JPS58189178A - N−置換ジカルボキシミド類およびこれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
N−置換ジカルボキシミド類およびこれを有効成分とする除草剤Info
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特足の五−置換ジカルボキシミド類およびこ
れを有効成分とする除草剤に関する。
れを有効成分とする除草剤に関する。
従来、N−置換ジカルボキシミド類が優れた除草活性を
有することが知られているが−これらの構造の僅かな改
変(置換基の種類、数1位置など)により除草活性の有
無あるいは強弱がるいは選択性などが著しく異なる場合
が多く。
有することが知られているが−これらの構造の僅かな改
変(置換基の種類、数1位置など)により除草活性の有
無あるいは強弱がるいは選択性などが著しく異なる場合
が多く。
単なる化学構造的類似性から新たな化合物の殺草活性あ
るいは選択性を予知することは困−である。
るいは選択性を予知することは困−である。
不発明者らは、より優れた除草活性と作物安全性とを有
するN−置換ジカルボキシミド類を提供すべく鋭意研究
した結果2M−置換アリールか、コ位および6位に水X
原子またはハロゲン原子−≠位に水X原子−ハロゲン原
子、メチル基筐1こはメトキシ基を有し−かっ3位に%
足の置換基を有するフェニルである新規なN−置換ジカ
ルボキシミド類が除i罰として(めて優れた舛卒乞示す
ことを見出し4太発舅に到達した。
するN−置換ジカルボキシミド類を提供すべく鋭意研究
した結果2M−置換アリールか、コ位および6位に水X
原子またはハロゲン原子−≠位に水X原子−ハロゲン原
子、メチル基筐1こはメトキシ基を有し−かっ3位に%
足の置換基を有するフェニルである新規なN−置換ジカ
ルボキシミド類が除i罰として(めて優れた舛卒乞示す
ことを見出し4太発舅に到達した。
丁なT’) ′c)、本発明の要旨は
一般式
7式中。
ムは2X原子または−Cミーを示す。
工は水素原子、ハロゲン1Lメチル基またはメトモジ基
を示し、Y?よび2は互いに同一=には相!なる水X原
子またはハロゲン原子を示て。
を示し、Y?よび2は互いに同一=には相!なる水X原
子またはハロゲン原子を示て。
Uおよび■は互いに同一または相異なる水累三東
追−ト でi+、cOBで表わされる基:ハロゲン!
子−只; アルコキ7基−シアノ基およびハロゲン原子で置換され
ていてもよいアリール基から選ばれる宣侠基で買換され
ていても;いアル謳ル基:アルコキシカルボニル基また
はシアノ基で置換されていてもよいアルケニル基:アル
キニル基:1+ で表わされる基またはアルキルスル
ホニg ル基を示す。
子−只; アルコキ7基−シアノ基およびハロゲン原子で置換され
ていてもよいアリール基から選ばれる宣侠基で買換され
ていても;いアル謳ル基:アルコキシカルボニル基また
はシアノ基で置換されていてもよいアルケニル基:アル
キニル基:1+ で表わされる基またはアルキルスル
ホニg ル基を示す。
上Ef換基中。
R1は水素原子、アルキル基またはフェニル基を示し−
Rnは水素原子またはメチル基を示し。
Rnは水素原子またはメチル基を示し。
二は1〜6の整Il!y示す。
基を示す。
基=1こにハロゲン原子で置換されていてもよいアルキ
ル基:アルケニル基:ハロゲン原子で置換されていても
よいアリール基または水素原子を示す。
ル基:アルケニル基:ハロゲン原子で置換されていても
よいアリール基または水素原子を示す。
上記置換基中。
上りは水素原子、アルキル基、アルケニル基。
アルキニル基、シクロアルキル基−アリール基。
R1!
アラルキル基ヱたは 1 で表わされる基を一〇三
−00D 示す。
−00D 示す。
R4はアルキル基を示す。
RsおよびR6は互いに同一または相異なる水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基−アラルキル基
、シクロアルキル基。
アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基−アラルキル基
、シクロアルキル基。
12
アルキルスルホニル基また%i 1 で表わさ−C
l−COD れる基を示すか、またはR1およびR6は式中の窒素原
子とともに酸素原子を含ん、でいてもよい複X墳基を示
す。
l−COD れる基を示すか、またはR1およびR6は式中の窒素原
子とともに酸素原子を含ん、でいてもよい複X墳基を示
す。
R7はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基
:アルケニル基またはハロゲン原子で置換されて〜ても
よいアリール基を示す。
:アルケニル基またはハロゲン原子で置換されて〜ても
よいアリール基を示す。
Rh1アルキル基、シクロチルキル基、アラルキル基ま
たは了り−ル基Y示す。
たは了り−ル基Y示す。
?はアルキル基またはアリール基を示す。
R1およびRuは同一または相異なるアルキル基。
アルコキシ基またはハロゲンで置換されていてもよい了
り−ル運を示す。
り−ル運を示す。
上記*換基中−
R町1水案原子またはアルキル基を示す。
Dは水酸基、アルコキシ基またはI儒または2個のアル
キル基またはアルケニル基で置換され曵いてもよいアミ
ノ基を示す。
キル基またはアルケニル基で置換され曵いてもよいアミ
ノ基を示す。
で表わされるN−置換ジカルボキシミド類およびこれt
有効成分とする除草剤にある。
有効成分とする除草剤にある。
次に本発明を具体的に説明する。
本発明において除草剤として用いられるN −置換ジカ
ルボキクミド類は、前記一般式[I]で表わされる。好
ましくは、前記一般式[n]で表わされる。式中、ムは
窒素原子または−(IJ!−Y示し、Xは水素原子、弗
素原子、塩業原子、奥!原子等のハロゲン原子、メチル
基またはメトキシ基を示し、Yおよび2は水素原子また
は弗素原子、塩累原子、臭X原子等のハロゲン原子を示
し一〇およびVは互いに同一または相異な1 る水素原子: +c+COBで表わされる基〔式中。
ルボキクミド類は、前記一般式[I]で表わされる。好
ましくは、前記一般式[n]で表わされる。式中、ムは
窒素原子または−(IJ!−Y示し、Xは水素原子、弗
素原子、塩業原子、奥!原子等のハロゲン原子、メチル
基またはメトキシ基を示し、Yおよび2は水素原子また
は弗素原子、塩累原子、臭X原子等のハロゲン原子を示
し一〇およびVは互いに同一または相異な1 る水素原子: +c+COBで表わされる基〔式中。
x
Biは水素原子、C1%C,のアルキル碁打マシクはC
1%G、のアルキル基更に好ましくはC1〜らのアルキ
ル基、またはフェニル基を示し、 Rtは水素原子また
はメチル基な示し、nは/、Aの整数好ましくはノー仏
の整数を示し、Bは一〇Rsi KC?−R”4:水X
i子−CI% C3I!+、 )7 h # ル4好ニ
ジ<はC1〜C,のアルキル基更に好ましくシC1〜C
Hf’)アルキル基+ C8〜C,のアルケニル基好ま
しくは08〜C4のアルケニル基、 Cx−C1のアル
キニル基好ましくはC,〜C4アルキニル基。
1%G、のアルキル基更に好ましくはC1〜らのアルキ
ル基、またはフェニル基を示し、 Rtは水素原子また
はメチル基な示し、nは/、Aの整数好ましくはノー仏
の整数を示し、Bは一〇Rsi KC?−R”4:水X
i子−CI% C3I!+、 )7 h # ル4好ニ
ジ<はC1〜C,のアルキル基更に好ましくシC1〜C
Hf’)アルキル基+ C8〜C,のアルケニル基好ま
しくは08〜C4のアルケニル基、 Cx−C1のアル
キニル基好ましくはC,〜C4アルキニル基。
C3〜(B、、のシフ;アルキル碁打ましくは”s−’
qのシフ;アルキル基、フェニル基等のアリール基。
qのシフ;アルキル基、フェニル基等のアリール基。
IJ
ベンジル基等の7ラルキル基、または l−〇三COD
で表わされる基(式中−Ruは水素原子またはC1〜C
番のアルキル基好1しくはC1〜C4のアルキル基を示
し、Dは水酸基−C,〜04のアルコキシ基。
番のアルキル基好1しくはC1〜C4のアルキル基を示
し、Dは水酸基−C,〜04のアルコキシ基。
または1個または2個のC1〜C$のアルキル基好まし
くはC1〜C%のアルキル基またはOsへC4のアルケ
ニル基で置換されていてもよいアミン基を示す)を示す
) 、−aR’(式中−R4はC1〜CM ノフルキル
碁打ましくはC1〜C,のアルキル基を示す)/R” または−N (式中。HzおよびR4は同一またはゝ
R声 相異なる水Xm子−C1−一のアルキル基好1しくはC
1〜Ctoのアルキル基更に好ましくはC1−Cm!の
アルキル基、01〜C11のアルコキシ基好ましくはC
,、C,のアルコキシ藁更に好ましくはC1〜C4のア
ルコキ’/M−Cx〜C,のアルコキシアルキル基好ま
しくはC2〜Q、のアルコキシアルキル基艷に好ましく
はC;〜C4のアルコキシアルキル基。
くはC1〜C%のアルキル基またはOsへC4のアルケ
ニル基で置換されていてもよいアミン基を示す)を示す
) 、−aR’(式中−R4はC1〜CM ノフルキル
碁打ましくはC1〜C,のアルキル基を示す)/R” または−N (式中。HzおよびR4は同一またはゝ
R声 相異なる水Xm子−C1−一のアルキル基好1しくはC
1〜Ctoのアルキル基更に好ましくはC1−Cm!の
アルキル基、01〜C11のアルコキシ基好ましくはC
,、C,のアルコキシ藁更に好ましくはC1〜C4のア
ルコキ’/M−Cx〜C,のアルコキシアルキル基好ま
しくはC2〜Q、のアルコキシアルキル基艷に好ましく
はC;〜C4のアルコキシアルキル基。
08〜08のアルケニル基好ましくはC婁〜CIのアル
ケニル基、C2〜C8のアルキニル基好ましくはC1〜
C8のアルキニル基、フェニル基等のアリール基、ベン
ジル基等のアラルキル基、03〜0□の7クロアルキル
基好ましくはCs%C,のシクロアルキルL−Cz〜C
8のアルキルスルホニル基t’TtL記と同義を示す)
′It示すか、またはチおよび硬は式中の窒素原子とと
も[lFX原子を含んでいてもよいj〜7員の複素環基
好ましく、 at r〜7、 負の飽和複素環基を示す
1で表わされる基を示す〕:咋紫原子または塩素原子等
の−・ロゲン原子好ましくは塩素に子、01〜C4のア
ルコキシ基。
ケニル基、C2〜C8のアルキニル基好ましくはC1〜
C8のアルキニル基、フェニル基等のアリール基、ベン
ジル基等のアラルキル基、03〜0□の7クロアルキル
基好ましくはCs%C,のシクロアルキルL−Cz〜C
8のアルキルスルホニル基t’TtL記と同義を示す)
′It示すか、またはチおよび硬は式中の窒素原子とと
も[lFX原子を含んでいてもよいj〜7員の複素環基
好ましく、 at r〜7、 負の飽和複素環基を示す
1で表わされる基を示す〕:咋紫原子または塩素原子等
の−・ロゲン原子好ましくは塩素に子、01〜C4のア
ルコキシ基。
77ノ基、および塩素原子等のハロゲン原子で置換され
ていてもよいアリール基好ましくはフェニル基等の置換
基で置換されてもよい01〜C@のアルキル基好ましく
はO,−C4のアルキル基;1個またはコ個の)〜C,
Cアリコキシカルボニル基またはシアノ基で置換されて
いてもよい一〜Cφのアルケニル基好ましくはC8〜C
4のアルケニル基; Ct〜C番のフルキニル碁打まし
くは0.〜C4のアルキニル基”−Lxで表わされる基
〔式中、Rは−R1(式中、 Byは1〜3個のハロゲ
ン原子好ましくは弗素原子または塩素原子で置換されて
いてもよいC,−C,、のアルキル基好ましく%@ 0
1% Csのアルキル基、C:〜Csのアルケニル基好
fしくはCS・〜C4のアルケニル基、または塩素原子
等のハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基好
ましくはフェニル基を示す)−”@(式’P−”k@
(’1〜Cu ’)7に’fk基好碁打シ< ’a@
C1〜Csのアルキル基、Cj−C,のシクロアルキル
基好ましくはC1,〜C丁の7クロアルキλ基。
ていてもよいアリール基好ましくはフェニル基等の置換
基で置換されてもよい01〜C@のアルキル基好ましく
はO,−C4のアルキル基;1個またはコ個の)〜C,
Cアリコキシカルボニル基またはシアノ基で置換されて
いてもよい一〜Cφのアルケニル基好ましくはC8〜C
4のアルケニル基; Ct〜C番のフルキニル碁打まし
くは0.〜C4のアルキニル基”−Lxで表わされる基
〔式中、Rは−R1(式中、 Byは1〜3個のハロゲ
ン原子好ましくは弗素原子または塩素原子で置換されて
いてもよいC,−C,、のアルキル基好ましく%@ 0
1% Csのアルキル基、C:〜Csのアルケニル基好
fしくはCS・〜C4のアルケニル基、または塩素原子
等のハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基好
ましくはフェニル基を示す)−”@(式’P−”k@
(’1〜Cu ’)7に’fk基好碁打シ< ’a@
C1〜Csのアルキル基、Cj−C,のシクロアルキル
基好ましくはC1,〜C丁の7クロアルキλ基。
C,〜C書のアラルキル基好ましくはベンジル基。
またはフェニル基等の7リール基な示す)。
−8R9(式中、 ReはC1,〜C6のアルキル基好
ましくはC1〜C4のアルキル基、またはフェニル基等
の04のアルキル基好ましくはC1〜C重のアルキル基
。
ましくはC1〜C4のアルキル基、またはフェニル基等
の04のアルキル基好ましくはC1〜C重のアルキル基
。
01〜C4のアルコキシ基好ましくはC,4C,のアル
コキシ基、または塩素原子等のハロゲン原子で置換され
ていてもよいアリール基好11.<はフェニル基を示す
)で表わされろ基を示す〕またはC□〜04のアルキル
スルホニル基杆マしくはC1〜C8のアルキルスル本ニ
ル基tt 示ス。。
コキシ基、または塩素原子等のハロゲン原子で置換され
ていてもよいアリール基好11.<はフェニル基を示す
)で表わされろ基を示す〕またはC□〜04のアルキル
スルホニル基杆マしくはC1〜C8のアルキルスル本ニ
ル基tt 示ス。。
本発明の式(I)で示されろ化合物は、場合により党与
異性体またはジアステレオマーなどの異性体が存在し得
る。多くの場合−骸異性体は全ての異性体を含む1合物
として得られる。これらの異性体は既知の9にな方法(
例えば、不斉合成、不斉炭素源な有するtk1発lI料
を利用する合匡、光学分@−再鈷晶、またはカラムクロ
マトグラフィー、薄層り;マドグラフィー−高速液体ク
ロマトグラフィーなどの各種クロ1トゲラフイー)によ
ってそれぞれの異性体V得ることも可能で)己、 式(1)で示される化合物は各糧原料を用いて下記反応
式に従って製造することができる。
異性体またはジアステレオマーなどの異性体が存在し得
る。多くの場合−骸異性体は全ての異性体を含む1合物
として得られる。これらの異性体は既知の9にな方法(
例えば、不斉合成、不斉炭素源な有するtk1発lI料
を利用する合匡、光学分@−再鈷晶、またはカラムクロ
マトグラフィー、薄層り;マドグラフィー−高速液体ク
ロマトグラフィーなどの各種クロ1トゲラフイー)によ
ってそれぞれの異性体V得ることも可能で)己、 式(1)で示される化合物は各糧原料を用いて下記反応
式に従って製造することができる。
h)
(上記反応式中、ム、工、Yおよび2は前記と−11Y
示す) 上記1元反応は酢酸、エタノール、酢酸エチル、ベンゼ
ン、トルエン等の溶媒中、パラジウム、ラネーニッケル
等の触媒の存在下に−常圧fた石・1加圧下0 % /
j 0℃にて行われる。
示す) 上記1元反応は酢酸、エタノール、酢酸エチル、ベンゼ
ン、トルエン等の溶媒中、パラジウム、ラネーニッケル
等の触媒の存在下に−常圧fた石・1加圧下0 % /
j 0℃にて行われる。
(7)
(上ffi反す式中、A、X−Y−z、rs*よび■は
前記と同義!示し、v′およびU′は水累原1 子二÷?+nC0Bで表わされる基:/″−ロゲン原子
−z アルコキシ基−シアノ基および)1*ゲン原子で置換さ
れていてもよいアリール基から選ばれる置換基で置換さ
れてもよいアルキル−!&:アルケニル基:アルキニル
基またはアルキルスルホニル基を示し、QGi八口へゲ
ン原子または場合によりメジラード−トシシート、メト
キシ基fたはニドキシ基などのアルコキシ基ン示すか、
C%はUとともに筐無水場または混合叛無水物を示す) 零反厄は無溶媒またはテトラヒト;フラン。
前記と同義!示し、v′およびU′は水累原1 子二÷?+nC0Bで表わされる基:/″−ロゲン原子
−z アルコキシ基−シアノ基および)1*ゲン原子で置換さ
れていてもよいアリール基から選ばれる置換基で置換さ
れてもよいアルキル−!&:アルケニル基:アルキニル
基またはアルキルスルホニル基を示し、QGi八口へゲ
ン原子または場合によりメジラード−トシシート、メト
キシ基fたはニドキシ基などのアルコキシ基ン示すか、
C%はUとともに筐無水場または混合叛無水物を示す) 零反厄は無溶媒またはテトラヒト;フラン。
ジオキサン、]lN、lN−ジメチルホルふアミド。
M、H−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ7ド
、スルホラン、ベンゼン、トルエン。
、スルホラン、ベンゼン、トルエン。
キシレン、クメンークロルベンゼンージクールインゼン
、塩化メチレン、りe+クロルム。
、塩化メチレン、りe+クロルム。
四塩化炭素、トリクレン、酢諏エチルーア七トン、エチ
ルメチルケトン、エーテル、ジイソプロピルエーテル等
の溶媒中、酢酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、P飯ナ
トリウム。
ルメチルケトン、エーテル、ジイソプロピルエーテル等
の溶媒中、酢酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、P飯ナ
トリウム。
炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化力1・)ラム
、水酸化バリウム、水酸化カルシウム。
、水酸化バリウム、水酸化カルシウム。
雀属すナウム、金属ナトリウム、4iL属カリウム、水
素化プトリウム、水素化カリウム、すFリウムアミド、
塩化IJチウム、fi化ナナトリウム塩化カリウム、塩
化マグネシウム、塩化亜鉛、塩化鉄(■)、塩化鉄(■
)、塩化銅(I)。
素化プトリウム、水素化カリウム、すFリウムアミド、
塩化IJチウム、fi化ナナトリウム塩化カリウム、塩
化マグネシウム、塩化亜鉛、塩化鉄(■)、塩化鉄(■
)、塩化銅(I)。
−化銅(■)、沃化リチウム、沃化ナトリウム。
沃化カリウム−弗化カリウム、弗化セシウム。
撒化亜銅、&化カルシウム、酸化バリウム。
酸化鉄(il)、51化鉄(■)、炭酸鉛、ピリジン。
砿−ジメチルアミノビ1ノジン、トリエチルアミン、N
、M・−ジエチルアニリン、ベンジルFリメチルアンモ
ニウムクロリド(プロミド)。
、M・−ジエチルアニリン、ベンジルFリメチルアンモ
ニウムクロリド(プロミド)。
ペンシルトIJエテルアンモニウムクロリド(プロミド
)−テトラn−ブチルアンモニウムプロミド(:l−シ
ト〕、クラウンエーテル類:ポリオキシエチレン類等の
存在下または不存在下−20〜λjO℃好ましくは0〜
200℃にて行われろ。
)−テトラn−ブチルアンモニウムプロミド(:l−シ
ト〕、クラウンエーテル類:ポリオキシエチレン類等の
存在下または不存在下−20〜λjO℃好ましくは0〜
200℃にて行われろ。
(上記反応式中、ム、UおよびVは前記と同義を示しり
、X、Yおよび2の少(とも、1つはハロゲン原子を、
他は前記と同at示し、X′。
、X、Yおよび2の少(とも、1つはハロゲン原子を、
他は前記と同at示し、X′。
y/および2′の少くとも1つは水素原子を、他は対U
する工、Yおよび2と同義を示す)本反応は酢醒、り:
ロホル五−匹塩化炭翼。
する工、Yおよび2と同義を示す)本反応は酢醒、り:
ロホル五−匹塩化炭翼。
ベンゼン、クールベンゼン等の溶媒中、塩素。
臭1 [化スルフリル、M−り;ルスクシンイiド1M
−ブームスクシンイミド等のノーキゲン化剤t、−7σ
〜ljO℃好ましくは一20〜!20℃にて作用せしめ
て行われる。。
−ブームスクシンイミド等のノーキゲン化剤t、−7σ
〜ljO℃好ましくは一20〜!20℃にて作用せしめ
て行われる。。
■
(上記反応式中1.ム、X、Y、Z、RL、膵およびn
41前記E同Ilt示し、tlおよびVは水素庶子、ア
ルキル基、アルケ;ル基またはアルキニル基を示し、B
は−oxs−−8R4またはS− −<、、、’tボし一’R3,R4,R’および11前
記と(ロ)族1元す) 上記加水分解反応は、(■)水、水−メタノール、水−
エタノール、水−ジオキサン等の溶媒中、塩酸、硫lI
P等の酸の存在下0〜120℃、または蟻酸、酢飯等の
溶媒中、メタンスルホン徽、p−トルエンスルホン酸等
の存在下go−izo℃で行われる: (It)LM=
ジメチル本ルムアミド1M−メチル−2−ピロリドン、
コ@、乙−コリジン、;、1−ルチジン−ピリジン等の
溶媒中、水泳化リチウム。
41前記E同Ilt示し、tlおよびVは水素庶子、ア
ルキル基、アルケ;ル基またはアルキニル基を示し、B
は−oxs−−8R4またはS− −<、、、’tボし一’R3,R4,R’および11前
記と(ロ)族1元す) 上記加水分解反応は、(■)水、水−メタノール、水−
エタノール、水−ジオキサン等の溶媒中、塩酸、硫lI
P等の酸の存在下0〜120℃、または蟻酸、酢飯等の
溶媒中、メタンスルホン徽、p−トルエンスルホン酸等
の存在下go−izo℃で行われる: (It)LM=
ジメチル本ルムアミド1M−メチル−2−ピロリドン、
コ@、乙−コリジン、;、1−ルチジン−ピリジン等の
溶媒中、水泳化リチウム。
臭化リチウム、沃化1」チウム−沃化すFリウ五等の存
在下ioo〜コOO℃で行われる:(■)水、水−メタ
ノール、水−エタノール−水−ジオキチン、水−アセト
ンなどの溶板中−水酸化ナトリウム、水艶化カリウム、
水泳化リチウム等の存在下−コC−1racic−て反
応後溶媒l響云し、残留物を酢飯、希側り希塩酸−ジオ
キサンなどの溶媒9sO〜200℃(て反応することに
より行われる。
在下ioo〜コOO℃で行われる:(■)水、水−メタ
ノール、水−エタノール−水−ジオキチン、水−アセト
ンなどの溶板中−水酸化ナトリウム、水艶化カリウム、
水泳化リチウム等の存在下−コC−1racic−て反
応後溶媒l響云し、残留物を酢飯、希側り希塩酸−ジオ
キサンなどの溶媒9sO〜200℃(て反応することに
より行われる。
(上記反応式中、ム、 X、 ’に、 Z、 R1,R
”オよびnは前記と同義を示し、UおよびVは水素原子
、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル厚を示し
、Bは一0R1,−8R4またはs n、、v 示し−w−”−”hlびRIハ前前記−同義
示す) 上記反応は、無溶媒またはベンゼン、トルエン、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、エーテル、アセトニトリル、ピリジン
%N、N −ジメチルホルムアミド等の溶媒中、壇家、
硫m、 燐&−メタンスルホン酸、p−トにエンスルホ
/酸、塩化チオニル、オキシ塩化燐。
”オよびnは前記と同義を示し、UおよびVは水素原子
、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル厚を示し
、Bは一0R1,−8R4またはs n、、v 示し−w−”−”hlびRIハ前前記−同義
示す) 上記反応は、無溶媒またはベンゼン、トルエン、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、エーテル、アセトニトリル、ピリジン
%N、N −ジメチルホルムアミド等の溶媒中、壇家、
硫m、 燐&−メタンスルホン酸、p−トにエンスルホ
/酸、塩化チオニル、オキシ塩化燐。
クロル炭酸メチル、クロル炭酸エテル、N、M’−ジシ
クロへキシルカルボジイミド等の存在下、炭酸水翼ナト
リウム、炭酸水素カリウム。
クロへキシルカルボジイミド等の存在下、炭酸水翼ナト
リウム、炭酸水素カリウム。
炭酸ナト1Jウム1脚酸カリウムー水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、ピリジン、トリエチルアミン、N、N
−ジエチルアニリン等の塩基の存在下または不存在下−
コ0〜iso℃にて行われる。
水酸化カリウム、ピリジン、トリエチルアミン、N、N
−ジエチルアニリン等の塩基の存在下または不存在下−
コ0〜iso℃にて行われる。
ルボン酸類は、場合により醸塙化物、酸無水物、混合酸
無水物等の各種中間体を形成し。
無水物等の各種中間体を形成し。
各種アルコール類、メルカプタン類、アミン類等と反応
することにより目的化合物を生成する。これらの中間体
f;tjIL離して用いることも場合により可能である
。
することにより目的化合物を生成する。これらの中間体
f;tjIL離して用いることも場合により可能である
。
(6)
工
(上F、反E式中、 A−x、 x−z、 R1−R2
゜nおよび只8は前記と同義を示し、[iお上びVは水
素原子またはアルキル基を示し、Qは塩素、臭素、沃素
等のハロゲン原子またはメジラード−トシシート等を示
す〕 上記反応は、アセトンーエチルメテルヶトかくして得ら
れる本発明の化合物はそのままでも除草剤として使用で
きるが1通常、不活性な液体担体または固体と混合し、
これに適当な界面活性剤などを加え、乳剤、粉剤1粒剤
1錠剤、水利剤等の形態として使用する。
゜nおよび只8は前記と同義を示し、[iお上びVは水
素原子またはアルキル基を示し、Qは塩素、臭素、沃素
等のハロゲン原子またはメジラード−トシシート等を示
す〕 上記反応は、アセトンーエチルメテルヶトかくして得ら
れる本発明の化合物はそのままでも除草剤として使用で
きるが1通常、不活性な液体担体または固体と混合し、
これに適当な界面活性剤などを加え、乳剤、粉剤1粒剤
1錠剤、水利剤等の形態として使用する。
液体担体としては、トルエン、キシレン、メチルナフタ
レン、シクロヘキサン、ブタノール、グリコール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトン、
メデルイソプチルヶトン、動植物性油、脂肪酸、脂肪讃
エステル。
レン、シクロヘキサン、ブタノール、グリコール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトン、
メデルイソプチルヶトン、動植物性油、脂肪酸、脂肪讃
エステル。
水などが、また固体担体としては一粘土、カオリンクレ
ー、メルク、ベントナイト、硅礫土。
ー、メルク、ベントナイト、硅礫土。
シリカ、炭酸カルシウムおよびダイズ粉、コムギ粉等の
植物性粉末などがあげられる。さらに必要があれば、他
の活性成分1例えば農業用膜1剤、殺虫剤、殺線虫剤ま
たは他の除草剤、植物生長調1組土裏改良剤および肥・
科などと混ぜて使用することもできる。また、1実な除
草効果ン得るため、展渚剤、乳化剤、湿展剤、固着剤な
どの補助??4を適百(混合してもよい。
植物性粉末などがあげられる。さらに必要があれば、他
の活性成分1例えば農業用膜1剤、殺虫剤、殺線虫剤ま
たは他の除草剤、植物生長調1組土裏改良剤および肥・
科などと混ぜて使用することもできる。また、1実な除
草効果ン得るため、展渚剤、乳化剤、湿展剤、固着剤な
どの補助??4を適百(混合してもよい。
本発明の冷′4剤のN用量は、半然選ばれる化合上のm
!一対象雑電、処理時期、処理方法または土遣のむ質な
どの状況によって異なるが一通窮有助収分としてIアー
ル当つコ〜togrC)範囲かj半である。
!一対象雑電、処理時期、処理方法または土遣のむ質な
どの状況によって異なるが一通窮有助収分としてIアー
ル当つコ〜togrC)範囲かj半である。
杢発明ζノ除i剤は移橿水日での嫉電発芽畦湛不土′I
s処理または生1期処理のいずれにも使用可粍であり−
1年失蓋草および多年生殖iに対し^い殺i活性を示し
、加えて移植水稲に対する影響で・極のて少ないといり
本日用除草剤として慣めで好ましい5貿を有する袢像が
ある。
s処理または生1期処理のいずれにも使用可粍であり−
1年失蓋草および多年生殖iに対し^い殺i活性を示し
、加えて移植水稲に対する影響で・極のて少ないといり
本日用除草剤として慣めで好ましい5貿を有する袢像が
ある。
ヱた畑作での雑1発芽前土1処理および茎葉薫±1処理
罠おいても一1年午雑草および多年ミ養jに対し優れた
殺草活性と十分な残、幼性とt示し、高濃!で処理した
場合におζ・でも作物に対する影響が極めて@徴である
という優れた袴tLt有している。特に、今まで既存の
除草剤でに防除零龜とされてきた。野江アサガオ、チョ
ウセンアプガオ、イチビ等にも他の!!草と同a!に慮
切を示すことか丑倣である。
罠おいても一1年午雑草および多年ミ養jに対し優れた
殺草活性と十分な残、幼性とt示し、高濃!で処理した
場合におζ・でも作物に対する影響が極めて@徴である
という優れた袴tLt有している。特に、今まで既存の
除草剤でに防除零龜とされてきた。野江アサガオ、チョ
ウセンアプガオ、イチビ等にも他の!!草と同a!に慮
切を示すことか丑倣である。
本発明化今加は、ガえば次の雑草を防除するのに用いら
れる、 双子責檀物である雑草、@えば野性アサガオ。
れる、 双子責檀物である雑草、@えば野性アサガオ。
シ;ザ、イヌタデ、チョウセンアサガオ、イテと、ヤエ
ムグラ、シロカラシナ、野性カラシナ。
ムグラ、シロカラシナ、野性カラシナ。
ハコベーハキダメギクーギシギシ、イヌビュ。
ブタクチ。オナモミ、カミルレ、キカシグサ。
アゼナ、タカサブロウ、タヮコギ、アブツメ。
ミゾハコベ、ミゾンバ。
単子葉植物である雑草−例えばタイヌビエ。
メヒシバ、オヒシバー二ノ;;グサ、スズメノカタビラ
、スズメノテッポウ、ギョウギシバ。
、スズメノテッポウ、ギョウギシバ。
シバムギ、カヤッリグ?、りiカヤツリ、クログワイ、
マツバイ、ホタルイ、iズガヤッリ。
マツバイ、ホタルイ、iズガヤッリ。
コウキャガラ、:ナギ、ウリカワ、ヘラオモダカ、オモ
ダカ。
ダカ。
不発明化合物は1例えば次の作物の栽培において選択的
除草剤として使用できる。
除草剤として使用できる。
双子葉種ミである栽培作物:ダイズーワタ。
テンブイ、ヒマワリーエンドウ、ジャガイモ−ユウリ。
導子j檀物である栽培作物:イネ、コムギ。
オムギ、カラスムギ、ライムギ、トウモロコ、サトウキ
ビ。
ビ。
本発明化合物の適用範囲は以上の種類の植物・みに限定
されるものではなく、他の植物に対ても同様な施用方法
により使用することがでる。
されるものではなく、他の植物に対ても同様な施用方法
により使用することがでる。
次に本発明を実施例をあげて、さらに具体的説明するが
、不発明はその要旨を超えない限、以下の実施例に限定
するものではない。
、不発明はその要旨を超えない限、以下の実施例に限定
するものではない。
残飼/ /、λ−テトラメチレンーM−(j−アミノ
−弘−クロロフェニル)ヒダ ントインの製造 /、2−テトラメチレン−N−(3−ニトロ−クロロフ
ェニル)ヒダントイン・(ap13313≠℃)3i、
ogおよび酢酸エチル300ノ)混合物’t5%パラジ
ウム/炭素の存在下j = 40℃で接触還元を行った
。y−メチシロリドンl5Oxlf加えて析出結晶を溶
解後。
−弘−クロロフェニル)ヒダ ントインの製造 /、2−テトラメチレン−N−(3−ニトロ−クロロフ
ェニル)ヒダントイン・(ap13313≠℃)3i、
ogおよび酢酸エチル300ノ)混合物’t5%パラジ
ウム/炭素の存在下j = 40℃で接触還元を行った
。y−メチシロリドンl5Oxlf加えて析出結晶を溶
解後。
触媒を戸別し、酢酸エチルを減圧下留去した。
残ったN−メチルピロリドン溶液を水に加え析出結晶を
P取すると表−3記載の化合物(ム2)−コj、2f/
Y:得た。化合物(AIO)も同様にして合成した。
P取すると表−3記載の化合物(ム2)−コj、2f/
Y:得た。化合物(AIO)も同様にして合成した。
冥施ガコ 1.2−テトラメチレン−1i−[4−クロ
ロ−3−(l−ジメチルカルバ モイルエチル)アミノフェニル]ヒ ダントインの製・造 1.2−テトラメチレy −N −(j−アミノ−ター
クロロフェニル)ヒダントイン2t−O9−一一ブロモ
ーN−ジメチルプロピオン散アミド3LOgと炭酸水素
ナトリウム10.09の混合物f140℃で3式間戻熱
攪押後、室温に冷ヨし酢酸二チルコooxttt2[I
えて抽出した。水洗後、8水壷版ナトリウムで脱水し一
溶護を減圧下省云した。残留物tシリカゲルカラム(展
開。
ロ−3−(l−ジメチルカルバ モイルエチル)アミノフェニル]ヒ ダントインの製・造 1.2−テトラメチレy −N −(j−アミノ−ター
クロロフェニル)ヒダントイン2t−O9−一一ブロモ
ーN−ジメチルプロピオン散アミド3LOgと炭酸水素
ナトリウム10.09の混合物f140℃で3式間戻熱
攪押後、室温に冷ヨし酢酸二チルコooxttt2[I
えて抽出した。水洗後、8水壷版ナトリウムで脱水し一
溶護を減圧下省云した。残留物tシリカゲルカラム(展
開。
溶媒系酢飯エチルーニーヘキサン==J:/)にて精製
し表−3記砿の化合物(ム2)コs、igt得た。
し表−3記砿の化合物(ム2)コs、igt得た。
一%九例2と同様にして表−3記載の化合物−ぢl、J
≦3〜7≦、r)’i/得た。なお一本化合物すべて工
Rスペクトルおよび/またはip−M P、スペクトル
によって7iM認した。
≦3〜7≦、r)’i/得た。なお一本化合物すべて工
Rスペクトルおよび/またはip−M P、スペクトル
によって7iM認した。
試Mfl!/
畑地土遺処理試験
2.300分のノアールの樹脂製バットに畑地黒ぼく土
r4を元項し、施肥後コムギ、トウモロコシ〜の各種子
を播椎して2〜31の覆土を行った。
r4を元項し、施肥後コムギ、トウモロコシ〜の各種子
を播椎して2〜31の覆土を行った。
この土r4表層内にメヒシバ、イヌタデ、シロザのMI
棟子1に播#7L混合した後、化合物ムl乃至IQ’l
ff有効E分とする水利剤および比較剤としてj−(j
’、≠′−シクコルフニニル) ’*’−ジメチルウ
レア(以下比較剤ムと略記する。)またはコ、蓼−ジク
ロルフェニルー仏′−ニトロフ二二ルエーテル(以下比
較剤Bと略記する。)を有効成分とする水利剤を水で希
釈−製し、有効成分普が7アール半91λ−r、コs5
−5oとなる様に±XJI着面に小型動力加圧噴霧機で
均一に散布しアこ。桑剤散布性20日百に除草効果のg
食を行い、同時に各作物に対する薬害についても511
m1t行った、 七〇ン足兼ゲ表参に示す。
棟子1に播#7L混合した後、化合物ムl乃至IQ’l
ff有効E分とする水利剤および比較剤としてj−(j
’、≠′−シクコルフニニル) ’*’−ジメチルウ
レア(以下比較剤ムと略記する。)またはコ、蓼−ジク
ロルフェニルー仏′−ニトロフ二二ルエーテル(以下比
較剤Bと略記する。)を有効成分とする水利剤を水で希
釈−製し、有効成分普が7アール半91λ−r、コs5
−5oとなる様に±XJI着面に小型動力加圧噴霧機で
均一に散布しアこ。桑剤散布性20日百に除草効果のg
食を行い、同時に各作物に対する薬害についても511
m1t行った、 七〇ン足兼ゲ表参に示す。
冑−除草力の評価は
=7(チ)
を求め、下記の基準による除草効果値数で表わした。
冑、薬害の評価は。
=Y())
・求め一下記の基#!による薬害係数で表わした。
表−蓼
試験f%2
茎葉処理試験
小型ポリエチレン央ボットに畑地黒ぼ(土壌を尤堆し、
施肥後食用ビニ−ダイコン−0種・子を各々ポット別に
播種した。
施肥後食用ビニ−ダイコン−0種・子を各々ポット別に
播種した。
温景内で栽培管理′1に続け、供試植物の生育程星が食
用と二&、i2葉期、ダイコンは第一本葉期に遅した時
、化合物ムl乃至IQtt有効成分とする乳剤および比
較剤3.事−ジクロルプCピオン酸アニIJド(以下比
較剤0と略記する)を有効酸分とする乳@を水で希釈り
製し一有効成分11度がO1jオ0−21 、0. /
’ 2 j ’%となるようにして得られた各v4製M
をIアール当りlQiの液量となる様に小型動力加圧噴
11機で散布処理を行った。
用と二&、i2葉期、ダイコンは第一本葉期に遅した時
、化合物ムl乃至IQtt有効成分とする乳剤および比
較剤3.事−ジクロルプCピオン酸アニIJド(以下比
較剤0と略記する)を有効酸分とする乳@を水で希釈り
製し一有効成分11度がO1jオ0−21 、0. /
’ 2 j ’%となるようにして得られた各v4製M
をIアール当りlQiの液量となる様に小型動力加圧噴
11機で散布処理を行った。
その後、混呈内で観察を綬け、薬剤散布徒/j日目に除
草効果及び薬害の調査を行った、その結果を表jlc示
すや 同、除i力の評価については試験例1と同様に表わした
。
草効果及び薬害の調査を行った、その結果を表jlc示
すや 同、除i力の評価については試験例1と同様に表わした
。
表−!
試験例3
水田雑草発生前温水土壌処理試験
x、 s o O分のlアールのバットに水田沖積層壌
土を充填し、施肥後タイヌビエ、キカシグサホタルイ−
の各種子を播徨した、 一万、2.7葉期の水稲苗(品P1:ササニシそ単文:
/ J、 j cx−苗質:良>Yポット当り2本1
株で挿入深約/、 j fiの浸種え!行った。3.5
スの水深を保ち、#檀徒翌日に化合物ムl乃至10t有
彷成分とする粒剤および8−(2−クロルベンシルト1
.N−ジエチル−チオールカーバメイト(以下比較剤つ
と略記する。〕を頁効成分とする粒剤を有効成分量とし
てlアール当り/ 2.5−2j −j (7gとなる
様に所定量湛水面に路下させた。
土を充填し、施肥後タイヌビエ、キカシグサホタルイ−
の各種子を播徨した、 一万、2.7葉期の水稲苗(品P1:ササニシそ単文:
/ J、 j cx−苗質:良>Yポット当り2本1
株で挿入深約/、 j fiの浸種え!行った。3.5
スの水深を保ち、#檀徒翌日に化合物ムl乃至10t有
彷成分とする粒剤および8−(2−クロルベンシルト1
.N−ジエチル−チオールカーバメイト(以下比較剤つ
と略記する。〕を頁効成分とする粒剤を有効成分量とし
てlアール当り/ 2.5−2j −j (7gとなる
様に所定量湛水面に路下させた。
処理後3日間jcm/日の減水9を与え、七の後温室内
で管理し、薬剤処理後JI日目に除i効1来及び薬害σ
)A’jiEY行った。
で管理し、薬剤処理後JI日目に除i効1来及び薬害σ
)A’jiEY行った。
その舶来ft表6に示す2貨−除草力及び薬害σ)評昧
は試験ガlの基造と同様に表わした。
は試験ガlの基造と同様に表わした。
表−6
出願人 三愛化成工業株式会社
代理人 弁理士 長谷用 、′コほか1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 10 一般式 ムは窒素原子ま1こは−CH−ン示す。 ■は水素原子、ハロゲン原子−メチル基またけメトキシ
基を示し−Y36よび2は互いに同一または相異なる水
素原子ヱたはハロゲン原子を示す。 Lljc’よびVは互いに同一または相異なる水五L Xh子二÷C+Coヨで表わさiる基:ハロゲン↓・。 原子−アルコ多シ基−シアノ基およびハロゲン原子で置
換されていてもよいアリール基から選ばれる置換基で置
換さユていてもよいアルキル基:アル:jPシカルiニ
ル基=たはシアノ基で置換されて一゛てもよいアルケニ
ル基:アルキニル基: ! で表わさ:N石基またを−
一し−2 アル謳ルスル不二ル基t’77f。 上記を換基千。 R1は水翼原子−アル命ル基またはフニニル基を示し一
三8は水yAJ−Pまたはメール基を示しm:は7〜ぶ
のg数を示す。 Bは一0R8,−εR4,ま7:は−に−で表ゎさnろ
基を示す。 る:!&またはハロゲン原子で置換されていてもよいア
ルキル基:アルヶニル基:ハロゲン原子で置換されてい
てもよいアリール基または水素原子を示す。 上記f撲基中。 三Sは水素!子−アルキル基、アルケニル基。 アルキニル基−シク=アルキル基、アリールRLt 基、アラルキル基または I で表わされ1−00
D 石基を示す、 R4はアルキル基を示す。 BsおよびHaは互いに同一または相異なる水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基−ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基
、シクロアルは式中の窒素原子とともに散票原子を含ん
でいてもよ(・複X環基を示す。 R7は・・ロゲン原子で置換されていてもよいアルキル
基:アルケニル基またはハロゲン原子で置換されていて
もよいアリール基を示す。 R8はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基ま
たはアリール基Y: 示ス。 R” k”Lアルキル基またはアリール基を示す。 R1・?よび沙は同一または相異なるアルキル基、アル
コ千シ基またはハロゲンで置換されていてもよいアリー
ル基を示す。 R町1水素原子またはアルキル基な示す。 Dは水酸基:アルコキシ基:または/II乃至1個のア
ルキル基またはアルケニル基で置換されてζ・てもよい
アミノ基を示す。〕で表わされるN−置換ジカルボキシ
ミド類。 (2)一般式 〔大巾、 j X 、 Y 、 Z −R’、R”、
n @よびBは前記と同一を示し、■は水雪厘子、アル
キル基、 w (式中、三丁は一ロゲン原子で−C−
R丁 置換されていても:いアルキル基を示す)で表わされる
基または l (式中、 R8はアーC−OR尋 ルキル基を示す)で表わされる基を示す、〕で表わされ
る%FF請求の範囲冨1項記家のN−置換ジカルボキシ
ミド類。 (3) 一般式 r 式中。 ムは窒素原子=!たは−C…−を示す。 工は不工原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ
基を示し、Yおよび2は互いに同一1丁こは相異なる水
素原子ヱたはハロゲン原子を示す。 Uおよび7は互いに同一または相異なるX1 工鳳子: 4C次OBで表わされる基:ハロゲン1 原子、アルコキシ基、シアノ基およびハロゲン原子でI
ji換さ九ていてもよいアリール基から遍ばnる置換基
でt換されていてもよいアルキル基二アルニ七シ方ルボ
ニル基まCはシアノ基で置換されていてもよいアルクニ
ルコニアルキニル基: ! で表わされる基また−も−
2 はアルキルスルホニル基を示ス。 上記置換基中。 R1は水嵩原子、アルキル基またはフニニル基を示し、
R工は水嵩原子1=はメチル基を示し、nはノー4の整
数!示す。 B !ニー0三・、−ε只・ 、またをi−夏く1“で
褒わされる基を示す− EはP? 、 ORi、北1ヱたは<’pliで褒わさ
ユろ基またはハロゲン原子で置換されていて(よいアル
イル基:アルグニルi : ハc ケンメ子で1喚され
ていてもよ−・ア1)−ル基またi=水素原子を示す。 上記置換壬子。 Y=、1は7?C素原子、アルキル基−アルケニル基。 アルキニル基、シフCアルキル基、アリール五; 基、アラルキル基または 本 で表わされ−C三−
COD る基を示す。 R4はアルそル基を丞す。 Rsおよび?は互いに同一または相異なる水嵩原子2ア
ルキル基、アルコキシ基−アルニキシアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、−1リール基、アラルキル基
、シクロアルで表わされる基を示すか、またはR1およ
びR@は式中の窒素原子とともに&素原子を含んでいて
もよい複素環基を示す。 R7は・・ロゲン原子で置換されていてもよいアル千ル
基:アルケニル基マ1こはハa ケン原子で置換されて
いてもよい了り−ル基を示す。 R1はアAキル基、シクロアルキル基、アラルキル基ま
たは了り−ル基を示す。 R′ハアルキル基またはアリール基を示す。 三1′およびButlは同一または相異なるアルキル基
、アルコキシ基またはハロゲンで置換されて(・てもよ
いアIJ−ル基を示す。 上虻直洪基中− Ftuは水素原子ま1こはアルキル基を示す。 Dii水≦基ニアルコキシ基:盟たは/I!乃至一2鵠
のアルキル基またはアルケニル基で置換さi+ていても
よいアミノ基を示す。〕で表わされるN−置換ジカルボ
キシミド類を有効成分とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320982A JPS58189178A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | N−置換ジカルボキシミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320982A JPS58189178A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | N−置換ジカルボキシミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58189178A true JPS58189178A (ja) | 1983-11-04 |
Family
ID=13511529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7320982A Pending JPS58189178A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | N−置換ジカルボキシミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58189178A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4906281A (en) * | 1988-07-01 | 1990-03-06 | Fmc Corporation | Herbicidal 9-arylimino-8-thia-1,6-diazabicyclo [4.3.0]nonane-7-ones (and thiones) |
| US5041155A (en) * | 1989-04-03 | 1991-08-20 | Fmc Corporation | Herbicidal aryl triazolinones |
| US5136868A (en) * | 1983-11-04 | 1992-08-11 | Fmc Corporation | Herbicidal 1-aryl-4-substituted-1,4-dihydro-5h-tetrazol-5-ones and sulfur analogs thereof |
| US5174809A (en) * | 1985-12-20 | 1992-12-29 | Fmc Corporation | Herbicidal aryl triazolinones |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP7320982A patent/JPS58189178A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5136868A (en) * | 1983-11-04 | 1992-08-11 | Fmc Corporation | Herbicidal 1-aryl-4-substituted-1,4-dihydro-5h-tetrazol-5-ones and sulfur analogs thereof |
| US5174809A (en) * | 1985-12-20 | 1992-12-29 | Fmc Corporation | Herbicidal aryl triazolinones |
| US4906281A (en) * | 1988-07-01 | 1990-03-06 | Fmc Corporation | Herbicidal 9-arylimino-8-thia-1,6-diazabicyclo [4.3.0]nonane-7-ones (and thiones) |
| US5041155A (en) * | 1989-04-03 | 1991-08-20 | Fmc Corporation | Herbicidal aryl triazolinones |
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