JPS58206612A - アセチレン高重合体の製造方法 - Google Patents
アセチレン高重合体の製造方法Info
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- JPS58206612A JPS58206612A JP8876282A JP8876282A JPS58206612A JP S58206612 A JPS58206612 A JP S58206612A JP 8876282 A JP8876282 A JP 8876282A JP 8876282 A JP8876282 A JP 8876282A JP S58206612 A JPS58206612 A JP S58206612A
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- carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアセチレンを電気化学的に重合することを特徴
とするアセチレン高重合体の製造方、去に関する。
とするアセチレン高重合体の製造方、去に関する。
アセチレンを重合して得られる不飽和度の高いアセチレ
ン高重合体は、その電気伝導度が半導体領域にあること
より、有機半導体として有用であることは既に知られて
いる。%に最近チーグラーψナツタ触媒でアセチレンを
重合して得られる高重合体にCt2.13r2 、 I
2、■C6,IBr、SbF5 、A S I” 5
、S iF4、PF5、バーオキシジスルフリルジクロ
ライド等の電子受容性化合物、またはNa、K、Li等
の電子供与性化合物をドープすることによって高い電気
伝導度を有するP型またはn型の半導体となることも見
い出され、アセチレンの高重合体は工業的に有用な新し
い有機半導体として注目を集めている( J、O,S、
Chem、 Comm、、 578 (1977)。
ン高重合体は、その電気伝導度が半導体領域にあること
より、有機半導体として有用であることは既に知られて
いる。%に最近チーグラーψナツタ触媒でアセチレンを
重合して得られる高重合体にCt2.13r2 、 I
2、■C6,IBr、SbF5 、A S I” 5
、S iF4、PF5、バーオキシジスルフリルジクロ
ライド等の電子受容性化合物、またはNa、K、Li等
の電子供与性化合物をドープすることによって高い電気
伝導度を有するP型またはn型の半導体となることも見
い出され、アセチレンの高重合体は工業的に有用な新し
い有機半導体として注目を集めている( J、O,S、
Chem、 Comm、、 578 (1977)。
Phys、 Rev、 Left、、 39.1098
(1977) 、 J、Am。
(1977) 、 J、Am。
Ohem、 Soc、、 100.1013 (197
8)、 J、Ohem、 Phys、。
8)、 J、Ohem、 Phys、。
竺、 509B (1978) ]。
アアセチンを熱、他の形態の輻射エネルギーまたは触媒
を用いて重合して高重合体を製造することは既に知られ
ている。〔、■、ニウランド、R,フオグト共著、辻雄
次訳「アセチレンの化学J 、 198貞〜239頁
、北隆館(1950年) 、J、Polym、 5ci
−+55、137 (1961)、 J、 Polym
、 Sci、 Polym、 Ohem。
を用いて重合して高重合体を製造することは既に知られ
ている。〔、■、ニウランド、R,フオグト共著、辻雄
次訳「アセチレンの化学J 、 198貞〜239頁
、北隆館(1950年) 、J、Polym、 5ci
−+55、137 (1961)、 J、 Polym
、 Sci、 Polym、 Ohem。
Ed、、 12.11 (1974)他〕。
しかしながら、チーグラー・ナツタ触媒を用いてアセチ
レンを重合する場合を除いては、100℃以上の高温で
W合したり、光またはγ線等の高エネルギー粒子を照射
したりする等苛酷な条件が必安であるため、製造プロセ
スが複雑になったり、安全性が低下したジするばかりか
、得られる高重合体の小胞4[1度は低く、その−気体
導度も絶縁体に近いため、有機半導体としての利用価値
は低かった。
レンを重合する場合を除いては、100℃以上の高温で
W合したり、光またはγ線等の高エネルギー粒子を照射
したりする等苛酷な条件が必安であるため、製造プロセ
スが複雑になったり、安全性が低下したジするばかりか
、得られる高重合体の小胞4[1度は低く、その−気体
導度も絶縁体に近いため、有機半導体としての利用価値
は低かった。
一方、チーグラー・ナツタ触媒を用いてアセチレンを重
合した場合、不飽和度の高い直鎖状の高重合体が得られ
るが、触媒成分が固体か高沸点の液体であるため、生成
高重合体から残存触媒を取り除くため、多量の溶媒で生
成−重合体を洗滌する等、触媒除去工程に多大の労力が
必要であった。
合した場合、不飽和度の高い直鎖状の高重合体が得られ
るが、触媒成分が固体か高沸点の液体であるため、生成
高重合体から残存触媒を取り除くため、多量の溶媒で生
成−重合体を洗滌する等、触媒除去工程に多大の労力が
必要であった。
本発明者は上記の点に鑑みて、温和な条件で重合可能で
、かつ触媒除去が容易であり、さらに生成高重合体の不
飽和度の高いアセチレンの高重合体の製造方法について
種々検討した結果、本発明に到達した。
、かつ触媒除去が容易であり、さらに生成高重合体の不
飽和度の高いアセチレンの高重合体の製造方法について
種々検討した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明はアセチレンを電気化学的に重合すること
’に%徴とするアセチレン高重合体の製造方法に関する
。
’に%徴とするアセチレン高重合体の製造方法に関する
。
本発明の電気化学的にアセチレンを重合する方法によれ
ば、温和な条件でアセチレンの重合が行なわれるので製
造プロセス上の危険が少なく、かつ触媒を用いないので
触媒除去工程が必要ない。
ば、温和な条件でアセチレンの重合が行なわれるので製
造プロセス上の危険が少なく、かつ触媒を用いないので
触媒除去工程が必要ない。
また、生成するアセチレン高重合体の小胞−♂旨はぼ理
論量に等しく、有機半導体として非常に有用である。
論量に等しく、有機半導体として非常に有用である。
さらに、本発明の方法によれば、電極表面に膜状のアセ
チレン高重合体が生成してくるので、電極からアセチレ
ン高重合体を剥離することによって容易に膜状アセチレ
ン高重合体を得ることができるので工業的に非常に有用
である。さらにまた、本発明の方法によれば、生成アセ
チレン高重合体中に重合時に用いた支持電解質の゛アニ
オンがドープされた電気伝導度の高い電導性アセチレン
高重合体を一段階で製造することができる。
チレン高重合体が生成してくるので、電極からアセチレ
ン高重合体を剥離することによって容易に膜状アセチレ
ン高重合体を得ることができるので工業的に非常に有用
である。さらにまた、本発明の方法によれば、生成アセ
チレン高重合体中に重合時に用いた支持電解質の゛アニ
オンがドープされた電気伝導度の高い電導性アセチレン
高重合体を一段階で製造することができる。
本発明において、眠気化学的にアセチレンを重合させる
方法としては、有機溶媒に支持電解質を浴解し、この電
解液に陰極(カソード極)および!t 31極(アノード極)の電極をそう人してセルを構成し
、外部から所定の電位をかけながら、所定の圧力のアセ
チレンガスを吹き込むことによってアセチレン高重合体
を陰極(カソード極)に生成させる方法が適用される。
方法としては、有機溶媒に支持電解質を浴解し、この電
解液に陰極(カソード極)および!t 31極(アノード極)の電極をそう人してセルを構成し
、外部から所定の電位をかけながら、所定の圧力のアセ
チレンガスを吹き込むことによってアセチレン高重合体
を陰極(カソード極)に生成させる方法が適用される。
ここでいう支持電解質としては、(1) pp6 、
SbF6、A s F” 6− 、S b cz6−の
如きVa族の元素のノ・ロゲン化物アニオン、BF4−
の如きト族の元素のノ・ロゲン化物アニオン、I−(I
s)、Br−1CI:の如きノ\ロゲンアニオン、C
lO4−の如き過塩素酸アニオンなどの陰イオンと(i
f)L+ 、 Na %にの如きアルカリ金属イオ
ン、R4N”(R:炭素数1〜20の炭化水素基)の如
き4級アンモニウムイオンなどの陽イオンの塩をあげる
ことができるが、必ずしもこれ等に限定されるものでは
ない。
SbF6、A s F” 6− 、S b cz6−の
如きVa族の元素のノ・ロゲン化物アニオン、BF4−
の如きト族の元素のノ・ロゲン化物アニオン、I−(I
s)、Br−1CI:の如きノ\ロゲンアニオン、C
lO4−の如き過塩素酸アニオンなどの陰イオンと(i
f)L+ 、 Na %にの如きアルカリ金属イオ
ン、R4N”(R:炭素数1〜20の炭化水素基)の如
き4級アンモニウムイオンなどの陽イオンの塩をあげる
ことができるが、必ずしもこれ等に限定されるものでは
ない。
上述の塩の具体例としてはLiPF6、L i S b
F 6、I、IA s F 6 、 L i Ot
O4、NaI 1 NaPF6 、 NaS
bF6 、 N a A s F 6 、NaC60
4,K1.KPF6、KSbF6、K A s F 6
、KO/1.04、〔(【1−13u)4N ]”・(
AsF6)−1[(n−Bu)4N〕” −(PF6)
−、[(nB u ) 4 N″l+・ClO2、I−
i At0j4 、 Li BF 4 fあげることが
できるが必ずしもこれ等に限定されるものではない。こ
れらの塩は一種類、または二極類以上を混合して使用し
てもよい。
F 6、I、IA s F 6 、 L i Ot
O4、NaI 1 NaPF6 、 NaS
bF6 、 N a A s F 6 、NaC60
4,K1.KPF6、KSbF6、K A s F 6
、KO/1.04、〔(【1−13u)4N ]”・(
AsF6)−1[(n−Bu)4N〕” −(PF6)
−、[(nB u ) 4 N″l+・ClO2、I−
i At0j4 、 Li BF 4 fあげることが
できるが必ずしもこれ等に限定されるものではない。こ
れらの塩は一種類、または二極類以上を混合して使用し
てもよい。
前り己以外の塩の陰イオンとしてはup2−アニオ/を
、また、前記以外の塩の陽イオンとしては次式(I)で
表わされるピリリウムまたはピリジニウム・カチオン: (式中、Xは酸素原子または窒素原子、R′は水素原子
または炭素数が1〜15のアルキル基、炭素数6〜15
のアリール(aryl) 基、R′はハロゲン原子ま
たは炭素数が1〜10のアルキル基、炭素数が6〜15
のアリール(aryl)基、mはXが酸素原子のとき0
であり、Xが窒素原子のとき1である。nは0または1
〜5である。) または次式(TOもしくは(2)で表わされるカルボニ
ウム−カチオン: 几2 0+ (6)1・/ および R4−C+ (至)1 〔上式中 H/I、R2、R3は水素原子(’ R1、
R2、FL3は同時に水素原子であることはない)、炭
素数1〜15のアルキル基、アリル(ally+ )基
、炭素数6〜15のアリール(aryl )基または一
01’L 基、但しR5は炭素数が1〜10のアルキル
基または炭素数6〜15のアリール(aryl )基を
示し、凡は水素原子、炭素数が1〜15のアルキル基、
炭素数6〜15のアリール基である。〕 である。
、また、前記以外の塩の陽イオンとしては次式(I)で
表わされるピリリウムまたはピリジニウム・カチオン: (式中、Xは酸素原子または窒素原子、R′は水素原子
または炭素数が1〜15のアルキル基、炭素数6〜15
のアリール(aryl) 基、R′はハロゲン原子ま
たは炭素数が1〜10のアルキル基、炭素数が6〜15
のアリール(aryl)基、mはXが酸素原子のとき0
であり、Xが窒素原子のとき1である。nは0または1
〜5である。) または次式(TOもしくは(2)で表わされるカルボニ
ウム−カチオン: 几2 0+ (6)1・/ および R4−C+ (至)1 〔上式中 H/I、R2、R3は水素原子(’ R1、
R2、FL3は同時に水素原子であることはない)、炭
素数1〜15のアルキル基、アリル(ally+ )基
、炭素数6〜15のアリール(aryl )基または一
01’L 基、但しR5は炭素数が1〜10のアルキル
基または炭素数6〜15のアリール(aryl )基を
示し、凡は水素原子、炭素数が1〜15のアルキル基、
炭素数6〜15のアリール基である。〕 である。
用いられるHFzアニオンは通常、下記の一般式%式%
]): () () 〔但し、上式中R′、norは水素原子または炭素数が
1〜15のアルキル基、炭素数6〜15のアリール(a
ryl)基、R″′は炭素数が1〜10のアルキル基、
炭素数6〜15のアリール(arvl )基、Xは酸素
原子または窒素原子、nはOまたは5以下の正の整数で
ある。Mはアルカリ金属である〕 で表わされる化合物(フッ化水素塩)を支持電解として
用いて適当な有機溶媒に溶解することによって得られる
。上式(IV)、(7)および(ロ)で表わされる化合
物の具体例としては114N −11F2、B u 4
°I(−HF2、Na ” 1IF2、K −11F2
、TJI” HF2および上記式(I)で表わされるピ
リリウムもしくはピリジニウムカチオンは、式(I)で
表わされるカチオンと06O4−、BF;、htct4
”、Fe0A4−1SnO65−1PF6″。
]): () () 〔但し、上式中R′、norは水素原子または炭素数が
1〜15のアルキル基、炭素数6〜15のアリール(a
ryl)基、R″′は炭素数が1〜10のアルキル基、
炭素数6〜15のアリール(arvl )基、Xは酸素
原子または窒素原子、nはOまたは5以下の正の整数で
ある。Mはアルカリ金属である〕 で表わされる化合物(フッ化水素塩)を支持電解として
用いて適当な有機溶媒に溶解することによって得られる
。上式(IV)、(7)および(ロ)で表わされる化合
物の具体例としては114N −11F2、B u 4
°I(−HF2、Na ” 1IF2、K −11F2
、TJI” HF2および上記式(I)で表わされるピ
リリウムもしくはピリジニウムカチオンは、式(I)で
表わされるカチオンと06O4−、BF;、htct4
”、Fe0A4−1SnO65−1PF6″。
paz61 sb+’、’−1A s F 6−1ap
3So5.1(F2−等のアニオンとの塩を支持電解質
として用いて適当な有機溶媒に溶解することによって得
られる。そのような塩の具体例としては I(ヤ 等をあげることができる。
3So5.1(F2−等のアニオンとの塩を支持電解質
として用いて適当な有機溶媒に溶解することによって得
られる。そのような塩の具体例としては I(ヤ 等をあげることができる。
上記式@または無で表わされるカルボニウム・カチオン
の具体例としては(061(5)50+、(cp5)s
これからのカルボニウムカチオンは、それらと陰イオン
の塩(カルボニウム塩)を支持電解質として適当な有機
溶媒に溶解することによって得られる。ここで用いられ
る陰イオンの代表例としては、BF4−1AtO64−
1AQB r 50 t−1FeO乙。−1S n O
l 5−1PF2、pat; 、 5bct; 、 s
bp;、 cto4. cp、so;等をあげることが
でき、また、カルボニウム塩の具体例としては、例えば
(C6H5)6C−BF4、(01−15)50・Bi
i’4、I[0−htot4.110cI ” BF4
−06H5Co ” Snれた電気量全測定することに
よって自由に制御することができる。一定電流下でも一
定区圧下でもまた電流および電圧のいずれもが変化する
条件下のいずれの方法で重合を行なってもよい。重合の
際の電流値、電圧値および重合時間等は、必要とするア
セチレン高重合体の量、面積、支持電解質の種類、電解
液の種類等によって異なるので一概に規定することはで
きない。
の具体例としては(061(5)50+、(cp5)s
これからのカルボニウムカチオンは、それらと陰イオン
の塩(カルボニウム塩)を支持電解質として適当な有機
溶媒に溶解することによって得られる。ここで用いられ
る陰イオンの代表例としては、BF4−1AtO64−
1AQB r 50 t−1FeO乙。−1S n O
l 5−1PF2、pat; 、 5bct; 、 s
bp;、 cto4. cp、so;等をあげることが
でき、また、カルボニウム塩の具体例としては、例えば
(C6H5)6C−BF4、(01−15)50・Bi
i’4、I[0−htot4.110cI ” BF4
−06H5Co ” Snれた電気量全測定することに
よって自由に制御することができる。一定電流下でも一
定区圧下でもまた電流および電圧のいずれもが変化する
条件下のいずれの方法で重合を行なってもよい。重合の
際の電流値、電圧値および重合時間等は、必要とするア
セチレン高重合体の量、面積、支持電解質の種類、電解
液の種類等によって異なるので一概に規定することはで
きない。
本発明において用いられる電解液は、水溶液または非水
浴液のいずれも用いることができるが、好ましくは非水
の有機溶媒に前記の支持電解質を溶かしたものである。
浴液のいずれも用いることができるが、好ましくは非水
の有機溶媒に前記の支持電解質を溶かしたものである。
ここでいう有機溶媒としては、非プロト/性でかつ高誘
電率のものが好ましい。例えばエーテル類、ケトン類、
ニトリル類、アミン類、アミド類、硫黄化合物、塩素化
炭化水素類、エステル類、カーボネート類、ニトロ化合
物等を用いることができるが、これらのうちでもエーテ
ル類、ケトン類、ニトリル類、塩素化炭化水素類、カー
ボネート類が好ましい。これらの代表例としては、テト
ラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、1.
4−ジオキサン、モノグリム、アセトニトリル、プロピ
オニトリル%4−メチル−2−ペンタノン、フチロニト
リル、1.2−ジクロロエタン、γ−ブチロラクトン、
ジメトキシエタン、メチルフォルメイト、プロピレンカ
ーボネート、エチレンカーボネート、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルチオホルムアミ
ド、スルホラン等をあげることができるが、必ずしもこ
れ等に限定されるものではない。これらの有機溶媒は一
種類摩たは二種類以上の混合溶媒として用いても良い。
電率のものが好ましい。例えばエーテル類、ケトン類、
ニトリル類、アミン類、アミド類、硫黄化合物、塩素化
炭化水素類、エステル類、カーボネート類、ニトロ化合
物等を用いることができるが、これらのうちでもエーテ
ル類、ケトン類、ニトリル類、塩素化炭化水素類、カー
ボネート類が好ましい。これらの代表例としては、テト
ラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、1.
4−ジオキサン、モノグリム、アセトニトリル、プロピ
オニトリル%4−メチル−2−ペンタノン、フチロニト
リル、1.2−ジクロロエタン、γ−ブチロラクトン、
ジメトキシエタン、メチルフォルメイト、プロピレンカ
ーボネート、エチレンカーボネート、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルチオホルムアミ
ド、スルホラン等をあげることができるが、必ずしもこ
れ等に限定されるものではない。これらの有機溶媒は一
種類摩たは二種類以上の混合溶媒として用いても良い。
生成アセチレン高重合体は酸素によって貧化を受は易い
ので常法に従い溶媒中の酸素は除去しておくことが好ま
しい。
ので常法に従い溶媒中の酸素は除去しておくことが好ま
しい。
また、本発明において用いられる支持電解質の濃度は、
用いる陽極または陰極の種類、重合条件、作動温度、支
持電解質の種類および有機溶媒の種類等によって異なる
ので一概に規定することはできないが、通常は0.00
1〜10モル/lの範囲である。
用いる陽極または陰極の種類、重合条件、作動温度、支
持電解質の種類および有機溶媒の種類等によって異なる
ので一概に規定することはできないが、通常は0.00
1〜10モル/lの範囲である。
アセチレンを電気化学的に重合させる際に用いられる電
極としては、通常用いられている金や重合の金属電惨が
用いられるが必ずしもこれらに限定されるものではない
。用いられるアセチレンの圧力は、特に限定されないが
、安全性の面から一般にはlO気圧以下、好筐しくけ2
気圧以下である。
極としては、通常用いられている金や重合の金属電惨が
用いられるが必ずしもこれらに限定されるものではない
。用いられるアセチレンの圧力は、特に限定されないが
、安全性の面から一般にはlO気圧以下、好筐しくけ2
気圧以下である。
本発明の方法においては、アセチレンとフェニルアセチ
レンやジフェニルアセチルの如キアセチレン誘導体との
共重合も可能であるが、高い電気伝導度を有する重合体
を得るためにはアセチレンを単独重合することが好まし
い。
レンやジフェニルアセチルの如キアセチレン誘導体との
共重合も可能であるが、高い電気伝導度を有する重合体
を得るためにはアセチレンを単独重合することが好まし
い。
□
重合体を得ることができる。ドープされるアニオンの量
は、重合条体によって異なるが通常は生成アセチレン高
重合体中の繰り返し単位CH1モルに対して40モルチ
以下であり、その電気伝導度は10−8〜103Ω−1
・α−1の範囲である。
は、重合条体によって異なるが通常は生成アセチレン高
重合体中の繰り返し単位CH1モルに対して40モルチ
以下であり、その電気伝導度は10−8〜103Ω−1
・α−1の範囲である。
本発明の方法によって得られる(電導性)アセチレン高
重合体には、化学的ドーピングまたは電気化学的ドーピ
ングのいずれかの方法でさらにドーピングすることが可
能である。(電導性)アセチレン高重合体に化学的にド
ーピングするドーパントとしては、従来知られている種
々の電子受容性化合物および電子供与性化合物、即ち、
(I)ヨウ素、臭素およびヨウ化臭素の如きハロゲン、
(II五フッ化ヒ素、五フッ化アンチモン、四フッ化ケ
イ素、五塩化リン、五フッ化リン、塩化アルミニウム、
臭化アルミニウムおよびフッ化アルミニウムの如き金属
・・ロゲン化物、(2)硫酸、硝酸、フルオロ4A酸、
トリフルオロメタン硫酸およびクロロ硫19(7)如き
プロトン酸、(IV)三酸化イオウ、二酸化窒素、ジフ
ルオロスルホニルパーオキシドの如キ酸化剤、 (v)
hgcto4、■テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、フロラニール、2.3−)クロル−5
,6−ジシアツバラベンゾキノン、2,3−ジブロム−
5,6−ジシアツバラベンゾキノン等をあげることがで
きる。
重合体には、化学的ドーピングまたは電気化学的ドーピ
ングのいずれかの方法でさらにドーピングすることが可
能である。(電導性)アセチレン高重合体に化学的にド
ーピングするドーパントとしては、従来知られている種
々の電子受容性化合物および電子供与性化合物、即ち、
(I)ヨウ素、臭素およびヨウ化臭素の如きハロゲン、
(II五フッ化ヒ素、五フッ化アンチモン、四フッ化ケ
イ素、五塩化リン、五フッ化リン、塩化アルミニウム、
臭化アルミニウムおよびフッ化アルミニウムの如き金属
・・ロゲン化物、(2)硫酸、硝酸、フルオロ4A酸、
トリフルオロメタン硫酸およびクロロ硫19(7)如き
プロトン酸、(IV)三酸化イオウ、二酸化窒素、ジフ
ルオロスルホニルパーオキシドの如キ酸化剤、 (v)
hgcto4、■テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、フロラニール、2.3−)クロル−5
,6−ジシアツバラベンゾキノン、2,3−ジブロム−
5,6−ジシアツバラベンゾキノン等をあげることがで
きる。
一方、アセチレン高重合体に電気化学的にドーピングす
るドーパントとしては、前記した支持電解質等があげら
れる。
るドーパントとしては、前記した支持電解質等があげら
れる。
本発明の(電導性)アセチレン高重合体はアセチレン高
重合体を電極に用いたバッテリーや高い電気伝導性を茨
求、されるアセチレン高重合体として最適である。さら
に、本発明の(電導性)アセチレン高重合体はP型半導
体であり、種々の電気・′岨子素子として有用であるば
かりでなく、n型半導体と糺み合せて容易にp−n接合
を作ることも可能である。
重合体を電極に用いたバッテリーや高い電気伝導性を茨
求、されるアセチレン高重合体として最適である。さら
に、本発明の(電導性)アセチレン高重合体はP型半導
体であり、種々の電気・′岨子素子として有用であるば
かりでなく、n型半導体と糺み合せて容易にp−n接合
を作ることも可能である。
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明する。
実り例 l
陰惨および陽極の電極として膜厚l(転)、長さ4m、
1% 1 tlnの白金板を白金線に機械的に圧着固定
したものを用いた。支持電解質として用いたBu4N・
C604の濃度が1.0 g/Lのプロピレンカーボネ
ート溶液を電解液として用い、室温で一定電流1(1m
A/ 、crl )で10時間、05に藝−の分圧のア
セチレンガスを吹き込んでアセチレンの重合を行なった
1、組合開始と共に陰極の白金板上に黒色のアセチレン
高重合体が膜状に生成し始めた。重合終了して592の
アセチレン高重合体を得た。なお、以下の操作はすべて
窒素雰囲気下で行なった。得られたアセチレン高重合体
は、元素分析よりその組成がC0110,99(010
4)0.09 〕xであり、また、室幅での電気伝導度
(直流四端子法)は85Ω ・mであった・ 実施例 2〜7 実施例1で支持電解質として用いたBu4N ” O6
(、+4の代りに表−1に示した支持′4解質を用いた
以外は、実施例1と同様な方法でアセチレンの重合を行
なって表−1に示したようなアセチレン高重合体を得た
。
1% 1 tlnの白金板を白金線に機械的に圧着固定
したものを用いた。支持電解質として用いたBu4N・
C604の濃度が1.0 g/Lのプロピレンカーボネ
ート溶液を電解液として用い、室温で一定電流1(1m
A/ 、crl )で10時間、05に藝−の分圧のア
セチレンガスを吹き込んでアセチレンの重合を行なった
1、組合開始と共に陰極の白金板上に黒色のアセチレン
高重合体が膜状に生成し始めた。重合終了して592の
アセチレン高重合体を得た。なお、以下の操作はすべて
窒素雰囲気下で行なった。得られたアセチレン高重合体
は、元素分析よりその組成がC0110,99(010
4)0.09 〕xであり、また、室幅での電気伝導度
(直流四端子法)は85Ω ・mであった・ 実施例 2〜7 実施例1で支持電解質として用いたBu4N ” O6
(、+4の代りに表−1に示した支持′4解質を用いた
以外は、実施例1と同様な方法でアセチレンの重合を行
なって表−1に示したようなアセチレン高重合体を得た
。
表−1アセチレンの電気化学的重合
Claims (1)
- アセチレンを電気化学的に重合することを特徴とするア
セチレン高重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8876282A JPS58206612A (ja) | 1982-05-27 | 1982-05-27 | アセチレン高重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8876282A JPS58206612A (ja) | 1982-05-27 | 1982-05-27 | アセチレン高重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58206612A true JPS58206612A (ja) | 1983-12-01 |
| JPH0328443B2 JPH0328443B2 (ja) | 1991-04-19 |
Family
ID=13951880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8876282A Granted JPS58206612A (ja) | 1982-05-27 | 1982-05-27 | アセチレン高重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58206612A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178669A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | Misダイオ−ドの製造方法 |
| US5514262A (en) * | 1995-05-05 | 1996-05-07 | Ford Motor Company | Electochemical deposition of trans-polyacetylene films |
| WO2011096645A3 (ko) * | 2010-02-02 | 2011-11-10 | (주)루미나노 | 피리딘염-함유 아세틸렌계 전도성 고분자 및 그의 전기전자적 용도 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3578626A (en) * | 1969-02-24 | 1971-05-11 | Monsanto Co | Process for the polymerization of acetylene compounds |
-
1982
- 1982-05-27 JP JP8876282A patent/JPS58206612A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3578626A (en) * | 1969-02-24 | 1971-05-11 | Monsanto Co | Process for the polymerization of acetylene compounds |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178669A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | Misダイオ−ドの製造方法 |
| US5514262A (en) * | 1995-05-05 | 1996-05-07 | Ford Motor Company | Electochemical deposition of trans-polyacetylene films |
| WO2011096645A3 (ko) * | 2010-02-02 | 2011-11-10 | (주)루미나노 | 피리딘염-함유 아세틸렌계 전도성 고분자 및 그의 전기전자적 용도 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0328443B2 (ja) | 1991-04-19 |
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