JPS58102501A - 抵抗体 - Google Patents
抵抗体Info
- Publication number
- JPS58102501A JPS58102501A JP56200209A JP20020981A JPS58102501A JP S58102501 A JPS58102501 A JP S58102501A JP 56200209 A JP56200209 A JP 56200209A JP 20020981 A JP20020981 A JP 20020981A JP S58102501 A JPS58102501 A JP S58102501A
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- JP
- Japan
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- resistor
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- photosensitive resin
- film
- insulating substrate
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- Pending
Links
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Landscapes
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
して、その上に感光性樹脂層、接着層及びカバーフィル
ムを形成せしめ九形威物を用いて不必要・な部分の金属
薄膜抵抗体層及び感光性樹脂層、接着層、カバーフィル
ムを除去して抵抗体を製作すゐことに関するものである
。
ムを形成せしめ九形威物を用いて不必要・な部分の金属
薄膜抵抗体層及び感光性樹脂層、接着層、カバーフィル
ムを除去して抵抗体を製作すゐことに関するものである
。
この発明の目的とするところ社前記形成物に任意のパタ
ーンのホトマスクな重ねて紫外線を照射して温湯処理す
るだけで、高性能で且つ簡便な優れた抵抗体を提供する
ことにある。
ーンのホトマスクな重ねて紫外線を照射して温湯処理す
るだけで、高性能で且つ簡便な優れた抵抗体を提供する
ことにある。
従来よシ絶縁基板上に予め形成された金属マスクを用い
て真空中で金属を蒸着又はスパッタリングして抵抗体を
形成したシ、スクリーンマスクを用いて印刷して焼結し
たり、又絶縁基板上全面に＠抗膜をメッキで形成したり
、金属箔を貼り付けて化学的にエツチングして抵抗パタ
ーンを形成することによ膜抵抗体を製作していた。従来
品は貴意性、コスト面を考慮した場合はスクリーン印刷
方式が好ましいが、微細パターン、寸法精度、品質の安
定性に難点があった。逆に微細パターン寸法精度の向上
を計ると全面メッキ又は金属箔を貼シ付けた形成物を化
学エツチングの操・作によりて製作されていた。この方
式は前記形成物上にホトレジストを塗布及び乾燥して、
その上にホトマスクを重ねて露光、現會し忙ホトレジス
トによるパターンを形成した後、化学薬品によって抵抗
体の不要部分の膜を除去するという大変煩雑な操作とエ
ッチング廃液の処理等の問題点が多くらうた〇発明者は
絶縁基板上−金属薄膜抵抗層及び感光性樹脂層等を設け
た形成物を用いることにより、簡便に抵抗体を製造する
ことを発明した。その特徴とするところは絶縁基板上に
抵抗薄膜層を形成して、その上に感光性樹脂層及び接着
層、カバーフィルムを形成せしめ九形成物に任意のホト
マスクを重ねて紫外線を照射する。その後６０℃前後の
温湯で加湿して、カバーフィルムを剥離するととＫより
、絶縁基板上に任意のパターンを形成した抵抗体を簡便
に製作することが出来る。更に露光後のパターンエツチ
ングが温湯に浸すだけで完了するため従来の如く化学薬
品によるエツチング法と異なり、無会害、廃液設備の不
要、及びこれらの諸経費が不要であるしと等多くの利点
がある・以下本発明の具体的な実施例について詳細に述
べるＯ 実施例１ 第１図に示す如くポリエステル絶縁基板１上に１０００
人のクロム抵抗薄膜層２を形成し、更にジアゾニウム塩
、オレフィン−ビニルケトン共重合体、ジアゾレジン、
Ｏ−キノンジアジド類を主成分とじ九感光性樹脂等を用
いた感光性樹脂層３を形成し、又その上に接着層４、及
びポリエステルフィルムから成るカバーフィルム５よ）
形成すれた市販の形成物ＫＤＰ：ｙイルム（■きもと製
）を用いた。
て真空中で金属を蒸着又はスパッタリングして抵抗体を
形成したシ、スクリーンマスクを用いて印刷して焼結し
たり、又絶縁基板上全面に＠抗膜をメッキで形成したり
、金属箔を貼り付けて化学的にエツチングして抵抗パタ
ーンを形成することによ膜抵抗体を製作していた。従来
品は貴意性、コスト面を考慮した場合はスクリーン印刷
方式が好ましいが、微細パターン、寸法精度、品質の安
定性に難点があった。逆に微細パターン寸法精度の向上
を計ると全面メッキ又は金属箔を貼シ付けた形成物を化
学エツチングの操・作によりて製作されていた。この方
式は前記形成物上にホトレジストを塗布及び乾燥して、
その上にホトマスクを重ねて露光、現會し忙ホトレジス
トによるパターンを形成した後、化学薬品によって抵抗
体の不要部分の膜を除去するという大変煩雑な操作とエ
ッチング廃液の処理等の問題点が多くらうた〇発明者は
絶縁基板上−金属薄膜抵抗層及び感光性樹脂層等を設け
た形成物を用いることにより、簡便に抵抗体を製造する
ことを発明した。その特徴とするところは絶縁基板上に
抵抗薄膜層を形成して、その上に感光性樹脂層及び接着
層、カバーフィルムを形成せしめ九形成物に任意のホト
マスクを重ねて紫外線を照射する。その後６０℃前後の
温湯で加湿して、カバーフィルムを剥離するととＫより
、絶縁基板上に任意のパターンを形成した抵抗体を簡便
に製作することが出来る。更に露光後のパターンエツチ
ングが温湯に浸すだけで完了するため従来の如く化学薬
品によるエツチング法と異なり、無会害、廃液設備の不
要、及びこれらの諸経費が不要であるしと等多くの利点
がある・以下本発明の具体的な実施例について詳細に述
べるＯ 実施例１ 第１図に示す如くポリエステル絶縁基板１上に１０００
人のクロム抵抗薄膜層２を形成し、更にジアゾニウム塩
、オレフィン−ビニルケトン共重合体、ジアゾレジン、
Ｏ−キノンジアジド類を主成分とじ九感光性樹脂等を用
いた感光性樹脂層３を形成し、又その上に接着層４、及
びポリエステルフィルムから成るカバーフィルム５よ）
形成すれた市販の形成物ＫＤＰ：ｙイルム（■きもと製
）を用いた。
第２図に示した如く前記形成物上にポジフィルムｂを重
ねて密着させ、２ｋＷの高圧水銀灯で３０秒間露光した
。次に６０℃の温湯中に１分間浸した後、第２図Ｃの感
光性樹脂層、接着層、カバーフィルムから成る剥離層を
はがすことにより、第４図の如く所定の可変抵抗器の抵
抗体を製作し九〇得られた抵抗値は外径２６ｗｆＩ！内
径１８■〆で、０、１ ｖｍのパターン幅のジグザグパ
ターンで約ＩＫｆ）の抵抗値を得た。又第５図の如く網
目状パターンで製作することが出来る。
ねて密着させ、２ｋＷの高圧水銀灯で３０秒間露光した
。次に６０℃の温湯中に１分間浸した後、第２図Ｃの感
光性樹脂層、接着層、カバーフィルムから成る剥離層を
はがすことにより、第４図の如く所定の可変抵抗器の抵
抗体を製作し九〇得られた抵抗値は外径２６ｗｆＩ！内
径１８■〆で、０、１ ｖｍのパターン幅のジグザグパ
ターンで約ＩＫｆ）の抵抗値を得た。又第５図の如く網
目状パターンで製作することが出来る。
実施例２
実施例１で製作した同方法で固定抵抗器用抵抗体を製作
した。抵抗薄膜層に１ｏｏｏＸのニッケルークロムを用
い８×８露の形状にジグザグパターンを形成した［６図
の如く抵抗体を製作した。
した。抵抗薄膜層に１ｏｏｏＸのニッケルークロムを用
い８×８露の形状にジグザグパターンを形成した［６図
の如く抵抗体を製作した。
得られ圧抵抗値は約１００ＫＯでありた。
１１ｍ例から明らかな如く金属薄膜抵抗層の材料の材質
、成分比も変えるととが可能であり、且つ膜厚も変えら
れるため抵抗値範囲本広く選べる。更に製造過１で全く
無会害であるため、製造設備費が安価である。このよう
ｋして製作せしめた抵抗体は簡便に生産出来る。又仕様
変更への対応も安価で容易である。パターン精度もホト
エツチングであるため高精度であ抄、本発明による抵抗
体は従来品に比較して飛躍的に優れたものである。
、成分比も変えるととが可能であり、且つ膜厚も変えら
れるため抵抗値範囲本広く選べる。更に製造過１で全く
無会害であるため、製造設備費が安価である。このよう
ｋして製作せしめた抵抗体は簡便に生産出来る。又仕様
変更への対応も安価で容易である。パターン精度もホト
エツチングであるため高精度であ抄、本発明による抵抗
体は従来品に比較して飛躍的に優れたものである。
第１図は金属薄膜抵抗形成物の構造図である。
ｌ・・・絶縁基板、２・・・金属薄膜抵抗層、３・・・
感光性樹脂層、４・・・接着層、５・・・カバーフィル
ム第２図は露光の断面図である。ａ・・・紫外線、ｂ・
・・ポジフィルム、Ｃ・・・感光性樹脂層、接着層、カ
バーフィルムから・成る剥離層、ｄ−・・抵抗層１、ｅ
・−絶縁基板〇 第３図は露光後剥離し九断爾図であるＯＣ・・・剥離層
、ｄ・・・抵抗層、ｅ・・・絶縁基板第４図は可蜜抵抗
器用抵抗体の図である。 １・・・絶縁基板、２・・・抵抗部、３・・・電極部第
５図は綱目構造（シャドーマスク状）を示す抵抗体の図
である。１・・・抵抗部、２・・・網目の孔部第６図は
固定抵抗器用抵抗体を示す図である。 １・・・絶縁基板、２・・・抵抗部、３・・・電極部代
１艮ノｔ（鳥岬ｉイ１＋Ｌジノくイ？〒「＋ １ 図 オ ろ 図 第５図 ＝ＩＶＺ 図 ７１−４ 図
感光性樹脂層、４・・・接着層、５・・・カバーフィル
ム第２図は露光の断面図である。ａ・・・紫外線、ｂ・
・・ポジフィルム、Ｃ・・・感光性樹脂層、接着層、カ
バーフィルムから・成る剥離層、ｄ−・・抵抗層１、ｅ
・−絶縁基板〇 第３図は露光後剥離し九断爾図であるＯＣ・・・剥離層
、ｄ・・・抵抗層、ｅ・・・絶縁基板第４図は可蜜抵抗
器用抵抗体の図である。 １・・・絶縁基板、２・・・抵抗部、３・・・電極部第
５図は綱目構造（シャドーマスク状）を示す抵抗体の図
である。１・・・抵抗部、２・・・網目の孔部第６図は
固定抵抗器用抵抗体を示す図である。 １・・・絶縁基板、２・・・抵抗部、３・・・電極部代
１艮ノｔ（鳥岬ｉイ１＋Ｌジノくイ？〒「＋ １ 図 オ ろ 図 第５図 ＝ＩＶＺ 図 ７１−４ 図
Claims (1)
- 絶縁基板上に金属薄膜抵抗体層を形成して、その上に感
光性樹脂層、接着層及びカバーフィルムを形成せしめた
構造の形成物を用いて、不必要な部分の金属薄膜抵抗体
層及び感光性樹脂層、接着層、カバーフィルムを除去し
て成ることを特徴とする抵抗体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56200209A JPS58102501A (ja) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | 抵抗体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56200209A JPS58102501A (ja) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | 抵抗体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58102501A true JPS58102501A (ja) | 1983-06-18 |
Family
ID=16420617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56200209A Pending JPS58102501A (ja) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | 抵抗体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58102501A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60198701A (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-08 | 東京電音株式会社 | 電気抵抗器 |
-
1981
- 1981-12-14 JP JP56200209A patent/JPS58102501A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60198701A (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-08 | 東京電音株式会社 | 電気抵抗器 |
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