JPS58157181A - 超電導回路用コンタクト - Google Patents

超電導回路用コンタクト

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JPS58157181A
JPS58157181A JP57039243A JP3924382A JPS58157181A JP S58157181 A JPS58157181 A JP S58157181A JP 57039243 A JP57039243 A JP 57039243A JP 3924382 A JP3924382 A JP 3924382A JP S58157181 A JPS58157181 A JP S58157181A
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JP
Japan
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superconductive
thin film
alloy
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JP57039243A
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JPS603796B2 (ja
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Hiroshi Nakagawa
博 仲川
Hidekazu Sokawa
曽川 英一
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/80Constructional details

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  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ジ曹セ7ソン論運集穢回路等において、多層
配線を行う揚台に、多層配線の接続を1安定かつ高密度
超電導電流を得られるようにする層電導祠踏用コンタク
トに関するものである。
近年、履軍導現象を利用した111m路は低消費電力で
高速の動作が期待されることから注目されている。とり
わけ、超電導現象を利用した輪部素子としてジョセフソ
ン素子は、超高速コンビエータ−への応用を目ざして研
究が進められている。
従来、このような超電導現象を利用した論理−路を形成
する材料として、加工性、超電導転移温度(2コ0K)
、ジョセフソン接合の形成のし易さ等の置市から、Pb
合金が多く使用されている。しかし、このような材料を
使用して囲路形成【行う場合、作成プ誼セス中の酸化、
あるいは、ジ冒セ7ソン接合形成時の酸化プルセスによ
って麦面が酸化され、上層の薄膜と絶縁あるいはジョセ
フソン接合となってしまい、安定なコンタクシを得るこ
とは困難であった。このため超電導輪lI回路では、一
般的に、広い面積のジョセフソン素子を形成してコンタ
クトを得る方法が用いられている。しかしながら、ジョ
セフソン素子をコンタクトに使用するには、大きな面積
を必要とするため、高集積化の障害となっている。また
、ジョセフソン素子は、他のジョセフソン素子との干渉
を起し易く安定性という面でも問題があった。
本発明は、以上に1み、従来のコンタクトの欠点を解消
し覧安定で高書度趨電導電流が得られる超電導回路用コ
ンタクシを提供することを目的としてなされたものであ
る。
本発明を概説すれば、肺金属薄膜上にムU金属薄膜を蒸
着した二層構造を持つコンタクトであるということがで
きる。
る。このコンタクトを用いて異なるブレセスで作成され
る超電導Pb合金線路暴、6を超電導線路との接触1i
18.4を通じて接続を行っているものである。
本発明では、機械的強度は強く、良好な超電導性を示す
が、鎌化に弱い卯金属の責画を、酸化に対しては良い耐
性を示す1田金属を柿金属の保護膜として使用し、かつ
ム聾金属を極めて薄くすることによって接合を形成する
Pb合金が、拡散でム田金属を吸収して真好な超電導コ
ンタク)−う − ても超電導性を失わない・このため、Pb会金超電導義
@i、aは事実上柿金JI薄膜と接続されることになる
。励金属はPb合金より高い超電導臨界温度と、良好な
超電導性とを持つ金属であるため、この接続も良好な超
電導コンタクトとなる。
本発明の超電導回路用コンタクトの構造が、罰金属薄膜
1とムー金属−Haとの二層構造から成るのは以下の理
由による。すなわち、励金属は良好な超電導金属である
が、その表面は酸化に対して不安定であるため肋金属の
みでは、酸化膜が障壁となり良好なコンタクトは墓むこ
とができないためである。従って、ゆ金属薄膜1上に蒸
着したムU金属薄l[sは、この柿金属薄膜1の酸化防
止膜となっている。
次に、本発明の実施ブ冑セスについて説明する。   
                      11本
発明の超電導コンタクトは、従来のものより高電流密度
が得られることから、十分な微細細工が11Hされなけ
れば、超電導集積回路への応用は期待できない。
本発明のコンタクトを構成する詐金属薄ll11及びム
U金属薄II!はxli着によって得られることから1
フオトリゾダラアイによって得ることができる。フォト
レジスト上に#1IIjX下の加工精度でコンタクトパ
ターンを形成し、励金属薄Ill及びムn金属薄膜2を
所定の厚みに蒸着し1リフトオフ法によって本発明のコ
ンタクトを得ることができる。また、基板面全域に、励
金属薄膜l及びムU金属薄膜3を所定の厚みに蒸着し・
フォトリゾグラフィによって、コンタクシのパターンを
形成し1.ドライエツチングによっても微細なコンタク
トを得ることができる。
本発明のコンタクトは、島金属**及びム田金属薄膜の
厚みが、両方共数百オンダス)田−ムでもs / ”k
Al声18以上の超電導電流密度が得られる。
以上説明したように、本発明は励金属薄膜上3− 一ダー 従来のコンタクトが要した広い面積を微細なものとする
ことかで*、m電導集積!1ijIIの高集積化を可能
とし、しかも安定性が高く、高密度超電導電流が得られ
るコンタクトを提供できるので、超電導集積回路の技術
に貢献すること大な:  るものがある。
【図面の簡単な説明】
@/Itは本発明のコンタクシを用いて二つの異なる層
の超電導線路を接続した構成図である。 図中、1は画金属薄膜、2はムU金属薄膜、8鳴は夫々
超電導線路との接触面、b、6は夫々員なる層の超電導
線路である。 6一

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ジ曹セ7ソン論m集穂−路等の超電導ml&における多
    層配線の**において1基板表面に励金属薄属を設け、
    前記ぬ金属薄膜上にム亀金属薄展を堆−した二層榔造か
    ら威ることな曹徽とすル庵電導−路用コンタクト。
JP57039243A 1982-03-12 1982-03-12 超電導回路用コンタクト Expired JPS603796B2 (ja)

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JPS603796B2 JPS603796B2 (ja) 1985-01-30

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01128481A (ja) * 1987-11-12 1989-05-22 Fujitsu Ltd ジョセフソン接合素子
US5232905A (en) * 1987-01-30 1993-08-03 Hitachi, Ltd. High Tc superconducting device with weak link between two superconducting electrodes
JPH06318741A (ja) * 1992-03-09 1994-11-15 Kyocera Corp 配線基板
US5949131A (en) * 1991-02-25 1999-09-07 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Junction between wires employing oxide superconductors and joining method therefor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5232905A (en) * 1987-01-30 1993-08-03 Hitachi, Ltd. High Tc superconducting device with weak link between two superconducting electrodes
JPH01128481A (ja) * 1987-11-12 1989-05-22 Fujitsu Ltd ジョセフソン接合素子
US5949131A (en) * 1991-02-25 1999-09-07 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Junction between wires employing oxide superconductors and joining method therefor
JPH06318741A (ja) * 1992-03-09 1994-11-15 Kyocera Corp 配線基板

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