JPH118409A - Ledアレイとその製造方法およびledプリンタヘッド - Google Patents
Ledアレイとその製造方法およびledプリンタヘッドInfo
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- JPH118409A JPH118409A JP15671597A JP15671597A JPH118409A JP H118409 A JPH118409 A JP H118409A JP 15671597 A JP15671597 A JP 15671597A JP 15671597 A JP15671597 A JP 15671597A JP H118409 A JPH118409 A JP H118409A
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- conductive side
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- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
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- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度に形成された発光部列に対してp側パ
ッド電極とn側電極とを同じ側に配置する。 【解決手段】 n型半導体ブロック11にはp型半導体
層の発光部13が一列に形成されている。ブロック11
上にはn側開口部87を有する層間絶縁膜12が形成さ
れ、その上には発光部13に接続するp側電極84のパ
ッド電極84bが形成されている。また層間絶縁膜18
に形成されたヴィアホール21において所定のp側電極
14とp側マトリクス配線4とが接続している。n側電
極85は、発光部13に対してp側パッド電極84bと
同じ側にあるn側開口部87内に形成され、かつn側開
口部87内でブロック11に接続している。n側電極8
5とブロック11との接続部を発光部13に対しp側パ
ッド電極84bの反対側ではなく同じ側に設けたことに
より、発光部13の間に配線を形成する必要がない。
ッド電極とn側電極とを同じ側に配置する。 【解決手段】 n型半導体ブロック11にはp型半導体
層の発光部13が一列に形成されている。ブロック11
上にはn側開口部87を有する層間絶縁膜12が形成さ
れ、その上には発光部13に接続するp側電極84のパ
ッド電極84bが形成されている。また層間絶縁膜18
に形成されたヴィアホール21において所定のp側電極
14とp側マトリクス配線4とが接続している。n側電
極85は、発光部13に対してp側パッド電極84bと
同じ側にあるn側開口部87内に形成され、かつn側開
口部87内でブロック11に接続している。n側電極8
5とブロック11との接続部を発光部13に対しp側パ
ッド電極84bの反対側ではなく同じ側に設けたことに
より、発光部13の間に配線を形成する必要がない。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LED(発光ダイ
オード)を同一半導体基板に複数形成したLEDアレイ
とその製造方法およびLEDアレイを用いて構成された
LEDプリンタヘッドに関し、特に1200[DPI]
([Dot/Inch ])以上の高密度に対応可能なLEDア
レイに関する。
オード)を同一半導体基板に複数形成したLEDアレイ
とその製造方法およびLEDアレイを用いて構成された
LEDプリンタヘッドに関し、特に1200[DPI]
([Dot/Inch ])以上の高密度に対応可能なLEDア
レイに関する。
【0002】
【従来の技術】LEDアレイは、電子写真プリンタにお
ける感光ドラムの露光光源でありプリンタヘッド等に用
いられる。図27は従来のLEDアレイの構造の一例を
示す上面図である。図27に示すLEDアレイは、12
00[DPI]対応のLEDアレイであり、底部の高抵
抗半導体基板102と、側部に形成された分離溝103
とにより互いに素子分離された複数のn型半導体ブロッ
ク111に、それぞれ複数のLEDを形成したものであ
る。n型半導体ブロック111には、複数のp型半導体
層(発光部)113と、p型半導体層113に個別に接
続するp側電極114と、n型半導体ブロック111に
接続するn側コンタクト電極115aと、n側コンタク
ト電極115aに接続するn側パッド電極115bが形
成されている。
ける感光ドラムの露光光源でありプリンタヘッド等に用
いられる。図27は従来のLEDアレイの構造の一例を
示す上面図である。図27に示すLEDアレイは、12
00[DPI]対応のLEDアレイであり、底部の高抵
抗半導体基板102と、側部に形成された分離溝103
とにより互いに素子分離された複数のn型半導体ブロッ
ク111に、それぞれ複数のLEDを形成したものであ
る。n型半導体ブロック111には、複数のp型半導体
層(発光部)113と、p型半導体層113に個別に接
続するp側電極114と、n型半導体ブロック111に
接続するn側コンタクト電極115aと、n側コンタク
ト電極115aに接続するn側パッド電極115bが形
成されている。
【0003】ブロック内の複数のp側電極114のう
ち、所定のp側電極114にはp側パッド電極114b
が一体形成されている。積層構造のn側コンタクト電極
115aおよびn側パッド電極115bにより構成され
るn側電極115は、ブロック内の複数のLED110
に共通の電極である。n型半導体ブロック111とp側
電極114およびn側パッド電極115bとの間には、
第1層間絶縁膜112が形成されている。第1層間絶縁
膜112には、p側開口部116とn側開口部117と
が設けられている。p側電極114は、p側開口部11
6において半導体層113に接続している。またn側コ
ンタクト電極115aは、n側開口部117に形成され
ている。
ち、所定のp側電極114にはp側パッド電極114b
が一体形成されている。積層構造のn側コンタクト電極
115aおよびn側パッド電極115bにより構成され
るn側電極115は、ブロック内の複数のLED110
に共通の電極である。n型半導体ブロック111とp側
電極114およびn側パッド電極115bとの間には、
第1層間絶縁膜112が形成されている。第1層間絶縁
膜112には、p側開口部116とn側開口部117と
が設けられている。p側電極114は、p側開口部11
6において半導体層113に接続している。またn側コ
ンタクト電極115aは、n側開口部117に形成され
ている。
【0004】LED110は、p側電極114とn側電
極115との間に電圧を印加すると、n型半導体ブロッ
ク111とp型半導体層113の接合面で発光現象を生
じ、この発光光をp型半導体層113の表面から外部に
放射する。p側電極114はアルミ(Al)膜あるいは
Al合金膜により形成され、またn側電極115は金
(Au)膜あるいはAu合金膜により形成される。さら
に、ブロック間の所定のp側電極114にヴィアホール
121において接続するp側マトリクス配線104を形
成し、このp側マトリクス配線104により、p側パッ
ド電極114bを持たないp側電極114を他のn型半
導体ブロック111のp側パッド電極114bを有する
p側電極114に接続している。p側マトリクス配線1
04とp側電極114の間には、第2層間絶縁膜118
が形成されている。なお、図27に示すLEDアレイの
ように、互いに素子分離された複数の半導体ブロックを
一列に配置し、異なる半導体ブロック間にマトリクス配
線を設けた構造のLEDアレイを、マトリクス型のLE
Dアレイと称する。
極115との間に電圧を印加すると、n型半導体ブロッ
ク111とp型半導体層113の接合面で発光現象を生
じ、この発光光をp型半導体層113の表面から外部に
放射する。p側電極114はアルミ(Al)膜あるいは
Al合金膜により形成され、またn側電極115は金
(Au)膜あるいはAu合金膜により形成される。さら
に、ブロック間の所定のp側電極114にヴィアホール
121において接続するp側マトリクス配線104を形
成し、このp側マトリクス配線104により、p側パッ
ド電極114bを持たないp側電極114を他のn型半
導体ブロック111のp側パッド電極114bを有する
p側電極114に接続している。p側マトリクス配線1
04とp側電極114の間には、第2層間絶縁膜118
が形成されている。なお、図27に示すLEDアレイの
ように、互いに素子分離された複数の半導体ブロックを
一列に配置し、異なる半導体ブロック間にマトリクス配
線を設けた構造のLEDアレイを、マトリクス型のLE
Dアレイと称する。
【0005】さらに、本願発明者らは、製造工程の簡略
化およびn側コンタクト電極の信頼性向上を図るため
に、図28に示すn側電極構造を有するLEDアレイを
提案した。図28において、(a)は上面図であり、
(b)は(a)におけるA−A’間の断面図である。図
28に示すLEDアレイ101は、1200[DPI]
対応のLEDアレイであり、n側開口部127内に一層
構造のn側電極125を形成し、n側電極125全体を
外部回路に接続するためのn側パッド電極とし、このn
側パッド電極をn型半導体ブロック111に接続した構
造である。図29は、LEDアレイ101をプリンタヘ
ッドに実装したときの構造を示す断面図である。図29
において、LEDアレイ101のp側パッド電極114
bは、Auワイヤ203aにより駆動IC201にボン
ディングされ、またn側電極125は、Auワイヤ20
3bによりブロックグランド202にボンディングされ
ている。ブロックグランド202は、LEDアレイ10
1のn型半導体ブロック111ごとに分離されたグラン
ド(接地電位)である。駆動IC201およびブロック
グランド202は、LEDアレイ101を駆動する駆動
回路を構成している。
化およびn側コンタクト電極の信頼性向上を図るため
に、図28に示すn側電極構造を有するLEDアレイを
提案した。図28において、(a)は上面図であり、
(b)は(a)におけるA−A’間の断面図である。図
28に示すLEDアレイ101は、1200[DPI]
対応のLEDアレイであり、n側開口部127内に一層
構造のn側電極125を形成し、n側電極125全体を
外部回路に接続するためのn側パッド電極とし、このn
側パッド電極をn型半導体ブロック111に接続した構
造である。図29は、LEDアレイ101をプリンタヘ
ッドに実装したときの構造を示す断面図である。図29
において、LEDアレイ101のp側パッド電極114
bは、Auワイヤ203aにより駆動IC201にボン
ディングされ、またn側電極125は、Auワイヤ20
3bによりブロックグランド202にボンディングされ
ている。ブロックグランド202は、LEDアレイ10
1のn型半導体ブロック111ごとに分離されたグラン
ド(接地電位)である。駆動IC201およびブロック
グランド202は、LEDアレイ101を駆動する駆動
回路を構成している。
【0006】図27および図28に示すLEDアレイに
おいてはn側開口部127(117)およびn側電極1
25(n側コンタクト電極115a)は、p型半導体層
113の近傍に形成され、n側電極125(n側パッド
電極115b)とp側電極114のp側パッド電極11
4bとは、p型半導体層(発光部)113に対して互い
に反対側に形成される。これに対し、図30に示すよう
に、p側パッド電極114bとn側パッド電極115b
とをp型半導体層113に対して同じ側に形成したもの
もある。図30に示すLEDアレイのn側コンタクト電
極115aは、図27と同様に、p型半導体層113に
対してp側パッド電極114bと反対側のp型半導体層
113近傍でn型半導体ブロック111に接続してお
り、n側パッド電極115bをp型半導体層113の間
からp側パッド電極114bの側に引き回したものであ
る。
おいてはn側開口部127(117)およびn側電極1
25(n側コンタクト電極115a)は、p型半導体層
113の近傍に形成され、n側電極125(n側パッド
電極115b)とp側電極114のp側パッド電極11
4bとは、p型半導体層(発光部)113に対して互い
に反対側に形成される。これに対し、図30に示すよう
に、p側パッド電極114bとn側パッド電極115b
とをp型半導体層113に対して同じ側に形成したもの
もある。図30に示すLEDアレイのn側コンタクト電
極115aは、図27と同様に、p型半導体層113に
対してp側パッド電極114bと反対側のp型半導体層
113近傍でn型半導体ブロック111に接続してお
り、n側パッド電極115bをp型半導体層113の間
からp側パッド電極114bの側に引き回したものであ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図27
および図28に示すLEDアレイにおいては、p側電極
のp側パッド電極とn側電極(n側パッド電極)とがp
型半導体層(発光部)に対して互いに反対側に配置され
ているので、プリンタヘッドに実装する際に、図29に
示すように駆動回路にボンディングするためのワイヤを
LEDアレイの両側から引き出さなければならなかっ
た。
および図28に示すLEDアレイにおいては、p側電極
のp側パッド電極とn側電極(n側パッド電極)とがp
型半導体層(発光部)に対して互いに反対側に配置され
ているので、プリンタヘッドに実装する際に、図29に
示すように駆動回路にボンディングするためのワイヤを
LEDアレイの両側から引き出さなければならなかっ
た。
【0008】図30に示すLEDアレイであれば、p側
パッド電極とn側電極とが発光部に対して同じ側に配置
されているので、プリンタヘッドに実装する際に、ワイ
ヤをLEDアレイの片側から引き出すことができ、また
LEDアレイのチップ幅サイズを小さくすることができ
る。しかし、1200[DPI]対応のLEDアレイに
おいては、p型半導層のピッチ寸法は約21[μm]で
あり、p型半導体層の間隔は約13[μm]と狭く、こ
の間にn側パッド電極の引き回し配線を形成しようとす
ると、引き回し配線とp型半導体層とが接触しまう危険
性がある。従って、図30に示す構造により、1200
[DPI]以上の高密度なLEDアレイを製造すること
は困難である。
パッド電極とn側電極とが発光部に対して同じ側に配置
されているので、プリンタヘッドに実装する際に、ワイ
ヤをLEDアレイの片側から引き出すことができ、また
LEDアレイのチップ幅サイズを小さくすることができ
る。しかし、1200[DPI]対応のLEDアレイに
おいては、p型半導層のピッチ寸法は約21[μm]で
あり、p型半導体層の間隔は約13[μm]と狭く、こ
の間にn側パッド電極の引き回し配線を形成しようとす
ると、引き回し配線とp型半導体層とが接触しまう危険
性がある。従って、図30に示す構造により、1200
[DPI]以上の高密度なLEDアレイを製造すること
は困難である。
【0009】本発明は従来の技術を改良するものであ
り、高密度に形成された発光部列に対してp側パッド電
極とn側電極とを同じ側に配置することができるLED
アレイを提供することを目的とする。さらに、発光部が
高密度に形成されたLEDアレイのチップ幅サイズを小
さくすることを目的とする。
り、高密度に形成された発光部列に対してp側パッド電
極とn側電極とを同じ側に配置することができるLED
アレイを提供することを目的とする。さらに、発光部が
高密度に形成されたLEDアレイのチップ幅サイズを小
さくすることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明のLEDアレイは、第1導電型の半導体基板
の表面基板側に第2導電型の半導体層からなるN(Nは
2以上の整数)個の発光部を一列に形成し、前記半導体
基板の表面上に、前記半導体基板を外部回路に接続する
ためのパッド電極となる第1導電側電極と、前記発光部
に個別に接続するN個の第2導電側電極とを形成し、前
記N個の第2導電側電極の少なくとも1つが外部回路に
接続するための第2導電側パッド電極を有するLEDア
レイにおいて、前記第1導電側電極が、前記発光部列に
対して前記第2導電側パッド電極と同じ側に形成され、
前記第2導電側パッド電極と同じ側で前記半導体基板に
接続していることを特徴とするものである。
めに本発明のLEDアレイは、第1導電型の半導体基板
の表面基板側に第2導電型の半導体層からなるN(Nは
2以上の整数)個の発光部を一列に形成し、前記半導体
基板の表面上に、前記半導体基板を外部回路に接続する
ためのパッド電極となる第1導電側電極と、前記発光部
に個別に接続するN個の第2導電側電極とを形成し、前
記N個の第2導電側電極の少なくとも1つが外部回路に
接続するための第2導電側パッド電極を有するLEDア
レイにおいて、前記第1導電側電極が、前記発光部列に
対して前記第2導電側パッド電極と同じ側に形成され、
前記第2導電側パッド電極と同じ側で前記半導体基板に
接続していることを特徴とするものである。
【0011】上記のLEDアレイをより具体的にしたL
EDアレイとしては、例えば、前記発光部、前記第1導
電側電極、および前記第2導電側電極を形成した前記第
1導電型の半導体基板からなる、互いに素子分離された
複数の半導体ブロックを一列に配置し、異なる半導体ブ
ロックにそれぞれ形成された所定の第2導電側電極間を
接続するマトリクス配線を形成したマトリクス型のLE
Dアレイがある。
EDアレイとしては、例えば、前記発光部、前記第1導
電側電極、および前記第2導電側電極を形成した前記第
1導電型の半導体基板からなる、互いに素子分離された
複数の半導体ブロックを一列に配置し、異なる半導体ブ
ロックにそれぞれ形成された所定の第2導電側電極間を
接続するマトリクス配線を形成したマトリクス型のLE
Dアレイがある。
【0012】また、本発明のLEDアレイの製造方法
は、前記発光部列または発光部列形成予定領域に対し
て、前記第2導電側パッド電極または第2導電側パッド
電極形成予定領域と同じ側に設定された第1導電側電極
形成予定領域における表面が露出された前記半導体基板
の表面上に、第1導電側電極となる導電膜を成膜し、こ
の導電膜をパターニングすることにより、第1導電側電
極を形成する工程を実施することを特徴とするものであ
る。
は、前記発光部列または発光部列形成予定領域に対し
て、前記第2導電側パッド電極または第2導電側パッド
電極形成予定領域と同じ側に設定された第1導電側電極
形成予定領域における表面が露出された前記半導体基板
の表面上に、第1導電側電極となる導電膜を成膜し、こ
の導電膜をパターニングすることにより、第1導電側電
極を形成する工程を実施することを特徴とするものであ
る。
【0013】また、本発明のLEDプリンタヘッドは、
上記のLEDアレイと、このLEDアレイを駆動する駆
動回路とを備え、前記第1導電側電極にボンディングさ
れたワイヤと、前記第2導電側パッド電極にボンディン
グされたワイヤとが、前記第1導電側電極にボンディン
グされたワイヤと、前記第2導電側パッド電極にボンデ
ィングされたワイヤとが、前記LEDアレイの片側から
引き出されて前記駆動回路にボンディングされているこ
とを特徴とするものである。
上記のLEDアレイと、このLEDアレイを駆動する駆
動回路とを備え、前記第1導電側電極にボンディングさ
れたワイヤと、前記第2導電側パッド電極にボンディン
グされたワイヤとが、前記第1導電側電極にボンディン
グされたワイヤと、前記第2導電側パッド電極にボンデ
ィングされたワイヤとが、前記LEDアレイの片側から
引き出されて前記駆動回路にボンディングされているこ
とを特徴とするものである。
【0014】
第1の実施形態 図1は本発明の第1の実施形態のLEDアレイ1の構造
を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)にお
けるA−A’間の断面図である。LEDアレイ1は、半
導体基板2上に一列に配置されたn型半導体ブロック1
1に、LED10を複数個ずつ形成した、1200[D
ΡI]対応のLEDアレイである。半導体基板2は、高
抵抗半導体基板2b上にエピタキシャル層等のn型半導
体基板2aを形成したものである。n型半導体ブロック
11は、n型半導体基板2aを分割したものである。こ
のn型半導体ブロック11は、高抵抗半導体基板2bと
分離溝(エッチング溝)3により互いに電気的に分離さ
れている。なお、LEDアレイ1は、第1導電型をn
型、第2導電型をp型としたマトリクス型のLEDアレ
イである。
を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)にお
けるA−A’間の断面図である。LEDアレイ1は、半
導体基板2上に一列に配置されたn型半導体ブロック1
1に、LED10を複数個ずつ形成した、1200[D
ΡI]対応のLEDアレイである。半導体基板2は、高
抵抗半導体基板2b上にエピタキシャル層等のn型半導
体基板2aを形成したものである。n型半導体ブロック
11は、n型半導体基板2aを分割したものである。こ
のn型半導体ブロック11は、高抵抗半導体基板2bと
分離溝(エッチング溝)3により互いに電気的に分離さ
れている。なお、LEDアレイ1は、第1導電型をn
型、第2導電型をp型としたマトリクス型のLEDアレ
イである。
【0015】n型半導体ブロック11には、一列にN
(Nは正の整数)個のLED10が形成されている。図
1では、N=3である。n型半導体ブロック11には、
拡散法等によるp型半導体層(p型半導体領域)からな
る発光部13が一列にN個形成されている。また、n型
半導体ブロック11上には、第1層間絶縁膜12が形成
されている。この第1層間絶縁膜12には、発光部13
のほぼ表面全域を露出させる第1開口部16aと、n型
半導体ブロック11表面を露出させるn側開口部17が
形成されている。
(Nは正の整数)個のLED10が形成されている。図
1では、N=3である。n型半導体ブロック11には、
拡散法等によるp型半導体層(p型半導体領域)からな
る発光部13が一列にN個形成されている。また、n型
半導体ブロック11上には、第1層間絶縁膜12が形成
されている。この第1層間絶縁膜12には、発光部13
のほぼ表面全域を露出させる第1開口部16aと、n型
半導体ブロック11表面を露出させるn側開口部17が
形成されている。
【0016】第1層間絶縁膜12が形成されたn型半導
体ブロック11の表面上には、N個のp側電極14と、
n側電極15とが形成されている。p側電極14は、第
1開口部16aにおいて発光部13に個別に接続してい
る。N個のp側電極14の少なくとも1つには、外部回
路に接続するためのp側パッド電極14bが一体形成さ
れている。図1では、p側パッド電極14bを有するp
側電極14が2個形成され、p側パッド電極14bを持
たないp側電極14が1個形成されている。N個のp側
電極14は、発光部13の列に対して同じ側に(図1で
は、発光部13の列の下側に)形成されている。n側電
極15は、n側開口部17内に形成されており、n型半
導体ブロック11を外部回路(例えば駆動回路)に接続
するためのパッド電極となる。このn側電極15は、n
側開口部17b内においてn型半導体ブロック11にオ
ーミック接続している。n側電極15およびn側開口部
17は、発光部13の列に対してp側パッド電極14b
と同じ側に形成されている。図1においては、p側パッ
ド電極14bおよびn側電極15は、ともに発光部13
の列の下側に形成されている。また、n側電極15は、
p側パッド電極14bの下側に形成されている。なお、
n側電極15およびn側開口部17の平面形状は図1に
示す四角形に限定されるものではない。
体ブロック11の表面上には、N個のp側電極14と、
n側電極15とが形成されている。p側電極14は、第
1開口部16aにおいて発光部13に個別に接続してい
る。N個のp側電極14の少なくとも1つには、外部回
路に接続するためのp側パッド電極14bが一体形成さ
れている。図1では、p側パッド電極14bを有するp
側電極14が2個形成され、p側パッド電極14bを持
たないp側電極14が1個形成されている。N個のp側
電極14は、発光部13の列に対して同じ側に(図1で
は、発光部13の列の下側に)形成されている。n側電
極15は、n側開口部17内に形成されており、n型半
導体ブロック11を外部回路(例えば駆動回路)に接続
するためのパッド電極となる。このn側電極15は、n
側開口部17b内においてn型半導体ブロック11にオ
ーミック接続している。n側電極15およびn側開口部
17は、発光部13の列に対してp側パッド電極14b
と同じ側に形成されている。図1においては、p側パッ
ド電極14bおよびn側電極15は、ともに発光部13
の列の下側に形成されている。また、n側電極15は、
p側パッド電極14bの下側に形成されている。なお、
n側電極15およびn側開口部17の平面形状は図1に
示す四角形に限定されるものではない。
【0017】このように、LEDアレイ1は、n側電極
15を発光部13の列に対してp側パッド電極14bと
同じ側に形成し、p側パッド電極14bと同じ側でn側
電極15が半導体ブロック11に接続しているという点
が従来のLEDアレイとは異なる。これにより、発光部
13の列が1200[DPI]という高密度に形成され
ていても、発光部13の列に対してp側パッド電極14
bとn側電極15とを同じ側に形成することができる。
従って、p側パッド電極14bにボンディングされるワ
イヤと、n側電極15にボンディングされるワイヤと
を、LEDアレイ1の片側から引き出すことができる。
図1においては、上記のワイヤを、ともにLEDアレイ
1の下側から、すなわち端面22の側から引き出すこと
ができる。なお、LEDアレイ1の長手方向の2つの端
面22および23のうち、端面22の側にはp側パッド
電極14bおよびn側電極15が形成されているので、
端面22を電極側端面と称する。これに対し、端面23
の側には、発光部13が形成されているので、端面23
を発光部側端面と称する。なお、n側電極15が発光部
13の近傍ではなく発光部13から離れて形成されたL
EDアレイ1の発光特性は、本願発明者らにより既に確
認されており、従来のLEDアレイと変わらない良好な
発光特性である。
15を発光部13の列に対してp側パッド電極14bと
同じ側に形成し、p側パッド電極14bと同じ側でn側
電極15が半導体ブロック11に接続しているという点
が従来のLEDアレイとは異なる。これにより、発光部
13の列が1200[DPI]という高密度に形成され
ていても、発光部13の列に対してp側パッド電極14
bとn側電極15とを同じ側に形成することができる。
従って、p側パッド電極14bにボンディングされるワ
イヤと、n側電極15にボンディングされるワイヤと
を、LEDアレイ1の片側から引き出すことができる。
図1においては、上記のワイヤを、ともにLEDアレイ
1の下側から、すなわち端面22の側から引き出すこと
ができる。なお、LEDアレイ1の長手方向の2つの端
面22および23のうち、端面22の側にはp側パッド
電極14bおよびn側電極15が形成されているので、
端面22を電極側端面と称する。これに対し、端面23
の側には、発光部13が形成されているので、端面23
を発光部側端面と称する。なお、n側電極15が発光部
13の近傍ではなく発光部13から離れて形成されたL
EDアレイ1の発光特性は、本願発明者らにより既に確
認されており、従来のLEDアレイと変わらない良好な
発光特性である。
【0018】第1層間絶縁膜12、p側電極14、およ
びn側電極15上には、第2層間絶縁膜18が形成され
ている。この第2層間絶縁膜18には、第1開口部16
aのほぼ全域を露出させる第2開口部16bと、p側パ
ッド電極14bを露出させるp側パッド開口部19と、
n側電極15を露出させるn側パッド開口部20と、p
側電極14を露出させるヴィアホール21とが形成され
ている。第1開口部16aと第2開口部16bとは、p
側開口部16を構成している。また、第2層間絶縁膜1
8上には、M(MはN以上の整数)本のp側マトリクス
配線4が形成されている。図1のLEDアレイ1におい
ては、M=9である。このp側マトリクス配線4は、全
てのn型半導体ブロック11に渡って形成されており、
ヴィアホール21においてp側電極14と接続してい
る。
びn側電極15上には、第2層間絶縁膜18が形成され
ている。この第2層間絶縁膜18には、第1開口部16
aのほぼ全域を露出させる第2開口部16bと、p側パ
ッド電極14bを露出させるp側パッド開口部19と、
n側電極15を露出させるn側パッド開口部20と、p
側電極14を露出させるヴィアホール21とが形成され
ている。第1開口部16aと第2開口部16bとは、p
側開口部16を構成している。また、第2層間絶縁膜1
8上には、M(MはN以上の整数)本のp側マトリクス
配線4が形成されている。図1のLEDアレイ1におい
ては、M=9である。このp側マトリクス配線4は、全
てのn型半導体ブロック11に渡って形成されており、
ヴィアホール21においてp側電極14と接続してい
る。
【0019】LED10は、N個のLED10に共通な
n型半導体ブロック11と、このn型半導体ブロック1
1に個別に形成された発光部13と、発光部13に個別
に形成されたp側電極14と、n型半導体ブロック11
内のN個LED10に共通に形成されたn側電極15と
により構成されている。発光部(p型半導体層)13の
深さ寸法は、n型半導体ブロック11の厚さ寸法よりも
小さい。従って、発光部13は、n型半導体ブロック1
1に浮島状に形成されている。p側電極14とn側電極
15の間に電圧を印加すると、発光部13とn型半導体
ブロック11との接合面で発光現象が起こり、この発光
光が発光部13の表面から外部に放射される。すなわ
ち、図1(b)に示すように、発光光は発光部13から
垂直方向上向きに放射される。
n型半導体ブロック11と、このn型半導体ブロック1
1に個別に形成された発光部13と、発光部13に個別
に形成されたp側電極14と、n型半導体ブロック11
内のN個LED10に共通に形成されたn側電極15と
により構成されている。発光部(p型半導体層)13の
深さ寸法は、n型半導体ブロック11の厚さ寸法よりも
小さい。従って、発光部13は、n型半導体ブロック1
1に浮島状に形成されている。p側電極14とn側電極
15の間に電圧を印加すると、発光部13とn型半導体
ブロック11との接合面で発光現象が起こり、この発光
光が発光部13の表面から外部に放射される。すなわ
ち、図1(b)に示すように、発光光は発光部13から
垂直方向上向きに放射される。
【0020】図1に示す第1の実施形態のLEDアレイ
1の製造工程を以下に説明する。図2ないし図13はL
EDアレイ1の製造工程の一例を示す図である。それぞ
れの図において、(a)は上面図であり、(b)は
(a)におけるA−A’間の断面図である。また図8
(c)は図8(a)におけるB−B’間の断面図であ
る。
1の製造工程を以下に説明する。図2ないし図13はL
EDアレイ1の製造工程の一例を示す図である。それぞ
れの図において、(a)は上面図であり、(b)は
(a)におけるA−A’間の断面図である。また図8
(c)は図8(a)におけるB−B’間の断面図であ
る。
【0021】まず図2に示すように、高抵抗半導体基板
2b上にn型半導体基板2aを有する半導体基板2を作
製する。ここでは、高抵抗半導体基板2bとして半絶縁
性の砒化ガリウム基板(GaAs基板)を用いる。ま
た、この半絶縁性GaAs基板上に、n型のAlGaA
s層をエピタキシャル成長させ、このAlGaAsエピ
タキシャル層をn型半導体基板2aとする。n型半導体
基板2a(n型エピタキシャル層)の厚さは、例えば約
3[μm]とする。
2b上にn型半導体基板2aを有する半導体基板2を作
製する。ここでは、高抵抗半導体基板2bとして半絶縁
性の砒化ガリウム基板(GaAs基板)を用いる。ま
た、この半絶縁性GaAs基板上に、n型のAlGaA
s層をエピタキシャル成長させ、このAlGaAsエピ
タキシャル層をn型半導体基板2aとする。n型半導体
基板2a(n型エピタキシャル層)の厚さは、例えば約
3[μm]とする。
【0022】次に図3に示すように、n型半導体基板2
aの表面に拡散マスク25となる第1層間絶縁膜12を
成膜し、この第1層間絶縁膜12をホトリソおよびエッ
チング法によりパターニングして第1開口部16aおよ
び拡散マスク25を形成する。第1層間絶縁膜12(拡
散マスク25)としては、例えばSiN膜を用いる。こ
のSiN膜はCVD法により成膜され、その膜厚は、例
えば500〜3000[Å]程度である。次に図4ない
し図6に示すように、n型半導体基板2aの表面基板側
にp型半導体層(発光部)13を形成する。ここではZ
n固相拡散法を用いる。すなわち、第1開口部16aの
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、Ζn拡散
源膜26を成膜し、さらにその上にアニールキャップ膜
27を成膜する。Ζn拡散源膜26としては、例えばZ
nO−SiO2 混合膜を成膜する。このZnO−SiO
2 混合膜は、酸化亜鉛(ZnO)と酸化シリコン(Si
O2 )とを1:1に混合した膜であり、スパッタ法によ
り成膜される。アニールキャップ膜27としては、例え
ばスパッタ法により成膜されるアルミ窒化膜(AlN
膜)を用いる。上記のZnO−SiO2 混合膜の膜厚
は、例えば500〜3000[Å]程度であり、また上
記のAlN膜の膜厚は、例えば500〜3000[Å]
程度である。
aの表面に拡散マスク25となる第1層間絶縁膜12を
成膜し、この第1層間絶縁膜12をホトリソおよびエッ
チング法によりパターニングして第1開口部16aおよ
び拡散マスク25を形成する。第1層間絶縁膜12(拡
散マスク25)としては、例えばSiN膜を用いる。こ
のSiN膜はCVD法により成膜され、その膜厚は、例
えば500〜3000[Å]程度である。次に図4ない
し図6に示すように、n型半導体基板2aの表面基板側
にp型半導体層(発光部)13を形成する。ここではZ
n固相拡散法を用いる。すなわち、第1開口部16aの
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、Ζn拡散
源膜26を成膜し、さらにその上にアニールキャップ膜
27を成膜する。Ζn拡散源膜26としては、例えばZ
nO−SiO2 混合膜を成膜する。このZnO−SiO
2 混合膜は、酸化亜鉛(ZnO)と酸化シリコン(Si
O2 )とを1:1に混合した膜であり、スパッタ法によ
り成膜される。アニールキャップ膜27としては、例え
ばスパッタ法により成膜されるアルミ窒化膜(AlN
膜)を用いる。上記のZnO−SiO2 混合膜の膜厚
は、例えば500〜3000[Å]程度であり、また上
記のAlN膜の膜厚は、例えば500〜3000[Å]
程度である。
【0023】続いて、アニーリングキャップ膜27の形
成が済んだn型半導体基板2aに高温アニールを施し、
Ζn拡散源膜26からn型半導体基板2a中にZnを拡
散させる。第1開口部16aにおいてはZnがn型半導
体基板2a中に拡散するが、拡散マスク25が形成され
ている領域においては、Znは拡散しないので、n型半
導体基板2aの第1開口部16aに対応する領域に選択
的にp型半導体層(発光部)13が形成される。上記の
高温アニールの条件は、例えば窒素大気圧下においてア
ニール温度700[℃]、アニール時間2時間である。
このアニール条件により深さが約1[μm]、表面Zn
濃度が1020[cm3 ]のp型半導体層(発光部)13
が形成される。n型半導体基板2aの厚さは上述のよう
に約3[μm]であるから、p型半導体層の深さ寸法
は、n型半導体基板2aの厚さ寸法よりも小さい。な
お、アニールキャップ膜27は、Znがアニール雰囲気
中に拡散してしまうのを防止する。
成が済んだn型半導体基板2aに高温アニールを施し、
Ζn拡散源膜26からn型半導体基板2a中にZnを拡
散させる。第1開口部16aにおいてはZnがn型半導
体基板2a中に拡散するが、拡散マスク25が形成され
ている領域においては、Znは拡散しないので、n型半
導体基板2aの第1開口部16aに対応する領域に選択
的にp型半導体層(発光部)13が形成される。上記の
高温アニールの条件は、例えば窒素大気圧下においてア
ニール温度700[℃]、アニール時間2時間である。
このアニール条件により深さが約1[μm]、表面Zn
濃度が1020[cm3 ]のp型半導体層(発光部)13
が形成される。n型半導体基板2aの厚さは上述のよう
に約3[μm]であるから、p型半導体層の深さ寸法
は、n型半導体基板2aの厚さ寸法よりも小さい。な
お、アニールキャップ膜27は、Znがアニール雰囲気
中に拡散してしまうのを防止する。
【0024】次に図7に示すように、発光部13の形成
が済んだn型半導体基板2aにおいて、表面上に形成さ
れている拡散源膜26およびアニールキャップ膜27を
例えばウエットエッチング法により全面的に除去し、第
1層間絶縁膜12(拡散マスク25)のみを残す。
が済んだn型半導体基板2aにおいて、表面上に形成さ
れている拡散源膜26およびアニールキャップ膜27を
例えばウエットエッチング法により全面的に除去し、第
1層間絶縁膜12(拡散マスク25)のみを残す。
【0025】次に図8に示すように、拡散源膜26およ
びアニールキャップ膜27の除去が済んだn型半導体基
板2aにおいて、層間絶縁膜12にホトリソおよびエッ
チング法によりn側開口部17を形成する。このn型開
口部17は、n側電極15の形成予定領域に形成され、
この領域のn型半導体基板2aを露出されるものであ
る。上記のn側電極15の形成予定領域は、発光部13
の列(第1開口部16aの列)に対して、p側パッド電
極14bの形成予定領域と同じ側に設定される。図8
(a)では、p側パッド電極14bの形成予定領域と、
n側電極15の形成予定領域とは、ともに発光部13の
列の下側に設定されており、従ってn側開口部17は、
発光部13の列の下側に形成されている。
びアニールキャップ膜27の除去が済んだn型半導体基
板2aにおいて、層間絶縁膜12にホトリソおよびエッ
チング法によりn側開口部17を形成する。このn型開
口部17は、n側電極15の形成予定領域に形成され、
この領域のn型半導体基板2aを露出されるものであ
る。上記のn側電極15の形成予定領域は、発光部13
の列(第1開口部16aの列)に対して、p側パッド電
極14bの形成予定領域と同じ側に設定される。図8
(a)では、p側パッド電極14bの形成予定領域と、
n側電極15の形成予定領域とは、ともに発光部13の
列の下側に設定されており、従ってn側開口部17は、
発光部13の列の下側に形成されている。
【0026】次に図9に示すように、n側開口部17の
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、p側電極
14となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ法
によりパターニングし、p側電極14を形成する。すな
わち、p側電極14の形成予定領域以外の領域を抜きパ
ターンとするホトレジストパターンを形成し、その上全
面にp側電極14となる導電膜を成膜し、上記のホトレ
ジストおよびその上に成膜された導電膜をリフトオフす
ることにより、p側パッド電極14bを有するp側電極
14およびp側パッド電極14bを持たないp側電極1
4を形成する。p側電極14は、その一部が第1開口部
16aにおいて発光部13の表面にオーバーラップする
ように形成される。p側電極14となる導電膜として
は、例えばAl膜を用いる。このあと、p側電極14を
第1開口部16aにおいて発光部13にオーミック接続
させるためのシンター処理(熱処理)を施す。
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、p側電極
14となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ法
によりパターニングし、p側電極14を形成する。すな
わち、p側電極14の形成予定領域以外の領域を抜きパ
ターンとするホトレジストパターンを形成し、その上全
面にp側電極14となる導電膜を成膜し、上記のホトレ
ジストおよびその上に成膜された導電膜をリフトオフす
ることにより、p側パッド電極14bを有するp側電極
14およびp側パッド電極14bを持たないp側電極1
4を形成する。p側電極14は、その一部が第1開口部
16aにおいて発光部13の表面にオーバーラップする
ように形成される。p側電極14となる導電膜として
は、例えばAl膜を用いる。このあと、p側電極14を
第1開口部16aにおいて発光部13にオーミック接続
させるためのシンター処理(熱処理)を施す。
【0027】次に図10に示すように、p側電極14の
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、n側電極
15となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ法
によりパターニングし、n側電極15を形成する。n側
電極15は、n側開口部17内に形成され、またn型半
導体基板2aの表面に密着して形成される。このあと、
n側電極15をn型半導体基板2aにオーミック接続さ
せるためのシンター処理を施す。n側コンタクト電極1
5となる導電膜としては、n型半導体基板2aにオーミ
ック接続できる導電膜、例えばAu合金膜を用いる。こ
のAu合金膜としては、チタン(Ti)膜と白金(P
t)膜とAu膜との積層金属膜、またはΑu、ゲルマニ
ウム(Ge)、およびニッケル(Ni)の合金膜とAu
膜との積層合金膜(AuGeNi/Au膜)、またはΑ
uおよびGeの合金膜とNi膜とAu膜との積層合金膜
(ΑuGe/Ni/Au膜)、等がある。n側電極15
は、発光部13の列(第1開口部16aの列)に対し
て、p側パッド電極14bと同じ側に形成されている。
図10(a)では、p側パッド電極14bとn側電極1
5とは、ともに発光部13の列の下側に形成されてい
る。またn側電極15は、p側パッド電極14bの下側
に形成されている。
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、n側電極
15となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ法
によりパターニングし、n側電極15を形成する。n側
電極15は、n側開口部17内に形成され、またn型半
導体基板2aの表面に密着して形成される。このあと、
n側電極15をn型半導体基板2aにオーミック接続さ
せるためのシンター処理を施す。n側コンタクト電極1
5となる導電膜としては、n型半導体基板2aにオーミ
ック接続できる導電膜、例えばAu合金膜を用いる。こ
のAu合金膜としては、チタン(Ti)膜と白金(P
t)膜とAu膜との積層金属膜、またはΑu、ゲルマニ
ウム(Ge)、およびニッケル(Ni)の合金膜とAu
膜との積層合金膜(AuGeNi/Au膜)、またはΑ
uおよびGeの合金膜とNi膜とAu膜との積層合金膜
(ΑuGe/Ni/Au膜)、等がある。n側電極15
は、発光部13の列(第1開口部16aの列)に対し
て、p側パッド電極14bと同じ側に形成されている。
図10(a)では、p側パッド電極14bとn側電極1
5とは、ともに発光部13の列の下側に形成されてい
る。またn側電極15は、p側パッド電極14bの下側
に形成されている。
【0028】このように、LEDアレイ1の製造工程
は、n側電極15を発光部13の列に対してp側パッド
電極14bと同じ側に設定した形成予定領域に形成し、
形成したn側電極15をp側パッド電極14bと同じ側
で半導体ブロック11に接続するという点が従来のLE
Dアレイの製造工程とは異なる。これにより、発光部1
3の列を1200[DPI]という高密度に形成する場
合にも、発光部13の列に対してp側パッド電極14b
とn側電極15とを同じ側に形成することが可能とな
る。
は、n側電極15を発光部13の列に対してp側パッド
電極14bと同じ側に設定した形成予定領域に形成し、
形成したn側電極15をp側パッド電極14bと同じ側
で半導体ブロック11に接続するという点が従来のLE
Dアレイの製造工程とは異なる。これにより、発光部1
3の列を1200[DPI]という高密度に形成する場
合にも、発光部13の列に対してp側パッド電極14b
とn側電極15とを同じ側に形成することが可能とな
る。
【0029】なお、図9に示す工程と図10に示す工程
とを一つにして、n側電極15とp側電極14とを同時
に形成しても良い。すなわち、n側開口部17の形成が
済んだn型半導体基板2aの表面上に、n側電極15お
よびp側電極14となる導電膜を成膜し、この導電膜を
リフトオフ法によりパターニングしても良い。ただしこ
の場合は、上記の導電膜としては、n型半導体基板2a
およびp型半導体層(発光部)13のいずれにもオーミ
ックコンタクトできる導電膜、例えばAu合金膜を用い
る必要がある。このように、n側電極15とp側電極1
4とを同時形成することにより、導電膜の成膜工程およ
びそのパターニング工程を1回減らすことができるの
で、工程を簡略化することができる。
とを一つにして、n側電極15とp側電極14とを同時
に形成しても良い。すなわち、n側開口部17の形成が
済んだn型半導体基板2aの表面上に、n側電極15お
よびp側電極14となる導電膜を成膜し、この導電膜を
リフトオフ法によりパターニングしても良い。ただしこ
の場合は、上記の導電膜としては、n型半導体基板2a
およびp型半導体層(発光部)13のいずれにもオーミ
ックコンタクトできる導電膜、例えばAu合金膜を用い
る必要がある。このように、n側電極15とp側電極1
4とを同時形成することにより、導電膜の成膜工程およ
びそのパターニング工程を1回減らすことができるの
で、工程を簡略化することができる。
【0030】次に図11に示すように、n側電極15の
形成が済んだn型半導体基板2aに高抵抗半導体基板2
bに至る分離溝3を形成し、n型半導体基板2aをn型
半導体ブロック11に分割する。すなわち、ホトリソお
よびエッチング法により分離溝形成予定領域にある第1
層間絶縁膜12およびその下のn型半導体基板2aをエ
ッチングし、高抵抗半導体基板11bを露出させる。こ
れにより、n型半導体ブロック11は、分離溝3および
高抵抗半導体基板2bにより、互いに素子分離されたも
のとなる。厚さ約3[μm]のn型半導体ブロック11
(n型半導体基板2a)および膜厚500〜3000
[Å]程度の第1層間絶縁膜12に対し、分離溝3の深
さは、例えば約3.5[μm]とする。また分離溝3の
幅は、発光部13の間隔により制限される。1200
[DPI]のLEDアレイにおいては、発光部13のピ
ッチ寸法は約21[μm]であり、発光部13の幅を約
8[μm]とすると、分離溝3の幅は13[μm]未満
でなければならない。
形成が済んだn型半導体基板2aに高抵抗半導体基板2
bに至る分離溝3を形成し、n型半導体基板2aをn型
半導体ブロック11に分割する。すなわち、ホトリソお
よびエッチング法により分離溝形成予定領域にある第1
層間絶縁膜12およびその下のn型半導体基板2aをエ
ッチングし、高抵抗半導体基板11bを露出させる。こ
れにより、n型半導体ブロック11は、分離溝3および
高抵抗半導体基板2bにより、互いに素子分離されたも
のとなる。厚さ約3[μm]のn型半導体ブロック11
(n型半導体基板2a)および膜厚500〜3000
[Å]程度の第1層間絶縁膜12に対し、分離溝3の深
さは、例えば約3.5[μm]とする。また分離溝3の
幅は、発光部13の間隔により制限される。1200
[DPI]のLEDアレイにおいては、発光部13のピ
ッチ寸法は約21[μm]であり、発光部13の幅を約
8[μm]とすると、分離溝3の幅は13[μm]未満
でなければならない。
【0031】次に図12に示すように、分離溝3の形成
が済んだ半導体基板2の表面上に、第2層間絶縁膜18
を形成し、この第2層間絶縁膜18に、ほぼ第1開口部
16aと同じ領域を開口する第2開口部16bと、p側
パッド電極14bを開口するp側パッド開口部19と、
n側電極15を開口するn側パッド開口部20と、p側
電極14に至るヴィアホール21とを形成する。第2層
間絶縁膜18としては、例えばポリイミド膜を用いる。
ポリイミド膜は、例えばホトレジストの現像液(アルカ
リ性溶液)に溶解するポリイミドを用いて以下のように
形成およびパターニングする。ポリイミドソースを半導
体基板2(ウエハ)にスピンコートし、100[℃]程
度でプリベークする。次に、プリベークが済んだポリイ
ミド膜の上にホトレジストをスピンコートし、このホト
レジストに上記の開口部およびヴィアホール21が抜き
パターンとなるような露光を施す。ホトレジストの現像
の際に、レジストが形成されていないポリイミド膜領域
も除去され、ポリイミド膜がパターニングされる。次に
残ったレジストを剥離し、パターニングされたポリイミ
ド膜を350[℃]程度で焼成する。
が済んだ半導体基板2の表面上に、第2層間絶縁膜18
を形成し、この第2層間絶縁膜18に、ほぼ第1開口部
16aと同じ領域を開口する第2開口部16bと、p側
パッド電極14bを開口するp側パッド開口部19と、
n側電極15を開口するn側パッド開口部20と、p側
電極14に至るヴィアホール21とを形成する。第2層
間絶縁膜18としては、例えばポリイミド膜を用いる。
ポリイミド膜は、例えばホトレジストの現像液(アルカ
リ性溶液)に溶解するポリイミドを用いて以下のように
形成およびパターニングする。ポリイミドソースを半導
体基板2(ウエハ)にスピンコートし、100[℃]程
度でプリベークする。次に、プリベークが済んだポリイ
ミド膜の上にホトレジストをスピンコートし、このホト
レジストに上記の開口部およびヴィアホール21が抜き
パターンとなるような露光を施す。ホトレジストの現像
の際に、レジストが形成されていないポリイミド膜領域
も除去され、ポリイミド膜がパターニングされる。次に
残ったレジストを剥離し、パターニングされたポリイミ
ド膜を350[℃]程度で焼成する。
【0032】最後に図13に示すように、第2層間絶縁
膜18のパターニングが済んだ半導体基板2全面に、p
側マトリクス配線4となる導電膜を成膜し、この導電膜
をリフトオフ法によりパターニングし、p側マトリクス
配線4を形成する。このあとシンター処理を施し、ヴィ
アホール21においてp側マトリクス配線4をp側電極
14にオーミック接続させる。p型マトリクス配線4と
なる導電膜としては、例えばp側電極14にAlを使用
した場合にはAl膜、Au合金を使用した場合にはAu
合金膜を用いる。以上のようにして、図1に示すLED
アレイ1が製造される。
膜18のパターニングが済んだ半導体基板2全面に、p
側マトリクス配線4となる導電膜を成膜し、この導電膜
をリフトオフ法によりパターニングし、p側マトリクス
配線4を形成する。このあとシンター処理を施し、ヴィ
アホール21においてp側マトリクス配線4をp側電極
14にオーミック接続させる。p型マトリクス配線4と
なる導電膜としては、例えばp側電極14にAlを使用
した場合にはAl膜、Au合金を使用した場合にはAu
合金膜を用いる。以上のようにして、図1に示すLED
アレイ1が製造される。
【0033】図14は本発明の第1の実施形態のLED
アレイ1をプリンタヘッドに実装したときの構造を示す
断面図である。図14に示すプリンタヘッドは、LED
アレイ1と、LEDアレイ1を駆動する駆動回路とを有
する。上記の駆動回路は、駆動IC201とブロックグ
ランド202とを有する。LEDアレイ1のp側パッド
電極14bは、Auワイヤ203aにより駆動IC20
1にボンディングされ、またn側電極15は、Auワイ
ヤ203bによりブロックグランド202にボンディン
グされている。図14に示すプリンタヘッドは、120
0[DPI]という高密度のLEDアレイ1の片側か
ら、p側パッド電極14bにボンディングされたワイヤ
203aと、n側電極15にボンディングされたワイヤ
203bとを引き出していることを特徴とするものであ
る。すなわち、LEDアレイ1の電極側端面22の側か
らのみワイヤが引き出されており、発光部側端面23の
側からはワイヤが引き出されていないことを特徴とする
ものである。
アレイ1をプリンタヘッドに実装したときの構造を示す
断面図である。図14に示すプリンタヘッドは、LED
アレイ1と、LEDアレイ1を駆動する駆動回路とを有
する。上記の駆動回路は、駆動IC201とブロックグ
ランド202とを有する。LEDアレイ1のp側パッド
電極14bは、Auワイヤ203aにより駆動IC20
1にボンディングされ、またn側電極15は、Auワイ
ヤ203bによりブロックグランド202にボンディン
グされている。図14に示すプリンタヘッドは、120
0[DPI]という高密度のLEDアレイ1の片側か
ら、p側パッド電極14bにボンディングされたワイヤ
203aと、n側電極15にボンディングされたワイヤ
203bとを引き出していることを特徴とするものであ
る。すなわち、LEDアレイ1の電極側端面22の側か
らのみワイヤが引き出されており、発光部側端面23の
側からはワイヤが引き出されていないことを特徴とする
ものである。
【0034】このように、LEDアレイ1を用いてプリ
ンタヘッドを構成することにより、LEDアレイを高密
度にしても、LEDアレイの片側からワイヤを引き出す
ことができるので、プリンタヘッドを小さくすることが
できる。また、LEDアレイの両側からワイヤを引き出
す場合に比べて容易に実装することができるので、実装
コストを安くすることができる。
ンタヘッドを構成することにより、LEDアレイを高密
度にしても、LEDアレイの片側からワイヤを引き出す
ことができるので、プリンタヘッドを小さくすることが
できる。また、LEDアレイの両側からワイヤを引き出
す場合に比べて容易に実装することができるので、実装
コストを安くすることができる。
【0035】次に、LEDアレイ1の動作について簡単
に説明する。n型半導体ブロック11を図1の右側から
順に11−1、11−2、11−3…とする。また、n
型半導体ブロック11内において、LED10を図1の
右側から順に10−1、10−2、10−3とし、p側
電極14を図1の右側から順に14−1、14−2、1
4−3とする。また、p側マトリクス配線4を図1の下
側から順に4−1、4−2…4−9とする。
に説明する。n型半導体ブロック11を図1の右側から
順に11−1、11−2、11−3…とする。また、n
型半導体ブロック11内において、LED10を図1の
右側から順に10−1、10−2、10−3とし、p側
電極14を図1の右側から順に14−1、14−2、1
4−3とする。また、p側マトリクス配線4を図1の下
側から順に4−1、4−2…4−9とする。
【0036】n型半導体ブロック11−1において、p
側電極14−1はp側マトリクス配線4−1に接続し、
p側電極14−2はp側マトリクス配線4−2に接続
し、またp側電極14−3はp側マトリクス配線4−3
に接続している。n型半導体ブロック11−2において
p側電極14−1はp側マトリクス配線4−4に接続
し、またn型半導体ブロック11−3においてp側電極
14−1はp側マトリクス配線4−7に接続している。
さらに図示しないn型半導体ブロック11−4において
は、n型半導体ブロック11−1と同じように、p側電
極14−1はp側マトリクス配線4−1に接続し、p側
電極14−2はp側マトリクス配線4−2に接続し、ま
たp側電極14−3はp側マトリクス配線4−3に接続
している。
側電極14−1はp側マトリクス配線4−1に接続し、
p側電極14−2はp側マトリクス配線4−2に接続
し、またp側電極14−3はp側マトリクス配線4−3
に接続している。n型半導体ブロック11−2において
p側電極14−1はp側マトリクス配線4−4に接続
し、またn型半導体ブロック11−3においてp側電極
14−1はp側マトリクス配線4−7に接続している。
さらに図示しないn型半導体ブロック11−4において
は、n型半導体ブロック11−1と同じように、p側電
極14−1はp側マトリクス配線4−1に接続し、p側
電極14−2はp側マトリクス配線4−2に接続し、ま
たp側電極14−3はp側マトリクス配線4−3に接続
している。
【0037】n型半導体ブロック11−1〜11−3に
おいては、p側電極14−1および14−2がp側パッ
ド電極14bを有する。また図示しないn型半導体ブロ
ック11−4〜11−6においてはp側電極14−2お
よび14−3がp側パッド電極14bを有し、図示しな
いn型半導体ブロック11−7〜11−9においてはp
側電極14−1および14−3がp側パッド電極14b
を有する。
おいては、p側電極14−1および14−2がp側パッ
ド電極14bを有する。また図示しないn型半導体ブロ
ック11−4〜11−6においてはp側電極14−2お
よび14−3がp側パッド電極14bを有し、図示しな
いn型半導体ブロック11−7〜11−9においてはp
側電極14−1および14−3がp側パッド電極14b
を有する。
【0038】例えば、n型半導体ブロック11−1のL
ED10−1を点灯させるには、n型半導体ブロック1
1−1のp側電極14−1(そのp側パッド電極14b
−1)と、n型半導体ブロック11−1のn側電極15
(そのn側パッド電極15b)との間に電圧を印加す
る。このとき、図示しないn型半導体ブロック11−4
のLED10−1を同時に点灯させるのであれば、n型
半導体ブロック11−4のn側電極15をn型半導体ブ
ロック11−1のn側電極15と同じ電位にすれば良
い。なぜならば、n型半導体ブロック11−4のp側電
極14−1は、p側マトリクス配線4−1により、n型
半導体ブロック11−1のp側電極14−1と接続して
いるからである。n型半導体ブロック11−1のLED
10−1を点灯させているときに、n型半導体ブロック
11−4のLED10−1を消灯させるのであれば、n
型半導体ブロック11−4のn側電極15を開放とすれ
ば良い。また、n型半導体ブロック11−1のLED1
0−3を点灯させるには、p側マトリクス配線4−3に
接続し、かつp側パッド電極14bを有する他のn型半
導体ブロック11のp側電極14、例えば図示しないn
型半導体ブロック11−4のp側電極14−3のp側パ
ッド電極14bと、n型半導体ブロック11−1のn側
電極15との間に電圧を印加すれば良い。
ED10−1を点灯させるには、n型半導体ブロック1
1−1のp側電極14−1(そのp側パッド電極14b
−1)と、n型半導体ブロック11−1のn側電極15
(そのn側パッド電極15b)との間に電圧を印加す
る。このとき、図示しないn型半導体ブロック11−4
のLED10−1を同時に点灯させるのであれば、n型
半導体ブロック11−4のn側電極15をn型半導体ブ
ロック11−1のn側電極15と同じ電位にすれば良
い。なぜならば、n型半導体ブロック11−4のp側電
極14−1は、p側マトリクス配線4−1により、n型
半導体ブロック11−1のp側電極14−1と接続して
いるからである。n型半導体ブロック11−1のLED
10−1を点灯させているときに、n型半導体ブロック
11−4のLED10−1を消灯させるのであれば、n
型半導体ブロック11−4のn側電極15を開放とすれ
ば良い。また、n型半導体ブロック11−1のLED1
0−3を点灯させるには、p側マトリクス配線4−3に
接続し、かつp側パッド電極14bを有する他のn型半
導体ブロック11のp側電極14、例えば図示しないn
型半導体ブロック11−4のp側電極14−3のp側パ
ッド電極14bと、n型半導体ブロック11−1のn側
電極15との間に電圧を印加すれば良い。
【0039】このように第1の実施形態によれば、n側
電極15を発光部13の列に対してp側パッド電極14
bと同じ側に形成し、p側パッド電極14bと同じ側で
n型半導体ブロック11に接続させることにより、n側
電極15pをp側パッド電極14bと同じ側に配置した
高密度のLEDアレイを実現することができる。また、
この高密度のLEDアレイを用いてプリンタヘッドを構
成することにより、ボンディングワイヤをLEDアレイ
の片側から引き出すことができるので、プリンタヘッド
のへッドサイズを小さくすることができる。また実装作
業が容易になるので、実装コストを安くすることができ
る。
電極15を発光部13の列に対してp側パッド電極14
bと同じ側に形成し、p側パッド電極14bと同じ側で
n型半導体ブロック11に接続させることにより、n側
電極15pをp側パッド電極14bと同じ側に配置した
高密度のLEDアレイを実現することができる。また、
この高密度のLEDアレイを用いてプリンタヘッドを構
成することにより、ボンディングワイヤをLEDアレイ
の片側から引き出すことができるので、プリンタヘッド
のへッドサイズを小さくすることができる。また実装作
業が容易になるので、実装コストを安くすることができ
る。
【0040】第2の実施形態 n側電極とp側パッド電極とを発光部列に対して同じ側
に配置する上記第1のの形態を適用することにより、発
光がLEDアレイの端面から水平方向に放射される端面
発光型のLEDアレイを実現することができる。なお、
端面発光型に対し、図1のLEDアレイを上面発光型と
称する。端面発光型のLEDアレイは、発光部(p型半
導体層)の表面に全面的にp側電極を形成することがで
きるので、発光部とp側電極との接続面積を大きくする
ことが可能であり、これにより上面発光型のLEDアレ
イよりもしきい値電圧を小さくできることが特徴であ
る。
に配置する上記第1のの形態を適用することにより、発
光がLEDアレイの端面から水平方向に放射される端面
発光型のLEDアレイを実現することができる。なお、
端面発光型に対し、図1のLEDアレイを上面発光型と
称する。端面発光型のLEDアレイは、発光部(p型半
導体層)の表面に全面的にp側電極を形成することがで
きるので、発光部とp側電極との接続面積を大きくする
ことが可能であり、これにより上面発光型のLEDアレ
イよりもしきい値電圧を小さくできることが特徴であ
る。
【0041】図15は本発明の第2の実施形態のLED
アレイ31の構造を示す図であり、(a)は上面図、
(b)は(a)におけるA−A’間の断面図である。な
お、図15において、図1と同じものには同一符号を付
してある。LEDアレイ31は、端面発光型のLEDア
レイであり、図1のLEDアレイ1において、発光部1
3を発光部43とし、またp側開口部16をp側開口部
46としたものである。
アレイ31の構造を示す図であり、(a)は上面図、
(b)は(a)におけるA−A’間の断面図である。な
お、図15において、図1と同じものには同一符号を付
してある。LEDアレイ31は、端面発光型のLEDア
レイであり、図1のLEDアレイ1において、発光部1
3を発光部43とし、またp側開口部16をp側開口部
46としたものである。
【0042】発光部(p型半導体層)43は、n型半導
体ブロック11(n型半導体基板2a)の発光部側端面
23に近接して形成されいる。p型開口部46は、第1
層間絶縁膜12に設けられたものであり、図1の第1開
口部16aに相当するものである。開口部46内におけ
る発光部43の表面は、p側電極14により全面的に被
覆されている。第2層間絶縁膜18には、図1の第2開
口部16bに相当する開口を設ける必要はない。LED
31においては、発光光は発光部側端面23から放射さ
れる。すなわち、図15(b)において、水平方向右向
きに放射される。端面発光型のLEDアレイ31の発光
特性は、本願発明者らにより既に確認されており、従来
のLEDアレイと変わらない良好な発光特性である。な
お、LED31の製造工程は、基本的に上記第1の実施
形態と同様である。ただし、発光部側端面23を加工す
る工程が追加される場合がある。また、LEDアレイ3
1の動作は、発光部側端面から発光光を放射することを
除いて、上記第1の実施形態のLEDアレイ1と同じで
ある。
体ブロック11(n型半導体基板2a)の発光部側端面
23に近接して形成されいる。p型開口部46は、第1
層間絶縁膜12に設けられたものであり、図1の第1開
口部16aに相当するものである。開口部46内におけ
る発光部43の表面は、p側電極14により全面的に被
覆されている。第2層間絶縁膜18には、図1の第2開
口部16bに相当する開口を設ける必要はない。LED
31においては、発光光は発光部側端面23から放射さ
れる。すなわち、図15(b)において、水平方向右向
きに放射される。端面発光型のLEDアレイ31の発光
特性は、本願発明者らにより既に確認されており、従来
のLEDアレイと変わらない良好な発光特性である。な
お、LED31の製造工程は、基本的に上記第1の実施
形態と同様である。ただし、発光部側端面23を加工す
る工程が追加される場合がある。また、LEDアレイ3
1の動作は、発光部側端面から発光光を放射することを
除いて、上記第1の実施形態のLEDアレイ1と同じで
ある。
【0043】このように、n側電極15とp側パッド電
極14bとを発光部43に対して同じ側に形成し、発光
部(p型半導体層)43を発光部側端面23に近接して
形成することにより、発光部43の列を高密度に形成し
た端面発光型のLEDアレイ31を製造することが可能
となる。また、端面発光型であることにより、LEDア
レイ31の幅サイズを、図1のLEDアレイ1に比べ
て、発光部13から発光部側端面23までの寸法(図1
に示す寸法D)の分だけ小さくすることができる。
極14bとを発光部43に対して同じ側に形成し、発光
部(p型半導体層)43を発光部側端面23に近接して
形成することにより、発光部43の列を高密度に形成し
た端面発光型のLEDアレイ31を製造することが可能
となる。また、端面発光型であることにより、LEDア
レイ31の幅サイズを、図1のLEDアレイ1に比べ
て、発光部13から発光部側端面23までの寸法(図1
に示す寸法D)の分だけ小さくすることができる。
【0044】図16は本発明の第2の実施形態のLED
アレイ31をプリンタヘッドに実装したときの構造を示
す断面図である。なお、図16において、図14と同じ
ものには同じ符号を付してある。図16に示すように、
端面発光型のLEDアレイ31を用いても、上記第1の
形態形態と同様に、LEDアレイ31の片側から、すな
わち電極側端面22の側のみからワイヤを引き出すこと
ができる。また、図1に示す寸法Dの分だけLEDアレ
イ自体の幅サイズを小さくすることができるので、上記
第1の実施形態よりもさらにプリンタヘッドのヘッドサ
イズを小さくすることができる。
アレイ31をプリンタヘッドに実装したときの構造を示
す断面図である。なお、図16において、図14と同じ
ものには同じ符号を付してある。図16に示すように、
端面発光型のLEDアレイ31を用いても、上記第1の
形態形態と同様に、LEDアレイ31の片側から、すな
わち電極側端面22の側のみからワイヤを引き出すこと
ができる。また、図1に示す寸法Dの分だけLEDアレ
イ自体の幅サイズを小さくすることができるので、上記
第1の実施形態よりもさらにプリンタヘッドのヘッドサ
イズを小さくすることができる。
【0045】このように第2の実施形態によれば、n側
電極15とp側パッド電極14bとを発光部43に対し
て同じ側に形成し、発光部43を発光部側端面23に近
接して形成することにより、発光部43の列を高密度に
形成した端面発光型のLEDアレイ31を製造すること
が可能となる。また、端面発光型であることにより、L
EDアレイ自体の幅サイズを上記第1の実施形態よりも
小さくすることができ、従ってプリンタヘッドのヘッド
サイズをさらに小さくすることができる。
電極15とp側パッド電極14bとを発光部43に対し
て同じ側に形成し、発光部43を発光部側端面23に近
接して形成することにより、発光部43の列を高密度に
形成した端面発光型のLEDアレイ31を製造すること
が可能となる。また、端面発光型であることにより、L
EDアレイ自体の幅サイズを上記第1の実施形態よりも
小さくすることができ、従ってプリンタヘッドのヘッド
サイズをさらに小さくすることができる。
【0046】第3の実施形態 図17は本発明の第3の実施形態のLEDアレイ51の
構造を示す上面図である。なお、図17において、図1
および図15と同じものには同一符号を付してある。L
EDアレイ51は、図1に示すLEDアレイ1におい
て、n側電極15をn側電極65とし、n側開口部17
をn側開口部67とし、またp側電極14をp側電極6
4とし、p側パッド電極14bをp側パッド電極64b
としたものである。
構造を示す上面図である。なお、図17において、図1
および図15と同じものには同一符号を付してある。L
EDアレイ51は、図1に示すLEDアレイ1におい
て、n側電極15をn側電極65とし、n側開口部17
をn側開口部67とし、またp側電極14をp側電極6
4とし、p側パッド電極14bをp側パッド電極64b
としたものである。
【0047】図17では、n型半導体ブロック11にお
けるLED10の個数N=5であり、またp側マトリク
ス配線14の本数M=5である。さらに、n側電極65
とp側パッド電極64bは、1つのn型半導体ブロック
11に、それぞれ2個ずつ形成されている。なお、n型
半導体ブロック11内におけるn側電極65の個数とp
側パッド電極64bの個数は同数であれば良く、1個あ
るいは3個以上でも良い。また、図17に示すLEDア
レイ51と、図1のLEDアレイ1とは、n型半導体ブ
ロック11内のLED10の個数N、p側マトリクス配
線4の本数M、およびヴィアホール21の形成箇所が異
なっているが、LEDアレイ51の動作は、図1のLE
Dアレイ1と基本的に同じである。
けるLED10の個数N=5であり、またp側マトリク
ス配線14の本数M=5である。さらに、n側電極65
とp側パッド電極64bは、1つのn型半導体ブロック
11に、それぞれ2個ずつ形成されている。なお、n型
半導体ブロック11内におけるn側電極65の個数とp
側パッド電極64bの個数は同数であれば良く、1個あ
るいは3個以上でも良い。また、図17に示すLEDア
レイ51と、図1のLEDアレイ1とは、n型半導体ブ
ロック11内のLED10の個数N、p側マトリクス配
線4の本数M、およびヴィアホール21の形成箇所が異
なっているが、LEDアレイ51の動作は、図1のLE
Dアレイ1と基本的に同じである。
【0048】第3の実施形態のLEDアレイ51は、n
側電極65およびp側パッド電極64bを一列に配置し
たことを特徴とするものである。また、n側電極65と
p側パッド電極64bとを交互に配置したことを特徴と
するものである。すなわち、p側パッド電極64bの列
において、p側パッド電極64bの間にn側電極65が
形成されていることを特徴とするものである。これによ
り、LEDアレイ51の幅サイズを、図1のLEDアレ
イ1に比べて、図1に示す寸法Eの分だけ小さくするこ
とができる。なお、LEDアレイ51の発光特性は、本
願発明者らにより既に確認されており、従来のLEDア
レイと変わらない良好な発光特性である。
側電極65およびp側パッド電極64bを一列に配置し
たことを特徴とするものである。また、n側電極65と
p側パッド電極64bとを交互に配置したことを特徴と
するものである。すなわち、p側パッド電極64bの列
において、p側パッド電極64bの間にn側電極65が
形成されていることを特徴とするものである。これによ
り、LEDアレイ51の幅サイズを、図1のLEDアレ
イ1に比べて、図1に示す寸法Eの分だけ小さくするこ
とができる。なお、LEDアレイ51の発光特性は、本
願発明者らにより既に確認されており、従来のLEDア
レイと変わらない良好な発光特性である。
【0049】図18は本発明の第3の実施形態のLED
アレイ51をプリンタヘッドに実装したときの構造を示
す断面図である。なお、図18において、図14および
図16と同じものには同じ符号を付してある。図18に
示すように、LEDアレイ51を用いても、上記第1お
よび第2の形態形態と同様に、LEDアレイ51の片側
から、すなわち電極側端面22の側のみからワイヤを引
き出すことができる。加えて、図1に示す寸法Eの分だ
けLEDアレイ自体の幅サイズを小さくすることができ
るので、上記第1の実施形態よりもさらにプリンタヘッ
ドのヘッドサイズを小さくすることができる。
アレイ51をプリンタヘッドに実装したときの構造を示
す断面図である。なお、図18において、図14および
図16と同じものには同じ符号を付してある。図18に
示すように、LEDアレイ51を用いても、上記第1お
よび第2の形態形態と同様に、LEDアレイ51の片側
から、すなわち電極側端面22の側のみからワイヤを引
き出すことができる。加えて、図1に示す寸法Eの分だ
けLEDアレイ自体の幅サイズを小さくすることができ
るので、上記第1の実施形態よりもさらにプリンタヘッ
ドのヘッドサイズを小さくすることができる。
【0050】このように第3の実施形態によれば、n側
電極65およびp側パッド電極64bを一列に配置する
ことにより、LEDアレイ自体の幅サイズを上記第1の
実施形態よりも小さくすることができ、従ってプリンタ
ヘッドのヘッドサイズをさらに小さくすることができ
る。
電極65およびp側パッド電極64bを一列に配置する
ことにより、LEDアレイ自体の幅サイズを上記第1の
実施形態よりも小さくすることができ、従ってプリンタ
ヘッドのヘッドサイズをさらに小さくすることができ
る。
【0051】第4の実施形態 図19は本発明の第4の実施形態のLEDアレイ71の
構造を示す上面図である。なお、図19において、図
1、図15、または図17と同じものには同一符号を付
してある。第4の実施形態のLEDアレイ71は、図1
に示すLEDアレイ1において、LEDアレイ71は、
図17に示すLEDアレイ51において、n側電極65
をn側電極85とし、n側開口部67をn側開口部87
とし、またp側電極64をp側電極84とし、p側パッ
ド電極64bをp側パッド電極84bとしたものであ
る。なお、LEDアレイ71の動作は、上記第3の実施
形態のLEDアレイ51と同じである。また、LEDア
レイ71をプリンタヘッドに実装したときの構造は、図
18と同じである。
構造を示す上面図である。なお、図19において、図
1、図15、または図17と同じものには同一符号を付
してある。第4の実施形態のLEDアレイ71は、図1
に示すLEDアレイ1において、LEDアレイ71は、
図17に示すLEDアレイ51において、n側電極65
をn側電極85とし、n側開口部67をn側開口部87
とし、またp側電極64をp側電極84とし、p側パッ
ド電極64bをp側パッド電極84bとしたものであ
る。なお、LEDアレイ71の動作は、上記第3の実施
形態のLEDアレイ51と同じである。また、LEDア
レイ71をプリンタヘッドに実装したときの構造は、図
18と同じである。
【0052】第4の実施形態のLEDアレイ71は、n
側電極85およびp側パッド電極84bを一列に配置
し、かつそれぞれのn型半導体ブロック11にn側電極
85を1つずつ配置したことを特徴とするものである。
これにより、p側パッド電極84bとn側電極85から
なる電極列の電極ピッチあるいは電極間隔を大きくする
ことができ、またそれぞれの電極の列方向のサイズを大
きくすることができる。従って、LEDアレイ71をプ
リンタヘッドに実装する際には、ワイヤの間隔が広くな
り、ワイヤボンディング不良が発生してもワイヤの回収
が容易にできるため、上記第3の実施形態よりもさらに
実装コストを安くできる。なお、LEDアレイ71の発
光特性は、本願発明者らにより既に確認されており、従
来のLEDアレイと変わらない良好な発光特性である。
側電極85およびp側パッド電極84bを一列に配置
し、かつそれぞれのn型半導体ブロック11にn側電極
85を1つずつ配置したことを特徴とするものである。
これにより、p側パッド電極84bとn側電極85から
なる電極列の電極ピッチあるいは電極間隔を大きくする
ことができ、またそれぞれの電極の列方向のサイズを大
きくすることができる。従って、LEDアレイ71をプ
リンタヘッドに実装する際には、ワイヤの間隔が広くな
り、ワイヤボンディング不良が発生してもワイヤの回収
が容易にできるため、上記第3の実施形態よりもさらに
実装コストを安くできる。なお、LEDアレイ71の発
光特性は、本願発明者らにより既に確認されており、従
来のLEDアレイと変わらない良好な発光特性である。
【0053】図19に示す第4の実施形態のLEDアレ
イ71の製造工程を以下に説明する。図20ないし図2
4はLEDアレイ71の製造工程の一例を示す図であ
る。それぞれの図において、(a)は上面図、(b)は
(a)におけるA−A’間の断面図、(c)は(a)に
おけるB−B’間の断面図である。
イ71の製造工程を以下に説明する。図20ないし図2
4はLEDアレイ71の製造工程の一例を示す図であ
る。それぞれの図において、(a)は上面図、(b)は
(a)におけるA−A’間の断面図、(c)は(a)に
おけるB−B’間の断面図である。
【0054】まず図20に示すように、上記第1の実施
形態における図2ないし図8に示した製造工程と同様に
して、半絶縁性GaAs基板からなる高抵抗半導体基板
2b上にn型のAlGaAsエピタキシャル層からなる
n型半導体基板2bを形成した半導体基板2を作製し、
n型半導体基板2aの表面に、拡散マスク25(第1層
間絶縁膜12)、および第1開口部16aを形成し、Z
n固相拡散法によりn型半導体基板2aの第1開口部1
6aの領域に発光部(p型半導体層)13を形成し、さ
らに第1層間絶縁膜12にn側開口部87を形成する。
n側開口部87は、p側パッド電極84bの形成予定領
域とn側開口部87とが一列になる位置形成され、また
それぞれのn型半導体ブロック11の形成予定領域に1
つずつ形成される。
形態における図2ないし図8に示した製造工程と同様に
して、半絶縁性GaAs基板からなる高抵抗半導体基板
2b上にn型のAlGaAsエピタキシャル層からなる
n型半導体基板2bを形成した半導体基板2を作製し、
n型半導体基板2aの表面に、拡散マスク25(第1層
間絶縁膜12)、および第1開口部16aを形成し、Z
n固相拡散法によりn型半導体基板2aの第1開口部1
6aの領域に発光部(p型半導体層)13を形成し、さ
らに第1層間絶縁膜12にn側開口部87を形成する。
n側開口部87は、p側パッド電極84bの形成予定領
域とn側開口部87とが一列になる位置形成され、また
それぞれのn型半導体ブロック11の形成予定領域に1
つずつ形成される。
【0055】次に図21に示すように、n側開口部87
の形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、p側電
極84となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ
法によりパターニングし、p側電極84を形成する。こ
のあと、シンター処理を施す。上記の導電膜としては、
例えばAl膜を用いる。
の形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、p側電
極84となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ
法によりパターニングし、p側電極84を形成する。こ
のあと、シンター処理を施す。上記の導電膜としては、
例えばAl膜を用いる。
【0056】次に図22に示すように、p側電極84の
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、n側電極
85となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ法
によりパターニングし、n側開口部87内にn側電極8
5を形成する。このあと、シンター処理を施す。n側電
極85となる導電膜としては、例えばAu合金膜を用い
る。p側電極84のp側パッド電極84bおよびn側電
極85は一列に配置される。なお、図21に示す工程と
図22に示す工程とを一つにして、n側電極85とp側
電極84とを同時に形成しても良い。これにより、導電
膜の成膜工程およびそのパターニング工程を1回減らす
ことができるので、工程を簡略化することができる。
形成が済んだn型半導体基板2aの表面上に、n側電極
85となる導電膜を成膜し、この導電膜をリフトオフ法
によりパターニングし、n側開口部87内にn側電極8
5を形成する。このあと、シンター処理を施す。n側電
極85となる導電膜としては、例えばAu合金膜を用い
る。p側電極84のp側パッド電極84bおよびn側電
極85は一列に配置される。なお、図21に示す工程と
図22に示す工程とを一つにして、n側電極85とp側
電極84とを同時に形成しても良い。これにより、導電
膜の成膜工程およびそのパターニング工程を1回減らす
ことができるので、工程を簡略化することができる。
【0057】次に図23に示すように、上記第1の実施
形態の図11ないし図13に示した手順と同様にして、
n側電極85の形成が済んだ半導体基板2に、ブロック
分離溝3を形成し、この上に第2層間絶縁膜18を形成
し、この第2層間絶縁膜18に第2開口部16bと、p
側パッド開口部19と、n側パッド開口部20と、ヴィ
アホール21とを形成する。
形態の図11ないし図13に示した手順と同様にして、
n側電極85の形成が済んだ半導体基板2に、ブロック
分離溝3を形成し、この上に第2層間絶縁膜18を形成
し、この第2層間絶縁膜18に第2開口部16bと、p
側パッド開口部19と、n側パッド開口部20と、ヴィ
アホール21とを形成する。
【0058】最後に図24に示すように、第2層間絶縁
膜18のパターニングが済んだ半導体基板2の表面上
に、p側マトリクス配線4となる導電膜を成膜し、この
導電膜をリフトオフ法によりパターニングし、p側マト
リクス配線4を形成する。このあとシンター処理を施
す。以上のようにして、図19に示すLEDアレイ71
が製造される。なお、上記第3の実施形態の製造工程
も、第4の実施形態と同様である。
膜18のパターニングが済んだ半導体基板2の表面上
に、p側マトリクス配線4となる導電膜を成膜し、この
導電膜をリフトオフ法によりパターニングし、p側マト
リクス配線4を形成する。このあとシンター処理を施
す。以上のようにして、図19に示すLEDアレイ71
が製造される。なお、上記第3の実施形態の製造工程
も、第4の実施形態と同様である。
【0059】このように第4の実施形態によれば、n側
電極85およびp側パッド電極84bを一列に配置し、
かつそれぞれのn型半導体ブロック11にn側電極85
を1つずつ配置したことにより、p側パッド電極84b
とn側電極85からなる電極列の電極ピッチあるいは電
極間隔を大きくすることができ、またそれぞれの電極の
列方向のサイズを大きくすることができる。従ってLE
Dアレイ71をプリンタヘッドに実装する際には、ワイ
ヤの間隔が広くなり、ワイヤボンディング不良が発生し
てもワイヤの回収が容易にできるため、上記第3の実施
形態よりもさらに実装コストを安くできる。
電極85およびp側パッド電極84bを一列に配置し、
かつそれぞれのn型半導体ブロック11にn側電極85
を1つずつ配置したことにより、p側パッド電極84b
とn側電極85からなる電極列の電極ピッチあるいは電
極間隔を大きくすることができ、またそれぞれの電極の
列方向のサイズを大きくすることができる。従ってLE
Dアレイ71をプリンタヘッドに実装する際には、ワイ
ヤの間隔が広くなり、ワイヤボンディング不良が発生し
てもワイヤの回収が容易にできるため、上記第3の実施
形態よりもさらに実装コストを安くできる。
【0060】第5の実施形態 図25は本発明の第5の実施形態のLEDアレイ91の
構造を示す上面図であり、(a)は上面図、(b)は
(a)におけるA−A’間の断面図である。なお、図2
5において、図15および図19と同じものには同一符
号を付してある。
構造を示す上面図であり、(a)は上面図、(b)は
(a)におけるA−A’間の断面図である。なお、図2
5において、図15および図19と同じものには同一符
号を付してある。
【0061】第5の実施形態のLEDアレイ91は、上
記第4の実施形態を端面発光型のLEDアレイに適用し
たものである。従って、LEDアレイ91は、端面発光
型のLEDアレイであり、図19のLEDアレイ71に
おいて、発光部13を発光部43とし、またp側開口部
16をp側開口部46としたものである。
記第4の実施形態を端面発光型のLEDアレイに適用し
たものである。従って、LEDアレイ91は、端面発光
型のLEDアレイであり、図19のLEDアレイ71に
おいて、発光部13を発光部43とし、またp側開口部
16をp側開口部46としたものである。
【0062】発光部(p型半導体層)43およびp側開
口部46は、図15に示したものと同じであり、n型半
導体ブロック11(n型半導体基板2a)の発光部側端
面23に近接して形成されている。開口部46内におけ
る発光部43の表面は、p側電極84により全面的に被
覆されている。端面発光型のLEDアレイ91の発光特
性は、本願発明者らにより既に確認されており、従来の
LEDアレイと変わらない良好な発光特性である。な
お、LED91の製造工程は、基本的に上記第4の実施
形態と同様である。ただし、発光部側端面23を加工す
る工程が追加される場合がある。また、LEDアレイ9
1の動作は、発光部側端面23から発光光を放射するこ
とを除いて、上記第4の実施形態のLEDアレイ71と
同じである。
口部46は、図15に示したものと同じであり、n型半
導体ブロック11(n型半導体基板2a)の発光部側端
面23に近接して形成されている。開口部46内におけ
る発光部43の表面は、p側電極84により全面的に被
覆されている。端面発光型のLEDアレイ91の発光特
性は、本願発明者らにより既に確認されており、従来の
LEDアレイと変わらない良好な発光特性である。な
お、LED91の製造工程は、基本的に上記第4の実施
形態と同様である。ただし、発光部側端面23を加工す
る工程が追加される場合がある。また、LEDアレイ9
1の動作は、発光部側端面23から発光光を放射するこ
とを除いて、上記第4の実施形態のLEDアレイ71と
同じである。
【0063】図25に示すように、n側電極85とp側
パッド電極84bとを電極側端面22の側に一列に形成
し、発光部(p型半導体層)43を発光部側端面23に
近接して形成することにより、端面発光型のLEDアレ
イ91を製造することが可能となる。また、端面発光型
であることにより、LEDアレイ91の幅サイズを、図
19の上面発光型のLEDアレイ71よりも小さくする
ことができる。
パッド電極84bとを電極側端面22の側に一列に形成
し、発光部(p型半導体層)43を発光部側端面23に
近接して形成することにより、端面発光型のLEDアレ
イ91を製造することが可能となる。また、端面発光型
であることにより、LEDアレイ91の幅サイズを、図
19の上面発光型のLEDアレイ71よりも小さくする
ことができる。
【0064】図26は本発明の第5の実施形態のLED
アレイ91をプリンタヘッドに実装したときの構造を示
す断面図である。なお、図26において、図16と同じ
ものには同じ符号を付してある。図26に示すように、
端面発光型のLEDアレイ91の片側から、すなわち電
極側端面22の側のみからワイヤを引き出すことができ
る。また、図19に示す上面発光型のLEDアレイ71
を用いる場合に比べて、LEDアレイ自体の幅サイズを
小さくできる分だけ、さらにプリンタヘッドのヘッドサ
イズを小さくすることができる。
アレイ91をプリンタヘッドに実装したときの構造を示
す断面図である。なお、図26において、図16と同じ
ものには同じ符号を付してある。図26に示すように、
端面発光型のLEDアレイ91の片側から、すなわち電
極側端面22の側のみからワイヤを引き出すことができ
る。また、図19に示す上面発光型のLEDアレイ71
を用いる場合に比べて、LEDアレイ自体の幅サイズを
小さくできる分だけ、さらにプリンタヘッドのヘッドサ
イズを小さくすることができる。
【0065】このように第5の実施形態によれば、n側
電極85とp側パッド電極84bとを電極側端面22の
側に一列に形成し、発光部(p型半導体層)43を発光
部側端面23に近接して形成することにより、端面発光
型のLEDアレイ91を製造することが可能となる。ま
た、端面発光型であることにより、LEDアレイ自体の
幅サイズを上記第4の実施形態よりもさらに小さくする
ことができ、従ってプリンタヘッドのヘッドサイズをさ
らに小さくすることができる。
電極85とp側パッド電極84bとを電極側端面22の
側に一列に形成し、発光部(p型半導体層)43を発光
部側端面23に近接して形成することにより、端面発光
型のLEDアレイ91を製造することが可能となる。ま
た、端面発光型であることにより、LEDアレイ自体の
幅サイズを上記第4の実施形態よりもさらに小さくする
ことができ、従ってプリンタヘッドのヘッドサイズをさ
らに小さくすることができる。
【0066】なお、本発明の実施の形態では、同一結晶
から構成されているホモ接合のみについて述べたが、異
なる材料が結合したヘテロ接合についても適用できる。
から構成されているホモ接合のみについて述べたが、異
なる材料が結合したヘテロ接合についても適用できる。
【0067】
【発明の効果】以上説明したように本発明のLEDアレ
イとその製造方法によれば、第1導電側電極を発光部列
に対して第2導電側パッド電極と同じ側に形成し、第2
導電側パッド電極と同じ側で第1導電型半導体基板に接
続させることにより、第1導電側電極と第2導電側パッ
ド電極とが発光部列に対して同じ側に配置された高密度
のLEDアレイを実現することができるという効果があ
る。また、これにより端面発光型のLEDアレイを実現
することができるので、LEDアレイの幅サイズを小さ
くすることができるという効果がある。また、第1導電
側電極と第2導電側パッド電極とを一列に形成すること
によっても、LEDアレイの幅サイズを小さくすること
ができるという効果がある。
イとその製造方法によれば、第1導電側電極を発光部列
に対して第2導電側パッド電極と同じ側に形成し、第2
導電側パッド電極と同じ側で第1導電型半導体基板に接
続させることにより、第1導電側電極と第2導電側パッ
ド電極とが発光部列に対して同じ側に配置された高密度
のLEDアレイを実現することができるという効果があ
る。また、これにより端面発光型のLEDアレイを実現
することができるので、LEDアレイの幅サイズを小さ
くすることができるという効果がある。また、第1導電
側電極と第2導電側パッド電極とを一列に形成すること
によっても、LEDアレイの幅サイズを小さくすること
ができるという効果がある。
【0068】また、本発明のLEDプリンタヘッドによ
れば、上記のLEDアレイを用いてプリンタヘッドを構
成することにより、ボンディングワイヤをLEDアレイ
の片側から引き出すことができるので、プリンタヘッド
のへッドサイズを小さくすることができるという効果が
ある。また、幅サイズを小さくした上記のLEDアレイ
を用いることにより、さらにへッドサイズを小さくする
ことができるという効果がある。
れば、上記のLEDアレイを用いてプリンタヘッドを構
成することにより、ボンディングワイヤをLEDアレイ
の片側から引き出すことができるので、プリンタヘッド
のへッドサイズを小さくすることができるという効果が
ある。また、幅サイズを小さくした上記のLEDアレイ
を用いることにより、さらにへッドサイズを小さくする
ことができるという効果がある。
【図1】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの構造
を示す図である。
を示す図である。
【図2】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その1)。
工程の一例を示す図である(その1)。
【図3】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その2)。
工程の一例を示す図である(その2)。
【図4】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その3)。
工程の一例を示す図である(その3)。
【図5】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その4)。
工程の一例を示す図である(その4)。
【図6】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その5)。
工程の一例を示す図である(その5)。
【図7】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その6)。
工程の一例を示す図である(その6)。
【図8】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その7)。
工程の一例を示す図である(その7)。
【図9】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製造
工程の一例を示す図である(その8)。
工程の一例を示す図である(その8)。
【図10】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その9)。
造工程の一例を示す図である(その9)。
【図11】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その10)。
造工程の一例を示す図である(その10)。
【図12】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その11)。
造工程の一例を示す図である(その11)。
【図13】本発明の第1の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その12)。
造工程の一例を示す図である(その12)。
【図14】本発明の第1の実施形態のLEDアレイのプ
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
【図15】本発明の第2の実施形態のLEDアレイの構
造を示す図である。
造を示す図である。
【図16】本発明の第2の実施形態のLEDアレイのプ
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
【図17】本発明の第3の実施形態のLEDアレイの構
造を示す図である。
造を示す図である。
【図18】本発明の第3の実施形態のLEDアレイのプ
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
【図19】本発明の第4の実施形態のLEDアレイの構
造を示す図である。
造を示す図である。
【図20】本発明の第4の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その1)。
造工程の一例を示す図である(その1)。
【図21】本発明の第4の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その2)。
造工程の一例を示す図である(その2)。
【図22】本発明の第4の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その3)。
造工程の一例を示す図である(その3)。
【図23】本発明の第4の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その4)。
造工程の一例を示す図である(その4)。
【図24】本発明の第4の実施形態のLEDアレイの製
造工程の一例を示す図である(その5)。
造工程の一例を示す図である(その5)。
【図25】本発明の第5の実施形態のLEDアレイの構
造を示す図である。
造を示す図である。
【図26】本発明の第5の実施形態のLEDアレイのプ
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
リンタヘッド実装構造を示す断面図である。
【図27】従来のLEDアレイの構造を示す上面図であ
る。
る。
【図28】従来のLEDアレイの構造を示す図である。
【図29】従来のLEDアレイのプリンタヘッド実装構
造を示す断面図である。
造を示す断面図である。
【図30】従来のLEDアレイの構造を示す上面図であ
る。
る。
1,31,51,71、91 LEDアレイ、 4 p
側マトリクス配線、2a n型半導体基板、 11 n
型半導体ブロック 13,43 発光部(p型半導体
層)、 14,64,84 p側電極、 14b,64
b,84b p側パッド電極、 15,65,85 n
側電極、 17,67,87 n側開口部、 22 発
光部側端面、 23 電極側端面、 201 駆動I
C、 202 ブロックグランド、 203 ボンディ
ングワイヤ。
側マトリクス配線、2a n型半導体基板、 11 n
型半導体ブロック 13,43 発光部(p型半導体
層)、 14,64,84 p側電極、 14b,64
b,84b p側パッド電極、 15,65,85 n
側電極、 17,67,87 n側開口部、 22 発
光部側端面、 23 電極側端面、 201 駆動I
C、 202 ブロックグランド、 203 ボンディ
ングワイヤ。
フロントページの続き (72)発明者 清水 孝篤 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内
Claims (15)
- 【請求項1】 第1導電型の半導体基板の表面基板側に
第2導電型の半導体層からなるN(Nは2以上の整数)
個の発光部を一列に形成し、前記半導体基板の表面上
に、前記半導体基板を外部回路に接続するためのパッド
電極となる第1導電側電極と、前記発光部に個別に接続
するN個の第2導電側電極とを形成し、前記N個の第2
導電側電極の少なくとも1つが外部回路に接続するため
の第2導電側パッド電極を有するLEDアレイにおい
て、 前記第1導電側電極が、前記発光部列に対して前記第2
導電側パッド電極と同じ側に形成され、前記第2導電側
パッド電極と同じ側で前記半導体基板に接続しているこ
とを特徴とするLEDアレイ。 - 【請求項2】 前記発光部、前記第1導電側電極、およ
び前記第2導電側電極を形成した前記第1導電型の半導
体基板からなる、互いに素子分離された複数の半導体ブ
ロックを一列に配置し、 異なる半導体ブロックにそれぞれ形成された所定の第2
導電側電極間を接続するマトリクス配線を形成したこと
を特徴とする請求項1記載のLEDアレイ。 - 【請求項3】 前記半導体基板表面に第1導電側開口部
を有する層間絶縁膜を形成し、 前記第1導電側電極が、前記第1導電側開口部内に形成
されていることを特徴とする請求項1記載のLEDアレ
イ。 - 【請求項4】 前記第1導電側電極が、前記第2導電側
パッド電極に対して前記発光部列の反対側に形成されて
いることを特徴とする請求項1記載のLEDアレイ。 - 【請求項5】 前記第1導電側電極および前記第2導電
側パッド電極からなる複数の電極が、一列に配置されて
いることを特徴とする請求項1記載のLEDアレイ。 - 【請求項6】 前記第1導電側電極と前記第2導電側パ
ッド電極とが、交互に配置されていることを特徴とする
請求項5記載のLEDアレイ。 - 【請求項7】 前記第1導電側電極が、1個だけ形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載のLEDアレ
イ。 - 【請求項8】 前記発光部が、前記半導体基板の端面に
近接して形成されており、 発光光が前記端面から外部に放射されることを特徴とす
る請求項1記載のLEDアレイ。 - 【請求項9】 前記第1導電側電極と前記第2導電側電
極とが同じ導電膜材料からなることを特徴とする請求項
1記載のLEDアレイ。 - 【請求項10】 前記第1導電型がn型であり、前記第
2導電型がp型であることを特徴とする請求項1記載の
LEDアレイ。 - 【請求項11】 第1導電型の半導体基板の表面基板側
に第2導電型の半導体層からなるN(Nは2以上の整
数)個の発光部を一列に形成し、前記半導体基板の表面
上に、前記半導体基板を外部回路に接続するためのパッ
ド電極となる第1導電側電極と、前記発光部にそれぞれ
個別に接続するN個の第2導電側電極とを形成し、前記
N個の第2導電側電極の少なくとも1つが外部回路に接
続するための第2導電側パッド電極を有するLEDアレ
イの製造方法において、 前記発光部列または発光部列形成予定領域に対して、前
記第2導電側パッド電極または第2導電側パッド電極形
成予定領域と同じ側に設定された第1導電側電極形成予
定領域における表面が露出された前記半導体基板の表面
上に、第1導電側電極となる導電膜を成膜し、この導電
膜をパターニングすることにより、第1導電側電極を形
成する工程を実施することを特徴とするLEDアレイの
製造方法。 - 【請求項12】 前記導電膜をパターニングする工程を
実施する前に、前記半導体基板の表面に層間絶縁膜を成
膜し、この層間絶縁膜の前記第1導電側電極形成予定領
域に、前記半導体基板を露出させる第1導電側開口部を
形成する工程をさらに実施し、 前記導電膜をパターニングする工程は、前記第1導電側
開口部内に前記第1導電側電極を形成するものであるこ
とを特徴とする請求項11記載のLEDアレイの製造方
法。 - 【請求項13】 前記導電膜をパターニングする工程
は、前記第1導電側電極および前記第2導電側電極とな
る導電膜を前記半導体基板の表面上に成膜し、この導電
膜をパターニングすることにより、前記第1導電側電極
および前記第2導電側電極を同時形成するものであるこ
とを特徴とする請求項11記載のLEDアレイの製造方
法。 - 【請求項14】 前記第1導電型がn型であり、前記第
2導電型がp型であることを特徴とする請求項11記載
のLEDアレイの製造方法。 - 【請求項15】 請求項1または2に記載のLEDアレ
イと、前記LEDアレイを駆動する駆動回路とを備え、 前記第1導電側電極にボンディングされたワイヤと、前
記第2導電側パッド電極にボンディングされたワイヤと
が、前記LEDアレイの片側から引き出されて前記駆動
回路にボンディングされていることを特徴とするLED
プリンタヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15671597A JPH118409A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | Ledアレイとその製造方法およびledプリンタヘッド |
| EP19980304177 EP0881686A3 (en) | 1997-05-28 | 1998-05-27 | LED array and LED printer head |
| US09/084,324 US6388696B1 (en) | 1997-05-28 | 1998-05-27 | Led array, and led printer head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15671597A JPH118409A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | Ledアレイとその製造方法およびledプリンタヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH118409A true JPH118409A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15633763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15671597A Pending JPH118409A (ja) | 1997-05-28 | 1997-06-13 | Ledアレイとその製造方法およびledプリンタヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH118409A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003115613A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-04-18 | Sony Corp | 画像表示装置及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-06-13 JP JP15671597A patent/JPH118409A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003115613A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-04-18 | Sony Corp | 画像表示装置及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041207 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041214 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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