JPS58126502A - 反射防止プラスチツク光学部品 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿式法にて得られる反射防止プラスチック光学
部品に関するものである。
部品に関するものである。
光学部品とは、窓用透明板、照明器具カバー、眼鏡、光
学機器の部品などの様にそれを介して反対側からの光を
、透過させる為に使用されるものを指し、近年この様な
分野にプラスチック、たとえばポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート。
学機器の部品などの様にそれを介して反対側からの光を
、透過させる為に使用されるものを指し、近年この様な
分野にプラスチック、たとえばポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート。
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート(OR−39)が使用され
る頻度は、益々高まっている。
ールビスアリルカーボネート(OR−39)が使用され
る頻度は、益々高まっている。
ところがこの様なプラスチックは一般に耐擦傷性、耐溶
剤性が乏しいという欠点があり、この欠点を補う為に様
々な工夫がなされている。
剤性が乏しいという欠点があり、この欠点を補う為に様
々な工夫がなされている。
すなわち、この様なプラスチックの表面を改質する方法
としてガラスを貼りつけてラミネートにしたり、硬化性
樹脂塗料を塗布し、乾燥させ被覆する方法等が種々提案
されている。
としてガラスを貼りつけてラミネートにしたり、硬化性
樹脂塗料を塗布し、乾燥させ被覆する方法等が種々提案
されている。
他方光学部品の光透過性を高め、または光の表面反射を
防止する為の試みは数多く行なわれており既に実用化の
段階に入っている。これらは真空蒸着、プラズマ処理、
イオンブレーティング、スパッタリング、CVDなどす
べて真空系の乾式方法でプラスチック表面に単層または
多層の被覆を施したものであり、表面硬度の改良も一部
兼ね備えている。単層の場合は一般に5i02膜やMg
F2膜であり、多層の場合は、5i02 # MgF2
*5t)203+Cje02 e La2O3+ P
bF3 e P r6011 s SIO、TlO2t
Th021 ZnS * 7;r O2e S i3N
4 x T13N4 t Al2O3などの金属の酸
化物、窒化物、硫化物、あるいは弗化物などを適宜組み
合わせて用し)られる。またこれら真空系の乾式方法で
形成される反射防止膜とプラスチック基材との間に有機
物あるいは無機物の層を乾式方法または湿式方法で設け
ることも知られている。
防止する為の試みは数多く行なわれており既に実用化の
段階に入っている。これらは真空蒸着、プラズマ処理、
イオンブレーティング、スパッタリング、CVDなどす
べて真空系の乾式方法でプラスチック表面に単層または
多層の被覆を施したものであり、表面硬度の改良も一部
兼ね備えている。単層の場合は一般に5i02膜やMg
F2膜であり、多層の場合は、5i02 # MgF2
*5t)203+Cje02 e La2O3+ P
bF3 e P r6011 s SIO、TlO2t
Th021 ZnS * 7;r O2e S i3N
4 x T13N4 t Al2O3などの金属の酸
化物、窒化物、硫化物、あるいは弗化物などを適宜組み
合わせて用し)られる。またこれら真空系の乾式方法で
形成される反射防止膜とプラスチック基材との間に有機
物あるいは無機物の層を乾式方法または湿式方法で設け
ることも知られている。
これらの反射防止膜は、真空蒸着に代表される様にすべ
て真空系の乾式方法で形成されるものである。従って系
を真空にする必要があり、設備費がかかり更に大きなプ
ラスチック基材への反射防止膜の形成が困難である。
て真空系の乾式方法で形成されるものである。従って系
を真空にする必要があり、設備費がかかり更に大きなプ
ラスチック基材への反射防止膜の形成が困難である。
湿式法で反射防止性能を得る方法として、特開昭!J−
32390に透明基板上に熱可塑性樹脂の水系エマルジ
ョンからなる気泡を有する薄膜を形成する方法が開示さ
れている。また特開昭5s−ttoxttにレンズの表
面最上部に2−ヒドロキシエチルメタクリレートを主体
とした液をλ/ダの厚みに塗布、硬化し防曇性能と反射
防止機能を付与することが開示されている。しかしこれ
らはいずれも耐擦傷性、耐水性、耐溶剤性が不充分であ
る。特開昭30−93639には、特殊染料の染色溶液
で合成樹脂製レンズを着色することによって防眩効果を
得る方法が開示されているが、耐擦傷性は合成樹脂製レ
ンズのそれと同様で不充分でありレンズとしての実用性
に乏しい。
32390に透明基板上に熱可塑性樹脂の水系エマルジ
ョンからなる気泡を有する薄膜を形成する方法が開示さ
れている。また特開昭5s−ttoxttにレンズの表
面最上部に2−ヒドロキシエチルメタクリレートを主体
とした液をλ/ダの厚みに塗布、硬化し防曇性能と反射
防止機能を付与することが開示されている。しかしこれ
らはいずれも耐擦傷性、耐水性、耐溶剤性が不充分であ
る。特開昭30−93639には、特殊染料の染色溶液
で合成樹脂製レンズを着色することによって防眩効果を
得る方法が開示されているが、耐擦傷性は合成樹脂製レ
ンズのそれと同様で不充分でありレンズとしての実用性
に乏しい。
本発明者らはこの様な欠点を解消し、湿式法による反射
防止膜の形成を研究した結果、湿式法で反射防止機能と
耐擦傷性を併有する膜を形成できることを見い出し、本
発明に到った。
防止膜の形成を研究した結果、湿式法で反射防止機能と
耐擦傷性を併有する膜を形成できることを見い出し、本
発明に到った。
すなわち本発明は、ポリカーボネート、ポリアクリレー
ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルのようなプラスチッ
ク製光学部品表面の少なくとも1面に湿式法にてコロイ
ダルシリカ、アルキルシリケートからなるポリシロキサ
ン及びフッ素含有ポリシロキサンから選ばれる7種もし
くは2種以上を含む反射防止被膜を0.0!;−/μの
物理的膜厚に形成してなる反射防止プラスチック光学部
品に関するものである。
ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルのようなプラスチッ
ク製光学部品表面の少なくとも1面に湿式法にてコロイ
ダルシリカ、アルキルシリケートからなるポリシロキサ
ン及びフッ素含有ポリシロキサンから選ばれる7種もし
くは2種以上を含む反射防止被膜を0.0!;−/μの
物理的膜厚に形成してなる反射防止プラスチック光学部
品に関するものである。
本発明の湿式法にて反射防止被膜を形成するコーティン
グ組成物は、コロイダルシリカ、下記一般式(、/)で
示される珪素化合物及び一般式(1)で示される珪素化
合物の加水分解物から選ばれる7種もしくは2種以上か
らなる。
グ組成物は、コロイダルシリカ、下記一般式(、/)で
示される珪素化合物及び一般式(1)で示される珪素化
合物の加水分解物から選ばれる7種もしくは2種以上か
らなる。
RlaSi (OR2) 4−a (1)(式中
R1はフッ素原子を有する有機基+R2は炭素数1−S
−ダの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数
/〜qのアシル基、aはO〜ダ)前記コロイダルシリカ
とは粒径l〜100 mμのシリカの超微粒子を水また
はアルコール系分散媒に分散せしめたゾルまたはこのゾ
ルから分散媒を除去した乾燥粉末であり、周知の方法で
製造され市販されているものである。
R1はフッ素原子を有する有機基+R2は炭素数1−S
−ダの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数
/〜qのアシル基、aはO〜ダ)前記コロイダルシリカ
とは粒径l〜100 mμのシリカの超微粒子を水また
はアルコール系分散媒に分散せしめたゾルまたはこのゾ
ルから分散媒を除去した乾燥粉末であり、周知の方法で
製造され市販されているものである。
前記一般式(1)で示される珪素化合物の具体例として
は、テトラメトキシシラン、テトラエト気ジシラン、テ
トラプロポキシシランt (j tJ +3−トリフ
ルオロプロピル)トリメトキシシラン、ターヒドロオク
タフルオロブチルトリメトキシシランハム2.コーチド
ラフルオロエチルトリメトキシシランを挙げることがで
きる。
は、テトラメトキシシラン、テトラエト気ジシラン、テ
トラプロポキシシランt (j tJ +3−トリフ
ルオロプロピル)トリメトキシシラン、ターヒドロオク
タフルオロブチルトリメトキシシランハム2.コーチド
ラフルオロエチルトリメトキシシランを挙げることがで
きる。
またこれら一般式(1)で示される珪素化合物の加水分
解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基。
解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基。
アルコキシアルコキシ基、アシルオキシ基の一部または
全部が水酸基に置換されたものおよび置換んでいる。こ
れらの加水分解物は、公知の様にたとえば水とアルフー
ルの如き混合溶媒中、醗、の存在下で加水分解すること
によって得られる。
全部が水酸基に置換されたものおよび置換んでいる。こ
れらの加水分解物は、公知の様にたとえば水とアルフー
ルの如き混合溶媒中、醗、の存在下で加水分解すること
によって得られる。
湿式法にて反射防止被覆を形成するコーティング組成物
は、前記コロイダルシリカ、一般式(1)で示される珪
素化合物およびそれらの加水分解物から選ばれる7種も
しくは2種以上を含む。
は、前記コロイダルシリカ、一般式(1)で示される珪
素化合物およびそれらの加水分解物から選ばれる7種も
しくは2種以上を含む。
また本発明の反射防止被膜を形成するコーティング組成
物にメチルトリメトキシシラン、r−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、r−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、r−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、及びr−アミノプロビルトリメトキシシラ
ン等の珪素化合物をコーティング組成物中に固形分で1
0重量%以下の範囲で混合して併用することも可能であ
る。
物にメチルトリメトキシシラン、r−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、r−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、r−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、及びr−アミノプロビルトリメトキシシラ
ン等の珪素化合物をコーティング組成物中に固形分で1
0重量%以下の範囲で混合して併用することも可能であ
る。
本発明に用いられるコーティング組成物に含ませてよい
溶剤としては、水、アルコール類、ケトン類、エステル
類、エーテル類、セロソルブ類、ハロゲン化物、カルボ
ン酸類、芳香族化合物等を挙げることができ、これらの
うちの7種または2種以上の混合溶剤として用いること
ができる。特にメタノール、エタノール、プロパツール
、イソプロパツール等ノ低級アルコール、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ギ酸。
溶剤としては、水、アルコール類、ケトン類、エステル
類、エーテル類、セロソルブ類、ハロゲン化物、カルボ
ン酸類、芳香族化合物等を挙げることができ、これらの
うちの7種または2種以上の混合溶剤として用いること
ができる。特にメタノール、エタノール、プロパツール
、イソプロパツール等ノ低級アルコール、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ギ酸。
酢酸等の低級アルキルカルボン酸類、トルエン。
キシレン等の芳香族化合物および酢酸エチル、′酢酸ブ
チル等のエステル類等を単独もしくは混合溶剤として用
いることが好ましい。
チル等のエステル類等を単独もしくは混合溶剤として用
いることが好ましい。
更に必要に応じて平滑な塗膜をうるためにフローコント
ロール剤、また硬化反応を充分進行させる為に硬化触媒
等を添加することができる。
ロール剤、また硬化反応を充分進行させる為に硬化触媒
等を添加することができる。
本発明におけるコーティング組成・物をプラスチック製
光学部品の1面または全面に湿式法にて塗布、乾燥し効
果的な反射防止被膜を得る為には反射防止被膜の膜厚を
コントロールする必要がある。すなわち反射防止被膜の
膜厚が約10μ以上の厚膜となると該反射防止被膜の上
面及び下面での反射光は干渉を起さないので反射防止の
効果が得られ難くなる。反射防止被膜の屈折率をnl、
反射防止被膜が接しているプラスチック側の層の屈折率
をn2とすれば、反射を最小にするためには、nl”−
n□・n2、(noは空気の屈折率)なる関係を満たさ
ねば・な”らない。
光学部品の1面または全面に湿式法にて塗布、乾燥し効
果的な反射防止被膜を得る為には反射防止被膜の膜厚を
コントロールする必要がある。すなわち反射防止被膜の
膜厚が約10μ以上の厚膜となると該反射防止被膜の上
面及び下面での反射光は干渉を起さないので反射防止の
効果が得られ難くなる。反射防止被膜の屈折率をnl、
反射防止被膜が接しているプラスチック側の層の屈折率
をn2とすれば、反射を最小にするためには、nl”−
n□・n2、(noは空気の屈折率)なる関係を満たさ
ねば・な”らない。
他方、反射防止被膜の膜厚が/μ以下であると反射防止
被膜の上面及び下面での反射光は干渉を起し、反射を最
小にするためには、反射防止被膜の光学的膜厚がn7/
ケλ(nは正の奇数、λは関係波長)でかつnl” −
n□−n2なる関係を満たさねばならない。本発明の反
射防止被膜を形成するコーティング組成物を前記の厚膜
として用いると塗膜の耐熱性、耐候性及び付着性が不良
となりlμ以下の薄膜として用いなければならない。ま
た、この厚みがO,OSミクロン(soo、tングスト
ローム)未満の場合には、膜の耐擦傷性が不良となり、
かつ前記反射防止条件を満足しなくなる。
被膜の上面及び下面での反射光は干渉を起し、反射を最
小にするためには、反射防止被膜の光学的膜厚がn7/
ケλ(nは正の奇数、λは関係波長)でかつnl” −
n□−n2なる関係を満たさねばならない。本発明の反
射防止被膜を形成するコーティング組成物を前記の厚膜
として用いると塗膜の耐熱性、耐候性及び付着性が不良
となりlμ以下の薄膜として用いなければならない。ま
た、この厚みがO,OSミクロン(soo、tングスト
ローム)未満の場合には、膜の耐擦傷性が不良となり、
かつ前記反射防止条件を満足しなくなる。
従って膜厚はo、osミクロン以上である必要がある。
−より好ましい物理的膜厚は!00〜1sooオングス
トロームである。また好ましい光学的膜厚(nd)は更
にたとえば波長5tooAで反射を最小にしようとすれ
ば、光学的膜厚は、tqoohとなる。従って塗膜の屈
折率を測定することにより塗膜の物理的膜厚の最適値を
求めることができる。
トロームである。また好ましい光学的膜厚(nd)は更
にたとえば波長5tooAで反射を最小にしようとすれ
ば、光学的膜厚は、tqoohとなる。従って塗膜の屈
折率を測定することにより塗膜の物理的膜厚の最適値を
求めることができる。
本発明のコーティングは浸漬法、噴霧法、スピンコーテ
ィング法、ローラコーティング法または、70−コート
法等のコーティング方法によって均一にコーテイング後
、硬化することにより効果的な反射防止被膜が得られる
。
ィング法、ローラコーティング法または、70−コート
法等のコーティング方法によって均一にコーテイング後
、硬化することにより効果的な反射防止被膜が得られる
。
更に、前記コロイダルシリカのみ、またはコロイダルシ
リカを主成分とする組成物からなる硬化被膜は、反射防
止性能と防曇性能を併せ有する。
リカを主成分とする組成物からなる硬化被膜は、反射防
止性能と防曇性能を併せ有する。
なお、前記反射防止被膜の反射防止効果を向上させる為
にこの被膜の下に適当な屈折率及び膜厚を有する被膜を
、湿式法にて形成し、多層反射防止被膜とす−ることも
可能である。
にこの被膜の下に適当な屈折率及び膜厚を有する被膜を
、湿式法にて形成し、多層反射防止被膜とす−ることも
可能である。
次に前記反射防止被膜を形成する前にプラスチック光学
部品表面の少なくとも1面に施してもよい耐摩耗性被膜
について記す。この耐摩耗性被膜は?リシロキサン系、
アクリルポリマー系、メラミン系、ポリエステル系、ポ
リウレタン系、及びこれらの誘導体から選ばれる7種も
しくは2種以上である。
部品表面の少なくとも1面に施してもよい耐摩耗性被膜
について記す。この耐摩耗性被膜は?リシロキサン系、
アクリルポリマー系、メラミン系、ポリエステル系、ポ
リウレタン系、及びこれらの誘導体から選ばれる7種も
しくは2種以上である。
耐摩耗性ポリシロキサン系被膜とは、一般式(コ)。
(3)で示される化合物、それらの加水分解物及びコロ
イダルシリカから選ばれる7種もしくはコ種以上を含む
コーティング組成物をプラスチック基材に塗布、硬化し
て得られる。
イダルシリカから選ばれる7種もしくはコ種以上を含む
コーティング組成物をプラスチック基材に塗布、硬化し
て得られる。
R3b Si (OR’) a−b (コ)(式中
R3は炭素数/−,gの炭化水素基、R4は炭素数/〜
ダの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数/
−1のアシル基、bは0〜3)R5c Si (OR6
) 4−c(J )(式中R5はエポキシ基、ビニル基
、メタクリロキシ基、メルカプト基、アミ7基、塩素原
子またはフッ素原子を有する有機基、R6゛は炭素数l
〜lの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数
/−1のアシル基、Cは/〜3)たとえば、メチルトリ
メトキシシランとr−グリシドキシプロビルトリメトキ
シシランとの共加水分解物、N−B−(アミノエチル)
−r−アミノプロピルトリメトキシシランとr−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシランの共加水分解物、テ
トラエトキシシラン、r−グリシドキシプロビルトリメ
トキシシラン及びコロイダルシリカの共加水分解物及び
これら珪素化合物および/またはそれらの加水分解物に
アクリルポリマー、エポキシ樹脂等の有機化合物を併用
した組成物が挙げられる。
R3は炭素数/−,gの炭化水素基、R4は炭素数/〜
ダの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数/
−1のアシル基、bは0〜3)R5c Si (OR6
) 4−c(J )(式中R5はエポキシ基、ビニル基
、メタクリロキシ基、メルカプト基、アミ7基、塩素原
子またはフッ素原子を有する有機基、R6゛は炭素数l
〜lの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数
/−1のアシル基、Cは/〜3)たとえば、メチルトリ
メトキシシランとr−グリシドキシプロビルトリメトキ
シシランとの共加水分解物、N−B−(アミノエチル)
−r−アミノプロピルトリメトキシシランとr−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシランの共加水分解物、テ
トラエトキシシラン、r−グリシドキシプロビルトリメ
トキシシラン及びコロイダルシリカの共加水分解物及び
これら珪素化合物および/またはそれらの加水分解物に
アクリルポリマー、エポキシ樹脂等の有機化合物を併用
した組成物が挙げられる。
アクリルポリマー系としてはグリシジルメタクリレート
とメタクリル酸メチル共重合体、メチルメタクリレート
、アクリル酸及びスチレン共重合体等があり、これらに
各種の硬化剤を用いる組成物またエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート等を紫外線で硬化させる系が挙げられる。
とメタクリル酸メチル共重合体、メチルメタクリレート
、アクリル酸及びスチレン共重合体等があり、これらに
各種の硬化剤を用いる組成物またエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート等を紫外線で硬化させる系が挙げられる。
メラミン系としては、ヘキサメトキシメチルメラミンと
エチレングリフールの組み合わせ、ヘキサメトキシメチ
ルメラミンと硝化綿との組み合わせ等が挙げられる。
エチレングリフールの組み合わせ、ヘキサメトキシメチ
ルメラミンと硝化綿との組み合わせ等が挙げられる。
ポリウレタン系としては、アジピン酸、ヘキサメチレン
グリコール及びビス(g−イソシアナトシクロヘキシル
)メタン縮合物が挙げられる。
グリコール及びビス(g−イソシアナトシクロヘキシル
)メタン縮合物が挙げられる。
ポリエステル系としては、トリメチロールプロパンとイ
ソフ1ル酸の組み合わせ、ペンタエリトリットとアジピ
ン酸の組み合わせ等が挙げられる。
ソフ1ル酸の組み合わせ、ペンタエリトリットとアジピ
ン酸の組み合わせ等が挙げられる。
これらのうち好ましい耐摩耗性被膜は、ポリシロキサン
糸被膜である。
糸被膜である。
より好ましい耐摩耗性被膜を形成する組成物は、下記(
A) 、 (B)及び((3)を含有するコーティング
組成物である。すなわち 10 f (A) 一般式(j) R96Si (OR”)4
−e −f (51(式中R9はエポキシ基を有する有
機基 RIOは水素、炭素数/−6の炭化水素基、ビニ
ル基、R11へ は炭素数/〜jの炭化水素基、アルコキシアルキル基ま
たは炭素数/−1のアシル基、eは1〜3゜fはθ〜−
であってe+f≦3である。)で示されるエポキシ基を
有する珪素化合物から選ばれる1種もしくは2種以上の
加水分解物。
A) 、 (B)及び((3)を含有するコーティング
組成物である。すなわち 10 f (A) 一般式(j) R96Si (OR”)4
−e −f (51(式中R9はエポキシ基を有する有
機基 RIOは水素、炭素数/−6の炭化水素基、ビニ
ル基、R11へ は炭素数/〜jの炭化水素基、アルコキシアルキル基ま
たは炭素数/−1のアシル基、eは1〜3゜fはθ〜−
であってe+f≦3である。)で示されるエポキシ基を
有する珪素化合物から選ばれる1種もしくは2種以上の
加水分解物。
(B)一般式(6) R12g−8i (OR13)
4−g (≦)(式中R12は炭素数/−4の炭化水
素基、ビニル基、メタクリロキシ基、アミノ基、メルカ
プト基。
4−g (≦)(式中R12は炭素数/−4の炭化水
素基、ビニル基、メタクリロキシ基、アミノ基、メルカ
プト基。
塩素またはフッ素を有する有機基、R13は炭素数/−
3の炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数l
〜ダのアシル基2gはO〜3)で示される有機珪素化合
物の加水分解物およびコロイダルシリカから選ばれる1
種もしくは2種以上と(C)硬化触媒 を含有するコーティング組成物である。
3の炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数l
〜ダのアシル基2gはO〜3)で示される有機珪素化合
物の加水分解物およびコロイダルシリカから選ばれる1
種もしくは2種以上と(C)硬化触媒 を含有するコーティング組成物である。
一般式(j)゛で示される成分(A)のエポキシ基を有
する珪素化合物としてはグリシドキシメチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン
、r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、r−
グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、ビス(
グリシドキシメチル、)ジメトキシシラン、トリ゛ス(
グリシドキシプロビル)メトキシシラングリシジルメチ
ルトリメトキシシラン、β−<3.ll−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、等がある。
する珪素化合物としてはグリシドキシメチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン
、r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、r−
グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、ビス(
グリシドキシメチル、)ジメトキシシラン、トリ゛ス(
グリシドキシプロビル)メトキシシラングリシジルメチ
ルトリメトキシシラン、β−<3.ll−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、等がある。
一般式(6)で示される有機珪素化合物としては、下記
の様なものが挙げられる。
の様なものが挙げられる。
すなわちトリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、7エこルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルドリアセトキシシラゾ、r−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、r−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−
r−アミノプロピルトリメトキシシラン、r−り四ロブ
占ピルトリメトキシシラン、r−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、!、3.3−トリフルオロプロピル
トリメトキシシラン等がある。
シシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、7エこルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルドリアセトキシシラゾ、r−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、r−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−
r−アミノプロピルトリメトキシシラン、r−り四ロブ
占ピルトリメトキシシラン、r−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、!、3.3−トリフルオロプロピル
トリメトキシシラン等がある。
これらは単独でまた2種以上併用しても良い。
成分(B)のうちコロイダルシリカとは、粒径/〜10
0 mμのシリカの超微粒子を水またはアルコール系分
散媒に分散せしめたゾルまたはこのゾルから分散媒を除
去した乾燥粉末であり、周知の方法で製造され、市販さ
れているものである。
0 mμのシリカの超微粒子を水またはアルコール系分
散媒に分散せしめたゾルまたはこのゾルから分散媒を除
去した乾燥粉末であり、周知の方法で製造され、市販さ
れているものである。
この組成物において成分(A)として用いられる前記一
般式(j)で示されるエポキシ基を有する珪素化合物か
ら選ばれる1種もしくは一種以上の加水分解物および成
分(B)の1種として用いられる前記一般式(6)で示
される有機珪素化合物から選ばれる1種もしくは2種以
上の加水分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、
アルコキシアルコキシ基またはアシロオキシ基の一部ま
たは全部が水酸基に置換されたものおよび置換された水
酸基同志が一部自然に縮合したものを含んでいる。
般式(j)で示されるエポキシ基を有する珪素化合物か
ら選ばれる1種もしくは一種以上の加水分解物および成
分(B)の1種として用いられる前記一般式(6)で示
される有機珪素化合物から選ばれる1種もしくは2種以
上の加水分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、
アルコキシアルコキシ基またはアシロオキシ基の一部ま
たは全部が水酸基に置換されたものおよび置換された水
酸基同志が一部自然に縮合したものを含んでいる。
これらの加水分解物は、公知の様にたとえば水とアルコ
ールのごとき混合溶媒中、醗の存在下で加水分解するこ
とによって得られる。
ールのごとき混合溶媒中、醗の存在下で加水分解するこ
とによって得られる。
この組成物において成分(A)と成分(B)の混合量は
、成分(A)の合計100重量部(但し固形分で lo
f 計算し、R96−Si −04−e−fとして計算する
。)に対し成分(B)の合計O,OS〜300重量部(
但し固形分で計算し、一般式(6)で示される有機珪素
化合物はR12g−3i−04−g として計算する
。
、成分(A)の合計100重量部(但し固形分で lo
f 計算し、R96−Si −04−e−fとして計算する
。)に対し成分(B)の合計O,OS〜300重量部(
但し固形分で計算し、一般式(6)で示される有機珪素
化合物はR12g−3i−04−g として計算する
。
コロイダルシリカは5i02として計算された固形分で
計算する。)の範囲で用いることが好ましい。
計算する。)の範囲で用いることが好ましい。
成分(C)の硬化触媒としては、酸、塩基、有機酸金J
iI#i、ホウフッ化金属塩、ホウ醗有機エステル。
iI#i、ホウフッ化金属塩、ホウ醗有機エステル。
チタネートエステル類、金属アセチルアセトネート類、
アミン類等がある。より好ましい触媒は、過塩素酸アン
モニウムである。 ゛この硬化触媒の添加量は
、組成物の固形分に対してO,OS〜IO重量%、より
好ましくは0.1〜3重量%である。
アミン類等がある。より好ましい触媒は、過塩素酸アン
モニウムである。 ゛この硬化触媒の添加量は
、組成物の固形分に対してO,OS〜IO重量%、より
好ましくは0.1〜3重量%である。
耐摩耗性コーティング組成物に含ませてよい溶剤として
はアルコール類、ケトン類、エステル類。
はアルコール類、ケトン類、エステル類。
エーテル類、セロソルブ類、ハロゲン化物、カルボン醗
類、芳香族化合物等をあげることができ、これらのうち
7種または一種以上の混合溶剤として用いることができ
る。特にメタノール、エタノール、プロパツール、イソ
プロパノール、ブタノール等の低級アルコール。メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の
セロソルブ類。ギ酸、酢醗、プロピオン酸等の低級アル
キルカルボン醗類。トルエン、キシレン等の芳香族化合
物。および酢−エチル、酢酸ブチル等のエステル類等を
単独もしくは混合溶剤として用いることが好ましい。
類、芳香族化合物等をあげることができ、これらのうち
7種または一種以上の混合溶剤として用いることができ
る。特にメタノール、エタノール、プロパツール、イソ
プロパノール、ブタノール等の低級アルコール。メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の
セロソルブ類。ギ酸、酢醗、プロピオン酸等の低級アル
キルカルボン醗類。トルエン、キシレン等の芳香族化合
物。および酢−エチル、酢酸ブチル等のエステル類等を
単独もしくは混合溶剤として用いることが好ましい。
更に必要に応じて平滑な塗膜をうるためにアルキレンオ
キシドとジメチルシロキサンとのブロック共重合体の7
0−コントロール剤たとえば日本ユニカー社製NUOシ
リコンY −7006(商品名)等を添加することがで
きる。これらフローコントロしくけ0.03〜3重量%
である。
キシドとジメチルシロキサンとのブロック共重合体の7
0−コントロール剤たとえば日本ユニカー社製NUOシ
リコンY −7006(商品名)等を添加することがで
きる。これらフローコントロしくけ0.03〜3重量%
である。
また、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を少量添加すること
もできる。この組成物のコーティングは通常おこなわれ
℃いる浸漬法、噴霧法、ローラコーティング法または7
0−コート法等のコーティング方法によってコーテイン
グ後、基材の変形湿度(例えば130℃)以下の温度で
、20分〜j時間焼付け、硬化させることにより耐摩耗
性、耐熱水性、付着性及び耐候性が良好な塗膜が得られ
る。
もできる。この組成物のコーティングは通常おこなわれ
℃いる浸漬法、噴霧法、ローラコーティング法または7
0−コート法等のコーティング方法によってコーテイン
グ後、基材の変形湿度(例えば130℃)以下の温度で
、20分〜j時間焼付け、硬化させることにより耐摩耗
性、耐熱水性、付着性及び耐候性が良好な塗膜が得られ
る。
この塗膜の好ましい厚味は、7〜30ミクロンより好ま
しくは3〜/3ミクロンである。1ミクロン以下である
と耐摩耗性が充分でなく、また、30ミクロン以上にな
るとクラックが発生しやすくなる。
しくは3〜/3ミクロンである。1ミクロン以下である
と耐摩耗性が充分でなく、また、30ミクロン以上にな
るとクラックが発生しやすくなる。
既記した様な耐摩耗性被膜を形成しつるコーティ〉グ組
成物をプラスチック製光学部品表面の少なくとも1面に
塗布、硬化、させ、然る後に前記反射防止被膜を少なく
とも1面に形成すれば、反射防止機能と耐摩耗性を合わ
せ持つプラスチック製光学部品が得られる。
成物をプラスチック製光学部品表面の少なくとも1面に
塗布、硬化、させ、然る後に前記反射防止被膜を少なく
とも1面に形成すれば、反射防止機能と耐摩耗性を合わ
せ持つプラスチック製光学部品が得られる。
また、染色可能な耐摩耗性被膜をプラスチック製光学部
品表面の少なくとも1面に形成後、染色(ぼかし染色も
含む)し、然る後に前記反射防止被膜を少なくとも1面
に形成すれば、反射防止機能と耐摩耗性を合せ持つ着色
透明なプラスチック製光学部品が得られる。
品表面の少なくとも1面に形成後、染色(ぼかし染色も
含む)し、然る後に前記反射防止被膜を少なくとも1面
に形成すれば、反射防止機能と耐摩耗性を合せ持つ着色
透明なプラスチック製光学部品が得られる。
以下本発明における若干の実施例を挙げるが、本発明は
以下の実施例によっ1何等限定されるものではない。な
お実施例中の部、%はそれぞれ重量部、重量%を表わす
。
以下の実施例によっ1何等限定されるものではない。な
お実施例中の部、%はそれぞれ重量部、重量%を表わす
。
実施例1
イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ(触媒化
成工業■製、固形分30%)33部にイソプロ□ビルア
ルコール300部添加した液をあらかじめ洗浄した0R
−39平板に、硬化膜厚が、/200オングストローム
(光学的膜jll /7uOオングストローム)となる
様、浸漬法で塗布し、120°Cの熱風乾燥炉で60分
間焼きつけた。波長sto。
成工業■製、固形分30%)33部にイソプロ□ビルア
ルコール300部添加した液をあらかじめ洗浄した0R
−39平板に、硬化膜厚が、/200オングストローム
(光学的膜jll /7uOオングストローム)となる
様、浸漬法で塗布し、120°Cの熱風乾燥炉で60分
間焼きつけた。波長sto。
久における光透過率を測定した結果、処理前が、9/、
ざ%であったが処理後は9 t、0%まで増加した。
ざ%であったが処理後は9 t、0%まで増加した。
実棒例2
水分散コロイダルシリカ(スノーテックス−8゜日産化
学■製、固形分コO%)40部に170部の水を添加後
、0./規定の塩酸水溶液を添加してPHをり、5に調
整後、イソプロピルアルコール770iISを添加した
。この液をあらかじめ洗浄した0%−39平板に硬化膜
厚が10OOAとなる様に、浸漬法で塗布し11、/
j O’Cの熱風乾燥炉で60分間熱処理した。波長S
60θAにおける光透過率は°、処理前が9/、1%で
あったが処理後は95.6%まで増加した。またこのサ
ンプルをj′Cの冷蔵庫に70分間保持後、コj′Cの
雰囲気中に取り出し防曇性テストを実施したところ良好
な防曇性能を示した。
学■製、固形分コO%)40部に170部の水を添加後
、0./規定の塩酸水溶液を添加してPHをり、5に調
整後、イソプロピルアルコール770iISを添加した
。この液をあらかじめ洗浄した0%−39平板に硬化膜
厚が10OOAとなる様に、浸漬法で塗布し11、/
j O’Cの熱風乾燥炉で60分間熱処理した。波長S
60θAにおける光透過率は°、処理前が9/、1%で
あったが処理後は95.6%まで増加した。またこのサ
ンプルをj′Cの冷蔵庫に70分間保持後、コj′Cの
雰囲気中に取り出し防曇性テストを実施したところ良好
な防曇性能を示した。
実施例3
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン330
部、水分散コロイダルシリカ(スノーテックス−C1日
産化学■製、固形分20%) 111部、蒸留水9部
及び/、コ規定塩酸水溶液3部を混合しざO″Cでq、
時間還流後、57部の溶媒を届出温度ざ0〜90℃で届
出した。この様にして得られたコロイダルシリカを含む
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシランの加水分
解物溶液66部にエチルセロソルブ100部及び硬化触
媒、フローコントロール剤を各々少々添加し塗料とした
。
部、水分散コロイダルシリカ(スノーテックス−C1日
産化学■製、固形分20%) 111部、蒸留水9部
及び/、コ規定塩酸水溶液3部を混合しざO″Cでq、
時間還流後、57部の溶媒を届出温度ざ0〜90℃で届
出した。この様にして得られたコロイダルシリカを含む
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシランの加水分
解物溶液66部にエチルセロソルブ100部及び硬化触
媒、フローコントロール剤を各々少々添加し塗料とした
。
この塗料をあらかじめ洗浄した0R−39平板に浸漬法
で塗布し、l−0°Cの熱風乾燥炉で30分間熱処理し
た。硬化膜厚はqμであった。 −他方! 、 j 、
J−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン75部
にイソプロピルアルコール/711部及び蒸留水71部
を添加した。この液を前記硬化被膜処理した0R−39
平板に、硬化膜厚が90OAとなる様スピン法で塗布し
、/30′Cの熱風乾燥炉で60分間熱処理した。60
00kにおける透過率は、処理前が92.3%であった
が、処理後はq乙%まで増加した。また表面の耐擦傷性
も良好であった。
で塗布し、l−0°Cの熱風乾燥炉で30分間熱処理し
た。硬化膜厚はqμであった。 −他方! 、 j 、
J−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン75部
にイソプロピルアルコール/711部及び蒸留水71部
を添加した。この液を前記硬化被膜処理した0R−39
平板に、硬化膜厚が90OAとなる様スピン法で塗布し
、/30′Cの熱風乾燥炉で60分間熱処理した。60
00kにおける透過率は、処理前が92.3%であった
が、処理後はq乙%まで増加した。また表面の耐擦傷性
も良好であった。
実施例q
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン150部
、メチルトリメトキシシラシフ2部混合物を攪拌しなか
ら0./規定、塩酸水溶液tI7部を徐々に添加した後
コロイダルシリカ(スノーテックス−01日産化学■製
、固形分20%)/ざ0部を添加しざO″Cで2時間還
流した。この様にして得られた加水分解液320部にエ
チルセロソルブ/6S部及び硬化触媒、フローコントロ
ール剤を各々小々添加し塗料とした。
、メチルトリメトキシシラシフ2部混合物を攪拌しなか
ら0./規定、塩酸水溶液tI7部を徐々に添加した後
コロイダルシリカ(スノーテックス−01日産化学■製
、固形分20%)/ざ0部を添加しざO″Cで2時間還
流した。この様にして得られた加水分解液320部にエ
チルセロソルブ/6S部及び硬化触媒、フローコントロ
ール剤を各々小々添加し塗料とした。
この塗料をあらかじめ洗浄した(J−39平板に浸漬法
で塗布し、Ilo”Cの熱風乾燥炉で30分間熱処理し
た。硬化膜厚はjμであった。
で塗布し、Ilo”Cの熱風乾燥炉で30分間熱処理し
た。硬化膜厚はjμであった。
他方イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ(触
媒化成工業■製、固形分30%)3部部。
媒化成工業■製、固形分30%)3部部。
3.3.、!−トリフルオロプロピルトリメトキシシラ
ン1部の混合物にイソプロピルアルコール390部及び
蒸留水70部を添加した。この液を75時間放置後、前
記硬化被膜処理した0R−39平板なる様、浸漬法で塗
布し、/2j″Cの熱風乾燥炉で90分間熱処理した。
ン1部の混合物にイソプロピルアルコール390部及び
蒸留水70部を添加した。この液を75時間放置後、前
記硬化被膜処理した0R−39平板なる様、浸漬法で塗
布し、/2j″Cの熱風乾燥炉で90分間熱処理した。
5tooAにおける透過率は処理前に比ベダ%アップし
た。また表面の耐擦傷性も良好であった。
た。また表面の耐擦傷性も良好であった。
実施例S
ヘキサ(メトキシメチル)メラミン71rgと/、If
−ブタンジオールj1gにざS%リン酸002m1を添
加し、/30〜/llO℃で反応させた反応物にエチル
セロソルブ1.硬化触媒、フローコントロール剤を添加
し、固形分qo%の塗料とした。あらかじめ洗浄し、ア
クリル系ブライマー処理したビスフェノール型のポリカ
ーボネートに前記塗料を塗布し、/ J O’Cの熱風
乾燥炉で60分間熱処理した。
−ブタンジオールj1gにざS%リン酸002m1を添
加し、/30〜/llO℃で反応させた反応物にエチル
セロソルブ1.硬化触媒、フローコントロール剤を添加
し、固形分qo%の塗料とした。あらかじめ洗浄し、ア
クリル系ブライマー処理したビスフェノール型のポリカ
ーボネートに前記塗料を塗布し、/ J O’Cの熱風
乾燥炉で60分間熱処理した。
他方、シリカ粉末(O8CAP、触媒化成工業株制、固
形分10O%)70部にエチルアルコール3コO部を徐
々に添加しエチルアルコール分散フロイダルシリ力液と
した。
形分10O%)70部にエチルアルコール3コO部を徐
々に添加しエチルアルコール分散フロイダルシリ力液と
した。
この液を前記硬化被膜処理したポリカーボネートに、硬
化膜厚が/200Aとなる様スピン法で塗布し、/ 、
? 0 ’Cの熱風乾燥炉で90分間熱処理した。
化膜厚が/200Aとなる様スピン法で塗布し、/ 、
? 0 ’Cの熱風乾燥炉で90分間熱処理した。
この様にして得られた光学部品表面の耐擦傷性は良好で
、!;t00Aにおける透過率はコロイダルシリカ液処
理前に比べ3.1%増加した。
、!;t00Aにおける透過率はコロイダルシリカ液処
理前に比べ3.1%増加した。
実施例6
イソプロビルアルコールg、r、 <<部にr−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシラン100部を溶解し、
さらにO,/規定塩酸水溶液JLJ部を徐々に加えて室
温で攪拌して加水分解を行ないその後室温で20時間以
上熟成した。この様にして得られたr−グリシドキシプ
ロビルトリメトキシシラン加水分解物66.3部にポリ
コーヒドロキシエチルメタクリレートのエチルセロソル
ブ溶液(固形分コj%)/八一部、ヘキサ(メトキシメ
チル)メラミン2.0部、エチルセロソルブ、硬化触媒
及びフローコントロール剤を添加し、固形分2s%の塗
料液を得た。あらかじめ洗浄した0R−J9平板に前記
塗料を塗布し、/コS′Cの熱風乾燥炉で30分間焼き
つけた。
ドキシプロビルトリメトキシシラン100部を溶解し、
さらにO,/規定塩酸水溶液JLJ部を徐々に加えて室
温で攪拌して加水分解を行ないその後室温で20時間以
上熟成した。この様にして得られたr−グリシドキシプ
ロビルトリメトキシシラン加水分解物66.3部にポリ
コーヒドロキシエチルメタクリレートのエチルセロソル
ブ溶液(固形分コj%)/八一部、ヘキサ(メトキシメ
チル)メラミン2.0部、エチルセロソルブ、硬化触媒
及びフローコントロール剤を添加し、固形分2s%の塗
料液を得た。あらかじめ洗浄した0R−J9平板に前記
塗料を塗布し、/コS′Cの熱風乾燥炉で30分間焼き
つけた。
他方、イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ(
触媒化成工業■製、固形分30%)ざ0部。
触媒化成工業■製、固形分30%)ざ0部。
r−グリシドキシプロピルトリメトキシシランjme蒸
留水io部及びイソプロピルアルコール100部を混合
し、21時間放置後、上記硬化被膜処理した(R−、、
?9平板に、硬化膜厚がざ00オングストロームとなる
様スピン法にて塗布し120°Cの熱風乾燥炉でlIo
分間焼きつけた。この様にして得られた光学部品表面の
耐擦傷性は良好で、!;t OOAにおける透過率は、
処理前に比べLJ%向上した。
留水io部及びイソプロピルアルコール100部を混合
し、21時間放置後、上記硬化被膜処理した(R−、、
?9平板に、硬化膜厚がざ00オングストロームとなる
様スピン法にて塗布し120°Cの熱風乾燥炉でlIo
分間焼きつけた。この様にして得られた光学部品表面の
耐擦傷性は良好で、!;t OOAにおける透過率は、
処理前に比べLJ%向上した。
実施例7
あらかじめ洗浄した(J−、?9プラルンズ(度の付か
ないレンズ)に実施例3で用いたr−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシランとコロイダルシリカを含む塗料
を塗布し110℃の熱風乾燥炉で60分間焼き付けた。
ないレンズ)に実施例3で用いたr−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシランとコロイダルシリカを含む塗料
を塗布し110℃の熱風乾燥炉で60分間焼き付けた。
この様にして得られた硬化被覆処理された0R−J9プ
ラルンズを分散染料であるSumikaron Blu
e −E −FBL (住友化学工業■製)を、3%含
む90〜93″Cの染色浴でいわゆるぼかし染色を行な
った。
ラルンズを分散染料であるSumikaron Blu
e −E −FBL (住友化学工業■製)を、3%含
む90〜93″Cの染色浴でいわゆるぼかし染色を行な
った。
他方3,3.3−トIJ フルオロプロピルトリメトキ
シ゛( シラン1.7部、エチルシリケート−Ilo(日本コル
コート■製)4.3部、蒸留水lj部及Oイソプロピル
アルコール3.rO部を混合し、−晩装置した後、前記
ぼかし染色剤のOR−、!9プラルンズに硬化膜厚が/
100λとなる様、浸漬法で塗布し120℃の熱風乾燥
炉で60分焼きつけた。
シ゛( シラン1.7部、エチルシリケート−Ilo(日本コル
コート■製)4.3部、蒸留水lj部及Oイソプロピル
アルコール3.rO部を混合し、−晩装置した後、前記
ぼかし染色剤のOR−、!9プラルンズに硬化膜厚が/
100λとなる様、浸漬法で塗布し120℃の熱風乾燥
炉で60分焼きつけた。
このようにして得られたOR−、?9プラルンズは反射
防止効果を有し、かつぼかし染色レンズとして良好であ
った。また表面の耐擦傷性も良好であ実施例ざ メチルトリメトキシシラン32.3部、水分散コロイダ
ルシリカ(スノーテックス−C1日産化学■製、固形分
−0%)16部及び酢酸10部を混ぜ外部水冷下攪拌/
時間後、室温にてコダ時間放置した。この様にして得ら
れた溶液3乙、を部にイソプロピルアルコール7.7部
、酢酸ナトリウム0.3部及びフローコントロール剤を
少々添加し塗料とした。この様にして得られた塗料をあ
らかじめ洗浄したアクリルシートに浸漬法で塗布シlr
。
防止効果を有し、かつぼかし染色レンズとして良好であ
った。また表面の耐擦傷性も良好であ実施例ざ メチルトリメトキシシラン32.3部、水分散コロイダ
ルシリカ(スノーテックス−C1日産化学■製、固形分
−0%)16部及び酢酸10部を混ぜ外部水冷下攪拌/
時間後、室温にてコダ時間放置した。この様にして得ら
れた溶液3乙、を部にイソプロピルアルコール7.7部
、酢酸ナトリウム0.3部及びフローコントロール剤を
少々添加し塗料とした。この様にして得られた塗料をあ
らかじめ洗浄したアクリルシートに浸漬法で塗布シlr
。
°Cの熱風乾燥炉でS時間熱処理した。この様にして得
られた硬化被覆処理されたアクリルシートに実施例/記
載のコロイダルシリカ溶液を一布し1、rO℃の熱風乾
燥炉で3時間熱処理し、1oooλの硬化膜厚とした。
られた硬化被覆処理されたアクリルシートに実施例/記
載のコロイダルシリカ溶液を一布し1、rO℃の熱風乾
燥炉で3時間熱処理し、1oooλの硬化膜厚とした。
5soo′Aにおける透過率を測定した結果、処理前に
比べ4/%透過率が向上した。
比べ4/%透過率が向上した。
また表面耐擦傷性は未処理アクリルシートに比べかなり
向上した。
向上した。
実施例9
エチルシリ+−)(「エチルシリヶートーダ。」日本:
l A :l−) 化学■製)13部にイソプロピルア
ルコールizo部、水j部添加した液をあらかじめ洗浄
した0R−39平板に塗布し、/ 30 ’Cの熱風乾
燥炉で60分間焼きつけた。硬化膜厚は90゜λであっ
た◇5tooAの波長における光透過率を測定した結果
、処理前が9/、3%であったが、処理後は93.0%
まで増加した。
l A :l−) 化学■製)13部にイソプロピルア
ルコールizo部、水j部添加した液をあらかじめ洗浄
した0R−39平板に塗布し、/ 30 ’Cの熱風乾
燥炉で60分間焼きつけた。硬化膜厚は90゜λであっ
た◇5tooAの波長における光透過率を測定した結果
、処理前が9/、3%であったが、処理後は93.0%
まで増加した。
比較例1
グリシジルメタクリレートと一−ヒドロキシエチルメタ
クリレートとの共重合体を含む塗料を、あらかじめ洗浄
したOR−、?9プラルンズに塗布し、723℃の熱風
乾燥炉で60分間焼きつけた。
クリレートとの共重合体を含む塗料を、あらかじめ洗浄
したOR−、?9プラルンズに塗布し、723℃の熱風
乾燥炉で60分間焼きつけた。
この様にして得られた硬化被覆処理されたOR−391
ラルンズは、反射防止機能を有していないが、表面耐擦
傷性は良好であった。ただし次にこの硬化被覆処理され
た0R−39プラルンズにコーヒドロキシエチルメタク
リレートを含む塗料を硬化膜厚が/4100λとなる様
、スピナー法で塗布し/Jj″Cの熱風乾燥炉で10分
間焼きつけた。
ラルンズは、反射防止機能を有していないが、表面耐擦
傷性は良好であった。ただし次にこの硬化被覆処理され
た0R−39プラルンズにコーヒドロキシエチルメタク
リレートを含む塗料を硬化膜厚が/4100λとなる様
、スピナー法で塗布し/Jj″Cの熱風乾燥炉で10分
間焼きつけた。
処理に伴う透過率の向上は認められず、また耐擦傷性が
極めて不充分であった。
極めて不充分であった。
比較例コ
イソプロビルアルコール分散コロイダルシ1)・力(触
媒化成工業■製、固形分30%)100部にイソプロピ
ルアルコール50部添加した液をあらがしめ洗浄したC
R−J9平板に硬化膜厚が2μとなる様、浸漬法で塗布
し、720℃の熱風乾燥炉で、60分間焼きつけた。こ
の硬化塗膜は全面に微細クラックの発生が認められた。
媒化成工業■製、固形分30%)100部にイソプロピ
ルアルコール50部添加した液をあらがしめ洗浄したC
R−J9平板に硬化膜厚が2μとなる様、浸漬法で塗布
し、720℃の熱風乾燥炉で、60分間焼きつけた。こ
の硬化塗膜は全面に微細クラックの発生が認められた。
特許出願人 日本板硝子株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) プラスチック製光学部品表面の少なくとも1
面に、コロイダルシリカ、一般式(1)で示さレル珪素
化合物及び該珪素化合物の加水分解物から選ばれる1種
もしくは2種以上を含む組成物を被覆硬化してO,OS
〜1ミクロンの物理的膜厚の反射防止被膜を形成してな
る反射防止プラスチック光学部品。 Rla Si (OR”) 4− a (1)(式
中R1はフッ素原子を有する有機基、R2は炭素数/〜
lの炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数l
〜lのアシル基、aはO〜3)(2)前記反射防止被膜
の光学的膜厚が/ 000−200OAである特許請求
の範囲第1項記載の反射防止プラスチック光学部品。 (3)第1項〜第2項記載の反射防止被膜を形成する前
のプラスチック製光学部品表面は、少なくとも1面に耐
摩耗性被膜処理された表面である特許請求の範囲第1〜
2項記載の反射防止プラスチック光学部品。 (4) 前記耐摩耗性被膜がポリシロキサン系、アク
リルポリマー系、メラミン系、ポリウレタン系、ポリエ
ステル糸及びこれらの誘導体から選ばれる7種もしくは
2種以上を含む組成物を被覆硬化したものである特許請
求の範囲第3項記載の反射防止プラスチック光学部品。 及びコロイダルシリカから選ばれる7種もしくは2種以
上を含む組成物を被覆硬化したものである特許請求の範
v!i第3〜4を項記載の反射防止プラスチック光学部
品。 R3b Si (OR’)4−b (−)(式中R
3は炭素数/−4の炭化水素基、 R4は炭素数/−1
の炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭素数/〜
qのアシル基、bはO〜3)で示される化合物。 R5cSi(OR’)4−c (j)(式中R5は
エポキシ基、ビニル基、メタクリロキシ基、メルカプト
基、アミノ基、塩素原子またはフッ素原子を有する有機
基、R6は炭素数7〜ダの炭化水素基、アルコキシアル
キル基または炭素数l−ダのア佐ル基、Cは1〜3)で
示される化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57009895A JPS58126502A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 反射防止プラスチツク光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57009895A JPS58126502A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 反射防止プラスチツク光学部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58126502A true JPS58126502A (ja) | 1983-07-28 |
| JPH0251163B2 JPH0251163B2 (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=11732854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57009895A Granted JPS58126502A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 反射防止プラスチツク光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58126502A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60128526A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-09 | Seiko Epson Corp | 表示兼入力装置 |
| JPS60214302A (ja) * | 1984-04-11 | 1985-10-26 | Seiko Epson Corp | 高屈折率プラスチツクレンズ |
| JPS61173936A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-05 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニー | シリカ コーテイング |
| JPS63193101A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 反射防止膜 |
| JPS6476001A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-22 | Hitachi Ltd | Antireflection film |
| WO1989004004A1 (fr) * | 1987-10-24 | 1989-05-05 | Ito Optical Industrial Co., Ltd. | Solution de traitement antireflet de pieces optiques et procede de traitement antireflet utilisant cette solution |
| JPH02256001A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-10-16 | Sumitomo Cement Co Ltd | 反射防止膜を有するガラスまたはプラスチック製品、その製法およびコーティング組成物 |
| JP2610155B2 (ja) * | 1987-10-24 | 1997-05-14 | 伊藤光学工業株式会社 | 光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理方法並びに反射防止処理光学部品 |
| US5723175A (en) * | 1994-12-12 | 1998-03-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
| US5753373A (en) * | 1995-12-21 | 1998-05-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US5873931A (en) * | 1992-10-06 | 1999-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
| US6040053A (en) * | 1996-07-19 | 2000-03-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| JP5343172B1 (ja) * | 2013-02-04 | 2013-11-13 | 株式会社アサカ理研 | コーティング液及び反射防止膜 |
| WO2016051750A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング、ガラス板、ガラス基板、及び光電変換装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH055624U (ja) * | 1991-07-11 | 1993-01-26 | 関東自動車工業株式会社 | 自動車のワイパ |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS453402Y1 (ja) * | 1967-07-03 | 1970-02-16 | ||
| JPS5393852A (en) * | 1977-01-24 | 1978-08-17 | American Optical Corp | Abrasion resistant lens |
| JPS5527387A (en) * | 1978-06-30 | 1980-02-27 | Techsight Corp | Coating composition |
| JPS55111336A (en) * | 1979-02-13 | 1980-08-27 | Simon Container Mach Ltd | Mechanism for supplying sheet from sheet stack |
| JPS55151617A (en) * | 1979-05-10 | 1980-11-26 | American Optical Corp | Spectacle lense |
-
1982
- 1982-01-25 JP JP57009895A patent/JPS58126502A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2610155B2 (ja) * | 1987-10-24 | 1997-05-14 | 伊藤光学工業株式会社 | 光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理方法並びに反射防止処理光学部品 |
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| WO2016051750A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング、ガラス板、ガラス基板、及び光電変換装置 |
| JPWO2016051750A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2017-08-31 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング、ガラス板、ガラス基板、及び光電変換装置 |
| US10600923B2 (en) | 2014-09-30 | 2020-03-24 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Low-reflection coating, glass sheet, glass substrate, and photoelectric conversion device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0251163B2 (ja) | 1990-11-06 |
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