JPS633301B2 - - Google Patents
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- JPS633301B2 JPS633301B2 JP7282783A JP7282783A JPS633301B2 JP S633301 B2 JPS633301 B2 JP S633301B2 JP 7282783 A JP7282783 A JP 7282783A JP 7282783 A JP7282783 A JP 7282783A JP S633301 B2 JPS633301 B2 JP S633301B2
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- glass
- ink
- layer
- penetrating
- glass plate
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- Expired
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプリント基板、ICフオトマスク、液
晶板、ネームプレート等に応用する浸透性硝子イ
ンクを使用する高精度の硝子原板に関するもので
ある。
晶板、ネームプレート等に応用する浸透性硝子イ
ンクを使用する高精度の硝子原板に関するもので
ある。
従来この種原板として古くからフイルム原板が
使用されてきたがフイルムは材質上彎曲したり歪
みや傷損し易いのと静電気発生に因る汚塵の附着
更には膨脹係数が大である等精度的に満足し得な
いものである。
使用されてきたがフイルムは材質上彎曲したり歪
みや傷損し易いのと静電気発生に因る汚塵の附着
更には膨脹係数が大である等精度的に満足し得な
いものである。
然して以上のほかクロームを蒸着したクローム
硝子原板が利用されているが該クローム硝子原板
はフイルムに比して寸法精度が高く且つ湿度や温
度に因る影響も少なく又縦横荷重に対て物理的強
度に優れているのとクローム蒸着膜は硝子と膨脹
係数が略等しいので安定性に富み従つてフイルム
に比して遥かに耐用性と光学的にも元原板よりの
再現性に優れ又静電発生がないので汚塵の付着も
少なく且つ除去も容易である等の諸利点を具有す
るがクローム蒸着膜の厚さが500Å〜1000Åに及
ぶので扱い中欠損したり傷損を生じ易く然もピン
ホールを存する等の欠点を具有し又高価な不利も
ある。
硝子原板が利用されているが該クローム硝子原板
はフイルムに比して寸法精度が高く且つ湿度や温
度に因る影響も少なく又縦横荷重に対て物理的強
度に優れているのとクローム蒸着膜は硝子と膨脹
係数が略等しいので安定性に富み従つてフイルム
に比して遥かに耐用性と光学的にも元原板よりの
再現性に優れ又静電発生がないので汚塵の付着も
少なく且つ除去も容易である等の諸利点を具有す
るがクローム蒸着膜の厚さが500Å〜1000Åに及
ぶので扱い中欠損したり傷損を生じ易く然もピン
ホールを存する等の欠点を具有し又高価な不利も
ある。
本発明は清浄とした硝子板面に対し浸透性硝子
インクを塗布し且つ洗滌して該インクを硝子板と
面一な浸透層に形成し次で該浸透層を含む硝子板
面に金属蒸着又は化学銀引き層、該層の上面に感
光性フオトレジストを塗布した後この上面にネガ
フイルムを載置し紫外線露光して現像する等の手
段より上記従来の諸不利を解消するものである。
インクを塗布し且つ洗滌して該インクを硝子板と
面一な浸透層に形成し次で該浸透層を含む硝子板
面に金属蒸着又は化学銀引き層、該層の上面に感
光性フオトレジストを塗布した後この上面にネガ
フイルムを載置し紫外線露光して現像する等の手
段より上記従来の諸不利を解消するものである。
即ち清浄ならしめた硝子板の表面に、スクリー
ン印刷によりアンバー色の浸透性硝子インクを一
様に塗布し次でこれを200℃で乾燥してインク中
のガス抜きをなし次で今度は450℃〜600℃の温度
で焼付けした後洗滌して上面のインクを除去する
と上記塗布インクの一部は硝子板の表面より深い
浸透層を形成する即ち硝子板と面一な浸透性イン
ク付き硝子板となり該インク浸透部面は紫外線不
透過部面となる。
ン印刷によりアンバー色の浸透性硝子インクを一
様に塗布し次でこれを200℃で乾燥してインク中
のガス抜きをなし次で今度は450℃〜600℃の温度
で焼付けした後洗滌して上面のインクを除去する
と上記塗布インクの一部は硝子板の表面より深い
浸透層を形成する即ち硝子板と面一な浸透性イン
ク付き硝子板となり該インク浸透部面は紫外線不
透過部面となる。
そこで今度は上記インク浸透部面を含む硝子板
の上面一杯に化学銀引き層を形成した後更に該層
上面に耐蝕性剤の塗層を設け然る後上記塗層の上
面にネガフイルムを載置し且つ光遮断下において
紫外線照射するとレジスト現像されてフイルム面
の模様が硝子板に判然たる蝕刻模様となる。
の上面一杯に化学銀引き層を形成した後更に該層
上面に耐蝕性剤の塗層を設け然る後上記塗層の上
面にネガフイルムを載置し且つ光遮断下において
紫外線照射するとレジスト現像されてフイルム面
の模様が硝子板に判然たる蝕刻模様となる。
斯くして常法によりマスキング、レジスト、化
学銀等を除去し且つ洗滌仕上げすることにより本
フオト硝子原板が得られる。
学銀等を除去し且つ洗滌仕上げすることにより本
フオト硝子原板が得られる。
近時この種原板には高い精度が要求されてきた
が古からのフイルムは前記の如く静電気発生によ
る汚塵付着のほか物理的にも満足されず又クロー
ム硝子板においても亦前記の如くピンホールがあ
つたり扱い中傷損し易いのとコスト的に不利で且
つ量産にも不適であるが本発明の原板は静電気発
生のおそれがないことは勿論表面が面一で浸透層
をなしているので多少の傷にも支障がなく又組成
上ピンホールがなく従つて完全に紫外線を遮断し
温度、湿度にも影響されないのと量産に適する等
前記在来の各原板にみない諸多の優れた利点を具
有するものである。
が古からのフイルムは前記の如く静電気発生によ
る汚塵付着のほか物理的にも満足されず又クロー
ム硝子板においても亦前記の如くピンホールがあ
つたり扱い中傷損し易いのとコスト的に不利で且
つ量産にも不適であるが本発明の原板は静電気発
生のおそれがないことは勿論表面が面一で浸透層
をなしているので多少の傷にも支障がなく又組成
上ピンホールがなく従つて完全に紫外線を遮断し
温度、湿度にも影響されないのと量産に適する等
前記在来の各原板にみない諸多の優れた利点を具
有するものである。
第１図Ａに示したように予め拭取し清浄ならし
めた硝子板１の表面に、スクリーン印刷によりア
ンバー色の浸透性硝子インク（奥野製薬工業製の
シルバーステイン中）の一様な塗布層２を設け次
でこれを200℃の温度にて乾燥してインク中のガ
ス抜きをなし次で今度は高温電気炉中において
450℃〜600℃の温度で焼付けした後洗滌して上面
のインクを除去することにより上記塗布層中のイ
ンクの一部が硝子板１の表面より7μ〜15μの深さ
の浸透層２′を形成する即ち金属イオン←→ナトリ
ウムイオンにより固着して硝子板１と面一な浸透
性インク付き硝子板１′（同図Ｂ参照）となり該
インク浸透部２′面は紫外線不透過部面となる。
そこで今度は第１図Ｃに示す如く上記インク浸透
部２′面を含む硝子板１′の上面一杯に化学銀引き
層３を形成した後更に該層上面に耐蝕性剤として
感光性フオトレジストの塗層４を設け（第１図Ｄ
参照）然る後上記塗層の上面に第２図Ｅに示す如
くネガフイルム５を載置し且つ光遮断下において
紫外線照射するとレジスト現像せられてフイルム
５面の模様６が硝子板１′に対し化学銀を介しエ
ツチングにより判然たる蝕刻模様６′となる。（第
２図Ｆ参照）更に上記浸透部２′を弗化水素酸に
て7μ〜15μ程エツチングをすると６″となる。（第
２図Ｇ参照） 斯くしてマスキング、レジスト、化学銀等を除
去し且つ洗滌仕上げすることにより本フオト硝子
原板が得られる。（第２図Ｇ参照） なお本法の応用として上記浸透硝子板の表面に
クロームメツキを施し且つ耐蝕性膜としてレジス
トを塗布して焼付け現像なし次でクローム膜をエ
ツチング、更に浸透部を弗化水素酸にてエツチン
グすることによりクローム硝子原板と浸透性イン
クフオト原板の利点をもつ高精度の写刻がなされ
る。
めた硝子板１の表面に、スクリーン印刷によりア
ンバー色の浸透性硝子インク（奥野製薬工業製の
シルバーステイン中）の一様な塗布層２を設け次
でこれを200℃の温度にて乾燥してインク中のガ
ス抜きをなし次で今度は高温電気炉中において
450℃〜600℃の温度で焼付けした後洗滌して上面
のインクを除去することにより上記塗布層中のイ
ンクの一部が硝子板１の表面より7μ〜15μの深さ
の浸透層２′を形成する即ち金属イオン←→ナトリ
ウムイオンにより固着して硝子板１と面一な浸透
性インク付き硝子板１′（同図Ｂ参照）となり該
インク浸透部２′面は紫外線不透過部面となる。
そこで今度は第１図Ｃに示す如く上記インク浸透
部２′面を含む硝子板１′の上面一杯に化学銀引き
層３を形成した後更に該層上面に耐蝕性剤として
感光性フオトレジストの塗層４を設け（第１図Ｄ
参照）然る後上記塗層の上面に第２図Ｅに示す如
くネガフイルム５を載置し且つ光遮断下において
紫外線照射するとレジスト現像せられてフイルム
５面の模様６が硝子板１′に対し化学銀を介しエ
ツチングにより判然たる蝕刻模様６′となる。（第
２図Ｆ参照）更に上記浸透部２′を弗化水素酸に
て7μ〜15μ程エツチングをすると６″となる。（第
２図Ｇ参照） 斯くしてマスキング、レジスト、化学銀等を除
去し且つ洗滌仕上げすることにより本フオト硝子
原板が得られる。（第２図Ｇ参照） なお本法の応用として上記浸透硝子板の表面に
クロームメツキを施し且つ耐蝕性膜としてレジス
トを塗布して焼付け現像なし次でクローム膜をエ
ツチング、更に浸透部を弗化水素酸にてエツチン
グすることによりクローム硝子原板と浸透性イン
クフオト原板の利点をもつ高精度の写刻がなされ
る。
図は本発明の実施例を示したものであつて、第
１図Ａは本発明における硝子表面にスクリーン印
刷により浸透性硝子インクを塗布し予備乾燥後高
温焼付けをした状態の斜面図、同図Ｂは同上の状
態より洗滌後上面のインクを洗い流し硝子板の上
面にこれと面一なインクの浸透層が形成された状
態の斜面図、同図Ｃは同上のインク浸透部上面に
化学銀の塗層又は金属蒸着層を形成した状態の斜
面図、同図Ｄは同上の化学銀面上に感光性フオト
レジストを塗布した状態の斜面図、第２図Ｅは同
上のフオトレジスト上にネガ又はポジフイルムを
載置し紫外線露光の状態を示す斜面図、同図Ｆは
同上のレジスト現像化学エツチング状態の一部欠
截斜面図、同図Ｇは硝子浸透部を弗化水素酸にて
エツチングをしマスキング、レジスト、化学銀を
除去し洗滌仕上げした本発明原板の一部欠截斜面
図である。 １は硝子板、２は浸透性硝子インクの塗布層、
２′は浸透層、３は化学銀塗層、４は感光性フオ
トレジスト、５はネガフイルム、６は模様、６′
は蝕刻模様、６″は浸透部硝子をエツチングした
蝕刻模様。
１図Ａは本発明における硝子表面にスクリーン印
刷により浸透性硝子インクを塗布し予備乾燥後高
温焼付けをした状態の斜面図、同図Ｂは同上の状
態より洗滌後上面のインクを洗い流し硝子板の上
面にこれと面一なインクの浸透層が形成された状
態の斜面図、同図Ｃは同上のインク浸透部上面に
化学銀の塗層又は金属蒸着層を形成した状態の斜
面図、同図Ｄは同上の化学銀面上に感光性フオト
レジストを塗布した状態の斜面図、第２図Ｅは同
上のフオトレジスト上にネガ又はポジフイルムを
載置し紫外線露光の状態を示す斜面図、同図Ｆは
同上のレジスト現像化学エツチング状態の一部欠
截斜面図、同図Ｇは硝子浸透部を弗化水素酸にて
エツチングをしマスキング、レジスト、化学銀を
除去し洗滌仕上げした本発明原板の一部欠截斜面
図である。 １は硝子板、２は浸透性硝子インクの塗布層、
２′は浸透層、３は化学銀塗層、４は感光性フオ
トレジスト、５はネガフイルム、６は模様、６′
は蝕刻模様、６″は浸透部硝子をエツチングした
蝕刻模様。
Claims (1)
- １ 清浄な硝子板の表面にスクリーン印刷により
浸透性硝子インクを塗布し且つ予備乾燥後高温で
焼付け次で洗滌して硝子表面と面一なインクの浸
透層を形成し次で該インク浸透層を含む硝子板の
表面に金属蒸着又は化学銀引き層を設けて該層の
上面に、感光性フオトレジストを塗布し次で該フ
オトレジストの上面にネガフイルムを載置して紫
外線露光しレジスト現像及び化学銀のエツチング
をし更に硝子浸透層を弗化水素酸にてエツチング
し然る後常法のマスキング、レジスト、化学銀等
を除去して洗滌仕上げして得ることを特徴とする
浸透性硝子インクによる着色フオト硝子原板の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58072827A JPS59198459A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 浸透性硝子インクによる着色フオト硝子原板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58072827A JPS59198459A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 浸透性硝子インクによる着色フオト硝子原板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59198459A JPS59198459A (ja) | 1984-11-10 |
| JPS633301B2 true JPS633301B2 (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=13500633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58072827A Granted JPS59198459A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 浸透性硝子インクによる着色フオト硝子原板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59198459A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20220086304A1 (en) * | 2020-09-17 | 2022-03-17 | Fujifilm Business Innovation Corp. | Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium storing program |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3313663B2 (ja) | 1999-05-14 | 2002-08-12 | 国際技術開発株式会社 | 炎感知器 |
| CN102964065B (zh) * | 2012-10-29 | 2015-12-09 | 晟光科技股份有限公司 | 一种ogs产品的生产过程中在玻璃基材上覆盖油墨层的方法 |
| CN116072013B (zh) * | 2022-12-30 | 2025-10-24 | 常州亚玛顿股份有限公司 | 一种五面发光的免透镜的直下式玻璃背光灯板的制造方法 |
-
1983
- 1983-04-27 JP JP58072827A patent/JPS59198459A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20220086304A1 (en) * | 2020-09-17 | 2022-03-17 | Fujifilm Business Innovation Corp. | Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium storing program |
| US12081716B2 (en) * | 2020-09-17 | 2024-09-03 | Fujifilm Business Innovation Corp. | Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium storing program |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59198459A (ja) | 1984-11-10 |
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