例すると共に前記物体の位置を表す特性を有する電
気信号を生成し、前記目標造作が、前記物体内に溝を画
定することにより形成されることを特徴とする、可動物
体の変位を測定するための装置。
【0074】2.前記目標造作である溝が半円筒形状を
有している、前項1に記載の装置。
【0075】3.前記目標造作が0.2〜5.0mmの範囲内の
曲率半径を有している、前項1に記載の装置。
【0076】4.ディスクドライブにおけるマスタアー
ムの位置に対する読み出し/書き込みヘッドアームの位
置を検知するための光学位置検知装置であって、前記マ
スタアームに取り付けられ、入射光ビームを生成する、
光源と、前記ヘッドアームに取り付けられ、入射光ビー
ムを反射し、目標造作に近接して前記光源の第1のイメ
ージを形成する、目標造作と、該目標造作と光検出器と
の間の光路内に配置され、該目標造作により反射された
反射光ビームを受容し、前記光源の前記第1のイメージ
を第2のイメージとして前記光検出器上に再集束させ
る、イメージングレンズとを備えており、前記光検出器
が、前記マスタアームに取り付けられており、前記第2
のイメージの受容に応じて、前記光検出器上における該
第2のイメージの受容位置に比例すると共に前記ヘッド
アームの相対位置を表す特性を有する電気信号を生成
し、前記目標造作が、前記ヘッドアーム内に溝を画定す
ることにより形成されることを特徴とする、ディスクド
ライブにおけるマスタアームの位置に対する読み出し/
書き込みヘッドアームの位置を検知するための光学位置
検知装置。
【0077】5.前記目標造作である溝が半円筒形状を
有している、前項4に記載の装置。
【0078】6.前記目標造作が0.2〜5.0mmの範囲内の
曲率半径を有している、前項4に記載の装置。
【0079】7.目標造作により反射されることになる
入射光ビームを生成する光源と該目標造作により反射さ
れた光から前記光源のイメージを受容する光検出器とを
備えた変位センサによって物体の変位が検知される場合
における前記目標造作を前記物体に形成する方法であっ
て、刻線ツールの刻線表面を前記物体の表面に接触さ
せ、前記物体の表面に対する前記ツールの押圧力を維持
すると共に該物体の表面に前記目標造作を画定する、と
いう各ステップを有することを特徴とする、方法。
【0080】8.刻線ステップが、前記物体を固定状態
に維持するステップを有する、前項7に記載の方法。
【0081】9.刻線ステップが、前記ツールを固定状
態に維持するステップを有する、前項7に記載の方法。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って形成された目標造作を用いた変
位センサの一般的な実施例を示す説明図である。
【図2】変位センサの特定の実施例を一層詳細に示す説
明図である。
【図3】センサのバイセル型光検出器の出力から生じる
電気信号を示すグラフである。
【図4】本発明に従って形成された目標造作を用いたデ
ィスクドライブサーボシステムを詳細に示す説明図であ
る。
【図5】該ディスクドライブサーボシステムの動作をそ
の一部を構造的にまたその一部を機能的に示す説明図で
ある。
【図6】ディスクドライブサーボシステムの処理回路を
示すブロック図である(1/2)。
【図7】ディスクドライブサーボシステムの処理回路を
示すブロック図である(2/2)。
【図8】ディスクドライブサーボシステムで用いられる
目標造作の一実施例を詳細に示す斜視図である。
【図9】図8に示す目標造作及びヘッドアーム先端を示
す側面図である。
【図10】本発明の変位センサの一実施例の一部を詳細
に示す説明図である。
【図11】本発明による目標造作を画定するために利用
可能なツールの一実施例を示す斜視図である。
【図12】本発明の実施例による目標造作の刻み込みを
示す説明図である。
【図13】本発明の実施例による目標造作の画定を示す
説明図である。
【図14】本発明の実施例に従って目標造作を画定する
ことを可能にする特定のツールを示す斜視図である。
【図15】図14のツールの刻線表面を詳細に示す部分
拡大図である。
【符号の説明】
10 固定光源 12 入射光ビーム 14 可動物体 16 目標造作 18 反射光ビーム 19 第2のイメージ 20 固定光検出器 26 固定イメージングレンズ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】可動物体の変位を測定するための装置であ
    って、 入射光ビームを生成する固定光源と、 前記物体に取り付けられた目標造作であって、前記入射
    光ビームを反射して該目標造作に近接して前記光源の第
    1のイメージを形成する、目標造作と、 前記第1のイメージを受容し、該第1のイメージを前記
    光源の第2のイメージとして光検出器上に再形成する、
    イメージングレンズとを備えており、 前記光検出器が、前記物体から隔置されており、前記第
    2のイメージを受容し、それに応じて、前記光検出器上
    における前記第2のイメージの受容位置に比例すると共
    に前記物体の位置を表す特性を有する電気信号を生成
    し、 前記目標造作が、前記物体内に溝を画定することにより
    形成されることを特徴とする、可動物体の変位を測定す
    るための装置。
JP10160511A 1997-06-10 1998-06-09 変位センサ及びその目標造作を作成するための方法 Pending JPH1151610A (ja)

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