JPS58134629A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性組成物に関するものである。
更に詳しくは、接着性、耐摩耗性にすぐれたバインダー
ポリマーを含有する画像形成用光重合性組成物に関する
ものである。
ポリマーを含有する画像形成用光重合性組成物に関する
ものである。
従来から、光重合性組成物に用いられるバインダーポリ
マーとしては、(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル
酸アルキルエステルの共m合体、イタコン酸共重合体、
部分エステル化マレイン酸共重合体、カルボキシル基含
有の酸性セルロース変性物、(メタ)アクリル酸とスチ
レン、アクリロニトリルとの共重合物などが知られてい
る。しかしながら、これらのバインダーポリマーは支持
体との接着性が必ずしも良好でなく、また溶油系薬品中
で、摩耗により低露光部が消失しやすい傾向が□あった
。これら接着性、耐薬品摩耗性を単に向上させうるバイ
ンダーポリマーは存在するが、しかしながらこれを用い
た場合、しばしば現像速度、非画像部の抜は性が著しく
低下してしまう現象を避は得なかった。
マーとしては、(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル
酸アルキルエステルの共m合体、イタコン酸共重合体、
部分エステル化マレイン酸共重合体、カルボキシル基含
有の酸性セルロース変性物、(メタ)アクリル酸とスチ
レン、アクリロニトリルとの共重合物などが知られてい
る。しかしながら、これらのバインダーポリマーは支持
体との接着性が必ずしも良好でなく、また溶油系薬品中
で、摩耗により低露光部が消失しやすい傾向が□あった
。これら接着性、耐薬品摩耗性を単に向上させうるバイ
ンダーポリマーは存在するが、しかしながらこれを用い
た場合、しばしば現像速度、非画像部の抜は性が著しく
低下してしまう現象を避は得なかった。
本発明者らは前記従来技術の問題点を解決すべく鋭意検
討した結果、特定の構造を含むバインダーポリマーを用
いることにより現像速度、非画像部の抜は性を低下させ
ることなく、接着性、耐摩耗性のすぐれた画像形成用光
重合組成物が得られることを見い出し、本発明に至った
。
討した結果、特定の構造を含むバインダーポリマーを用
いることにより現像速度、非画像部の抜は性を低下させ
ることなく、接着性、耐摩耗性のすぐれた画像形成用光
重合組成物が得られることを見い出し、本発明に至った
。
すなわち、本発明の要旨は、(イ)バインダーポリマー
、(ロ)エチレン性不飽和二重結合を少くとも/個有す
る付加重合可能な化合物、および←→光重合開始系よシ
成る光重合性組成物において、該バインダーポリマーが
一般式(1) 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2a ? 一0H=O−(とこでR3は水素原子、又はカルボキシ
ル基を示し、R4は水素原子又はメチル基を示し、nは
コ又は3を示す)を示す。〕で表わされる単位を有する
ポリマーであることを特徴とする光重合性組成物に存す
る。
、(ロ)エチレン性不飽和二重結合を少くとも/個有す
る付加重合可能な化合物、および←→光重合開始系よシ
成る光重合性組成物において、該バインダーポリマーが
一般式(1) 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2a ? 一0H=O−(とこでR3は水素原子、又はカルボキシ
ル基を示し、R4は水素原子又はメチル基を示し、nは
コ又は3を示す)を示す。〕で表わされる単位を有する
ポリマーであることを特徴とする光重合性組成物に存す
る。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明の光重合性組成物におけるバインダーポリマーは
前記一般式(1)で表わされる単位を有する。かかる単
位は、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと二塩基
性カルボン酸の酸無水物との反応物から誘導される。こ
の反応物は両物質をピリジン等の反応触媒と共に加熱し
て合成できる。また、市販品の入手も可能である。
前記一般式(1)で表わされる単位を有する。かかる単
位は、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと二塩基
性カルボン酸の酸無水物との反応物から誘導される。こ
の反応物は両物質をピリジン等の反応触媒と共に加熱し
て合成できる。また、市販品の入手も可能である。
:::1
ここで用いられする二塩基性カルボン酸の酸無水物とし
て好適i1...M、無水〜レイン酸、無水・ハク酸、
無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸およびヘキサ
ヒドロ無水フタル酸が挙げら 3− れる。
て好適i1...M、無水〜レイン酸、無水・ハク酸、
無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸およびヘキサ
ヒドロ無水フタル酸が挙げら 3− れる。
バインダーポリマー中、一般式(I)で表わされる単位
は有機溶媒含有現像液を用いる場合には、かかる単位を
2〜30モルチ含有する共重合体が好ましいが、有機溶
媒を含まない視像液を用いる場合には一般式(1)の岸
独重合体が好適である。
は有機溶媒含有現像液を用いる場合には、かかる単位を
2〜30モルチ含有する共重合体が好ましいが、有機溶
媒を含まない視像液を用いる場合には一般式(1)の岸
独重合体が好適である。
共重合体における他のユニットとしては共重合できうる
ものがらばすべて使用できるが、好適には、(メタ)ア
クリル酸アルキルエステル。
ものがらばすべて使用できるが、好適には、(メタ)ア
クリル酸アルキルエステル。
スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニルなどが挙げら
れる。これらバインダーポリマーは通常の重合法により
得ることができるが、特に溶液ラジカル重合法を用いて
好適に調製し得る。
れる。これらバインダーポリマーは通常の重合法により
得ることができるが、特に溶液ラジカル重合法を用いて
好適に調製し得る。
次に本発明のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも7
個有する付加重合可能な化合物について説明する。
個有する付加重合可能な化合物について説明する。
該化合物は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた
場合、第1の必須成分である光重合開始系の光分解生成
物の作用によシ付加重合す 4− ることにより硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエ
チレン性不飽和二重結合を有する単量体、または、側鎖
もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合
体である。なお、本発明における単量体の意味するとこ
ろは、所謂高分子物質に相対する概念であって、従って
、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも
包含するものである。
場合、第1の必須成分である光重合開始系の光分解生成
物の作用によシ付加重合す 4− ることにより硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエ
チレン性不飽和二重結合を有する単量体、または、側鎖
もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合
体である。なお、本発明における単量体の意味するとこ
ろは、所謂高分子物質に相対する概念であって、従って
、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも
包含するものである。
エチレン性不飽和結合を有する単量体としては例えば不
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物
、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合
物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物
、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合
物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。
不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸などがあ
る。
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸などがあ
る。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物としては例えばエチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、フロピレンゲリコール、/、2−ブタンジオール
等の二価アルコール類、トリメナロールエタン、トリメ
チロールプロパン、グリセロール等の三価アルコール、
ペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール等の
四価以上のアルコール類、ジヒドロキシマレイン酸等の
多価ヒドロキシカルボン酸類がある。
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、フロピレンゲリコール、/、2−ブタンジオール
等の二価アルコール類、トリメナロールエタン、トリメ
チロールプロパン、グリセロール等の三価アルコール、
ペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール等の
四価以上のアルコール類、ジヒドロキシマレイン酸等の
多価ヒドロキシカルボン酸類がある。
芳香族ポリヒドロキシ化合物としてはハイドロキノン、
レゾルシン、カテコール、ピロガロール等がある。
レゾルシン、カテコール、ピロガロール等がある。
多価カルボン酸としては、ラタル酸、イソツー
二・′ タル酸、テレフタル酸、アトフクロルフタル酸、トリメ
リット酸、ピロメリツ:、、、←lli:、酸、ベンゾ
フェノンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン
酸、ゲルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、テトラヒ
ドロフタル酸等がある。
二・′ タル酸、テレフタル酸、アトフクロルフタル酸、トリメ
リット酸、ピロメリツ:、、、←lli:、酸、ベンゾ
フェノンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン
酸、ゲルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、テトラヒ
ドロフタル酸等がある。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、テト
ラメチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラアクリレート、シヘンタエリスリトールベンタア
クリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、グ
リセロールジアクリレート等のアクリル酸エステル、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメテロ−、ルプロ
パントリメタクリレ□、。
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、テト
ラメチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラアクリレート、シヘンタエリスリトールベンタア
クリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、グ
リセロールジアクリレート等のアクリル酸エステル、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメテロ−、ルプロ
パントリメタクリレ□、。
一ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、べ 7− ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ジペンワ タエースリトールテトラメタクリレート、トリペンタエ
リスリトールオクタメタクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、7.2−ブタンジオールジメタク
リレート、ソルビトールテトラメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル、エチレングリコールシイタコネート
、プロピレングリコールシイタコ$−)、/、2−フタ
ンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコール
シイタコネート、ペンタエリスリトールトリイタコネー
ト等のイタコン酸エステル、エテレングリコールジクロ
トネート、ジエチレングリコールジクロトネート、ペン
タエリスリトールテトラクロトネート等のクロトン酸エ
ステル、エチレングリコールジマレエー)、)IJエテ
レンクリコールジマレエート、ベンタエリスリトールジ
マレエート等のマレイン酸エステルがある。
タエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、べ 7− ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ジペンワ タエースリトールテトラメタクリレート、トリペンタエ
リスリトールオクタメタクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、7.2−ブタンジオールジメタク
リレート、ソルビトールテトラメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル、エチレングリコールシイタコネート
、プロピレングリコールシイタコ$−)、/、2−フタ
ンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコール
シイタコネート、ペンタエリスリトールトリイタコネー
ト等のイタコン酸エステル、エテレングリコールジクロ
トネート、ジエチレングリコールジクロトネート、ペン
タエリスリトールテトラクロトネート等のクロトン酸エ
ステル、エチレングリコールジマレエー)、)IJエテ
レンクリコールジマレエート、ベンタエリスリトールジ
マレエート等のマレイン酸エステルがある。
8−
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
ステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも暎−物では無いが代表的な具体例を表/に
記す。表中の2はアクリロイル基またはメタクリロイル
基を示す。
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも暎−物では無いが代表的な具体例を表/に
記す。表中の2はアクリロイル基またはメタクリロイル
基を示す。
表 /
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物の例としてはアクリルアミド、エチレンビ
スアクリルアミド、ヘキサメチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、エチレンビスメタクリルアミド
、ヘキサメチレンビスメタクリルアミド等のメタクリル
アミド類、フタル酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フマ
ル酸ジアリル、トリアリルインシアヌレート等のアリル
エステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート
、エチレングリコールジビニルエーテル等のビニール含
有化合物が挙げられる。
有する化合物の例としてはアクリルアミド、エチレンビ
スアクリルアミド、ヘキサメチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、エチレンビスメタクリルアミド
、ヘキサメチレンビスメタクリルアミド等のメタクリル
アミド類、フタル酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フマ
ル酸ジアリル、トリアリルインシアヌレート等のアリル
エステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート
、エチレングリコールジビニルエーテル等のビニール含
有化合物が挙げられる。
主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は例えば不
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応によ、NIられるポリアミド
等がある。
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応によ、NIられるポリアミド
等がある。
□ぺ、。
本発明で使用する1:・これら重合体は、通常、/θ、
θθθ〜/θθ、θOθの分子量を有する。不飽和二価
カルボン酸としてはマレイン酸、ツマ−11− ル酸などが挙げられる。側鎖にエチレン性不飽和結合を
有する重合体は側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸
例えばイタコン酸、α−メチルイタコン酸、γ−メチル
イタコン酸、プロピリデンコハク酸、α−エチリデンゲ
ルタン酸。
θθθ〜/θθ、θOθの分子量を有する。不飽和二価
カルボン酸としてはマレイン酸、ツマ−11− ル酸などが挙げられる。側鎖にエチレン性不飽和結合を
有する重合体は側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸
例えばイタコン酸、α−メチルイタコン酸、γ−メチル
イタコン酸、プロピリデンコハク酸、α−エチリデンゲ
ルタン酸。
エチリデンマロン酸、プロピリデンマロン酸等とジヒド
ロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステ
ル、ジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド
等がある。また側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル
基の如き反応活性を有する官能基をもつ重合体と(メタ
)アクリル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られるポリマーも好適に使用し得る
。前記の反応活性を有する官能基をもつ重合体としては
ポリビニルアルコール、ビニルアルコールと酢酸ビニル
との共重合体、ビニルアルコールとアクリロニトリル、
スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等との共重合体
、ボリエピク゛ロルヒドリン、コーヒドロキシエテルメ
タクリレートとアクリロニトリル、メ12− チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、スチレン
、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等との共重合体、エピク
ロルヒドリンと21.2−ビス(弘−ヒドロキシフェニ
ル)−フロパンとの反応によシ得られるポリエーテル、
ポリ(ドーヒドロキシステレン)、ポリ(N−メチロー
ルアクリルアミド)などが挙げられる。
ロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステ
ル、ジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド
等がある。また側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル
基の如き反応活性を有する官能基をもつ重合体と(メタ
)アクリル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られるポリマーも好適に使用し得る
。前記の反応活性を有する官能基をもつ重合体としては
ポリビニルアルコール、ビニルアルコールと酢酸ビニル
との共重合体、ビニルアルコールとアクリロニトリル、
スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等との共重合体
、ボリエピク゛ロルヒドリン、コーヒドロキシエテルメ
タクリレートとアクリロニトリル、メ12− チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、スチレン
、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等との共重合体、エピク
ロルヒドリンと21.2−ビス(弘−ヒドロキシフェニ
ル)−フロパンとの反応によシ得られるポリエーテル、
ポリ(ドーヒドロキシステレン)、ポリ(N−メチロー
ルアクリルアミド)などが挙げられる。
以上記載したエチレン性不飽和二重結合を少なくとも/
個有する付加重合可能な化合物の内、アクリル酸エステ
ル類またはメタクリル酸エステル類の単量体が特に好適
に使用できる。
個有する付加重合可能な化合物の内、アクリル酸エステ
ル類またはメタクリル酸エステル類の単量体が特に好適
に使用できる。
本発明組成物の光重合開始系は、従来公知のものが使用
できる。例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエー
テル、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、ミ
ヒラーケトン、ビイミダゾールとミヒラーケトンとの複
合系などいずれも好適に用いることができる。
できる。例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエー
テル、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、ミ
ヒラーケトン、ビイミダゾールとミヒラーケトンとの複
合系などいずれも好適に用いることができる。
本発明組成物を構成する前記の各成分の成分比率は通常
、バインダーポリマーが/θ〜?θ重it%、好ましく
は20〜30重量%、エテレン性不飽和二重結合を少く
とも/個有する付加重合可能な化合物が90− u O
重t11、好ましくはr o −g o重量俤、光重合
開始系は0./〜/j重tチ、好ましくは1〜♂重量%
の範囲から選ばれる。
、バインダーポリマーが/θ〜?θ重it%、好ましく
は20〜30重量%、エテレン性不飽和二重結合を少く
とも/個有する付加重合可能な化合物が90− u O
重t11、好ましくはr o −g o重量俤、光重合
開始系は0./〜/j重tチ、好ましくは1〜♂重量%
の範囲から選ばれる。
本発明の光重合性組成物は使用目的に応じ、更に他の成
分を添加混合し、物性の改質、調節を行なうことができ
る。例えば熱重合禁止剤、酸化防止剤、着色剤、可塑剤
、塗布助剤などを前記3成分の総重量に対し20重量%
以下の量、配合しても良い。
分を添加混合し、物性の改質、調節を行なうことができ
る。例えば熱重合禁止剤、酸化防止剤、着色剤、可塑剤
、塗布助剤などを前記3成分の総重量に対し20重量%
以下の量、配合しても良い。
本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料を形成す
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤として
は例えばメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサ
ノン、酢酸エテル、酢酸ブチル、酢酸・、ナミル、プロ
ピオン酔エテル、トルエン、キシ11’多ン、ベンゼン
、モノ、クロロベンゼン、クロロホルム、四m化炭素、
トリクロロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テト
ラヒドロフラン、ペントキソン、メタノール、エタノー
ル、プロパツール等がある。
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤として
は例えばメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサ
ノン、酢酸エテル、酢酸ブチル、酢酸・、ナミル、プロ
ピオン酔エテル、トルエン、キシ11’多ン、ベンゼン
、モノ、クロロベンゼン、クロロホルム、四m化炭素、
トリクロロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テト
ラヒドロフラン、ペントキソン、メタノール、エタノー
ル、プロパツール等がある。
本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調製する際
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラミックスの如き
無機シート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−ナイ
ロン、乙、乙−ナイロン、セルロースジアセテート、セ
ルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレ
ートの機外ポリマーシート:邊どがある。これらの支持
体ズ、′ は感光層の両側に適、、用する場合もあり、また接着強
度を調節する為に表面処理を施してもよい。
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラミックスの如き
無機シート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−ナイ
ロン、乙、乙−ナイロン、セルロースジアセテート、セ
ルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレ
ートの機外ポリマーシート:邊どがある。これらの支持
体ズ、′ は感光層の両側に適、、用する場合もあり、また接着強
度を調節する為に表面処理を施してもよい。
また本発明の光重合性組成物はさらに酸素に15−
よる感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防1ト、
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能な透明
カバーシートを設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質
、水溶性、又はアルカリ水溶性ポリマー等による被覆層
を設けることもできる。
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能な透明
カバーシートを設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質
、水溶性、又はアルカリ水溶性ポリマー等による被覆層
を設けることもできる。
本発明の組成物に適用し得る露光光源としてはカーボン
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、タングステンランプ、アルゴンイ
オンレーザ−、ヘリウムカドミウムレーザー、クリプト
ンレーザー等//θnm以上の紫外線、可視光線を含む
汎用の光源を好適に使用し得る。
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、タングステンランプ、アルゴンイ
オンレーザ−、ヘリウムカドミウムレーザー、クリプト
ンレーザー等//θnm以上の紫外線、可視光線を含む
汎用の光源を好適に使用し得る。
本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に有用であ
って例えば平版、凹版、凸版等の印刷版の作成、プリン
ト配線やICの作成の為のフォトレジスト−や、ドライ
フィルム、レリーフ像、非錯塩リスフィルム、画像複製
などの画像形成等に利用できる。
って例えば平版、凹版、凸版等の印刷版の作成、プリン
ト配線やICの作成の為のフォトレジスト−や、ドライ
フィルム、レリーフ像、非錯塩リスフィルム、画像複製
などの画像形成等に利用できる。
以下、本発明を実施例ならびに比較例により16−
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。
るものではない。
参考例/
メチルメタクリレートrr、rt、イソフタル酸モノβ
−メタクリロキシエテル/、2.りf(仕込モル比θ、
9り10.01)、過酸化ベンゾイルθ、t fをジオ
キサンタθθfに溶解し、Z時間還流後、多量の水中に
滴下した。得られたポリマーを少量のアセトンに溶解し
、多量のメタノール中に滴下し再析出させた後、真空乾
燥して共重合体を合成した。
−メタクリロキシエテル/、2.りf(仕込モル比θ、
9り10.01)、過酸化ベンゾイルθ、t fをジオ
キサンタθθfに溶解し、Z時間還流後、多量の水中に
滴下した。得られたポリマーを少量のアセトンに溶解し
、多量のメタノール中に滴下し再析出させた後、真空乾
燥して共重合体を合成した。
参考例λ
スチレン7jt、インフタル酸モノβ−メタクリロキシ
エテルto?(仕込モル比θ、?θ/θ、2θ)、過酸
化ベンゾイルO0りfをジオキサンj00tに溶解しり
時間還流後、多量の水中に滴下した。得られたポリマー
を少量のアセトンに溶解し、多量のメタノール中に滴下
し再析出させた後、真空乾燥して共重合体を合成した。
エテルto?(仕込モル比θ、?θ/θ、2θ)、過酸
化ベンゾイルO0りfをジオキサンj00tに溶解しり
時間還流後、多量の水中に滴下した。得られたポリマー
を少量のアセトンに溶解し、多量のメタノール中に滴下
し再析出させた後、真空乾燥して共重合体を合成した。
参考例、?
ヘキサヒドロイソフタル酸モノβ−メタクリロキシエチ
ル/21F、 過酸化ベンソイル、2j■をジオキサン
ぐθtに溶解し、置時間還流後多量の水中に滴下した。
ル/21F、 過酸化ベンソイル、2j■をジオキサン
ぐθtに溶解し、置時間還流後多量の水中に滴下した。
得られたポリマーをアセトンに溶解、再び水中に滴下し
再析出させた後、真空乾燥して単独重合体を得た。
再析出させた後、真空乾燥して単独重合体を得た。
実施例1〜6、比較例1
参考例1K言已載の方法に準じて合成したバインダーポ
リマーに、6F、ペンタエリスリ) −A/トリアクリ
レート(大阪有機化学工業社製)/θ、9f1下記構造
式〔I〕、〔■〕で示される光重合開始剤各0.2 j
tずつをエチルセロソルブ6oyに溶解して得た感光
液を砂目室てしたアルミニウムシート上にホワラーを用
いて乾燥膜厚20 ml / (i yl”となる様塗
布した。更にその上にポリビニルアルコール水溶液を塗
布し、乾燥膜厚λθ■/ d、2のオーづiコート層を
設は試料を作成した。試料の上にステップタブレット(
イーストマンコダック社製)を重ね、真空焼枠中にて露
光し、ブチルセロソルブ70t、ケイ酸ナトリウムtr
、水コθorより成る現像液で現像を行ない、感度(光
硬化画像段数で表示)、および耐摩耗性(溶油系薬品中
で摩耗して光硬化画像段数の後退により評価)を求めた
。
リマーに、6F、ペンタエリスリ) −A/トリアクリ
レート(大阪有機化学工業社製)/θ、9f1下記構造
式〔I〕、〔■〕で示される光重合開始剤各0.2 j
tずつをエチルセロソルブ6oyに溶解して得た感光
液を砂目室てしたアルミニウムシート上にホワラーを用
いて乾燥膜厚20 ml / (i yl”となる様塗
布した。更にその上にポリビニルアルコール水溶液を塗
布し、乾燥膜厚λθ■/ d、2のオーづiコート層を
設は試料を作成した。試料の上にステップタブレット(
イーストマンコダック社製)を重ね、真空焼枠中にて露
光し、ブチルセロソルブ70t、ケイ酸ナトリウムtr
、水コθorより成る現像液で現像を行ない、感度(光
硬化画像段数で表示)、および耐摩耗性(溶油系薬品中
で摩耗して光硬化画像段数の後退により評価)を求めた
。
なお露光条件は高圧水鋼溶(ウシオ電機社製ユニパルス
UMH−Jθθ0)で光源距離へ〇m、露光時間30秒
で行なった。評価結果を表−1に示す。なおバインダー
ポリマーの共重合比は仕込みモノマーのモル比である。
UMH−Jθθ0)で光源距離へ〇m、露光時間30秒
で行なった。評価結果を表−1に示す。なおバインダー
ポリマーの共重合比は仕込みモノマーのモル比である。
Cat。
19−
20−
本発明のバインダーポリマーは比較例−/のそれに比し
極めて優れた耐摩耗性を示しfl−oまた実施例1〜乙
の試料について現像性(未露光部の抜は速度およびカプ
リ度合より評価)を調べたととろ、いずれも良好な特性
を示した。
極めて優れた耐摩耗性を示しfl−oまた実施例1〜乙
の試料について現像性(未露光部の抜は速度およびカプ
リ度合より評価)を調べたととろ、いずれも良好な特性
を示した。
なお、表−/においてr(−MMA−)Jはメチルメタ
クリレートから誘導された単位を示す。
クリレートから誘導された単位を示す。
実施例7
参考例−に記載の方法で得たバインダーポリマーを用い
たほかは実施例/〜6と同様にして試料を作成し、露光
した。ブテルセロソルブコθt、ケイ酸ナトリウム2?
、水λθOfより放る現像液で現像を行なったところ感
度72段、耐摩耗性(後退段数)−3段と優れていた。
たほかは実施例/〜6と同様にして試料を作成し、露光
した。ブテルセロソルブコθt、ケイ酸ナトリウム2?
、水λθOfより放る現像液で現像を行なったところ感
度72段、耐摩耗性(後退段数)−3段と優れていた。
また現像性も良好であった。
実施例?
参考例3に記載の方法で得たバインダーポリ〜−を用い
たほかは実施例、l:j辷6と同様にして試料を作成し
、露光をした。ケイ酸ナトリウム2重量%水溶液より成
る現像液にて現像を行なつたところ感度72段、耐摩耗
性(後退段数)−3段と優れていた。オた現像性も良好
であった。
たほかは実施例、l:j辷6と同様にして試料を作成し
、露光をした。ケイ酸ナトリウム2重量%水溶液より成
る現像液にて現像を行なつたところ感度72段、耐摩耗
性(後退段数)−3段と優れていた。オた現像性も良好
であった。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −ほか/名
Claims (1)
- (1)(イ)バインダーポリマー、(ロ)エチレン性不
飽和二重結合を少くとも1個有する付加重合可能な化合
物、および(/−1光重合開始系より成る光重合性組成
物において、該バインダーポリマーが一般式(I) 1 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、3 4 −QH=Q−(ことでR8は水素原子、又はカルボキシ
ル基を示し、R4は水素原子又はメチル基を示し、nけ
2又は3を示す)を示す。〕で表わされる単位を有する
ポリマーであることを特徴とする光重合性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1676182A JPS58134629A (ja) | 1982-02-04 | 1982-02-04 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1676182A JPS58134629A (ja) | 1982-02-04 | 1982-02-04 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58134629A true JPS58134629A (ja) | 1983-08-10 |
Family
ID=11925210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1676182A Pending JPS58134629A (ja) | 1982-02-04 | 1982-02-04 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58134629A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59179608A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 光硬化性ヒドロゾル組成物の製造法 |
| JPS604512A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-11 | Takao Ono | 感光性組成物 |
| JPS63261254A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ドライフィルムレジスト用光重合性組成物 |
| JPH031145A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
| JPH0315070A (ja) * | 1989-03-08 | 1991-01-23 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
| EP1176467A1 (en) | 2000-07-28 | 2002-01-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative working photosensitive lithographic printing plate |
| EP1204000A1 (en) * | 2000-11-06 | 2002-05-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
| US6777155B2 (en) | 2000-10-03 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
| US7052822B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-05-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
| US7081329B2 (en) * | 2002-09-30 | 2006-07-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
| US7122293B2 (en) * | 2003-07-29 | 2006-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
| US7291443B2 (en) | 2003-07-29 | 2007-11-06 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and image-recording material using the same |
| US7303857B2 (en) | 2003-09-24 | 2007-12-04 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition and planographic printing plate precursor |
| US7338748B2 (en) | 2002-09-30 | 2008-03-04 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor |
| US7425400B2 (en) | 2003-02-20 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor |
| US7604923B2 (en) | 2003-01-14 | 2009-10-20 | Fujifilm Corporation | Image forming method |
| CN109937268A (zh) * | 2016-10-25 | 2019-06-25 | Osg株式会社 | 硬质被膜和硬质被膜被覆构件 |
-
1982
- 1982-02-04 JP JP1676182A patent/JPS58134629A/ja active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH031145A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
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| US6861200B2 (en) | 2000-07-28 | 2005-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative working photosensitive lithographic printing plate |
| US6777155B2 (en) | 2000-10-03 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
| EP1204000A1 (en) * | 2000-11-06 | 2002-05-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
| US7081329B2 (en) * | 2002-09-30 | 2006-07-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
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| US7291443B2 (en) | 2003-07-29 | 2007-11-06 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and image-recording material using the same |
| US7303857B2 (en) | 2003-09-24 | 2007-12-04 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition and planographic printing plate precursor |
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