JPS5814520B2 - Ｐｒめっき法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＰＲめっき法の改良、特にロジウム等の高硬度
の金属めっきに有効なＰＲめっき法に関する。

従来のＰＲめっき法は、陰極のめつき下地に第１図に示
す如き負電位が陽電位より絶対値的に大きな矩形波の電
圧パルスを繰返し印加することにより電解めっきする方
法である。

このＰＲめっき法によれば、陰極側でめっき作用とエッ
チング作用が繰返され、上述のようにめっき用電位がエ
ッチング用電位より絶対値において大きいので、順次パ
ルスを繰返すことにより電着層が増加する。

本来不純物の多い電解液からのめつき層には不純物が混
入し易いが、このめっき過程でエッチング作用を交互に
与えることにより、不純物が多分に除去され、結果とし
て高純度めっきが得られる。

又この方法により緻密なめつき層を成長させることがで
きる。

このような利点のあるＰＲめっき法は、例えば、リード
スイッチのリード片接点にロジウム（Ｒｈ）をめっきす
る場合に特に有効である。

それは、この種接点に不純物があれば、接触不良、そこ
まで至らすとも接点の接触電圧の変動による接点機能の
不安定がもたらされ、接点特性上好ましくないためであ
る。

しかし、このＰＲめっき法によれば、前述のようにめっ
きとエッチング作用が交互に繰返されることから、必然
的にめっきは積層形態で成長することになる。

このめっき積層は、ロジウム等ノストレスの大きな一般
に高硬度のめつき金属の場合には、めっき積層の層間剥
離を起こし易い。

従って、ロジウムの接点めっき法としてＰＲめっき法を
適用することは、層間剥離による接点寿命の劣化や接点
特性の不安定をもたらすので、好ましくない。

本発明者は従来のＰＲめっき法をリード片のロジウム接
点めっきに適用した実験を行った。

この実験は第１図に示す矩形波パルス条件で行われ、得
られたロジウムめっきの表面は第３図の顕微鏡写真に見
られるように明白に層間剥離が起きていた。

然るに本発明の目的は、高硬度の金属であっても第３図
のような層間剥離を起こすことなく高純度で緻密なめっ
きが可能となるＰＲめっき法を実現することにある。

第４図の写真は本発明のＰＲめっき法により、リード片
の接点めっきとしてロジウムめっきを施こした実験で得
られた第３図の写真に対応しためつき表面の顕微鏡写真
である。

この本発明法の実験は、第２図に示すパルス条件で行わ
れた。

第１図と第２図を比較して明らかなように、従来のパル
スは立上り並びに立下り勾配が９０°である、即ち時間
軸に対し垂直に立上り且つ立下っている矩形波であるの
に対し、本発明の場合にはパルスの立上りと立下りの勾
配が傾斜している梯形波である。

本発明の実験例ではその勾配は１２Ｖ／ｍｉｎであった
。

この勾配の違いの他は両実験とも同じ条件で行われた。

即ち、■側の最大電位が＋２■、■側の最大電位が−６
■、パルス幅が■波形も○波形も共に３分（ｍｉｎ）で
あった。

第３図と第４図の写真を較べて見て明らかなように、従
来の矩形波のＰＲ法では、ロジウムめっきの層間剥離が
起きているのに本発明の梯形波のＰＲ法ではロジウムめ
っきの層間剥離は起きていない。

この両実験から上記層間剥離の因子がパルスの波形、具
体的には矩形が梯形かにあることが判る。

この実験から更に研究した結果、層間剥離はＰＲ法のパ
ルスを実質的に傾斜した立上り、立下りにすれば実質的
に回避され、好ましい傾斜勾配は、めっき金属、電解め
っき条件等によって好ましい値の範囲があることが判っ
た。

ロジウムめっきの場合には、パルス勾配は第４図に示す
ｔ，ｔ’

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のＰＲめっき法に係る実験例における電解
パルス条件を示すグラフ、第２図は本発明のＰＲめっき
法に係る実験例における電解パルス条件を示すグラフ、
第３図は第１図の条件によるロジウムめっきの表面を示
す顕微鏡写真及び第４図は第２図の条件によるロジウム
めっきの表面を示す顕微鏡写真である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 繰返しパルス波形の電解電圧を印加してめっき作用
   とエッチング作用を交互に繰返しながら電解めっきする
   ＰＲめっき法において、立上り、立下りの勾配が実質的
   に傾斜したパルス波形の電解電圧を印加するようにした
   ことを特徴とするロジウムめっきのためのＰＲめっキ法
   。