JPH1180145A - プロポキシニトロベンゼン類の製造法 - Google Patents

プロポキシニトロベンゼン類の製造法

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JPH1180145A
JPH1180145A JP10205928A JP20592898A JPH1180145A JP H1180145 A JPH1180145 A JP H1180145A JP 10205928 A JP10205928 A JP 10205928A JP 20592898 A JP20592898 A JP 20592898A JP H1180145 A JPH1180145 A JP H1180145A
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Toshihiro Fujiwara
敏洋 藤原
Tsutomu Ehata
勉 江幡
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 化合物（１）に化合物（２）を反応させ
て化合物（３）を製造する。 【化１】 【効果】 合成抗菌薬の製造中間体として有用な化合物
（３）を高収率で得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成抗菌薬の製造
中間体として有用な次の一般式（３）
【０００２】
【化４】
【０００３】（式中、Ｘ1 およびＸ2 は、各々独立に、
ハロゲン原子を示す）で表わされる２−オキシラニルメ
チルオキシ−３，４−ジハロゲノニトロベンゼンの製造
法に関する。
【０００４】
【従来の技術】オフロキサシン（ＯＦＬＸ）は優れた抗
菌活性と体内動態および高い安全性を有する合成抗菌剤
であり広く使用されている。また、その後の研究により
その光学活性体ＤＲ−３３５５は、ラセミ体であるオフ
ロキサシンよりさらに高い抗菌活性と安全性を有し、抗
菌剤としてより有用な化合物であることが明らかとなっ
た（特開昭５７−４６９８６号および特開昭６２−２５
２７９０号）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上記
一般式（３）の化合物の工業的有利な製造法を提供すべ
く鋭意研究を行った結果、本発明を完成した。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は次の反応式で表
わされる。
【０００７】
【化５】
【０００８】（式中、Ｘ1 およびＸ2 は、各々独立に、
ハロゲン原子を示す） すなわち、本発明は、一般式（１）の化合物に式（２）
の化合物を反応させて一般式（３）の化合物を製造する
方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】（２）式の化合物において、置換
スルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはパラ
トルエンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
【００１０】化合物（１）と（２）との反応は塩基性条
件下に行われる。反応に使用する塩基としては水素化ナ
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシ
クロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、トリ
トンＢ等の有機塩基、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、ナ
トリウムエトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の金
属アルコキシド類、ブチルリチウム、フェニルリチウム
等のリチウム試薬を挙げることができ、これらは１〜１
０当量程度用いることが好ましい。
【００１１】反応に使用する溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、
メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロ
パノール、ｎ−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶
媒、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
の塩素系溶媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等を挙げることができる。
【００１２】反応は−７８℃から溶媒の沸点の温度範囲
で実施することが好ましく、反応時間は約１０分間から
数日であり、時に無水条件下で実施することが望ましい
ことがある。また、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウ
ム、クラウンエーテル等を１／１００〜当量程度添加す
ると、これらの反応が促進されることがある。
【００１３】原料の（２）式の化合物については、その
光学活性体を容易に入手することができ〔参考文献
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４３，４８７６（１９７８）、
同５２，３７１０（１９８６）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．１７，９３７（１９７
８）、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ３１６（１９８２）、Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６，３３４８（１９８１）、Ｃａ
ｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．５７，２３３（１９７９）〕、この
光学活性体を用いることにより（３）式で表わされる化
合物の光学活性体を得ることができる。
【００１４】
【実施例】次に実施例を挙げて説明する。
【００１５】実施例１２，３−ジフルオロ−６−ニトロ−〔（Ｒ）−２，３−
エポキシプロピルオキシ〕ベンゼン（（３）：Ｘ1＝Ｘ2
＝Ｆ） ２，３−ジフルオロ−６−ニトロフェノール（（１）：
Ｘ1＝Ｘ2＝Ｆ）７００．４mgを無水ＤＭＦ４mlに溶解
後、Ｋ2ＣＯ3 ３０４．１mgを加え７０℃で３０分間攪
拌する。触媒量の１８−クラウン−６−エーテル、ＫＩ
２４２．４mgおよび（Ｒ）−グリシジルトシレート１
ｇを加え同温で６時間加熱攪拌する。反応後、酢酸エチ
ルを加え有機層を水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、留去し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付
し、ベンゼン流分より油状物質として標記の縮合体５０
７mg、収率５５％を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ： 2.72(1H,d,d,J=2.7 and 4.8Hz,エポキシプロピル基３位
のプロトン） 2.89(1H,d,d,J=4.8 and 4.8Hz,エポキシプロピル基３位
のプロトン） 3.42(1H,巾18Hzの多重線,エポキシプロピル基２位のメ
チレンプロトン） 4.21(1H,d,d,d,J=1.2,6.0 and 7.2Hz,エポキシプロピル
基１位のプロトン） 4.53(1H,d,d,d,J=1.2,3.6 and 4.8Hz,エポキシプロピル
基１位のプロトン） 7.07(1H,d,d,d,J=7.2,9.0 and 9.6Hz,４位核プロトン） 7.74(1H,d,d,d,J=2.4,5.4 and 7.2Hz,５位核プロトン）
【００１６】
【発明の効果】本発明方法によれば、合成抗菌薬の製造
中間体として有用な一般式（３）の化合物を高収率で得
ることができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｘ1 およびＸ2 は、各々独立に、ハロゲン原子
    を示す）で表わされる化合物に、式（２） 【化２】 で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
    式（３） 【化３】 （式中、Ｘ1 およびＸ2 は、各々独立に、ハロゲン原子
    を示す）で表わされる化合物の製造法。
  2. 【請求項２】 置換スルホニルオキシ基が、メタンスル
    ホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
    基またはパラトルエンスルホニルオキシ基である請求項
    １記載の製造法。
  3. 【請求項３】 Ｘ1 およびＸ2 が、各々フッ素原子であ
    る請求項１又は請求項２記載の製造法。
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