JPS58143880A - リン酸塩を含む水の処理方法 - Google Patents
リン酸塩を含む水の処理方法Info
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- JPS58143880A JPS58143880A JP2456482A JP2456482A JPS58143880A JP S58143880 A JPS58143880 A JP S58143880A JP 2456482 A JP2456482 A JP 2456482A JP 2456482 A JP2456482 A JP 2456482A JP S58143880 A JPS58143880 A JP S58143880A
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- phosphate
- water containing
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- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明uニリン酸塩および有機物を含む水を処理して
、リン酸塩を除去する方法に関するものである。
、リン酸塩を除去する方法に関するものである。
近年湖沼、内湾をはじめとする閉鎖水域において、富栄
養化の進行が著しく間蹟視さねでいる。
養化の進行が著しく間蹟視さねでいる。
富栄養化の一因として、水中に存在するリン酸塩がクロ
ーズアップされ、その除去が緊急の課誼として取りあげ
られている。富栄養化の原因となるリン酸上島は一ヒ水
、下水、工業用水、工場廃水、ボイラ水等に含まれてお
り、オルソリン酸j)1^、縮合リン酸塩などの無機性
のリン酸塩や有機性のリン酸塩の形で存在している。
ーズアップされ、その除去が緊急の課誼として取りあげ
られている。富栄養化の原因となるリン酸上島は一ヒ水
、下水、工業用水、工場廃水、ボイラ水等に含まれてお
り、オルソリン酸j)1^、縮合リン酸塩などの無機性
のリン酸塩や有機性のリン酸塩の形で存在している。
このようなリン酸塩を除去する方法として、リン酸塩を
含む水をカルシウドイオンの存在下に、リン鉱石などの
リン酸カルシウムを含む結晶種と接触させる方法が提案
されている( ])issertationAbstr
acts International 、 Vol、
33.ガロ 12. Part l 。
含む水をカルシウドイオンの存在下に、リン鉱石などの
リン酸カルシウムを含む結晶種と接触させる方法が提案
されている( ])issertationAbstr
acts International 、 Vol、
33.ガロ 12. Part l 。
5878−B直など)。この方法は水中に含まれるリン
酸イオンをヒドロギン−fパタイト等のリン酸ツノルン
ウムの形にして結晶種に晶析させることにより除去する
ものであって、運転方法が従来の凝集方法と比べて+y
yr略化できるだけでなく、処理効率も格段によくなる
ので、近年、特に注目されている。
酸イオンをヒドロギン−fパタイト等のリン酸ツノルン
ウムの形にして結晶種に晶析させることにより除去する
ものであって、運転方法が従来の凝集方法と比べて+y
yr略化できるだけでなく、処理効率も格段によくなる
ので、近年、特に注目されている。
ところで原水中に子J4幾物が含寸れていると、結晶種
表面が次第に汚染され、活性が低下して、リンII’9
) 塩除去率が低l・゛するが、これを防止するために
、塩素剤の存在下に晶析を行うことが提案されている。
表面が次第に汚染され、活性が低下して、リンII’9
) 塩除去率が低l・゛するが、これを防止するために
、塩素剤の存在下に晶析を行うことが提案されている。
しかしながら、塩素剤の存在下に晶析を行うと、場合に
よっては処理水のpHがあまり下らず、υ1水基準(p
H8,6以下)を満足できないため、放流に先立って何
らかの中和処理を施す必要があり、特に下水などのよう
に、膨大な処理針となるものにあっては処理コストが高
くなる問題があった。
よっては処理水のpHがあまり下らず、υ1水基準(p
H8,6以下)を満足できないため、放流に先立って何
らかの中和処理を施す必要があり、特に下水などのよう
に、膨大な処理針となるものにあっては処理コストが高
くなる問題があった。
またとの」:うな場合、処理水p■Iを低下させるだめ
に、晶析反応操作のpl+を低くすると、反応速度が低
下し、リン酸1λに除去率が低下する問題があった。
に、晶析反応操作のpl+を低くすると、反応速度が低
下し、リン酸1λに除去率が低下する問題があった。
この発明はこのような従来の問題点を解決するだめのも
ので、塩素剤の存在下にpH6以−トで晶析を行ったの
ち、ニッケルまたはコバルト触媒で処理することにより
、処理水pI−1をσ(下させるとともに、処理水リン
濃度を低下させ、しかも楢機物および残留塩素を除去す
ることのできるリンm塩を含む水の処理方法を提供する
ことを目的としている。
ので、塩素剤の存在下にpH6以−トで晶析を行ったの
ち、ニッケルまたはコバルト触媒で処理することにより
、処理水pI−1をσ(下させるとともに、処理水リン
濃度を低下させ、しかも楢機物および残留塩素を除去す
ることのできるリンm塩を含む水の処理方法を提供する
ことを目的としている。
コノ発明はリン酸塩を含む水を、カルンiクツ、イオン
と塩素剤の存在下であって、かつptr 6以十の条件
下に、リン酸カルンウムを含む結晶種と接触させたのち
、ニッケルまたはコバルト触媒と接触させることを特徴
とするリン酸塩を含む水の処理方法である。
と塩素剤の存在下であって、かつptr 6以十の条件
下に、リン酸カルンウムを含む結晶種と接触させたのち
、ニッケルまたはコバルト触媒と接触させることを特徴
とするリン酸塩を含む水の処理方法である。
リン酸塩を含む水をカルシウムイオンの存在下にリン酸
カルンウムを含む結晶種と接触させたときに起こる反応
は反応条件によって異なるが、通常は次式によって表わ
される。
カルンウムを含む結晶種と接触させたときに起こる反応
は反応条件によって異なるが、通常は次式によって表わ
される。
SCa +701−1 +3H2PO4+Ca5(0
1−T)(PO4)3+6H20・・(1) ′ (1)式かられかるように、リン酸塩の除去率を上ける
ためには、反応を右に進行させる必1便があり、同時に
結晶種の表面を清浄に保って活性度を高く維持する・I
Z 9がある。
1−T)(PO4)3+6H20・・(1) ′ (1)式かられかるように、リン酸塩の除去率を上ける
ためには、反応を右に進行させる必1便があり、同時に
結晶種の表面を清浄に保って活性度を高く維持する・I
Z 9がある。
本発明ではこのためにリン酸」島を含む水に塩素剤を存
在させた状態で結晶種と接触させる。
在させた状態で結晶種と接触させる。
1’AX素剤とは水中において遊離塩素を生成する薬剤
であり、例えば塩素カス、塩素水、次亜塩素酸すトリウ
ム、ザラ/粉、高度ザラシ粉などが使用できる。」♂晶
素剤の添加量は特に”制限はないが、一応の1」安とし
て残留j魚素として05〜50m9/1検出されるよう
に、連続約1たは間欠的に注入する、ただ17−アンモ
ニアや有機物が存在する場合はクロラミンの生成お」:
び治機物の酸化分解に塩素が消費されるので、その点を
考慮する必要がある。
であり、例えば塩素カス、塩素水、次亜塩素酸すトリウ
ム、ザラ/粉、高度ザラシ粉などが使用できる。」♂晶
素剤の添加量は特に”制限はないが、一応の1」安とし
て残留j魚素として05〜50m9/1検出されるよう
に、連続約1たは間欠的に注入する、ただ17−アンモ
ニアや有機物が存在する場合はクロラミンの生成お」:
び治機物の酸化分解に塩素が消費されるので、その点を
考慮する必要がある。
このように塩素剤を添加し7だリン酸塩を含む水は、カ
ル/ラムイオンの存在下であって、かつpH6以1−の
条件Fにリン酸カル/ウムを含む結晶種と接触させると
、前記(1)式により生成するリン酸カルンウムが結晶
種表面に析出して結晶が成長し、水中のリン酸イオンが
除去される。この」場合塩素剤の存在により、結晶表面
に月着した有機物を分解し、寸だスライムの生成を防止
して結晶種表面を清浄に保ちながらリン酸カルンウムの
析出を行うことができる、 水中に存在させるカルシラノ・イオンや水酸イオンは、
原水中に初めから存在する場合には外部から添加する必
要はないが、原水中に存在しない用台または不足する場
合には外部から添加する。添加量は反応当量」:りもJ
lへ刺敏とするが、あオり多量に添加すると結晶種以外
の場所で微細な沈殿が析出したり、また炭酸カルシウム
等の不純物が生成する場合があるから、これらが生成し
ない範囲トスヘキである。すなわち、カルシウムイオン
および水酸イオンの量は、(1)式において生成するヒ
ドロキシア・ぐタイトの溶解度より高く、過溶解度より
は低い濃度すなわち準安定域の濃度のヒl−’ロキシア
・ξタイトが生成する条件とする。ことで過溶解度とは
反応系に結晶種が存在しない場合に結晶が析出し始める
濃度である。すなわち過溶解度より高い濃度では、結晶
種の存在しないところに新たな結晶が析出して微細な沈
殿を生成し加法の目詰りが生ずるが、過溶解度より低い
帖安定I成で、は結晶種のトに新たな結晶が析出して結
晶が成長するだけで沈殿は生成しない。まだ溶解度より
低い糸では結晶d析出しない。
ル/ラムイオンの存在下であって、かつpH6以1−の
条件Fにリン酸カル/ウムを含む結晶種と接触させると
、前記(1)式により生成するリン酸カルンウムが結晶
種表面に析出して結晶が成長し、水中のリン酸イオンが
除去される。この」場合塩素剤の存在により、結晶表面
に月着した有機物を分解し、寸だスライムの生成を防止
して結晶種表面を清浄に保ちながらリン酸カルンウムの
析出を行うことができる、 水中に存在させるカルシラノ・イオンや水酸イオンは、
原水中に初めから存在する場合には外部から添加する必
要はないが、原水中に存在しない用台または不足する場
合には外部から添加する。添加量は反応当量」:りもJ
lへ刺敏とするが、あオり多量に添加すると結晶種以外
の場所で微細な沈殿が析出したり、また炭酸カルシウム
等の不純物が生成する場合があるから、これらが生成し
ない範囲トスヘキである。すなわち、カルシウムイオン
および水酸イオンの量は、(1)式において生成するヒ
ドロキシア・ぐタイトの溶解度より高く、過溶解度より
は低い濃度すなわち準安定域の濃度のヒl−’ロキシア
・ξタイトが生成する条件とする。ことで過溶解度とは
反応系に結晶種が存在しない場合に結晶が析出し始める
濃度である。すなわち過溶解度より高い濃度では、結晶
種の存在しないところに新たな結晶が析出して微細な沈
殿を生成し加法の目詰りが生ずるが、過溶解度より低い
帖安定I成で、は結晶種のトに新たな結晶が析出して結
晶が成長するだけで沈殿は生成しない。まだ溶解度より
低い糸では結晶d析出しない。
ヒドロギ/ア・?フィトの生成する敏は反応系のリン酸
イオンiF[t−’Jルシ・°1ムイオン濃度およびp
l+によって支配される。生成したヒドロキンアパタイ
トの量を錦安定域内にするカルシウムイオンの量お」:
びp1+値(r!:、反応系ごとにこれらの値を変えて
実験的に求めることができる。おおよその範囲は、リン
酸イオン50m9/e以下の場合において、カルシウム
イオンが10〜100 m97 e、 pHが6〜12
程度、好寸しくけpH8,6以−1−1さらに好捷しく
けpI+ 8.8以上である。J焦素剤は原水に添加し
てもよく、捷/ζ、結晶種床に直接添加してもよい。前
者の場合にC1:、さらにカルシウムイオン等の添加の
前でも後でもよい。
イオンiF[t−’Jルシ・°1ムイオン濃度およびp
l+によって支配される。生成したヒドロキンアパタイ
トの量を錦安定域内にするカルシウムイオンの量お」:
びp1+値(r!:、反応系ごとにこれらの値を変えて
実験的に求めることができる。おおよその範囲は、リン
酸イオン50m9/e以下の場合において、カルシウム
イオンが10〜100 m97 e、 pHが6〜12
程度、好寸しくけpH8,6以−1−1さらに好捷しく
けpI+ 8.8以上である。J焦素剤は原水に添加し
てもよく、捷/ζ、結晶種床に直接添加してもよい。前
者の場合にC1:、さらにカルシウムイオン等の添加の
前でも後でもよい。
υ〕酸カルンウトを含む結晶種どしては、ヒドロキンア
・々タイト[(Ca5(OII)(PO+)31、フル
オロアパタイト[(Ca5(F)(P(1+)31 i
たけリン酸三石灰C(Caz (1・04)2〕などの
リン酸カルシウムを含む結晶粒子が使用でき、天然のリ
ン鉱石if、と才11′−,のリン酸カルシウムを主成
分としており、結晶種として適している。甘だ、砂、セ
オライト、石灰石々どの担体表面にリン酸カルシウムを
析出させた」:つな結晶種も用いることができる。結晶
種として(ハ)反応によって生成するリン酸カルシウム
と同種のリン酸カルシウムを主成分とするものが空寸し
い。
・々タイト[(Ca5(OII)(PO+)31、フル
オロアパタイト[(Ca5(F)(P(1+)31 i
たけリン酸三石灰C(Caz (1・04)2〕などの
リン酸カルシウムを含む結晶粒子が使用でき、天然のリ
ン鉱石if、と才11′−,のリン酸カルシウムを主成
分としており、結晶種として適している。甘だ、砂、セ
オライト、石灰石々どの担体表面にリン酸カルシウムを
析出させた」:つな結晶種も用いることができる。結晶
種として(ハ)反応によって生成するリン酸カルシウム
と同種のリン酸カルシウムを主成分とするものが空寸し
い。
例えばヒドロキンアパタイトを生成する系ではヒドロキ
ンアパタイトを主成分とする結晶種を使用すると、元の
結晶の上に新しい結晶が成長することになり、リン酸」
臨の除去が効率的に行わわ、除去率が一ヒがる。
ンアパタイトを主成分とする結晶種を使用すると、元の
結晶の上に新しい結晶が成長することになり、リン酸」
臨の除去が効率的に行わわ、除去率が一ヒがる。
リン酸塩を含む水とリン酸カルシウムを含む結晶種との
接触方法は固定床式でも流動床式でも」:い。濁質除去
も同時に行うときは固定床式が」:<、濁質除去を心安
としないときは流動床式でもよい。
接触方法は固定床式でも流動床式でも」:い。濁質除去
も同時に行うときは固定床式が」:<、濁質除去を心安
としないときは流動床式でもよい。
結晶種の大きさは小さいものほど表面積が大きいため新
しい結晶が析出しやすいが、あtり小さいと結晶種と水
の接1111I! iたけ分離に困難を伴う。寸た粒径
があ1り大きいと単位充填量当りの比表面積が小さいか
ら、1山常d:9〜300メツシュ程度のものを使用1
する。このうち太きいものは固定床に適し、小さいもの
d:流動床に適する。固定床の場合9〜35メツ/ユの
粒径の結晶種を充填し、流速S V 1〜5hr”で土
向流壕だは下向流で通水してリン酸カルシウムの結晶を
析出させる。下向流で通水処理する場合には結晶種表面
への不純物の付着を吹けるため、1+た塩素剤の無、駄
な消費を避けるだめ、原水けあらかじめ前処理により夾
雑物を除去しておくのが望斗しい。
しい結晶が析出しやすいが、あtり小さいと結晶種と水
の接1111I! iたけ分離に困難を伴う。寸た粒径
があ1り大きいと単位充填量当りの比表面積が小さいか
ら、1山常d:9〜300メツシュ程度のものを使用1
する。このうち太きいものは固定床に適し、小さいもの
d:流動床に適する。固定床の場合9〜35メツ/ユの
粒径の結晶種を充填し、流速S V 1〜5hr”で土
向流壕だは下向流で通水してリン酸カルシウムの結晶を
析出させる。下向流で通水処理する場合には結晶種表面
への不純物の付着を吹けるため、1+た塩素剤の無、駄
な消費を避けるだめ、原水けあらかじめ前処理により夾
雑物を除去しておくのが望斗しい。
通水中に結晶fili表面が汚染されたり、目詰りを起
こすことがあれば、定)υ1的に上向流による逆洗を行
って結晶種床を展開して洗浄し、表面に付着した不純物
を剥離することが望斗しい。
こすことがあれば、定)υ1的に上向流による逆洗を行
って結晶種床を展開して洗浄し、表面に付着した不純物
を剥離することが望斗しい。
逆洗時の通水条件としては、流速は20〜80m/11
r程度、逆洗時間は、5〜60分程度である。
r程度、逆洗時間は、5〜60分程度である。
以上のようにして晶析を行うと、主として(1)式によ
り溶解度の低いヒドロギンア・Sタイトが生成し2、こ
れが結晶種の表面に晶析し、処理水中のリン酸1魚濃度
は低くなる。被処理水中に有機物が存在すると、結晶種
の表面が汚染されて活性が低−「し、これが原因となっ
て処理が不安定となるが、塩素剤を存在させることによ
り、有機物を含む原水の場合における結晶種表面でのス
ライムの発生を防止でき、有機物汚染による結晶種の活
性低下を防止するとともに、リン鉱石等の天然鉱石を結
晶種として使用する場合には鉱石中に含まれている有機
物を酸化分解し、結晶面の活性を高めるだめリン酸塩の
除去効果が上がる。丑だ結晶種粒子を充填して固定床と
して使用する場合、スライム等による結晶種のブロック
化を防止することができ、安定した処理効果が継続でき
る。
り溶解度の低いヒドロギンア・Sタイトが生成し2、こ
れが結晶種の表面に晶析し、処理水中のリン酸1魚濃度
は低くなる。被処理水中に有機物が存在すると、結晶種
の表面が汚染されて活性が低−「し、これが原因となっ
て処理が不安定となるが、塩素剤を存在させることによ
り、有機物を含む原水の場合における結晶種表面でのス
ライムの発生を防止でき、有機物汚染による結晶種の活
性低下を防止するとともに、リン鉱石等の天然鉱石を結
晶種として使用する場合には鉱石中に含まれている有機
物を酸化分解し、結晶面の活性を高めるだめリン酸塩の
除去効果が上がる。丑だ結晶種粒子を充填して固定床と
して使用する場合、スライム等による結晶種のブロック
化を防止することができ、安定した処理効果が継続でき
る。
このようにして得られる処理水を続いてニッケルまたは
コバルト触媒と接触させる。本発明において使用するニ
ッケルまたはコバルト触媒は、担体にニッケルイオンま
たはコバルトイオンを接触させて担持させたのち、必要
に応じて水洗し、次いで塩素剤を含むアルカリ溶液と接
触させて得られる。
コバルト触媒と接触させる。本発明において使用するニ
ッケルまたはコバルト触媒は、担体にニッケルイオンま
たはコバルトイオンを接触させて担持させたのち、必要
に応じて水洗し、次いで塩素剤を含むアルカリ溶液と接
触させて得られる。
触媒の担体としては、−1ソオライト、fルミノー、シ
リ力アルミヲ−1けい藻−十など、ニッケルまだはコバ
ルトイオンを担持てきるものが使用できる。
リ力アルミヲ−1けい藻−十など、ニッケルまだはコバ
ルトイオンを担持てきるものが使用できる。
セオライトとじては、天然、合成いずれの超厚のもので
もよいが、特にA型、フオージャザイト型、モルデナイ
ト型、クリノゾチロライト型が実用上好ましい。捷だア
ルミナとしては、アルミナを水洗したのち、炭酸カス気
流中で200〜260℃、2〜6時間加熱処理して得ら
れる吸着力の大きい、非結晶性の活性アルミナ、あるい
はさらに高温で加熱処理して得られるα型、r型等の結
晶性アルミナ等が使用でき、特に活性アルミナが好捷し
い。
もよいが、特にA型、フオージャザイト型、モルデナイ
ト型、クリノゾチロライト型が実用上好ましい。捷だア
ルミナとしては、アルミナを水洗したのち、炭酸カス気
流中で200〜260℃、2〜6時間加熱処理して得ら
れる吸着力の大きい、非結晶性の活性アルミナ、あるい
はさらに高温で加熱処理して得られるα型、r型等の結
晶性アルミナ等が使用でき、特に活性アルミナが好捷し
い。
このような担体に触媒を担持させるには、まず担体をニ
ッケル捷たはコバルトの硫酸塩、硝酸塩、塊化物などの
水溶液またはこれらの混合水溶液と接触させN flr
9搦゛のイオンを担体上に担持させる。
ッケル捷たはコバルトの硫酸塩、硝酸塩、塊化物などの
水溶液またはこれらの混合水溶液と接触させN flr
9搦゛のイオンを担体上に担持させる。
接触力法は特に制限はなく、担体粒子の浸漬、充填層通
液などの方法が採用できる。接触後担体を溶液から分離
し、必要に応じて水洗する。この水洗は担体の活性薇の
みにニッケルイオンまたはコバルトイオンを残すためで
あり、この操作により少量のニッケルまたはコバルト嗜
により、効果的な触媒が得られる。洗浄水中のニッケル
イオン捷たはコバルトイオンはその1L寸たに、濃度を
高めて再使用できる。
液などの方法が採用できる。接触後担体を溶液から分離
し、必要に応じて水洗する。この水洗は担体の活性薇の
みにニッケルイオンまたはコバルトイオンを残すためで
あり、この操作により少量のニッケルまたはコバルト嗜
により、効果的な触媒が得られる。洗浄水中のニッケル
イオン捷たはコバルトイオンはその1L寸たに、濃度を
高めて再使用できる。
次に上記相体を、塩素剤を含むアルカリ水溶液と接触さ
せて触媒を形成する。塩素剤は1lTiT紀と同柳に、
水中において遊離1!素を生成する薬剤で、例えば塩素
ガス、塩素水、次111j几゛、素酸ナトl)ラム、サ
ラン粉、高度サラン粉が使用でき、晶析に際して1史用
するものと同じものでも、J:<、−tた別のものでも
よい。これらの塩素剤はアルカリ水溶液として使用する
が、次亜塩素酸すトリウムのように水溶液がアルツノリ
性を呈するものはその斗寸(すi用でき、その他のもの
は水酸化すトリウl8、水酸化カリウムなどのアルカリ
剤を添加する。接触方法は特に限定きれず、前段と同様
の方法を採用できる。また水洗後の担体を予め加熱し、
ニッケル丼たはコバルト塩を酸化物に変え、次いで上記
アルカリ水溶液と接触させても同様の触媒が得らゎる。
せて触媒を形成する。塩素剤は1lTiT紀と同柳に、
水中において遊離1!素を生成する薬剤で、例えば塩素
ガス、塩素水、次111j几゛、素酸ナトl)ラム、サ
ラン粉、高度サラン粉が使用でき、晶析に際して1史用
するものと同じものでも、J:<、−tた別のものでも
よい。これらの塩素剤はアルカリ水溶液として使用する
が、次亜塩素酸すトリウムのように水溶液がアルツノリ
性を呈するものはその斗寸(すi用でき、その他のもの
は水酸化すトリウl8、水酸化カリウムなどのアルカリ
剤を添加する。接触方法は特に限定きれず、前段と同様
の方法を採用できる。また水洗後の担体を予め加熱し、
ニッケル丼たはコバルト塩を酸化物に変え、次いで上記
アルカリ水溶液と接触させても同様の触媒が得らゎる。
このようにして得られる触媒はo1〜iQmm程
2度の粒子をカラムに充填して固定層あるいは流動
層と(−1前記晶析を終った処理水を通水する。操作性
の点からiJ: l−・l定量が9捷しく、粒径は05
〜6am程度が好ましい。通水は」二向流、下向流いず
F+でもよいが、一般的には気泡が発生するため、上向
流が9捷しい。通水の条件は他の条件によって異なるが
、一般的にはS V 10 hr”’−”’以下、特に
2〜7 hr ’程度が好ましい。 ・晶析工程の処
理水を前記触媒と接触させると、水中の塩素剤が分解さ
れて酸が生成するため、アルカリ成分が中和されてpI
−Iが低下し、このとき発生期の醐素が生成するだめ、
残留するCOD、色度成分等の治機物が分解され、しか
もこれらの反応は触媒の存在トーで行われるだめ、反応
効率が高く、さらに残留するリン酸カルシウムが触媒層
に吸着さ才1てリン濃度も低下する。こうして得られる
最終処理水は晶析工程の流入水のpHが比較的高くとも
、容易にpH8,6以下とすることができて放流基準以
下となり、そのiま放流することができる。
2度の粒子をカラムに充填して固定層あるいは流動
層と(−1前記晶析を終った処理水を通水する。操作性
の点からiJ: l−・l定量が9捷しく、粒径は05
〜6am程度が好ましい。通水は」二向流、下向流いず
F+でもよいが、一般的には気泡が発生するため、上向
流が9捷しい。通水の条件は他の条件によって異なるが
、一般的にはS V 10 hr”’−”’以下、特に
2〜7 hr ’程度が好ましい。 ・晶析工程の処
理水を前記触媒と接触させると、水中の塩素剤が分解さ
れて酸が生成するため、アルカリ成分が中和されてpI
−Iが低下し、このとき発生期の醐素が生成するだめ、
残留するCOD、色度成分等の治機物が分解され、しか
もこれらの反応は触媒の存在トーで行われるだめ、反応
効率が高く、さらに残留するリン酸カルシウムが触媒層
に吸着さ才1てリン濃度も低下する。こうして得られる
最終処理水は晶析工程の流入水のpHが比較的高くとも
、容易にpH8,6以下とすることができて放流基準以
下となり、そのiま放流することができる。
なお、ニッケル捷たはコバルト触媒としては、上記のほ
かに、過酸化ニッケルまたは過酸化コバルl−Kアスベ
ストおよびセメントを加えた成形物など、ニッケル捷た
は(および)コバルトを含む ゛触媒が使用でき
る。結晶種層と触媒層とは別の槽内に充填してンリーズ
に並べてもよいが、同一槽内に複層として構成してもよ
い。またカルシウム剤、アルカリ剤、塩素剤の添加場所
は特に制限はなく、晶析槽に存在するように適当な場所
で添加することができる。さらに、以−にの処理におい
て、晶析工程に先立って原水に前処理を施したり、処理
水に後処理を怖したり、あるいは、晶析または触媒処理
に際して他の処理を併用したり、丑だ他の薬剤等を添加
することも可能である。
かに、過酸化ニッケルまたは過酸化コバルl−Kアスベ
ストおよびセメントを加えた成形物など、ニッケル捷た
は(および)コバルトを含む ゛触媒が使用でき
る。結晶種層と触媒層とは別の槽内に充填してンリーズ
に並べてもよいが、同一槽内に複層として構成してもよ
い。またカルシウム剤、アルカリ剤、塩素剤の添加場所
は特に制限はなく、晶析槽に存在するように適当な場所
で添加することができる。さらに、以−にの処理におい
て、晶析工程に先立って原水に前処理を施したり、処理
水に後処理を怖したり、あるいは、晶析または触媒処理
に際して他の処理を併用したり、丑だ他の薬剤等を添加
することも可能である。
本発明において処理対象と々る原水はリン酸塩および有
機物を含む水で、下水、し尿、工場廃水等の二次処理水
があげられる。
機物を含む水で、下水、し尿、工場廃水等の二次処理水
があげられる。
以上のとおり、本発明によれば、リン酸塩を含む水を、
カルシウムイオンおよび塩素剤の存在下であって、pH
6以−トの条件下で晶析を行ったのち、ニッケルまたは
コバルト触媒と接触させるようにtA成したので、最搗
条件で晶析を行ってリン酸塩をiW+度に除去するとと
もに、触媒で処理して処理/にのpt+を低ドさ拷、か
つ残留塩素および有機物を分布し、さらに残留するリン
酸カルシウムも除去して高水質の最終処理水を効率的に
得ることができる。
カルシウムイオンおよび塩素剤の存在下であって、pH
6以−トの条件下で晶析を行ったのち、ニッケルまたは
コバルト触媒と接触させるようにtA成したので、最搗
条件で晶析を行ってリン酸塩をiW+度に除去するとと
もに、触媒で処理して処理/にのpt+を低ドさ拷、か
つ残留塩素および有機物を分布し、さらに残留するリン
酸カルシウムも除去して高水質の最終処理水を効率的に
得ることができる。
次に本発明の実施例について説明する。
万施例1
16〜327ツソユ(1〜0.5ff1mS)粒度のク
リノプチロライト糸天然−ゼ゛オライド表面にリン酸カ
ルシウムの結晶を111持させた結晶種150m1を、
内?Iろ備、高さ5[1c″Inのアクリル樹脂製カラ
ムに充填し、リン濃度2 mg / /’、総アルカリ
度約100my/6に調整した合成水を通液して晶析を
行った。
リノプチロライト糸天然−ゼ゛オライド表面にリン酸カ
ルシウムの結晶を111持させた結晶種150m1を、
内?Iろ備、高さ5[1c″Inのアクリル樹脂製カラ
ムに充填し、リン濃度2 mg / /’、総アルカリ
度約100my/6に調整した合成水を通液して晶析を
行った。
このとき、カラム人口で合成水に塩化カルシウム水溶液
、水酸化すトリウム水溶液および次亜塩素酸ナトリウム
水溶液を添加して、カルシウムイオン濃m“約45m9
/e、残留塩素10〜20m9/e1pI48.83と
し、通液はS V 2 l+r ”で、上面流で行った
。
、水酸化すトリウム水溶液および次亜塩素酸ナトリウム
水溶液を添加して、カルシウムイオン濃m“約45m9
/e、残留塩素10〜20m9/e1pI48.83と
し、通液はS V 2 l+r ”で、上面流で行った
。
そして16〜32メツンユのクリノゾチロライ[・糸天
然セオライトをニッケルイオンと接触させた後、次+1
1j j晶素1鰺すトリウムのアルカリ水浴液と接触さ
せて調製した触媒50meを、内径3 cx、高さろ0
1のアクリル樹脂製カラムに充填し、こねに前記晶析を
終った処理水をS V 3 hr’−’の流床で上向流
通水し、2週間にわたって連続処理した。
然セオライトをニッケルイオンと接触させた後、次+1
1j j晶素1鰺すトリウムのアルカリ水浴液と接触さ
せて調製した触媒50meを、内径3 cx、高さろ0
1のアクリル樹脂製カラムに充填し、こねに前記晶析を
終った処理水をS V 3 hr’−’の流床で上向流
通水し、2週間にわたって連続処理した。
通水開始後、はぼ安定したところの処理水のリン濃度お
よびpI−Tを表1に示すっなお、比1咬例として原水
に次曲飽1素酸すトリウムを冷加せず、かつ処理水を触
媒と接触させ々い場合についての結果を1井d己する。
よびpI−Tを表1に示すっなお、比1咬例として原水
に次曲飽1素酸すトリウムを冷加せず、かつ処理水を触
媒と接触させ々い場合についての結果を1井d己する。
1
以にの結果より、晶析に際して塩素剤を存在させること
により、リン除去率は高くなり、さらに触媒で処理する
ことにより、処理水pT−1が低下するとともに、リン
濃度も低下することがわかる。
により、リン除去率は高くなり、さらに触媒で処理する
ことにより、処理水pT−1が低下するとともに、リン
濃度も低下することがわかる。
代理人 弁理士 柳 原 成
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) リン酸塩を含む水を、カル/ラムイオンと塩
素剤の存在下であって、かつpl−(6以上の条件下に
、リン酸カルシウムを含む結晶種と接触させたのち、ニ
ッケルまたはコ・くルト触媒と接触させることを特徴と
するリン酸塩を含む水の処理方法(2)触媒は担体にニ
ッケル甘たはコ/(ルトイオンを担持させたのち、塩素
剤を含むアルカリ溶液と接触させて得られたものである
特許請求の範囲第1項記載のリン酸塩を含む水の処理方
法(3)担体はゼオライトまたはアルミナである特許請
求の範囲第1項または第2項記載のリン酸塩を含む水の
処理方法 (4)塩素剤は次亜塩素酸塩である特許請求の範囲第1
項ないし第3項のいずれかに記載のリン酸塩を含む水の
処理方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2456482A JPS58143880A (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | リン酸塩を含む水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2456482A JPS58143880A (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | リン酸塩を含む水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58143880A true JPS58143880A (ja) | 1983-08-26 |
Family
ID=12141646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2456482A Pending JPS58143880A (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | リン酸塩を含む水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58143880A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102119596A (zh) * | 2011-01-29 | 2011-07-13 | 浙江大学 | 一种同时提高烟草种子抗寒和抗旱能力的浸种处理方法 |
-
1982
- 1982-02-19 JP JP2456482A patent/JPS58143880A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102119596A (zh) * | 2011-01-29 | 2011-07-13 | 浙江大学 | 一种同时提高烟草种子抗寒和抗旱能力的浸种处理方法 |
| CN102119596B (zh) | 2011-01-29 | 2012-02-29 | 浙江大学 | 一种同时提高烟草种子抗寒和抗旱能力的浸种处理方法 |
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