JPS5814503A - チツプ抵抗器 - Google Patents
チツプ抵抗器Info
- Publication number
- JPS5814503A JPS5814503A JP56111996A JP11199681A JPS5814503A JP S5814503 A JPS5814503 A JP S5814503A JP 56111996 A JP56111996 A JP 56111996A JP 11199681 A JP11199681 A JP 11199681A JP S5814503 A JPS5814503 A JP S5814503A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- layer
- glass
- chip resistor
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はレーザトリミング性に潰nた厚膜テ、プ抵抗
器において被榎ガラス層釦2層にしたチ、プ抵抗器に関
する。
器において被榎ガラス層釦2層にしたチ、プ抵抗器に関
する。
m1図、帛2図は従来のチップ抵抗器の構造を示す平面
図および断面図である。第1図、第2図において、くす
にブロック体の絶縁基材、(2)は電極、(2a本その
外S接続′dt極、(3)に抵抗体、(旬は被検かラス
を示す。こnらは公知の厚膜形成技術によりセラミック
ス絶縁基材(すを支持体として形成さnる。上主面の抵
抗体(3) [、その電極(2)と電気的に接続し、基
材(りの側面から裏面の一部に設けた外部接続電極(2
a)とも連らなり、その上部には被覆ガラス(4)がコ
ートさnている。この時、電極(2)、(2a)にfl
Alf系あるイFIA7ノーPd系の導体ペーストが
、抵抗体(3)にh P u O1系の抵抗ペーストが
、被覆ガラス(4すには鉛系の非晶質ガラスペーストな
どが一般に使用さnる。
図および断面図である。第1図、第2図において、くす
にブロック体の絶縁基材、(2)は電極、(2a本その
外S接続′dt極、(3)に抵抗体、(旬は被検かラス
を示す。こnらは公知の厚膜形成技術によりセラミック
ス絶縁基材(すを支持体として形成さnる。上主面の抵
抗体(3) [、その電極(2)と電気的に接続し、基
材(りの側面から裏面の一部に設けた外部接続電極(2
a)とも連らなり、その上部には被覆ガラス(4)がコ
ートさnている。この時、電極(2)、(2a)にfl
Alf系あるイFIA7ノーPd系の導体ペーストが
、抵抗体(3)にh P u O1系の抵抗ペーストが
、被覆ガラス(4すには鉛系の非晶質ガラスペーストな
どが一般に使用さnる。
チップ抵抗器に前述の構成によって同一基板上に抵抗体
素子群を多数個形成し、角錐状の個片に分分割したもの
で、電子機器に塔載する機能ブロック回路や、印刷IO
1路板に半田付けしたり、導電性接着剤で取り付けるな
どして使用するものでるる。
素子群を多数個形成し、角錐状の個片に分分割したもの
で、電子機器に塔載する機能ブロック回路や、印刷IO
1路板に半田付けしたり、導電性接着剤で取り付けるな
どして使用するものでるる。
このような目的に使用するチップ抵抗器の電極(2)、
(2a)には通常酸性浴に−よるニッケルメッキが施さ
nている。こf′Lに半田付けに除しIE極の濡n性を
良くすると共に′Ia極に含まnるA1.″成分が半田
質中に移行するの全防止する役目がるる。ししかしN1
メッキt−施すに際しては従来の被覆ガラス層の標準的
な厚みでめった1層当920μ前後の抜機ガラス1%で
は前記N1 メッキ時のば性浴に対し、抵抗体を保護す
るには十分といえず、被覆ガラス層を厚くする必要がめ
った。更にはテップ抵抗器は個片での堆扱いが因難なの
で、一般にプラスチック製のマガジンに積み重ねて使用
する。
(2a)には通常酸性浴に−よるニッケルメッキが施さ
nている。こf′Lに半田付けに除しIE極の濡n性を
良くすると共に′Ia極に含まnるA1.″成分が半田
質中に移行するの全防止する役目がるる。ししかしN1
メッキt−施すに際しては従来の被覆ガラス層の標準的
な厚みでめった1層当920μ前後の抜機ガラス1%で
は前記N1 メッキ時のば性浴に対し、抵抗体を保護す
るには十分といえず、被覆ガラス層を厚くする必要がめ
った。更にはテップ抵抗器は個片での堆扱いが因難なの
で、一般にプラスチック製のマガジンに積み重ねて使用
する。
しかし被覆ガラスが1層程度では積み重ねらnたチップ
間同志が抑圧さfしてくっ付き、前記マガジンから取り
出す際に2〜3個程度が連結状態になり易い欠点がろる
友め、被覆ガラス層の厚みを2層以上に配し、電極部の
上部において部分的な突起構造を持たせる必要がめった
。
間同志が抑圧さfしてくっ付き、前記マガジンから取り
出す際に2〜3個程度が連結状態になり易い欠点がろる
友め、被覆ガラス層の厚みを2層以上に配し、電極部の
上部において部分的な突起構造を持たせる必要がめった
。
しかしながら、前述の1りな2つの理由から被−ガラス
厚を増すことによって、抵抗体のレーザトリミングに際
して次のような問題が生じる。すなわちレーザ)、lJ
ミングにおいては基材(すと被覆ガラス(4)との間に
検層さnた抵抗体のみt有効に焼き切ることが困難なの
で、一般に抵抗体(3)と併せて被覆ガラス(4)と同
時に焼き切る。したがって該ガラス厚を増すことは当然
レーザビーム強度を増加させる結果となり、抵抗体(3
)は熱論、下地盆なす基材(1)にもより大きな損傷を
与へる結果となり、過度なトリミングは抵゛抗体の均質
性を低下せしめる。特にレーザトリミングにおいてレー
ザビームが強過ぎる場曾、トリミング個所にそった燭辺
の抵抗体層にマイクロクラックが発生する欠点がろり、
信頼性上好ましくないことが知らnる。
厚を増すことによって、抵抗体のレーザトリミングに際
して次のような問題が生じる。すなわちレーザ)、lJ
ミングにおいては基材(すと被覆ガラス(4)との間に
検層さnた抵抗体のみt有効に焼き切ることが困難なの
で、一般に抵抗体(3)と併せて被覆ガラス(4)と同
時に焼き切る。したがって該ガラス厚を増すことは当然
レーザビーム強度を増加させる結果となり、抵抗体(3
)は熱論、下地盆なす基材(1)にもより大きな損傷を
与へる結果となり、過度なトリミングは抵゛抗体の均質
性を低下せしめる。特にレーザトリミングにおいてレー
ザビームが強過ぎる場曾、トリミング個所にそった燭辺
の抵抗体層にマイクロクラックが発生する欠点がろり、
信頼性上好ましくないことが知らnる。
本発明は従来の欠点を除、去し、レーザトリミング性を
低下せしめることなく電極へのメッキに際しての耐酸性
能、あるいはマガジン詰めが可能なチップ抵抗器を得る
こと全目的とする。
低下せしめることなく電極へのメッキに際しての耐酸性
能、あるいはマガジン詰めが可能なチップ抵抗器を得る
こと全目的とする。
本発明艷図面に基いて説明する。
第51凶および94図は本発明の一実施例になるチップ
抵抗器の平面図、およびそのh面図を示す。
抵抗器の平面図、およびそのh面図を示す。
図において、(5)は絶縁基材、(6)は電極、(6a
)はその外部接続電極、(7)は抵抗体、(8)と(9
)に被覆ガラス、(9a)は開口部、を示す。
)はその外部接続電極、(7)は抵抗体、(8)と(9
)に被覆ガラス、(9a)は開口部、を示す。
゛第5図、第4図において′#IL極(6)I (6a
、)−ゴム1系あるいはj、y’ −P a 系の導体
ペースト、抵抗体(7)はRu01系らるいはA/’−
Pd 糸の抵抗ペースト、被覆ガラス(8)および(9
)は鉛系の非晶質あるいは結晶化ガラスペーストからな
る。こnらに公知の厚膜形成技術によりアルミナ系のセ
ラミックス絶縁基材(5)を支持体として形成したも゛
のである。
、)−ゴム1系あるいはj、y’ −P a 系の導体
ペースト、抵抗体(7)はRu01系らるいはA/’−
Pd 糸の抵抗ペースト、被覆ガラス(8)および(9
)は鉛系の非晶質あるいは結晶化ガラスペーストからな
る。こnらに公知の厚膜形成技術によりアルミナ系のセ
ラミックス絶縁基材(5)を支持体として形成したも゛
のである。
この時、主面上の電極(6)と抵抗体(7)は電気的に
接続しており、基材(5)“の側面か5襄而の一部に設
けた外部接続電極(6a)とも連らなるものである。
接続しており、基材(5)“の側面か5襄而の一部に設
けた外部接続電極(6a)とも連らなるものである。
抵抗体(7)の上部には抵抗体(7)の被覆保護全目的
とした上下2層の被覆ガラス(8)、“(9)が設けで
ある。
とした上下2層の被覆ガラス(8)、“(9)が設けで
ある。
ガラス層(a) e (9)は上、下各層とも20μ前
後の厚みを有するものであって、下層tなすvglの被
覆ガラス(8)は直接抵抗体(7)と凄し、その全面?
l−覆いかくすものである。また上層tなす第2の被覆
ガラス(9) t! %この後トリミングに供する部位
を除くmlの被覆ガラス(8)の部分上に構成するもの
でろって、前記トリミングに供する部位には開口部(9
a)が設けである。この開口ff1l(9a)に少なく
とも抵抗体(7)上の一部に開口部を与へるものであっ
て、トリミングに際して障害とならない範囲において、
その形状、大きさに関し特に制限音訓えないものである
。このことは開口部を有する核種ガラスがよ5厚くても
良いことt示している。
後の厚みを有するものであって、下層tなすvglの被
覆ガラス(8)は直接抵抗体(7)と凄し、その全面?
l−覆いかくすものである。また上層tなす第2の被覆
ガラス(9) t! %この後トリミングに供する部位
を除くmlの被覆ガラス(8)の部分上に構成するもの
でろって、前記トリミングに供する部位には開口部(9
a)が設けである。この開口ff1l(9a)に少なく
とも抵抗体(7)上の一部に開口部を与へるものであっ
て、トリミングに際して障害とならない範囲において、
その形状、大きさに関し特に制限音訓えないものである
。このことは開口部を有する核種ガラスがよ5厚くても
良いことt示している。
前記構造になるチップ抵抗器の開口部(9a)には、被
覆ガラス(8)を介して抵抗体(7)に対するレーザト
リミングがなさnる。前記トリミングは、レーザビーム
で抵抗体の一部全焼き切ることによって抵抗体の形状を
幾可学的に変化させ、抵抗kt変えるものである。
覆ガラス(8)を介して抵抗体(7)に対するレーザト
リミングがなさnる。前記トリミングは、レーザビーム
で抵抗体の一部全焼き切ることによって抵抗体の形状を
幾可学的に変化させ、抵抗kt変えるものである。
本発明のチップ抵抗器の構成に基けば、抵抗体tトリミ
ングすべき部位の上部には第1の被伽がガラス層のみが
形成さnているので、従来のものと比べて薄く構成しう
る、このため2層以上に構成した被接ガラス層t−焼き
切って行なう従来品に比ベレーザビーム強度は数段少な
くてすむ、この結果は当然に抵抗体を始め下部の絶i1
基材を含めたトリミング部位の損傷が軽微と1に#)、
マイクロクラックの発生全除去し、トリミング性能およ
び信頼性能の向上がはかnる、本発明によ;る構成では
“トリミング部位食除く他の部分上にM2の−1!li
伽ガラス層を設けているので、メッキ処理に際して抵抗
体を保膿する耐酸性およびマガジン収納時の隣接チップ
間どうしの付着を防止できる、などの作用効果を生ずる
。
ングすべき部位の上部には第1の被伽がガラス層のみが
形成さnているので、従来のものと比べて薄く構成しう
る、このため2層以上に構成した被接ガラス層t−焼き
切って行なう従来品に比ベレーザビーム強度は数段少な
くてすむ、この結果は当然に抵抗体を始め下部の絶i1
基材を含めたトリミング部位の損傷が軽微と1に#)、
マイクロクラックの発生全除去し、トリミング性能およ
び信頼性能の向上がはかnる、本発明によ;る構成では
“トリミング部位食除く他の部分上にM2の−1!li
伽ガラス層を設けているので、メッキ処理に際して抵抗
体を保膿する耐酸性およびマガジン収納時の隣接チップ
間どうしの付着を防止できる、などの作用効果を生ずる
。
従来例のチップ抵抗器の第10図は平面図、第2図はそ
の断面図、第3図、第4図は本発萌にかかるるチップ抵
抗器の平面図と断面図、を示す。 5:絶縁基材 6:電極 6a:外部接続電極
7:抵抗体 8:第1の抜機ガラス9:帛2の被覆ガ
ラス 9a:開口部特許出願人 松下電器産業株式会
社 代理人弁理士 阿 部 功 4 2 第2図 ホ3図 第4図
の断面図、第3図、第4図は本発萌にかかるるチップ抵
抗器の平面図と断面図、を示す。 5:絶縁基材 6:電極 6a:外部接続電極
7:抵抗体 8:第1の抜機ガラス9:帛2の被覆ガ
ラス 9a:開口部特許出願人 松下電器産業株式会
社 代理人弁理士 阿 部 功 4 2 第2図 ホ3図 第4図
Claims (1)
- セラミック絶縁基材表面の上主面に導電@を設けた電極
、抵抗体1層専電層が基材の側面および裏面の一部に運
なる外ff1I接続電極および前記抵抗体層上に設けら
nfc被情ガラス鳩を備えたチップ抵抗器において、前
記被撫ガラス層勿上下2 ha K mねて配設し、H
11記上郡tなす被板ガラス層にはトリミングに供する
部位に開口部を設けたチップ抵抗器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56111996A JPS5814503A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | チツプ抵抗器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56111996A JPS5814503A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | チツプ抵抗器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5814503A true JPS5814503A (ja) | 1983-01-27 |
Family
ID=14575331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56111996A Pending JPS5814503A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | チツプ抵抗器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814503A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03183103A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-09 | Rohm Co Ltd | 厚膜チップ抵抗器の製造方法 |
| JPH04355901A (ja) * | 1991-07-12 | 1992-12-09 | Rohm Co Ltd | チップ抵抗器 |
-
1981
- 1981-07-17 JP JP56111996A patent/JPS5814503A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03183103A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-09 | Rohm Co Ltd | 厚膜チップ抵抗器の製造方法 |
| JPH04355901A (ja) * | 1991-07-12 | 1992-12-09 | Rohm Co Ltd | チップ抵抗器 |
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