JPS5815207A - セラミツク電子部品の製造方法 - Google Patents

セラミツク電子部品の製造方法

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JPS5815207A
JPS5815207A JP56114812A JP11481281A JPS5815207A JP S5815207 A JPS5815207 A JP S5815207A JP 56114812 A JP56114812 A JP 56114812A JP 11481281 A JP11481281 A JP 11481281A JP S5815207 A JPS5815207 A JP S5815207A
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JP
Japan
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ceramic
metal wire
manufacturing
wire
coating layer
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JP56114812A
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JPS6347123B2 (ja
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純一 加藤
嘉浩 松尾
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金11J−ド線を埋込んだセラミック電子部品
の製造方法に関するものである。
サーミスタや種々のセンサに用いられているセラミック
スは全て電極を行与されており、この電極は、多くの場
合、導電性ペイントの塗布や焼付け、あるいは金属の蒸
着などの方法により形成されている。これらの電極はい
ずれも数百度以上の温度においては酸化や剥離が生じて
使用することができない、高温サーミスタやガスセンサ
のように、電極の使用範囲以上°で用いるセラミック市
子部品は、セラミックを構成する物質の圧粉体に白金線
や金線を埋込み一体成型した後焼成し、金属リード線と
セラミック基体を固着して得らilでいる。この方法で
は焼成に際して圧粉体は10〜30チ収縮するのに対し
て金属線は収縮しないので、金属線に圧縮力が加わり、
セラミック基体と金属線を固く結合させることができる
。ところが、セラミック基体が前述の収縮により発生す
る応力に耐えることができない場合、セラミック基体は
破壊してしまう。焼成による収縮の度合や基体の機械的
強度は、セラミックスを構成する物質の化学組成や、合
成力法に依存する。一方、セラミ・り電子部品として要
求されるのは王に電気的8+!f性であるが、いくら電
気的特性が優れていても、リード線と固着させた場合、
セラミック基体が破壊すると電子部品として使用し得な
いので、」二連のような製造法を用いる限り、使用可能
な化学組1ノkか限定されていた。また、埋込む金属線
が細い場合には、セラミック基体にかかる応力も小さく
破壊も起こりにくいが、金属線の強度を増すため太い線
を使用すると、セラミック基体が破壊されてしまう。
このような破壊は前述した圧粉体と金属線との収縮の差
により生じる応力のため発生するのであるから、この応
力がセラミック基体の鉋壊強度を越えないようにすれば
よい。このため、圧粉体にあらかじめ金属線の径より1
0〜30%大きい径の孔を開けておいて、その孔に金属
線を挿入し、焼成する方法もある。この場合、もろい圧
粉体に孔開は加工をしなければならず、加工中に圧粉体
が崩れたり欠けたりする。
本発明の方法は前述のような問題点を解決したものであ
り、白金線や金線の表面に有機物の被膜層を設けた後、
必要々化学組成を持つ粉体と一体成型し、焼成してセラ
ミック電子部品を得るものである。焼成前には、有機物
被膜層は金属線と圧粉体の間に存在しているが、焼成の
過程で200〜500℃でこの有機物被膜層は分解燃焼
し、圧粉体と金属線の間に隙間が生じ、さらに温度力≦
上かってから圧粉体の収縮が起こる。したがって、あら
かじめ圧粉体の収縮率に合わせて有機物被膜層の厚みを
設定しておけばセラミック基体の破壊を防止することが
できる。
次に、本発明の実施例について図面を用いてnil明す
る。まず、高温サーミスタ用材料であるMq(A1.5
Cr as Fe、、、 )、、 o4  の粉末を準
備し、41機バインダーとして濃度6%のポリビニルア
ルコ−/L水溶液を6重量%添加して混合した。次に、
“白金線1をポリビニルアルコールの水溶液に浸し、引
上げて乾燥させた。乾燥した白金線1の表面には第1図
に示すようにポリビニルアルコールの被膜層2が形成さ
れていた。このような処理を行なった白金線1を通常行
なわれている方法で第2図に示すような形状に前記粉末
と一体成型した。なお図において、(3は圧粉体である
。1000℃で2時間焼成した。比較のため、ポリビニ
ルアノし:1−ルで被覆していない白金線を用いた場合
(・6ついても調べた。こわらの焼成した七ラミック基
体か汲壊した率を下表に示す。
表からも明らかなように、有機物被膜層はセラミック基
体の破壊防止に効果があり、特にその厚みが金属線径の
10%以上であればその効果はりちぢるしい。
このように、本発明の方法によれば、金属線の少なくと
もセラミック基体内に埋込まれるべき部赤分に有機物被
膜層を設けておき、セラミックIGt亨1と一体成型し
て焼成しているので、焼成時にζ、の有機物被膜層が焼
失し、圧粉体の収縮により金属線とQ熱膨張率の違いか
らセラミック基体に生じる応力を効果的に軽減すること
ができる。そして、有機物被膜層の厚さを圧粉体の収縮
の度合に応じて決めておけば、公知の方法で金属線の埋
込まれた圧粉体を作製することができるので、その実施
が非常に容易である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の詳細な説明するためのもので、第1図は
有機物被膜層で被覆された金属線の断面図、第2図はこ
の金属線が埋込まれた圧粉体の斜視図である。 1・・・・・・白金線、2・・・・・・ポリビニルアル
コール被膜層、3・・・・・圧粉体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第 
1 図 71 1 1  、/

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. セラミック基体に金属線を埋め込んだセラミック電子部
    品の製造方法において、前記金属線の少なくとも前記セ
    ラミック基体内に埋設されるべき部分の表面に有機物被
    膜層を設け、セラミック原料粉末とともに一体成型した
    後、焼成することを特徴とするセラミック電子部品の製
    造方法。
JP56114812A 1981-07-21 1981-07-21 セラミツク電子部品の製造方法 Granted JPS5815207A (ja)

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JPS5815207A true JPS5815207A (ja) 1983-01-28
JPS6347123B2 JPS6347123B2 (ja) 1988-09-20

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013162027A (ja) * 2012-02-07 2013-08-19 Toyota Motor Corp 金属化フィルムコンデンサ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013162027A (ja) * 2012-02-07 2013-08-19 Toyota Motor Corp 金属化フィルムコンデンサ

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JPS6347123B2 (ja) 1988-09-20

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