JPS58168548A - 化粧プラスチツク床張りタイルおよびその製造法 - Google Patents
化粧プラスチツク床張りタイルおよびその製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は化粧プラスチック床張りタイルおよびその製造
方法に関する。
方法に関する。
先行技術において望ましい耐摩耗層を設けることは周知
である。市販のタイルは、普通のビニルタイルの小片を
加熱してその表面にカーボランダム粗粒を散布すること
によって非滑り表面を設けて作られてきた。次にその粗
粒をタイルの表面に埋め込む、粗粒がそのようなタイル
に非滑り特性を与えている。また、テクスチャード摩耗
層を形成するために硬化される摩耗層に分散された微粒
プラスチック材料を混合することによって節状のテクス
チャーをもったプラスチック床張り材を提供することに
よって耐滑り柱表面を設けることも周知である。この後
者の例は米国特許第4,196.2113号に開示され
ている。米国特許第5.267. I II! 7号は
基層、プラスチック層および内部に埋め込まれた微粒材
料を含むオーバーにイ・マトリックスから成るテクスチ
ャード床カバーを開示している。
である。市販のタイルは、普通のビニルタイルの小片を
加熱してその表面にカーボランダム粗粒を散布すること
によって非滑り表面を設けて作られてきた。次にその粗
粒をタイルの表面に埋め込む、粗粒がそのようなタイル
に非滑り特性を与えている。また、テクスチャード摩耗
層を形成するために硬化される摩耗層に分散された微粒
プラスチック材料を混合することによって節状のテクス
チャーをもったプラスチック床張り材を提供することに
よって耐滑り柱表面を設けることも周知である。この後
者の例は米国特許第4,196.2113号に開示され
ている。米国特許第5.267. I II! 7号は
基層、プラスチック層および内部に埋め込まれた微粒材
料を含むオーバーにイ・マトリックスから成るテクスチ
ャード床カバーを開示している。
米国特許第11.196.2143号は床カバー上に摩
耗(損耗)層、特に非滑り光重合性ウレタン層を付加す
ることは技術的に古いことを教示している。
耗(損耗)層、特に非滑り光重合性ウレタン層を付加す
ることは技術的に古いことを教示している。
米国特許第5.92 a 706号は硬い石英粒子の使
用を開示している。
用を開示している。
ミラー(Jesse D−Mlller+ Jr)らに
よる19g1年2月211日付の発明の名称「非滑りプ
ラスチック床張り品およびその製造法」なる米国特許出
願第237.666号は、ベース上に複数の耐すべり性
エレメントを配置した化粧プラスチック・ベースから成
り、耐滑り性エレメントおよびさらされる中間ベースの
上に張られる透明損耗層を備えた非滑り化粧プラスチッ
ク床カバーを開示している。
よる19g1年2月211日付の発明の名称「非滑りプ
ラスチック床張り品およびその製造法」なる米国特許出
願第237.666号は、ベース上に複数の耐すべり性
エレメントを配置した化粧プラスチック・ベースから成
り、耐滑り性エレメントおよびさらされる中間ベースの
上に張られる透明損耗層を備えた非滑り化粧プラスチッ
ク床カバーを開示している。
本発明により凸部および凹部をもった化粧プラスチック
・ベースを有する化粧プラスチック床カバーが作られる
。凸部の上にだけ複数のエレメントが配置され1次にそ
の上にそれらのエレメントおよびベースの上に硬化透明
損耗層が張られる。
・ベースを有する化粧プラスチック床カバーが作られる
。凸部の上にだけ複数のエレメントが配置され1次にそ
の上にそれらのエレメントおよびベースの上に硬化透明
損耗層が張られる。
それらのエレメント1は硬化プラスチック・マトリック
スに埋め込まれる粒子からなり、該マトリックスはベー
ス凸部の土にだけ配置される。それらの粒子は、プラス
チック・マトリックス上に粒子単一層において実質的に
接する関係に分布される。
スに埋め込まれる粒子からなり、該マトリックスはベー
ス凸部の土にだけ配置される。それらの粒子は、プラス
チック・マトリックス上に粒子単一層において実質的に
接する関係に分布される。
粒子はマ) IJラックス上に突出するが損耗層の最上
レベルより低い。粒子は丸い石英の無機質粒子であって
モース硬度値4以上を有する。粒子はベース凸部上に約
595μ以上の粒子はなく約55%の粒子が約1149
〜296μの粒径であるように分布される。損耗層は硬
化ウレタン組成物である。
レベルより低い。粒子は丸い石英の無機質粒子であって
モース硬度値4以上を有する。粒子はベース凸部上に約
595μ以上の粒子はなく約55%の粒子が約1149
〜296μの粒径であるように分布される。損耗層は硬
化ウレタン組成物である。
製造法は化粧ベース層を設ける工程、凸部と凹部の両方
を有する化粧ベースの凸部だけにプラスチック・マトリ
ックス(または接着剤コーティング)を塗布する工程を
含む。次にそのマトリックスに粒子を付加する、そして
粒子をマトリックスに単一層構造そしてマトリックスか
ら突出する粒子層の最上部と実質的に接する関係に埋め
込まれる。マトリックスを確保した後、全透明損耗層を
塗布して硬化体の上に連続損耗フィルムを形成する。粒
子層の最上部は損耗層の最上レベルより下にある。続い
て損耗層が所定の位置で硬化される。
を有する化粧ベースの凸部だけにプラスチック・マトリ
ックス(または接着剤コーティング)を塗布する工程を
含む。次にそのマトリックスに粒子を付加する、そして
粒子をマトリックスに単一層構造そしてマトリックスか
ら突出する粒子層の最上部と実質的に接する関係に埋め
込まれる。マトリックスを確保した後、全透明損耗層を
塗布して硬化体の上に連続損耗フィルムを形成する。粒
子層の最上部は損耗層の最上レベルより下にある。続い
て損耗層が所定の位置で硬化される。
(5)
本発明の望ましい実施態様における基層(ベース層)は
寸法が約18×18(116×l16crn)以下、普
通12X12(う0×30(7))の従来のビニル捷だ
はビニルアスベスト床タイル材料である。
寸法が約18×18(116×l16crn)以下、普
通12X12(う0×30(7))の従来のビニル捷だ
はビニルアスベスト床タイル材料である。
その製品は通常のものであって、第2図かられかるよう
にエンボス構造を備えている。タイル製品2は典型的に
平らなベース4と凸部gと凹部9を備えた上表面(上面
)6を有する。凹部9は凸部80表面より約0.115
sm (18m1ts)低く、幅が”7y3 in(0
,16on )から% tn(o、 64z)以上と変
わる。床タイルの凹部はくぼみに印刷した化粧模様で化
粧することができる。特定の構造物は技術的に古く多く
の製造業者によって販売されている、利用可能な非常に
良く知られた特定タイプの床タイルはアームストロング
・ワールド・インダストリーズ社(Armstrong
World Industries、Inc、)ノ商
品名[エクセロン(Excelon) Jなる床タイル
である。
にエンボス構造を備えている。タイル製品2は典型的に
平らなベース4と凸部gと凹部9を備えた上表面(上面
)6を有する。凹部9は凸部80表面より約0.115
sm (18m1ts)低く、幅が”7y3 in(0
,16on )から% tn(o、 64z)以上と変
わる。床タイルの凹部はくぼみに印刷した化粧模様で化
粧することができる。特定の構造物は技術的に古く多く
の製造業者によって販売されている、利用可能な非常に
良く知られた特定タイプの床タイルはアームストロング
・ワールド・インダストリーズ社(Armstrong
World Industries、Inc、)ノ商
品名[エクセロン(Excelon) Jなる床タイル
である。
第1図に示す床タイルの凸部8の上部にプラスチック・
マトリックスまたはtyv(紫外線)硬化(6) 性液着剤が提供されている。その硬化性接着剤またはプ
ラスチック・マトリックスはアクリル酸ポリエステルの
硬化性マトリックスである。
マトリックスまたはtyv(紫外線)硬化(6) 性液着剤が提供されている。その硬化性接着剤またはプ
ラスチック・マトリックスはアクリル酸ポリエステルの
硬化性マトリックスである。
アクリル酸ポリエステル硬化性マトリックスの調製
ポリエステルを生成するために、上に蒸留器ヘッドと全
コンデンサーを備えた5t、5首の竪型フラスコ凝縮器
に下記成分を装入した。
コンデンサーを備えた5t、5首の竪型フラスコ凝縮器
に下記成分を装入した。
1.6−ヘキサンジオール 363.
52ネオヘンチル・グリコール 66
1.25シクロヘキサンジメタツール
9111.13無水フタル酸
563.81イソフタル酸
11176.211ンリコ−ンあt吐y済I
J(Ti’oamkill 8R) 0
.0566トルエン
650.00フラスコはさらにマントル、かくはん機
、温度計、温度制御装置およびガス流入管を備えていた
。
52ネオヘンチル・グリコール 66
1.25シクロヘキサンジメタツール
9111.13無水フタル酸
563.81イソフタル酸
11176.211ンリコ−ンあt吐y済I
J(Ti’oamkill 8R) 0
.0566トルエン
650.00フラスコはさらにマントル、かくはん機
、温度計、温度制御装置およびガス流入管を備えていた
。
それらの成分は窒素雰囲気下でかくはんしなから徐々に
220部5℃に加熱し、この高度を酸価が15±0.5
以下に下がる捷で保持した。窒素の流量は、理論水の約
70%が得られた後、徐々に増加させ約700m11分
にしてエステル化の水の除去および可逆平衡反応を完了
させるのを助けた。
220部5℃に加熱し、この高度を酸価が15±0.5
以下に下がる捷で保持した。窒素の流量は、理論水の約
70%が得られた後、徐々に増加させ約700m11分
にしてエステル化の水の除去および可逆平衡反応を完了
させるのを助けた。
ポリエステルのアクリル酸塩化はポリエステル−溶媒の
混合体を含むはy同じ寸法の4首フラスコに1.2当量
のアクリル酸を装入することによって行なう。硫酸全樹
脂100部当り0.211部の割合で添加し、その混合
を還流させ、パレット式トラップを使用して水を除去し
て溶媒を戻す。
混合体を含むはy同じ寸法の4首フラスコに1.2当量
のアクリル酸を装入することによって行なう。硫酸全樹
脂100部当り0.211部の割合で添加し、その混合
を還流させ、パレット式トラップを使用して水を除去し
て溶媒を戻す。
バンチの温度は95〜110℃に保持する。90℃に冷
却して、100重量部のアクリル酸イソデシルに分散し
た13当量の酸化マグネシウムを添加し、さらに600
重量部のアクリル酸イソデシルを添加することによって
理論水の90〜98%が得られたときに、反応を終了さ
せた。次にフラスコを減圧しlIO〜50■H9にして
溶媒を除去する。かくはんしながら73.111重量部
の1,6−ヘキサン−ジオール・シアクレー)、1O1
1,5重量部のアクリル酸、100重量部のアクリル酸
イソデシル、1045重量部のベンゾフェノンおよび6
27重量部の触媒2,2−ジメトキシ−2−フェニル−
アセトフェノン(Irgacure 651)を添加す
ることによって硬化性マトリックスの調製が完了する。
却して、100重量部のアクリル酸イソデシルに分散し
た13当量の酸化マグネシウムを添加し、さらに600
重量部のアクリル酸イソデシルを添加することによって
理論水の90〜98%が得られたときに、反応を終了さ
せた。次にフラスコを減圧しlIO〜50■H9にして
溶媒を除去する。かくはんしながら73.111重量部
の1,6−ヘキサン−ジオール・シアクレー)、1O1
1,5重量部のアクリル酸、100重量部のアクリル酸
イソデシル、1045重量部のベンゾフェノンおよび6
27重量部の触媒2,2−ジメトキシ−2−フェニル−
アセトフェノン(Irgacure 651)を添加す
ることによって硬化性マトリックスの調製が完了する。
図示のように、プラスチック・マトリックス10に望ま
しくは丸い無機質の粒子12が配置される。
しくは丸い無機質の粒子12が配置される。
損耗層形成のため本発明の実施に有用な無機質粒子は水
に実質的に不溶性であってモース硬度が少なくともlI
(できれば少なくとも7)であることが望ましい。無機
質粒子は丸い形状でなくてはならず、粒径が約595μ
以下であって149〜296μの間の粒子が約55%で
ある粒度分布を有することが望ましい。
に実質的に不溶性であってモース硬度が少なくともlI
(できれば少なくとも7)であることが望ましい。無機
質粒子は丸い形状でなくてはならず、粒径が約595μ
以下であって149〜296μの間の粒子が約55%で
ある粒度分布を有することが望ましい。
本発明の実施に特に適するのはオタワ・シリカ(Ott
awaSilica)社販売の商品名「スペシャル・ボ
ンド」なる粗粒子である。それらの粒子は主に998%
5102であって各粒子のエツジは丸くな(9) つている。
awaSilica)社販売の商品名「スペシャル・ボ
ンド」なる粗粒子である。それらの粒子は主に998%
5102であって各粒子のエツジは丸くな(9) つている。
これらの無機シリカ粒子の代表的な米国ふるい分析は次
の通りである。
の通りである。
5’0 595 −IlO社
20 30 50 296 311、070
210 39、0100
1119 18、.01110
105 5、0ふるいパン部
1.0最後に、それらの粒子12
とプラスチック・マトリックス10は損耗層114(U
V硬化性コーティング)で被覆される。
20 30 50 296 311、070
210 39、0100
1119 18、.01110
105 5、0ふるいパン部
1.0最後に、それらの粒子12
とプラスチック・マトリックス10は損耗層114(U
V硬化性コーティング)で被覆される。
次の反応成分を反応容器へ装入した。
ポリエステル・ポリオ−ノー36,152エチルヘキシ
ル・アクリレート13.331.6ヘキサンジオール・
ジアクリレート 90了*:54.62重量
部のアジピン酸、13.12重(10) 置部のイソフタル酸、l18.76重量部の1.6ヘキ
サンジオールおよび3.148重量部のグリセリンの反
応生成物。
ル・アクリレート13.331.6ヘキサンジオール・
ジアクリレート 90了*:54.62重量
部のアジピン酸、13.12重(10) 置部のイソフタル酸、l18.76重量部の1.6ヘキ
サンジオールおよび3.148重量部のグリセリンの反
応生成物。
次に2310重量部のu 、 u’ジイソシアナト・ジ
シクロヘキシルメタンと008重量部のジラウリル酸ジ
ブチル触媒を添加して、その混合体を)15〜50℃で
反応させた。反応を約l+5分間通行させた後、867
重量部の2−ヒドロキシエチルアクリレートを添加し、
その反応混合体をイソシアネートが機能的に一定の点に
おいて2時間加熱およびかくはんを継続した。
シクロヘキシルメタンと008重量部のジラウリル酸ジ
ブチル触媒を添加して、その混合体を)15〜50℃で
反応させた。反応を約l+5分間通行させた後、867
重量部の2−ヒドロキシエチルアクリレートを添加し、
その反応混合体をイソシアネートが機能的に一定の点に
おいて2時間加熱およびかくはんを継続した。
次にこの反応生成物に181重量部のベンゾフェノン、
090重量部の2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセ
トフェノン、 6.78 重fjk部のバラクレゾル酸
化防止剤および009重量部のグリコールポリシロキサ
ン(DC−193)z”添加した。
090重量部の2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセ
トフェノン、 6.78 重fjk部のバラクレゾル酸
化防止剤および009重量部のグリコールポリシロキサ
ン(DC−193)z”添加した。
床タイル2の凸部8に配置された粒子12は単一層にあ
ることを注目する必要がある。各粒子の下部はプラスチ
ック・マトリックス10に埋め込まれる、そして各粒子
の上部はプラスチック・マトリックスlOの上に突出し
ている。損耗層コーティング14は粒子を完全に覆って
いる。そして損耗層の上領域の大部分は粒子の上にある
。損耗層材料は損耗層14が実質的に平らで各粒子の間
にわずかな四部18のみを有するように領域(部分)1
6に充てんされる。その結果、粒子は損耗層の最上面よ
り上に突出していない。粒子は、被覆された部分に約う
o 1g/m”(2g y/ft2)の粒子分布となる
ように床タイルの凸部表面8に分布される。接着剤コー
ティングまたはプラスチック・マトリックス10は被覆
されたタイル表面に35.5−b 7.711/m”(
3,3−3,5y/ft2)の割合で塗布される。損耗
層は被覆されたタイルに 2 u 2−2 5 3
g/rn”(22,5〜 2 3.5 vft2
)の割合で塗布される。第2図から、損耗層は粒子を含
むタイルの表面上に塗布されるのみならず、凹部9を塗
工するためにタイルの凹部にも塗布されること全注意す
べきである。従って、タイルの凸部および凹部の全表面
はUV硬化性損耗層illで被覆される。
ることを注目する必要がある。各粒子の下部はプラスチ
ック・マトリックス10に埋め込まれる、そして各粒子
の上部はプラスチック・マトリックスlOの上に突出し
ている。損耗層コーティング14は粒子を完全に覆って
いる。そして損耗層の上領域の大部分は粒子の上にある
。損耗層材料は損耗層14が実質的に平らで各粒子の間
にわずかな四部18のみを有するように領域(部分)1
6に充てんされる。その結果、粒子は損耗層の最上面よ
り上に突出していない。粒子は、被覆された部分に約う
o 1g/m”(2g y/ft2)の粒子分布となる
ように床タイルの凸部表面8に分布される。接着剤コー
ティングまたはプラスチック・マトリックス10は被覆
されたタイル表面に35.5−b 7.711/m”(
3,3−3,5y/ft2)の割合で塗布される。損耗
層は被覆されたタイルに 2 u 2−2 5 3
g/rn”(22,5〜 2 3.5 vft2
)の割合で塗布される。第2図から、損耗層は粒子を含
むタイルの表面上に塗布されるのみならず、凹部9を塗
工するためにタイルの凹部にも塗布されること全注意す
べきである。従って、タイルの凸部および凹部の全表面
はUV硬化性損耗層illで被覆される。
製品は、従来の方法でエンボスされ谷部に印刷された通
常のビニルまたはビニル・アスベスト床タイルを用いる
ことによって作られる。この特定の製品はその裏から凸
部の最上部へ測って約016Crn(殉)となる。四部
は凸部の下へ約0.115 tm(18m1ts)であ
る。タイル品は、コーティング10をタイルの凸部のみ
に塗布する回転式塗布機の下へタイル表面全土向きにし
て供給される。約1重量%の過酸化ベンゾイルが添加さ
れた前述のアクリル酸ポリエステルは約50℃で約う5
00Cpsの粘度を有して塗布機で塗工されるので、配
置される凸部上でその形状を保持し堆積(塗布)された
捷\である。
常のビニルまたはビニル・アスベスト床タイルを用いる
ことによって作られる。この特定の製品はその裏から凸
部の最上部へ測って約016Crn(殉)となる。四部
は凸部の下へ約0.115 tm(18m1ts)であ
る。タイル品は、コーティング10をタイルの凸部のみ
に塗布する回転式塗布機の下へタイル表面全土向きにし
て供給される。約1重量%の過酸化ベンゾイルが添加さ
れた前述のアクリル酸ポリエステルは約50℃で約う5
00Cpsの粘度を有して塗布機で塗工されるので、配
置される凸部上でその形状を保持し堆積(塗布)された
捷\である。
塗工されたタイルは次にタイル上に無機質粒子を供給す
るフィーダーの下を通される。粒子は全タイル上に実質
的に満ち溢れる。次にタイルは真空および空気収出し装
置の下で凸部の接着剤と接触しなかった粒子が除去され
る。接着剤の被膜が厚過ぎるとこの点で粒子の多重層を
もたらすので。
るフィーダーの下を通される。粒子は全タイル上に実質
的に満ち溢れる。次にタイルは真空および空気収出し装
置の下で凸部の接着剤と接触しなかった粒子が除去され
る。接着剤の被膜が厚過ぎるとこの点で粒子の多重層を
もたらすので。
これは1捷しくない。次にタイルは直ちに、同化(15
) 機から排出される際に粒子の単一層が塗工部分に存在す
るようなロール間隙設定装置を備えた2段ロール固化機
を通される。次にタイルは通常ノU■光源の下を移送さ
れてUV硬化性接着剤を硬化して粒子をその位置に保持
するのに十分な放射線量を浴びる。次に回転プランジを
使用して硬化接着剤における以外の遊離粒子を全て除去
する。粒子コーティングは約0127〜αう11! 1
s+m (5〜15m11s )の厚さの範囲内にあ
る。
) 機から排出される際に粒子の単一層が塗工部分に存在す
るようなロール間隙設定装置を備えた2段ロール固化機
を通される。次にタイルは通常ノU■光源の下を移送さ
れてUV硬化性接着剤を硬化して粒子をその位置に保持
するのに十分な放射線量を浴びる。次に回転プランジを
使用して硬化接着剤における以外の遊離粒子を全て除去
する。粒子コーティングは約0127〜αう11! 1
s+m (5〜15m11s )の厚さの範囲内にあ
る。
粒子を塗工されたタイルは次に前方ロール・コーター全
通され、そこで表面にUV硬化性結合剤を塗布される。
通され、そこで表面にUV硬化性結合剤を塗布される。
この操作は単一層の粒子の隙間に結合剤金入れてこれら
粒子の表面金湿らしてカーテン・コーターで適量のUV
硬化性結合剤の最終塗布の準備をする。ロール・コータ
ーはタイルに約151〜156g/m”(14,0〜t
q、511/ft2)の被膜を塗布する。次にUV硬化
性結合剤の最終塗布をする、そしてその塗布は製品の最
終表面が実質的に平滑でしかも厚く塗工されないような
程度に行なわれる。この第2のコーティングは被覆(1
4) されたタイル品に約92〜102.!9/ゴ(85〜9
.5,9/ft) の割合で行なう。このコーティン
グはタイルの凹部並びに凸部にも実施されることを留意
されたい。その被膜は次にUV光で硬化される。
粒子の表面金湿らしてカーテン・コーターで適量のUV
硬化性結合剤の最終塗布の準備をする。ロール・コータ
ーはタイルに約151〜156g/m”(14,0〜t
q、511/ft2)の被膜を塗布する。次にUV硬化
性結合剤の最終塗布をする、そしてその塗布は製品の最
終表面が実質的に平滑でしかも厚く塗工されないような
程度に行なわれる。この第2のコーティングは被覆(1
4) されたタイル品に約92〜102.!9/ゴ(85〜9
.5,9/ft) の割合で行なう。このコーティン
グはタイルの凹部並びに凸部にも実施されることを留意
されたい。その被膜は次にUV光で硬化される。
本明細書に使用される粒子の関係を規定する用語[実質
的に接すること]は粒子の接触と一定の間隔を置く両方
の関係に及ぶことを意味する。タイル表面上の粒子の分
布はある粒子は隣接粒子と実際に接触し、別の粒子は自
立して他の粒子と接触しないようなものである。
的に接すること]は粒子の接触と一定の間隔を置く両方
の関係に及ぶことを意味する。タイル表面上の粒子の分
布はある粒子は隣接粒子と実際に接触し、別の粒子は自
立して他の粒子と接触しないようなものである。
第1図はマトリックス、粒子および損耗コートを含むタ
イル・ベースの拡大横断面図。 第2図はここに開示されたマトリックス、粒子および損
耗層コーティングを含む床タイルの横断面図。 符号の説明 2−一床タイル 4−一タイル・ベース6−−
上表面 8−一凸部 9−−凹部 10−一硬化性マトリックス12−−
粒子 11F−一損耗層。
イル・ベースの拡大横断面図。 第2図はここに開示されたマトリックス、粒子および損
耗層コーティングを含む床タイルの横断面図。 符号の説明 2−一床タイル 4−一タイル・ベース6−−
上表面 8−一凸部 9−−凹部 10−一硬化性マトリックス12−−
粒子 11F−一損耗層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L 凸部と四部および該凸部のみに配置された複数のエ
レメントを有する化粧プラスチックベースと、前記エレ
メントとプラスチック・ベースの両方に上塗りされる硬
化透明摩耗層から成り、前記エレメントは前記ベースの
凸部上のみに配置された硬化プラスチック・マトリック
スに埋め込まれた粒子から成り、前記粒子が前記プラス
チック・マトリックスに粒子の単一層構造において実質
的に接する関係に分布され、これら粒子が前記マ) I
Jラックス上に突出するが前記摩耗層の最上レベルより
下側にあることを特徴とする化粧プラスチック床張りタ
イル。 2(a)サイズが約116X116Crn(111rx
1g)、望ましくは約うOx 50 (yB (12x
12 )のプラスチック・タイルを提供する工程;(
bl 前記プラスチック・タイルのベース凸部にのみ
、マ) IJラックス上単一層状にかつ実質的に接する
関係においてマ) IJソックス配置される粒子を結合
させるのに十分な量の硬化性コーティングを塗布する工
程;tel 前記マトリックスに過剰の粒子を付加す
る工程; fdt 粒子の最上部がマ) IJソックス上に突出
し実質的に接する関係において前記粒子をマトリックス
全体に埋め込む工程; (el 前記マトリックスを硬化する工程;(fl
前記凸部および凹部の両方の上に連続被膜を形成させ
、かつ該凸部において粒子が摩耗層の最上レベル以下に
なるように粒子上にコーティングを提供すべく全透明硬
化性摩耗層を塗布する工程;および (gl 前記摩耗層を硬化する工程から成ることを特
徴とする化粧プラスチック床張りタイルの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US362645 | 1982-03-29 | ||
| US06/362,645 US4418109A (en) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | Durable, low-maintenance flooring tile |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58168548A true JPS58168548A (ja) | 1983-10-04 |
| JPS6256269B2 JPS6256269B2 (ja) | 1987-11-25 |
Family
ID=23426955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58009465A Granted JPS58168548A (ja) | 1982-03-29 | 1983-01-25 | 化粧プラスチツク床張りタイルおよびその製造法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4418109A (ja) |
| JP (1) | JPS58168548A (ja) |
| AU (1) | AU559411B2 (ja) |
| BE (1) | BE897376A (ja) |
| CA (1) | CA1200441A (ja) |
| DE (1) | DE3304826C2 (ja) |
| FR (1) | FR2524048B1 (ja) |
| GB (1) | GB2117673B (ja) |
| LU (1) | LU84928A1 (ja) |
| NL (1) | NL186187C (ja) |
| SE (1) | SE450474B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02136094U (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-13 | ||
| JPH04120362A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-21 | Toli Corp Ltd | ノンスリツプ床材 |
| JP2001341221A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-12-11 | Illinois Tool Works Inc <Itw> | 耐候性スリップ止めパネル |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4689259A (en) * | 1982-09-29 | 1987-08-25 | Armstrong World Industries, Inc. | Floor tile product and process |
| US4950500A (en) * | 1984-10-24 | 1990-08-21 | Armstrong World Industries, Inc. | Method for making a decorative laminate |
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