JPS58194894A - 23−o−アルキレンイミノカルボニル−23−デマイシノシルデスマイコシン誘導体およびその製法 - Google Patents

23−o−アルキレンイミノカルボニル−23−デマイシノシルデスマイコシン誘導体およびその製法

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JPS58194894A
JPS58194894A JP57078896A JP7889682A JPS58194894A JP S58194894 A JPS58194894 A JP S58194894A JP 57078896 A JP57078896 A JP 57078896A JP 7889682 A JP7889682 A JP 7889682A JP S58194894 A JPS58194894 A JP S58194894A
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acetyl
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thio
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JP57078896A
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English (en)
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Tatsuro Fujiwara
達郎 藤原
Kazuyo Ota
大田 和代
Eiichi Honda
本田 栄一
Takao Hirano
孝夫 平野
Hideo Sakakibara
秀夫 榊原
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Toyo Jozo KK
Original Assignee
Toyo Jozo KK
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Publication date
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な23−0−アルキレンイミノ力ルホ=
 /l/−23−fマイシノンルデスマイコゾン誘導体
およびその製造法に関する。さらに詳しくは、本発明は
、式 (式中、Rは水素原子または水酸基、Xは酸素   ゛
原子捷たは硫黄原子、nは3〜7の整数を示す)で表わ
される化合物捷たはその塩である。本発明は捷た、式 (式中、R2は水素原子または=OR,基、R1は水酸
基の保護基を示す)で表わされる化合物をアセタール化
し、得られたアセタール体に不活性有機溶媒中1 、1
’−(チオ)カルポールジイミダゾールを反応させて2
3位の水酸基を(チオ)イミダゾリド化し、得られたイ
ミダゾリド体に式(式中、nは3〜7の整数を示す)で
表わされるアミンを加熱下反応させ、次いでアセタール
を加水分解した後、保護基を脱離化することを特徴とす
る式〔1〕の化合物またはその塩の製造法も包含される
上記の塩としては、医薬上許容できる塩である。
このような塩としては、塩酸、硫酸、リン酸などの無機
酸との塩、酢酸、プロピオン酸、酒石酸、クエン酸、コ
ハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミン酸など
の有機酸との塩が包含される。
その他の非毒性塩も包含される。
上記の目的化合物〔1〕は、現在人体薬用として臨床で
用いられているマクロライド系抗生物質、例エバエリス
ロマイシン、オレアンドマイシン、ジョサマイシン、ロ
イコマイシンなどより強い抗菌力を有しているばかりで
なく、全マクロライド耐性菌、例えばマクロライド耐性
A群菌(エリスロマイシン、オレアンドマイシン、16
員’lXマクロライド抗生物質耐性患者分離株)に対し
ても強い抗菌力を有する。しかも前記マクロライド系抗
生物質は生体内で化学変化を受け、あるいは代謝されて
より抗菌力の弱い形に変化するのに対j〜、本目的化合
物〔1〕は生体内で安定であって、臨床上優れた感染治
療効果の期待される抗菌剤である。
また動物用治療剤、動物成長促進剤としても有用である
本発明で使用される出発物質〔2〕は、R2が−OR,
基(R]は水酸基の保護基を示す)である場合K h 
、28− fマイジノシルデスマイコシン(Tetra
hedron  Letters、4787 (197
0))の2′位および4′位の水酸基を適当彦保護基で
保護したものである。R2が水素原子である場合には、
23−テマイシノシルー4′−デオキシテスマイコシン
(J、 Antibiotics、 84 (10)、
 1374〜1’176(1981)、特開昭57−2
8100号〕の2′位の水酸基を適当な保護基で保護す
ることにより得られる。
このような保護基としては、アセチル、プロピオニル、
ブチリルなどの低級アルカノイルロロアセチル、ジクロ
ロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ルナトツノ\ロゲン化アセチル基などが挙げられるが、
特にアセチル基が好捷しい。
上記アセチル基の導入は、23−デマイシノシルデスマ
イコシンtたid23−7’マイジノシル−4′−デオ
キシデスマイコンンに不活性有機溶媒中無水酢酸を反応
させることにより行われる。不活性有機溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、アセ
トンなどが好ましい。
反応は室温で充分に進行する。反応経過はシリカゲルな
どの薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロ
マトグラフィー( H P L C )などにより追跡
できるので、23−デマイシノンルデスマイコシン寸た
は23−デマイシノシルー4ーデオキシデスマイコシン
の消失を待って適宜反応を終了すればよい。
反応液から反応生成物〔2〕を採取するには、反応液に
水を加え.、pH8〜95のアルカリ性下、非親水性有
機溶媒、例えばクロロホルム、ジクロ   ′ロエタン
、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルな
とで抽出することにより行われる。
さらに精製を必要とする場合には、シリカゲル、活性ア
ルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いて、適当力溶媒、
例えばベンゼン−アセトン系溶媒、クロロホルム−メタ
ノール系溶媒などで溶出するカラムクロマトグラフィー
により分離、精製することができる。
本発明の目的化合物〔1〕を製造するに当っては、先ず
出発物質〔2〕のアルデヒド基をアセタール化すること
により保護される。
上記のアセタール化は、アル、デヒドをアセクールに変
換する公知の方法によって行い得る。例えば化合物(2
’lと低級アルコールを塩化鉄、塩化アンモニウム、塩
化水素、トリフルオロ酢酸、硫酸などの触媒を用いて縮
合させる方法、オルトギ酸エステルを鉱酸々どの触媒を
用いて縮合させる方法などによって行われる。
次に、23位の水酸基を(チオ)イミダゾリド化するの
であるが、上記で得たアセタール体に1。
1′−(チオ)カルボニルジイミダゾールを不活性有機
溶媒中で反応させればよい。不活性有機溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン々どの
・・ロゲン化炭化水素系の溶媒が挙げられる。反応は通
常室温下で行われる。反応経過はTL(、I−IPLC
などにより追跡できるので、アセクールの消失を待って
適宜反応を終了すればよい。
上記反応により得られた(チオ)イミダゾリド離1〜で
から使用してもよい。(チオ)イミダゾリド体を単離す
る場合には、反応液を水に注ぎ、水層bpHao〜95
に調節した後、抽出操作を行い、有機溶媒層から溶媒を
留去することにより得られる。(チオ)イミダゾリド体
を単離せずに直接そのま\アミン〔3〕との反応に用い
る場合には、アセタールと1.1−(チオ)カルボニル
ジイミダゾールとの反応の場合には、高沸点の有機溶媒
、例えばジクロロエタンなどを用いるのが好ましい。
前記アミン〔3〕としては、アゼチジン、ピロリジン、
ピペリジン、ヘキザメチレンイミン、ヘプタメタレンイ
ミンカどが挙げられる。
前記(チオ)イミダゾリド体とアミン[3]との反応d
1、不活性有機溶媒中、加熱下で行われる。
不活性有機溶媒としてはジクロロエタン、ベンセン、ト
ルエン、ジオキザンカどが挙げられる。加熱は有機溶媒
の沸点捷たけそれ以下の温度で行われるが、通常70〜
90℃程度である。
このようにし5て得られた23−0−アルギレンイミノ
(チオ)カルボニル体は、そのアセタール基を加水分解
することにより式 (式中、R1、R2、Xおよび!]は前記と同じ意味を
有する)で表わされる化合物が得られる。
」−記の加水分解は、アセタールをアルデヒドに酸で加
水分解する公知の方法によって行い得る。
反応の経過は、TL(、I−IPi、C々どによって追
跡できるので、アセクールの消失を待って適宜反応を終
rすればよい。
このようにして得られた反応生成物〔44〕は、前記と
同様に1−で反応液から採取することができる。
次に、反応生成物〔4〕の2′位および4.′位の水酸
基壇たd:2′位の水酸基の保護基、特にアセチル基を
脱離するのであるが、この脱離化は低級アルコール中で
加熱処理することにより行われる。低級アルコ−11・
とじてはメタノール、エタノールナトが挙げられるが、
特にメタノールが好寸しい。−4−記反応はTI・(、
)−I P L C々どに」:り追跡できるので、化合
物r44〕の消失を待って適宜反応を終了すればよい。
                    +1このよ
うに1.て得られた目的化合物〔1〕を反応液から採取
けるには、公知のマクロライド系抗生物質を分離、精製
する手段、例えば濃縮、抽出洗浄、転溶、再結晶などの
手段、シリカゲル、活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着
剤を用いるクロマトグラフィーの手段を用いることによ
り分離、精製することができる。
次に、本発明の目的化合物〔1]の微生物生育最少阻止
濃度(tt9 / ml)を測定した結果は次表の通り
である。同、表中の記号は次の意味を有する。
第1表 M I C(tn/me ) EM;エリスロマイシン 十;マクロライド耐性A群菌(エリスロマイシン、オレ
アントマイ/ン、16員項マクロライド系抗生物質劇性
患者分離株) 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。同、実施例中の11. f値は、特記
しない限り次の担体および展開溶媒を用いる薄層クロマ
トグラフィー(′P1・C)により測定したものである
担体;メルク社製1) C−Ferl 1gpHlen
 Kicselgel 60 F254. Art  
5715展開溶媒; a;クロロホルム−メタノール−濃アンモニア水(15
0:10:1 ) 1〕;ヘキサン−ベンゼン−アセトン−酢e −c チ
/l。
メタノール (90:80:25:60:30 )C;
ベンゼン−アセトン (8: 1 )d;クロロホルム
−メタノール−濃アンモニア水(100:10:1 ) e;クロロホルム−メタノール (20:l)参考例 
1 2.4−ジーO−アセチルー23−デマイシノ/ルテス
マイコンン 28−7’マイ7ノシルデスマイコシン21..21S
i’(35,5rnM)をジクロロエタン105m1に
溶がし、これに無水酢酸16.73me(5倍モル)を
加えて室温で1時間半攪拌した。反応液を希アンモニア
水400 mlに注ぎ、クロロホルム300 mlで2
回抽出した。クロロポルム層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮して2’、 4’−ジ−0アセチル−
23テマイシノシルデスマイコシン24..01. f
(収率993係)を得た。
T I、 C; n f c = 0.82 (23−
デマイシノンルデスマイコシノのR(c = 0.13
 )実施例 1 2.4.−ジー0−アセテルー23−〇−(]−イミダ
ゾールカルボニル) −、23−テマインノンルデスマ
イコンン ジメチルアセタル メタノール100m/にトリフルオロ酢e25meを加
え、これに2′、4′  ジー0−アセチル−23−テ
マインノンルデスマイコシ/BflをiカL、室温で4
1時間半攪拌1〜だ。反応液をクロロポルム−メタノー
ル(20:1)で展開するシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー (T L C)で完全ニジメチルアセタール体
に変換(〜たことを確認した後、アンモニア水でアルカ
リにした氷水(p I49〜1o)250 mlに注ぎ
、クロロホルム250 ml テ2 回抽出シタ。/1
0oホルノ・層を却9水硫酸マグネノウムで乾燥後、減
圧乾固してあわ状の2′、4′−ジ−0アセチル−23
デマイシノシルデスマイコノンジメチルアセタールを得
た。
上記生成物を直ちにジクロロエタン25m1に溶かし、
この溶液を1,1′−カルボニルジイミダゾール118
9m2(等モル量)のジクロロエタン(50ml )溶
液に滴下した。滴下後、50℃で1時間攪拌した。反応
液をクロロポルム−メタノール+20・1)で展開する
シリカゲルT L Cで反応の終了を確認した後、希塩
酸(p H2〜3)、希アンモニア水(p 118〜1
0)で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧留去して粉末状の2’、 4! −)−0−−、r
−+:チルー28−0−(1−(ミタソール力ルボニル
)−23−7’マイジノシルデスマイコノン ジメチル
アセタルヲ得り。
収量4..4.3f ’I”  L  C;   R,(e  =  0. 
5  ONMR,(100Ml−1z 、CDC13)
 δppm;1.83(s、  、  3I−1八  
2.05  (s、  、   6H)  、  2.
34(s  。 、6l−1)  、a2] (s、、
3N月、a29 (s。、3H)、4.、.98 (d
、 、 ]IH)、4.4.9 (2N )、576 
(d。、N−1)、fli32 (d111月、709
 (s、、IH)、724(d。、11月、737(s
、、11月、&10’(s、、 ITJ)実施例 2 23−0−ヘキサメチレンイミノ力ルポニル−28−テ
マイシノシルデスマイコシン実施例1記載のアセタール
体300mgおよびヘキサメチレンイミン605μlを
ジクロロエタン3 mlに加え、70℃で2夜攪拌した
。反応液を氷水15m1に注ぎ、IN塩酸でp H2に
調節した後、クロ残渣をヘキサン−ベンゼン−酢酸エチ
ル−メタノ−p9セトン(90:80:60:80:2
5)で展開するシリカゲル分取T L Cで精製して粉
末状の2′。
4仁ジー0−アセチル−23−O−へキサメチレンイミ
ノカルボニル−23−デマイシノシルデスマイコシン 
ジメチルアセタールを得た2、収量716m?。これを
直ちにトリフルオロ酢酸−水(9: 1)1meに溶か
し、室温で30分間攪拌して加水分解した。反応液を氷
水20m1に注ぎ、アンモニア水でアルカリ性(pH9
〜10)にした後、クロロホルム10m1で3回抽出し
た。クロロホルム層を無水硫酸マグネ7ウノ・で乾燥後
、減圧濃縮し−C2′。
4′−ジー0−アセザル−23−0−へキサメチレンイ
ミノカルボニル−23−デマイシノシルデスマイコシン
を得た。収量574m9゜ TLC; Rf b=0.62 上記生成物をメタノール5 m、lに溶かし、55°C
で一夜攪拌した。反応後、メタノ−5・・・を減圧下留
去し、残渣をクロロホルム10m、f!に溶かし、希ア
ンモニア水(p H9〜10)で洗浄した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧乾固して粉末状の23−0−
ヘキサ、メチレンイミノカルボニル−23、−デマイシ
ノシルデスマイコシンを得た。収量4.a8mI/。
TLC; Rf d =035 NMR,(FX−100,CDCl3 )δppm; 
1.58(br、”−、(CH2)4  )、1.81
 (s、 、 3H,C,2−CHs)、2.50(s
。、6H,N(CH3)2)、a40(m、 、 4I
(、−CH2−N−CH2−)、4.20 (m、 、
 8H。
H−1’、 H−28)、4.97 (m、 、 LH
,H−15)、586(d、 、 11−1. H−1
,3,J=10.7I−12)、1li29 (d。、
II−T、H−40,J−15,5H2)、781 (
d、、 H(、H−11゜J=15.5H2,)、9.
70 (s、、LH,CHO)実施例 3 23−0−−、ブタメチレンイミノカルボニル2B  
y’マイシノノンデスマイコンン実施例1記載のアセタ
ール体Boomgおよびヘプタメチレンイミン6781
z71!をジクロロエタン3 mlに加え、70℃で一
夜攪拌した。反応液を氷水15m1に注ぎ、IN塩酸で
p I−12に調節した後、クロ渣ヲベンセンーアセト
ン(2:1)で展開スるシリカゲル分取T L Cで精
製して粉末状の2/ 、 4/−ジー0−アセチル−2
3−0−へブタメチレンイミノカルボニル−23−デマ
イシノンルデスマイコシン ジメチルアセタールを得た
。収量537m9これを直ちにトリフルオロ酢酸−水(
9:1)1mlに溶かし、室温で30分間攪拌して加水
分解した。反応液を氷水20m1に注ぎ、アンモニア水
でアルカリ性(p H9〜10)にした後、クロロホル
ム10m1で3回抽出[7た。クロロホルム層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮j7て2゜4′−ジ
ーO−アセチル−23−0−へブタメチレンイミノカル
ボニル−28−fマイジノシルデスマイコシンを得た。
収量42.8% T L C; Rfb = 0.64 上記生成物をメタノール5 mlに溶かし、55°Cで
一夜攪拌した。反応後、メタノールを減圧丁留去シ、残
渣をクロロホルム10m1に溶かし、希アンモニア水(
p H9〜10)で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧乾固して粉末状の23−0−−、ブタメチ
レンイミノカルボニル−23−デマイ7ノシルデスマイ
コシンを得た。収量4a8〜T L C; Rfd =
o、a5 MS NMR(PX−100,CDC13)δ  ’1.58
1)l)ml (br、m。、  (CH2)5  )、1.80 (
s、 、 3H,C,2−CI]3  )、  2.5
0(s  。 、   6I−1,−N  (CH3)
  2  )、   a3 6(m。、 4.TI、 
−CH,、−N−CH2−)、4.21 (m、 、 
3H。
H−1’、 T−T−28L、 4,95 (m、’、
 IH,H−15)、5.85(d、 、 H−1,T
−]−13,J=10.3Hz )、&29 (d、 
、 II(、H−10,J=15.4Hz )、731
 (d、、 IH,H−11゜、■= 1 5. 41
−1 z  )  、 9.70  (s 、 、  
1.H,CHO)手続補正書 昭和57年12月29日 1事件の表示 昭和57年特許願第78896号 2発明の名称 23−0−フルキレンイミノカルボニル−23−テマイ
シノシルデスマイコノン誘導体およびその製法 6、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4補正命令の日刊 自発 明細書第13〜15頁の第1表を下記の通り訂正する。
 2− 同第22貞最下行の次に下記の実施例4〜6を加入する
実姉例4 21−O−アセチル−41−デオキシ−23−デマイン
ノ/ルテスマイコ/ン 41−チオキシ−23−デマイ/ノンルテスマイコシン
3.35.9をジクロロメタン20m1に溶かし、これ
に水冷下撹拌しながら無水酢酸1゜36 me (2,
5倍モル)を滴下した後、室温で2.5時間撹拌した。
反応液を希アンモニア水4 Q 111に注ぎ、クロロ
ホルム4. □ mlで2回抽出した。クロロホルム層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して2′−
〇−アセチルー41−デオキンー23−デマイシノンル
デスマイコシンヲ得り。収−i3.56gT LC; 
Rfa −= 0.35 (s、、3H,C,2−CH5) 、2.08 (s、
、3H、0COCH3) 、2.25 (s、、6H、
−N (CH3)2)、3.74(d、、 2H、H−
23)、4.24 ω、、 IH、H−]’ )、10
)、7.34 (d、、 IH、H−1,1)、9.6
9 (s、、IH。
CHO) Mass  (CI ) ; 624 (MH) 、6
06.582.218.200 −4 = 実施例5 21−0−アセチル−4’−チオキシ−23−0−(1
−イミダゾールノノルボニル)〜23−デマイ/ノンル
テスマイコノン ンメチルアーセタール 21−0−アセチル−4I−チオキン−23−テマイン
ノ・/ルテスマイコシンitメタノール100rnlJ
c溶かし、これにトリフルオロ酢酸2.馴lを加え、室
温で4.5時間撹拌した。ソリ力ゲルT L Cにより
出発物質のスポットが消失し、新たにRfd 〜0.4
3に出現することにより反応の終了を確認した。反応液
を希アンモニア水250meに注ぎ、クロロホルム25
0 rnl!で2回抽出した。クロ1コホルム層を無水
硫酸マグネシラノ・で乾燥後、減圧乾固してあわ状の2
1−0−アセチル−41−デオキシ−23−テマイ/ノ
ンルデスマイコ/ン ジメチルアセタールを得た。収量
4.7g 十mlアセタールをジクロロエタ725 me (/C
溶カし、これに1,11〜カルポニルンイミダゾール1
.43g(1,2倍モル)を加え、50℃で2時間撹1
′1ミした。反応液をRfeによるT L Cで反応の
終了を確認した後、希塩酸(pH2〜3)、希アンモニ
ア水(pr−■8〜]0)で順次洗浄した。ンクrl 
Dエタン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
して粉末状の2゛−〇−アセチルー41−テオギシー2
3−0−(]−イイミノールカルボニル)−23−テマ
イノノンルテスマイコシノ ジメチルアセタールを得た
。収量4.4g T L C; Rfe−−0,2 実施例6 4′−デオキシ−23=−ヘキザメタレンイミノノノル
ボニル−23−デマイシノンルテスマイコシン 実施例5で得たアセタール休15 Q 〜9をジクロロ
エタン6mlに溶かし、これにヘギザメチレンイミン7
5 Ill (1,,5当量)を加え、70℃で21」
間撹拌した。反応液を1N塩酸でp112に調節した後
、クロロホルム5mlで3回抽出した。クロロホルム層
を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し
て相成牛物165〜9を得/こ。これをりrIJ:Iポ
ルス・−メタノール(1,5:])で展開する分取/リ
カゲル(メルク社製Art5717.20 X 20o
n)薄層クロマトグラフィーにより精製した。Rf譚=
=O,:3月近のスポットの部分をかき俄り、クロロホ
ルム−メタノール(3:])で溶出した。溶出液を減圧
乾固して2=0−4’−チオキン−23−0−へギザメ
チレンイミノカルボニル−23−テマイ/ノンルデスマ
イコンン ジメチルアセタール74m9を・mた。これ
をメタン−ル5meに溶かし、55℃で15時間F禮拌
した。反応後、メタノールを減圧ド留去し、残渣に氷冷
下トリフルオロ酢酸−水(9:])1m/Fを加え、室
温で30分間撹拌し/こ。反応液を氷水20m1!に注
ぎ、アンモニア水でpf(9,5にした後、りOロホ/
l/ ムi Q meで31i1抽出し/こ。クロロホ
ルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して
白色あわ状の4“−チオギン−23−O−ヘギサメタレ
ンイミノ力ルボニル−23−テマインノノルテスマイコ
ンン5 Q 〜9 f得た。
NfVIR(FX −100、CDCl5)  δTM
S 、 i、+ 4ppm’ = 7− 〜]、、8  (m、 、 8H、−(CH2) 4−
)、]、、、]7 (s、 、 31−I 。
C,、、−CI5) 、2.26 (s、、 6H、−
N (CI(3)2)、3.2−3.6  (m、、 
4H,−CH2−N−CI5−)、4.]、7〜4.2
4←。、  38 、 H−1’、  H−23)、4
..96 (d、、t、、If(。
f(−15)、5.86 (d、 、、Li(、H−1
3)、6.31 (d、、]、11.T(T(−1,0
)、9.72 (s、、IH、CHO)Mass (C
T ); 707  (■戸−)、176.158−8
 =

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 (式中、Rは水素原子またけ水酸基、Xは酸素原子捷た
    け硫黄原子、nは3〜7の整数を示す)で表わされる化
    合物捷だはその塩。
  2. (2)式 (式中、R2は水素原子または−OR,1基、R1は水
    酸基の保護基を示す)で表わされる化合物をアセタール
    化し、得られたアセタール体に不活性有機溶媒中1.1
    − (チオ)カルボニルジイミダゾールを反応させて2
    3位の水酸基を(チオ)イミダゾリド化し、得られたイ
    ミダゾリド体に式(式中、nは3〜7の整数を示す)で
    表わされるアミンを加熱不反応させ、次いでアセタール
    を加水分解した後、保護基を脱離化することを特徴とげ
    る式 (式中、Rは水素原子またけ水酸基、Xは酸素原子また
    は硫黄原子、nは3〜7の整数を示す)で表わされる化
    合物またはその塩の製造法。
  3. (3)保護基が低級アルカノイル基壇たはノ・ロゲン化
    アセチル基である特許請求の範囲第2項記載の製造法。
  4. (4)  低級アルカノイル基がアセチル基である特許
    請求の範囲第3項記載の製造法
  5. (5)  アセチル基の脱離化を含水していてもよい低
    級アルカノール中での加熱処理により行う特許請求の範
    囲第4項記載の製造法。
JP57078896A 1982-01-20 1982-05-10 23−o−アルキレンイミノカルボニル−23−デマイシノシルデスマイコシン誘導体およびその製法 Pending JPS58194894A (ja)

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