JPS58219132A - シクロヘキサノ−ル及びシクロヘキサノンの製法 - Google Patents

シクロヘキサノ−ル及びシクロヘキサノンの製法

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JPS58219132A
JPS58219132A JP58094215A JP9421583A JPS58219132A JP S58219132 A JPS58219132 A JP S58219132A JP 58094215 A JP58094215 A JP 58094215A JP 9421583 A JP9421583 A JP 9421583A JP S58219132 A JPS58219132 A JP S58219132A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の対象は、シクロヘキシルヒドロペルオキシドな
、酸化物形でコバルトとして計算してコバルト2〜30
重it%を含有する担体触媒を用いて30〜160℃の
温度で熟埋することによりシクロヘキサノール及びシク
ロヘキサノンを製造する方法である。
シクロヘキサンを空気又は#1業で高圧及び高温下に酸
化することKより、シクロヘキサノール、シクロヘキサ
ノン、シクロヘキシルヒドロペルオキシド、その他のペ
ルオキシド、戚及びエステルから成る混合物が得られる
。収率な改良するためには、通常形成されたシクロヘキ
シルヒト關ペルオキシドは特別の条件下にシクロヘキサ
ノール及びシクロヘキサノンから成る混合物に転化され
る。
大抵の場曾、酸化中に特殊な遷移金属塩を添加すること
により形成されたシクロヘキシルヒドロペルオキシドの
同時分解は実施される。ドイツ連邦=和Ii&I特許第
1002754号明細書には、均一に溶解したコバルト
塩又はクロム塩を用いる酸化及び解ペルオキシド化が記
載されている・この課題は、ドイツ連邦共和国%軒出緘
公皆@ 1193501号明細曹によれば、銅塩及びマ
ンガン塩によっても満足される。しかしながら、これら
の方法は収率に関しては更に改善されるべきである。更
に1金属塩を再び回収することが必要である。
シクロヘキシルヒドロペルオキシドを含有する混合物を
分解するためには担体触媒も既に使用された。米国特許
第2.853 、496号明細書には、適当な触媒とし
て活性化酸化アルミニウム、シリカゲル、炭又はケイソ
ウ出土の#!8属の金属例えばコバルトが記載されてい
る。しかしながら、これらの触媒は寿命、感水性及び感
酸性に関して更に改善されるべきである。
従って、シクロヘキシルヒドロペルオキシドを分解して
シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールを得るために
、高い収率及び高い転化率を可能にし、更に長い寿命を
有しかつ水及び酸に対する感受性が低い触媒を見出す課
題が生じた。
この課題は、シクロヘキシ゛ぶヒト日ペルオキシドを、
酸化物形でコバルトとして計算してコバルト2〜30重
′j!Ik−を含有する担体触媒を用いて30〜160
℃の温度で処理することによりシクロヘキサノール及び
シクロヘキサノンを製造する方法において、担体として
ゼオライトを使用することにより解決される。
本発明の新規方法は、シクロヘキシルヒドロペルオキシ
ドのシクロヘキサノール及びシクロヘキサノンへの分解
が高い転化率及び高い収率で進行するという利点を有す
る。更に、本新規方法は、触媒が長い寿命を有するとい
う利点を有する。更に、本新規方法は、触媒が水及び酸
に対して感受性が低くかつ活性触媒金属が僅かに溶離さ
れるにすぎないという利点を有する。
好ましくは、シクロへキサン中のシクロヘキシルヒドロ
ペルオキシドの溶液から出発する。適当す溶液は例えば
シクロヘキシルヒドロペルオキシド0.5〜10重量%
を含有する。特に好ましくは、シクロヘキサンを分子酸
素又は分子酸素を含有するガス例えば空1で液相中で1
30〜200℃の温度及び5〜25バールの圧力下に場
合によりコバルト塩等の触媒の併用下に酸化するととK
より得られた混合物から出発する。好ましくは、こうし
て得られた反応混合物を更に処理する前に水又はアルカ
リ液で洗浄する。
典型的反応混合物はシクロヘキサンの他にシクロヘキサ
ノン及びシクロヘキサノール3〜7重量−並びにシクロ
ヘキシルヒドロベルオキシト0.5〜3.5ir、ii
%、更に副生成物例えばエステル、カルボン酸並びに場
合により水を例えば2重量優まで含有する。適当な反応
混合物は例えばドイツ連邦共和国特許第1046610
号明細書に記載の方法に基づいて得られる。
処理は酸化物形でコバルトとして計算してコバルト2〜
30J[量チ、特にlO〜25![%を含有する担体触
媒の存在下に実施し、この場合担体としてゼオライトを
使用する。上記パーセント値は担体と触媒活性金属との
線材料を基準とする。好ましくは、担体としてA−1X
−又はY−ゼオライトを使用する。また、触媒はナトリ
ウムを結合した形でナトリウムとして計算して3〜IA
CT%を含有するのが有利であることが立証された。触
媒を製造する際に良好な変形性を得るためには、好まし
くは触媒材料の成形前に例えば酸化アルミニウム又は水
酸化アルミニウム例えばベーマイトを30重量%まで結
合剤として加えるべきである。この場合、上記パーセン
ト値は触媒活性金属、ゼオライト及び結合剤から成る線
材料を基準としている。特に有利な触媒においては、触
媒活性金属はゼオライト内に埋込まれている。
適当な触媒は例えば前記のゼオライト上に加熱すると酸
化物形に移行するコバルト化合物を水溶液から沈殿させ
ることにより得られる。適当な触媒は例えば硝酸コバル
ト、硫酸コバルト又は酢酸コバルトである。沈殿の際に
は、アルカリ金属水酸化物又は炭酸塩水溶液を添加する
ことによりpH値を7.5〜12、特に8〜11に保持
するのが有利であることが判明した。好ましくは、沈殿
は40〜100℃の温度で実施する。引続き、こうして
得られた水酸化コバルト又は炭酸コバルトを含有するゼ
オライト担体を水で洗浄する。好ましくは、アルカリ性
の水で例えばpH8〜10で洗浄する。次いで、こうし
て得られた担体触媒を好ましくは100〜150℃で例
えば2〜20時間乾燥し、引続き200〜600℃の温
度で例えば2〜8時間焼成する。
この焼成は好ましくは分子#!素又は分子alXを含有
するガス例えば空気の存在下に実施する。
使用触媒の前記の有利な製法の他に、コバルト塩を含浸
又は噴霧によって施し、引続き加熱により完成触媒を製
造することも可能である。
触媒を圧縮成形体に加工しようとする場合には、焼成の
前又は後に例えばベーマイトを35Xii%まで添加し
、そうして得られた混合物を圧縮成形体に加工するのが
有利であることが立証された。レントゲン写真で確認す
ることは常には不可能であるが、コバルトはその酸化物
の形で存在すると見なされる。また、製造過程でのゼオ
ライトとの部分的イオン交換も排除されない。
シクロヘキシルビトロベルオキシド又は該化合物を含有
する溶液の処理は30〜16(lの温度で実施する。特
に良好な結果は80〜120℃の温度で得られる。処理
は大気圧又はシクロ−ヘキサンの酸化の際に通用される
ような僅かに高めた圧力例えば20バールまでの圧力で
実施することができる。
処理はパッチ式で実施することができる。しかしながら
、工業的に好ましくは、シクロヘキシルヒドロペルオキ
シドを含有する溶液及び反応混合物を連続的に、該溶液
又は混合物を固定配置した触媒床を通過させることによ
り処理する。長期の作動時間後に触媒の活性度が減退し
た場合には、該触媒は容易に分子酸素を含有するガス例
えば空気で例えば150〜500℃の温度で処理するこ
とにより再活性化することができる。
本発明方法に基づいて得られるシクロヘキサノール及び
シクロヘキサノンは、アジピン酸又はシクロヘキサノン
オキシム、すなわちカプロラクタムの先駆物を製造する
ために適当である。
次に、本発明方法を実施例で詳細に説明する。
実施例1 a)触媒の製造  ゛ Co (NO3)z ・6HzO1455fを蒸留水1
000f中に浴     ”かす。この清液をゼオライ
)4A500PK加える。
回転蒸発器で水賓射真空中、水浴温度約95〜io。
Cで、触媒が乾燥するまで水相を蒸発させる。該触媒を
摩砕しかつ炉中300℃で3時間焼成する。
その際、触媒はCo 26.61(量チ及びNa  7
.8重量%を含有し、該触媒の水性懸濁液はpH9,8
を呈する(触媒■)。
ストランド圧縮成形体を製造するために、触媒粉末をベ
ーマイト〔At0(OH)〕と混酋し、コロイド化しな
いようにv2時間控和しかつ4閤のストランド圧縮成形
体に押出す。次いで゛、該ストランド圧縮成形体を再度
300℃で3時間焼成する。完成した触媒(II)は以
下の組成: Co 18 ’M it % 、 Nh 5.3重量%
、ht 23.2重量%、残り旧及び0、NO3含有率
0.5 M量チを有する。
b)シクロヘキシルヒドロペルオキシドの転化内部温度
針及び還流冷却器を備えた攪拌フラスコ中で、前記触媒
粉末(1) 2 tを、145℃及び12バールでシク
ロヘキサンを空気酸化することにより得られた酸化混合
物(組成ニジクロヘキサノン1.81mF量チ、シクロ
ヘキサノール2.61重量%、シクロヘキシルヒドロペ
ルオキシド1.48Ji[ji 96 、 fiミリシ
クロヘキサンび副生成物例えば酸及びエステル) 10
0 fと一緒に80℃で30分間攪拌する。
反応生成物はガスクロマトグラフィー分析によれば以下
の組成ニ ジクロヘキサノン2.31重量%、シクロヘキサノール
3.15重量−、シクロヘキシルヒドロペルオキシド0
.38 重量チ、残りシクロヘキサン及び副生成物例え
ば酸及びエステル を有する。74重量%のベルオキラド転化率に対して、
シクロヘキサノン及びシクロヘキサノールの収率は11
931[量チである。
比較例 Co(Nos)a ・6Hx0728 tを蒸留水50
0−に溶かす。
この溶液に、活性炭ストランド(4箇)500−を加え
る。上方の溶液を留去しかつ触媒を乾燥棚中100℃で
乾燥する。乾燥処理を5回繰返し、次いでCo全量を施
す。100〜110℃で乾燥した後、ストランドをマツ
フル炉中N11気下に300℃で焼成する。完成触媒は
Co 32.6重量%を含有する。
触媒21を粉砕しかつ前記酸化溶液100fと一緒に8
0℃で30分間攪拌する。ペルオキシド転化率は94M
量チであり、シクロヘキサノン及びシクロヘキサノール
の収率は87m、t%Kjぎない。
実施例2 二重ジャケット及び内蔵の熱電索子を備えたガラス管(
内径30 m 、長さ400Fm)に触媒(…)200
1JLt(150t )を充填する、ジャケット内を循
環する加熱液体によって保持される80℃の温度で、触
媒を下から流動させる。フィードはポンプで一定に保持
する。該フィード混合物はシクロヘキサンを空気で酸化
することにより得られかつシクロエキサンの他にシクロ
ヘキサノン1.64重量−、シクロヘキサノール2.4
0電童饅、シクロヘキシルヒドロペルオキシド1.47
電量、その他のペルオキシド0.06電童饅、酸及びカ
ルボン酸エステル0.9fifi/lを含有する。種々
の時点で、反応生成物を分析する。亀裂容積−を基準と
して有効滞留時間は18.5分である。
32   91      100      129
127    90       ’100     
 121215   90      100    
  1192g5   90      100   
   121335   90      100  
    121402   90     100  
    11950g    90      99 
     1181)生成物混合物中に含有されるペル
オキシドの和に対する転化率(%) 2)シクロヘキシルヒドロペルオキシドの転化率前記経
過時間後、触媒は完全に不変であり、蒸皮又は顕著な活
性損失を示さない。
比較例2 比較例1からのCo/炭触媒200 d (1109)
を前記の実験装置に充填しかつ酸化物混合物を処理す8
・    II)”1 (h)     (至)       −″     
  (2)24     98      100  
      10256     96       
100         100102     91
       98         98164  
   85        97         9
3実施例3 a)触媒の調造 ゼオライトA30fを水2 tK!m濁させ、80℃に
加熱しかつpH値をカセイソーダ溶液で1O15〜11
にIII整する。このs濁液に水30〇−中のCDCN
0sh・6HaO195Fの溶液を加える。こり添加は
1〜2時間かけて行ない、この際水30〇−中の水酸化
ナトリウム35Fの溶液を同時に加えることに上り前記
μ値が保持されるように1鷹する。添加終了後、温度を
100 Cに高めかつ60〜70℃に冷却した後洗MQ
IIJをf別しかつ水1500−で洗浄し、#pH値を
カセイソーダ溶液を加えることにより約8に崗整する。
引続き、1遇ケークを120 Cで18時間乾燥しかつ
次いで300℃に3時間加熱する。こうして得られた触
媒はコバル)  24.5重fチ、ナト・ リウム6.
8重量−並びに硝酸塩0.5 %を含有する。
b)  シクロヘキシルヒドロペルオキシドの分解オー
トクレーブ中でシクロヘキサン中のシクロヘキシルヒド
ロペルオキシド2.0重量%及びシクロへキサノン2.
03に蓋チの溶液100 fを前記触媒2.02と一緒
に攪拌下に80℃に30分間加熱する。
引続き、触媒をf別し、シクロヘキサンで洗浄しかつ繰
返し使用する。その都度得られた沢液をシクロヘキサノ
ン、シクロヘキサノール及びシクロヘキシルヒドロペル
オキシドについて分析する。
結果は以下の表にまとめて示す。3回の使用後、反応生
成物中にコバル) 0.03 ppcnが検出可能であ
る。
1     68       1182     6
8       1173     68      
 11g第1頁の続き イヒスハーフエン・ロイシュナ ーシュトラーセ32

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シクロヘキシルヒドロペルオキシ)”t’、l化
    物形でコバルトとして計算してコバルト2〜30重量−
    を含有する担体触媒を用いて30〜160℃の温度で処
    理することによりシクロヘキサノール及びシクロヘキサ
    ノンを製造する方法において、担体としてゼオライトを
    使用する、シクロヘキサノール及びシクロヘキサノンの
    製法。
  2. (2)担体としてA−1X−又はY−ゼオライトを特徴
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)7クロヘキサンを分子[R又は分子#累を含有す
    るガスで酸化することにより得られたシクロヘキシルヒ
    ドロペルオキシドを含有する混合物を特徴する特許請求
    の範囲第1項又は第2項記載の方法。
JP58094215A 1982-06-11 1983-05-30 シクロヘキサノ−ル及びシクロヘキサノンの製法 Granted JPS58219132A (ja)

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