JPS58224176A - 薄膜金属の表面処理方法 - Google Patents

薄膜金属の表面処理方法

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Publication number
JPS58224176A
JPS58224176A JP57105936A JP10593682A JPS58224176A JP S58224176 A JPS58224176 A JP S58224176A JP 57105936 A JP57105936 A JP 57105936A JP 10593682 A JP10593682 A JP 10593682A JP S58224176 A JPS58224176 A JP S58224176A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film metal
rust preventive
polishing
treatment
Prior art date
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Pending
Application number
JP57105936A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromu Matsuda
宏夢 松田
Keiichi Yubagami
弓場上 「あ」一
Yuji Takashima
祐二 高島
Osamu Hotta
収 堀田
Tomiji Hosaka
富治 保阪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP57105936A priority Critical patent/JPS58224176A/ja
Publication of JPS58224176A publication Critical patent/JPS58224176A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えば磁気記録媒体に用いられる薄脱金属の
表面処理方法に関し、簡単な方法にして同薄膜金属にす
ぐれた耐食性を付与することを目的とする。
一般に薄膜金属は、数μmあるいはそれ以下の厚みを有
し、例えば高分子フィルムなどの基材上に製膜して用い
られる場合が多い。特に薄膜金属がGOなど磁性材料か
らなる場合には、記録材料として有用である。
従来、これらの薄膜金属を例えば、高温高湿雰囲気中に
さらしておくと、錆が発生し、薄膜金属個有の諸特性が
失われるか著しく損われ、長前の使用に耐えられなくな
るという問題があり、これに対し、従来見られる金属板
など通常形状の金属に施す表面処理方法をそのまま適用
したのでは、処理方法が粗く、防錆・防腐効果が不充分
であったり、処理層が厚すぎ、薄膜金属個有の諸特性が
p     著しく損われるか全く失われてしまうとい
う欠点があった。例えば、金属蒸着磁気テープの場合、
良好な入出力特性を保つには、金属面上の処理層の厚み
を充分薄くする必要がある。これに対し従来の防錆剤塗
付処理では、入出力特性を保つために処理層を薄くする
と、処理層が不均一となり殆ど防錆・防腐効果が得られ
ず、また、防錆効果を出そうと処理層を厚くすると、入
出力特性が著しく悪化してしまう。
本発明はこれらの難点を克服し、薄膜金属の表面を防錆
剤で接触処理したのち、その処理面を研摩材で研摩処理
することにより、極めて薄くかつ均一な処理面を形成し
、それによって薄膜金属個有の諸特性を保ったまま防錆
・防腐効果を得ることを目的とするものである。
次に本発明における表面処理方法の概要について述べる
。第1段階として、Fe 、 Cjo 、 Ni 、 
Ou。
またはこれらを主体とする合金などを材料として製膜さ
れた薄膜金属の表面を、トリアゾール系。
イミダゾール系、チアゾール系、ジチオカーバメイト系
、チウラムジスルフィド系、アミド系、ナフトール系化
合物、又はこれらを主体とする組成物で接触処理を行な
う。ここでいう接触処理とは、液相(接触処理)におい
ては前記組成物を溶解させた溶剤中に、気相(接触処理
)においては前記組成物気体分子を含む気体雰囲気中に
、前記薄膜金属の表面を接触させ、防錆剤を面上に付着
させる処理のことをいう。とりわけ薄膜金属がCO又は
CoH1合金などCO合金からなる場合には、 p−ナ
フトール、α−ニトロン−β−ナフトールなどのナフト
ール系化合物、べ/シトリアゾールなどのトリアゾール
系化合物、1・1o−ビス(N−サリチロイルアミノ)
ドデカンジアミドなどのサリチル酸アミド系の化合物な
どがとくに有効で摩材で研摩処理する。適当な研摩材並
びに研摩圧力、研摩速度などの条件を適当に選ぶことに
より第1段階で不均一かつ余分に付着した処理層を、薄
くかつ均一に処理することができる。これは、この研摩
処理により余分に付着した部分の防錆剤が取り除かれ、
防錆剤の付着していない部分の面にその一部が付着する
と同時に、研摩効果により極めて薄く均一化されるだめ
である。以上の2段処理によシ、極めて薄くかつ付着ム
ラのない均一な表面処理層を形成し、薄膜金属個有の諸
特性を損うことなく防錆・防腐効果が得られる。この表
面処理方法においては、適当な条件を選ぶことにより1
00A程度までの防錆・防腐効果を持つ処理層を得るこ
とが可能である。
以下実施例にて本廿発明をさらに詳細に記述する。
〈実施例1〉 (1)処理対象;ポリエステルフィルム」二にCO・N
i合金を蒸着した磁気テープ。(2)接触処理;液相連
続処理、防錆剤:3−(N−サリチロイル)アミノート
2・4−トリアゾール。溶剤ニジメチルホルムアミド・
エタノール混合溶液(体積比、ジメチルホルムアミド/
エタノール=1/1o)。
防錆剤濃度:10,100.11000ppの3種。
接触時間:約1秒。接触後処理:エアナイフによる余分
溶液除去+自然乾燥。(3)研摩処理;研摩材:綿花(
脱脂綿)。研摩方法:脱脂綿を取付けた回転リールに接
触処理後のテープを接して走行。
研摩速度(テープ・研摩材間相対移動速度):約5m/
秒。研摩圧カニ約0.2kg/cれ研摩時間総計(研摩
材とテープ各部との接触時間総計):約1秒。
以上の表面処理を施したテープを、60′C・の結果を
次の表に示す。
処理層が厚く入出力特性が悪かったり、付着のムラで防
錆効果の良くなかったものが、研摩処理を加えることに
よシ、入出力特性及び防錆効果ともに良好な薄く均一な
処理層が得られている。ビデオ信号減衰の程度から処理
層は約150〜20OAと推測される。
く実楕例2〉 (1)処理対象11例1に同じ。(2)接触処理;気相
処理、防錆剤:1・10−ビス(N−サリチロイルアミ
ノ)トチカンジアミド。処理方法:密閉容器(空気充満
)中に上記防錆剤固形分とテープを入れ、100℃、4
時間放置。(3)研摩処理;研摩材:動物繊維(市販の
鹿皮)。研摩方法:固定ポストに研摩材を固定、テープ
をこのポストに接して走行。研摩速度:約1m/秒。研
摩圧カニ約o、e kg/r、−0研摩時間総計:約0
.6秒。
以上の表面処理を施したテープを実施例1同様60℃9
0%RH雰囲気中に1週間放置したところ、入出力特性
・防錆効果とも極めて良好であつた。
以」二2つの実施例以外の、各金属面、各防錆剤各研摩
材の組合せにおいても適当な接触処理条件及び研摩処理
条件を設定することによシ、各薄膜金属個有の緒特性を
損うことなく非常に良好な防錆効果を得ることができた
以上の説明により明らかなように、薄膜金属の表面に防
錆剤の接触処理と研摩処理を併用することにより、薄膜
金属個有の諸性質を損うことなしに極めて良好な防錆・
防腐効果を得ることができる。特に、薄膜金属の特性上
、処理層の厚みを数百A以下に押えなければならない場
合には、極めて有効な表面処理方法である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)薄膜金属の表面を防錆剤で接触処理したのち、そ
    の処理面を研摩材で研摩処理することを特徴とする簿膜
    金属の表面処理方法。 (2)防錆剤がトリアゾール系、イミダゾール系。 チアゾール系、ジチオカーバメート系、チウラムジスル
    フィド系、アミド系、ナフトール系の化合物のうち少く
    とも一種の化合物を含むことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (3)防錆剤が、ベンゾトリアゾール、3−(N−サリ
    チロイル)アミノート2・4−トリアゾール、1−10
    −ビス(N−1’Jチロイルアミノ)トチカンジアミド
    、α−ニトロソ−βナフトールのうち少くとも一種の化
    合物を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の薄膜金属の表面処理方法。 四 接触処理を液相および気相の何れかで行うことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処
    理方法。 (6)薄膜金属が磁性金属からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (6)磁性金属がGo系合金であることを特徴とする特
    許請求の範囲第6項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (7) CO系合金がCoNi合金であることを特徴と
    する特許請求の範囲第6項記載の薄膜金属の表面処理方
    法。 (8)研摩材が繊維質材からなることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (9)繊維質材が綿花であることを特徴とする特許請求
    の範囲第8項記載の薄膜金属の表面処理方法。
JP57105936A 1982-06-18 1982-06-18 薄膜金属の表面処理方法 Pending JPS58224176A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6182326A (ja) * 1984-09-29 1986-04-25 Sony Corp 磁気記録媒体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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