JPS5813582A - ピラン誘導体、その製造法及び殺ダニ剤 - Google Patents

ピラン誘導体、その製造法及び殺ダニ剤

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JPS5813582A
JPS5813582A JP11282281A JP11282281A JPS5813582A JP S5813582 A JPS5813582 A JP S5813582A JP 11282281 A JP11282281 A JP 11282281A JP 11282281 A JP11282281 A JP 11282281A JP S5813582 A JPS5813582 A JP S5813582A
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高尾 久
Norio Osaki
大崎 憲生
Norio Yasutomi
安冨 範雄
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Otsuka Chemical Co Ltd
Otsuka Kagaku Yakuhin KK
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Otsuka Chemical Co Ltd
Otsuka Kagaku Yakuhin KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本轟−は新規なVラン誘導体、その製造法及び験ダ&1
IliCllするものである。
本発明のビラン誘導体は下記の一般式て表わ書〔式中I
llは水嵩原子、低級アルキル基、シクロアル本ル基、
フェニル基s 1mは炭素数8〜!Oのアルキル基s 
”lは水素原子、ハロゲン原子、1%はそれぞれ低級ア
ルキル基、シクロアルキル基であり、Aは−C11,−
,酸素原子又は窒素原子あるか又は1個もしくはそれ以
上の低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子で任意に置換されてもよい)を浄成するものである。
〕−上記一般式〔1〕において低級アルキル基としては
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−−
メチル、インブチル、ペンチル、へ専シル等を例示で舎
る。シクロアルキル基としてはシクロプロビル、シタロ
ブチル、シタ■ペンナル、シ?ロヘヰシル、シタロブチ
ル等を挙げることがで命る。また#em数ト40のアル
キル基とし“ではオクチル、デシル、ウンデシル、テ訃
うデシル、オタタデシル、エイコシル醇を例示すること
がで會る。又ハロゲン原子としてはate原子、臭素原
子等を挙げること#?會る。
従来本JIIi鴫の上記一般式〔1〕で麦ゎ書れるピラ
ン誘導体に@似す毒化合物がマルトール誘導体の壷威申
閤体として報告された偶紘ある(411開唱墨t−ta
xis号及び特開昭1s−isitT$号)。
本J11明は、上記各公報に記載書れ墨公知化舎物とは
ビラン■上の置換基を異化する一連のビラン誘導体が、
上記各公報に全く記載のない験ダ1作層を有し、しかも
低−性であるが欽に農■芸層殺ダニ剤として極めて有用
であることを見い出し完成$れたものである。
上記稜ダ息作用を有する本発明の一般式〔1〕で表わ寥
れ墨ビラン誘導体の代置、例を挙げれば次の1.111
\ 通りである。
・−ラウリルオキシ−!H−ピランー11(IIり一オ
ン(6M)−オン 6−ゾシルオ専シート1−プロピルー鵞H−ビラン−1
(gH)−オン 6−9會曹ルオ◆シー3−11−プロピル−意■−ビラ
ン−1(II)−オン 6−七チルオ専シート1−プロピルー意H−ビラン−8
(・H)−オン ・−オタチルオ◆シー2−イソプロピル−雪■−ビ予ン
−II(@翼)−オン ・−デシルオ専シー意−イソプロビルー怠H−ビラン−
8(@If)−オン 6−ラウ響ルオ専シー雪−インプロピルー意H−ビラン
−8(−H)−オン 1:霞 一一セチルオ専シー2−.インプロピル−意H−ピラン
−a(・H)−オン 6−りウ曽ルオキシー1−にタロプロピル−!H−ビラ
ンー8cmH)−オン 6−セチルオキシ−3−vクロプロピル−ffiH−ビ
ラン−8(gH)−オン ・−ツウ9ルオ本シー雪−鳳一プチル−8H−ピランー
ー8(IIH)−オン 6−オタチルオキシー意−インプチルー雪H−ビラン−
1(・H)−オン ・−ラ會譬〃オ◆シー!−インブチル−2H−ビラン−
S(・■)−オン 6−うウリルオ◆シー冨−n−丁電ルー鵞H−ビラン−
S(・H)−オン ・−オタチルオ◆シー意−n−へキシル−!H−ピラン
ー1(6M)−オン 6−ラウ曹ルオ専シー意−フェニル−!H−に’ランー
壽(・H)−オン ・−オクチルオキシ−3−シクロヘキシル−!IH−ピ
ランー1(−H)−オン 6−うウリルオキシー露−シタロヘキシル−IK−ビラ
ン−畠(・H)−オン 6−デシルオキシ−4−タロロート−n−1−ビル−3
■−ビラン−8(6H)−オン 6−ラウ1j&/オキシ−4−ブロモ−雪−1−プロピ
ル−gH−ビ予ン一8(6H)−オン ・−令ナルオキシー4−タWW−黛−輪一プロピルー雪
H−ビラン−8(6H)−オン 6−セチルオキシー4−ブロモ−2−fi−プロピル−
2H−ビラン−S(・H)−オン 6−オクチルオキシー4−タ9 !Hービランー8(・H)−オン 6−ラウ9ルオキシー4−クロロ−2−インプロピル−
!Hーピランー11(6H)−オン ・−セチルオ専シー4ークロロー雪ーインプロビルー雪
H−ビラン−8(6H)−オン ・−七チルオキシー4ーブロモー2ーインプロピル−2
H−ビラン−1(IIH)−オン 一一七チルオキシー4ータE10ー雪−シタロブ−(ル
ー意翼ービラン−8(61)−オン 一一竜チルオキシー4ーブロモ−2−シタ四へキシル−
露Hービラン−8(6H)−オン 6−ラウリルオ亭シー4ータロo−2−インブチル−g
H−ビラン−8(liH)−オン 6−ラウ1ルオ率#/−4−ジ−n−ブチルアミツメナ
ル−童−n−プロピル−2H−ビラン−8(II)−オ
ン・−七ナルオ◆&−4−ジエチルア電ツメチル−f−
肱−プロピル−1H−ビラン−3(6H)−オン・−令
ナルオ◆シー4−ビペ響ジノメナルート1−プロピル−
!H−ビランー81H)−オンS−七チルオ◆シー4−
(4−メチル)ビペ曽ジノメチルー!−聰−プロピル−
!H−ビランー11(@H)−オン 6−オクチルオキシ−4−ジ−n−ブチルアしリチルー
禽−イソプロビルーgH−ピラン−8(・H)−オン・
−オタナルオ本シー4−ピペ曽ジノメチル−露−インブ
ービル−舅H−ビラン−8(−11)−オン・−99響
ルオキシー4−ピペリジノメチ#−2−インプロピル−
富H−ビランー畠(−H)−オン) ・−令ナルオ専シー4−ジエチルア電ツメチル−2−イ
ンプロピ#−111−ピラン−11(IIH)−オン□
1h −一令ナルオ◆シー4−ジー1−ブチルア電ツメチル−
鵞−インプービル−IM−ビラン−ml(8M)−オン
・−令チルオキシー4−ピペリジツメナル−2−インプ
四′ピルー露H−ビラン−8(・H)−オンン 一一七ナルオ専シー4−4ルホ讐ツメチル−2−インプ
ロピル−tg−ビラン−1(・H)−オン・−七チルオ
キ1/−4−N−メ苧ルVペラジノメナルー意−インプ
ロピルー冨H−ビランー畠(−H)−オンーー七チルオ
キシー4−ピロ曽ジノメチル−2−イソプロピル−雪H
−ビラン−1(IIM)−オン6−ラウ曹ルオキシー4
−ビペ曽ジノメチルー雪−シタ四プ書ビル−冨H−ビラ
ンー畠(・H)−オン6〒−kflklオキシ−4−ビ
ペ曹ジノメチルー雪−シタロプ曹ビル−重器−ビラン−
1(IIH)−オンーー令テルオ専シー4−(4−メチ
ル)ビペ譬ジノメナルー鵞−シタ1プ!、ビルー!n−
ピラン−m(@1i)−オン・−ラウ菅ルオキ帖−4−
ビペ曽ジノメチル−冨−インブチル−雪H−ビラシー畠
(−H)−オン6−ラウ響ルオ専シー4−ピペリジノメ
チル−2−シタロヘ奉シル−!に一ビランーII(II
H)−オン本Jll明の上記一般式(1)で表わ審れる
ビラン誘導体は、例えば下記の!LWB式1〜mm示す
方法に従い壷威す墨ことがで自重。
(3116式1〕 〔露〕〔$〕 c式中1te1mは前記に岡じ、Il・は低級アルキル
基を示す、〕 上記に自いて出発原料とするビラン誘導体〔幻は公知の
化金物てあり、特開昭lS−1111m丁6号に従って
舎WIL寝れる。該誘導体〔幻とアルコール−との1L
tPは酸性化金物の存在下溶媒中で行われ墨、テルコー
A11lKとしては例えば、オタナルTルクール、雪−
エナルヘキシルアルコール、ノニルアルクール、デシル
アルコール、ラウマルアルコール 竜ナルアルコール、
ステア響ルアルコール。
エイXWルアルコール等を例示で舎る。tII謀として
はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ号ν等のエー
テJ&IIII[、ベンゼン、トルエン、キシレンて会
る。酸性化金物としては塩化第二スズ、塩化亜鉛、フッ
化ホウ素等のルイス酸、ト響フルオロ酢酸、パラトルエ
ンスルホン酸等の有機酸、硫酸、塩酸、リン酸等の無機
酸を使用で会る。アw :s −ル**よび酸性化金物
の使用量は出発原料〔雪〕に対し、それぞれ約叡ト4倍
モA/好ましくは等峰ル〜L寓倍噌ル自よび約e、oo
t〜@、1倍そル舒ましくは約11A−o、を倍七ルと
すればよ%1.11L応は遥常−一・〜4・℃好ましく
は・℃〜富温にて豹S〜1・時間て完結する。
かくして一般式〔1〕で表わされる化合物中sRaが本
雪原子である化金物〔畠〕を収得で会る。
〔反応式3〕 (1)           (4) c式中Is * jLsは前記に岡じであり、Iはへ1
1ゲン原子を示す、〕 上記に自いて出御原料とするビラン誘導体〔8〕は前記
lL応弐1により収得で会る。化合物c1〕とハロゲン
化剤とのII6は、好まL<は前述したハ1 謬ゲン化員化水素傾、エーテル傾等の溶媒中、−畠o−
5te”o、好ましくはo℃〜室温下、約助分〜雪時間
反l151il、系内1c塩基性化会物を添加し更に同
温度で約t−S時間を要して行われる。ハロゲン化剤と
しては例えば塩素、臭素、aつ素等のハロゲン又は次亜
塩素酸、次亜臭素酸、次間■つ素酸等の次亜へ■ゲン酸
等を利用て會、これらは原料化金物に対し等そル以上好
ましくは等令ル〜L冨倍モル使Mllれる。又塩基性化
金物としてはト曹エチルア電ン、ト曽プロピルアミン、
ビ響ジン等の第S級アミン類=よび水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸力99ム等の無
機塩基等を使用で台、その使用量は原料化合物に対し通
常等モル以上好ましくは等モル〜1倍4j&である。か
く・1・・て一般式〔1〕て表わされる化合物中R1が
ハロゲン原子である化金物〔4〕を収得で壷る。
(1)      ”1−oH(i) 〔6〕 C式中It e ml I 14e II およびAは
上記に肯じ。
及マは低級アル専ル基を示す、〕 (を金物(Uと傘ルマ1ン、上記アミン類とのアミツメ
チル化J[II5は好宜しくは低級ア#コール中で行わ
れ墨、低級アルコールとしてはメタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノールなどが使Mネれ墨0本ルマ
ツン及びアミン類の使用量は原料〔・]r:対し、それ
ぞれ約収トI倍峰ル好ましくは等令ル〜1.I倍峰ルと
すればよい、上記反応は室温〜lOO℃、好ましくは約
40〜6・℃で約8−10時間行われたのちに、適宜に
酸付加塩にして単一される。
かくして一般式(1)で表わされ墨化合物中、13がy
tノメナを基である化合物(1り *よび〔6〕を収得
e舎る。
上記ILw5式1−1の各行程で製jlIされる化金物
は通常の分離手段、例えば溶媒抽出法、溶媒希釈法、蒸
留法、再結晶法、カラムタロマドグラフィー等により容
易に単離精製で命、かくして所望の一般式(1)て表わ
されるビラン誘導体を収−で壷る0本発明のビラン誘導
体は市販の殺ダニ剤に類似しない金≧新規な化合物であ
って、しかも殺ダニ6性の持続性が高いのでダニ総会防
除として高く評価書れ纂ものである。
一欽式〔1〕て表わされるビラン誘導体を有効成分とし
て會有する本発明の殺ダニ剤は、通常公知の験虫鋼と同
様に、6要Icw5じて適当な1体担体。
績体侃体、懸濁化剤、展着剤等を用いて粒剤、粉剤、乳
剤、分飲剤、水10鋼、錠剤、油剤、噴鱒剤、鑞−剤等
の任意のl1mに調製で會る0Mいられる担体としては
、クレー、カオリン、ベントナイト、タルク、酸性白土
、硅藻土、炭酸カルシウム、ニド田七k111−ズ、デ
ンプン、アラビアゴム、炭酸ガス、フレオン、水、ベン
ゼン、ケロシン、アルコール、アセトン、キシレン、メ
チルナフタレン。
シタロヘキ苧ノン、動植轡)脂肪酸エステル等を例示で
自重、1また懸濁化剤、展着剤等としては、通常の界面
活性剤例えば5験、高級アルコールの硫酸エステル、ア
ルキルスルホン酸311,114級アン壁ニウム塩、ポ
リアルキレンオキシド等を例示で會る。
上記により調製される本発明殺ダニ剤中の一般式〔1〕
で表わされる化合物の配合量は、その使用y#鱒等に応
じて適宜に決定で舎る。例えば分散剤や水和剤等の形鱒
とするには、約収1−90重量鳴の範囲とするのが好ま
しく、また粉剤や油剤等の浄書では約0.1〜10重量
喚程度の範囲とするのが適当である。
本発明の稜ダニ剤は、その使用に当っては公知の殺曳剤
と同様・・k殺菌効果を6要とするt1絣に飲布、噴震
、塗−1等により適用できる。その適用量は適宜に決定
できるが例えば本発明殺ダニ剤を農aWw用として利用
する場合通常1ヘクタール当り有効成分量が豹(1,1
−161if好ましくは約0.1〜li即畷度となる量
を1安とすればよく、勿論これは植物やその病害の程度
に応じて適宜増減で会る。
會たこれは例えば他の殺ダニ剤、殺菌剤、殺虫剤又は除
草剤、肥料物質、土壌改良剤等と併用することも可能で
ある。
1GK本抛明を更に詳しく説明するために以下に舎威例
、験良試験例を挙げる。
製造偶1 ・−アセトキシ−嘗−インプロビル−IH−ビラン−虐
(・H)−オン8.96炉と一チルアルコールt14t
とをエーテルlow/に溶解してスターラーてか会員ぜ
てお(、この中へ暴〜l・℃−eIIs水寝化第二スズ
(kl議jを少量ずり注加す石。
反lI8温舎物は室温で7時間撹拌した後、、重ンウ水
で3回、飽和食塩水でiwA洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を留夫すると黄色粘性油状の・−
令チルオキシー意−インプ嘗ビル−3H−ビラン−S(
・H)−オンC化金物1〕丁、Otが得られる。
11(m@at、cm−”);  ill會8(C−0
)、1@意畠(C■C) NMI(CDC/s)    ;  ・J冨(ms@I
、CJ−C)*IJ4(m、IH,CH8−C)、1.
!4(m、1811.C1愈−C)、鵞23魯(!El
、 1B、C1f−C) 、1.111(++a。
寓H,CH1−0)、表霊雪(1@ e I HmCB
−0) 、 6.10(a、 IM、Cl−0)。
6、・4 (tth @ I B m CI−C) @
 a、マS(sn # l He CHWmC) 製造例雪 6−セナルオ本シー意−インプロビル−gH−ビラン−
1(IH)−オン8.8tを四塩化嶽素Il10m1K
t解婁曽、か命混ぜながら1・℃以下で塩素ガス(重量
にして1マlf)を少量ずつ導入する。尋人**昏に富
・分撹拌した被ピリジン0.8炉を温度を1s℃以下に
保って滴下す墨、析出物を吸引r道して分離し、Pil
lを暴鳴塩酸水嬉液、飽和型ソウ水1!Fらに飽和食塩
水て洗浄後、#1水硫駿マダネシ豐ム′?乾燥する。溶
媒を留来す墨と黄色m性輪状の一一セチルオ専シー4−
タWロー雪−イV′fWII#ルー雪H−ピラン−8(
6M)−オンC化金物雪)411fIが得られる。
1 菫1(m@at、cga  )1  1480(Cm、
)、l@雪4<C−C> NMR(CD C1s )   ;  OJl (m 
e IH−Cnj −c ) −1,04(m、lH,
cHm−C)、1.11     ゛(+n、18B、
CHs−C)、1mmCrm。
1H、CM−C)、 3.6II(so、鵞H。
CHl−0)、4J!(m、IH,CM−0)、l$、
8霊(m、IH,CH−0)。
7.13(m * I H@ CH=C)製造例8 6−セチルオキシ−←−す・ψ−1−イゾプロビルー鵞
H−ピラン−11(IIH)−オン8.8炉をメタノー
ルI!6mjK#解し、か命混ぜなが6ビペ9ジンIJ
IFと87鴫ホルマリン1.・61とを加えた後、!K
15混舎物をs6〜60℃で7時閣撹□− 評する0次にメタツー−を除去した残留物をν曽カゲル
カラム(ベンゼン−酢酸エチルml!!1)させた、業
の上に産下された卵を、50葉ごと50%乳剤の所定希
釈液に10秒間浸漬して風乾した。
しかる後に、2丁℃の室内に業と卵が乾燥しないように
保った。マ日後に、卵のふ比軟を測定し、殺卵率を算出
した。その殺卵率を第畠表に示した。
比較の為に対照薬剤(Zard・菫、ゾエコン社製品)
の処理区と無魁珊区も併せ記した。
第  3  表 (以上)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔式中−は水嵩原子、低級アルキル基、シタロアルキル
    基、フェニル基、R雪は**&8〜!・のアルキル基、
    −は水素原子、ハロゲン原子、lIはそれぞれ低級アル
    キル基、シフロアにキル基で島り、ムは−C1,−1酸
    素原子又は窺素原換であるか又は1偏もしくはそれ以上
    の低級アルキル基、低級アルコ率ν基又はハロゲン原子
    で置換置れてもよい)をS成rるものて畠墨、〕で表わ
    されるビラン誘導体及び受の酸付加塩。 ル基)である特許請求の範■第1項に記載のビラン誘導
    体及びその酸付加塩。 (8)11が−C1m<>I  (II t*−C1層
    −または酸素原子)である特許請求の範囲第1]Jに記
    載のビラン誘導体及びその酸付加塩。 て表わ婁れるビラン誘導体を低級アルコール中、れるT
    電ン類とをIL応婁せることを物欲とする−欽式□ − で表わ廖れ尋ビテン騎導体の11!jl法。 〔式中麓1は水素原子、低級チルキル基、シクロアルキ
    ル基、フェニル基、 Rgは炭素数ト4゜のアルキル基
    、Rgは水素原子、ハロゲン原子、びmlは量れぞれ低
    級チルキル基、シクロアルキル基であり、ムは−cm@
    −、酸素原子又は寵り 非置換であるか又は1個もしくはそれ以上の低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子て置換されて
    もよい)を形成するものである。〕 c式中11は水素原子、低級アルキル基、シクロアルキ
    ル基、フェニル基% R1は炭素数8〜2・のアルキル
    基、−は水素原子、ハロゲン原子。 σmlはそれぞれ低級アルキル基、νり■アルキル基で
    あり、^は−CHl−、酸素原子又は璽非置換であるか
    文は1個もしくはそれ以上の低級ナル奉ル基、低級アル
    コキシ基又はハロゲン原子て置換置れてもよい)をW#
    威するものである。〕7麦わ審れ墨ピラン誘導体又はそ
    の酸付加塩を有曽威分として含有す1殺ダニ剤・
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5555179A (en) * 1978-10-18 1980-04-22 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Pyran derivative
JPS5555177A (en) * 1978-10-18 1980-04-22 Otsuka Pharmaceut Co Ltd Pyran derivative
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