JPS5823637A - 1,1′−ジアセタ−ル類の製造法 - Google Patents

1,1′−ジアセタ−ル類の製造法

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JPS5823637A
JPS5823637A JP57120708A JP12070882A JPS5823637A JP S5823637 A JPS5823637 A JP S5823637A JP 57120708 A JP57120708 A JP 57120708A JP 12070882 A JP12070882 A JP 12070882A JP S5823637 A JPS5823637 A JP S5823637A
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JP
Japan
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formula
carbon atoms
optionally substituted
group
alkyl group
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Application number
JP57120708A
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English (en)
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ルツツ−フリ−トヤン・テイ−ツエ
ロ−ラント・フイツシヤ−
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Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
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    • C07H15/00Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H15/18Acyclic radicals, substituted by carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H1/00Processes for the preparation of sugar derivatives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
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    • C07H17/04Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、ある種の1,1′−ジアセタール類の予測さ
れない製造方法に関する。 グリコシド類の立体選択的生成は、天然製品の化学にお
いて最も要求される合成の問題の1つである(G、Wu
lffおよびG、Rahle、Angew。 Chem、 86. 173 (1974) ;Ang
ew、 Chem。 Int、Ed、Engl、 13,157’(1974
))。これに関して、】、1−結合二糖類またはイリド
イド−グリコシド類中に存在するような、1.1’−ジ
アセタール構造をもつグリコシド類の合成(L。 −1;’、’l’1etzeおよびU、Niemeye
r、Chem。 Ber、 111.2,423 (1978) ;L、
−F。 Tie tze、 U、 Niemeyer、 P+M
arx、 K、 −H。 Glusenkampおよびり、 Schwenen、
 Tetrahe−dron 36,735(1980
);およびI、、 −F。 Ti e tze、 U、 Niemeyer、 P、
 MarxおよびK。 −1(、Gl usenkamp、 Te t rah
edron 36゜1.231 (1980)、)は、
とくに困難である。 1.1′−ジアセタール構造をもつグリコシド類の立体
選択的合成に、とくに適する、ある種の1.1′−ジア
セタール類の驚ろくべきほどに簡単な合成法が、発見さ
れた。 本発明によれば、一般式 式中 R1およびR1は、同一であるかあるいは異なり、置換
されていてもよい脂肪族の飽和1たは不飽和の炭化水素
基を表わし、R1およびR2は互いに結合することがで
き、 R3は置換されていてもよいアルキル基を表わし、そし
て □ R4は置換されていてもよいO−アルキル基または置換
されていてもよい飽和1たは不飽和の脂肪族基を表わす
、 の1,1′−ジアセタールを製造するにあたり、一般式 式中 R1およびR2は前述の意味を有し、そして R6、R7およびRaは、同一であるかあるいは異なり
、置換されていてもよいアルキル基を表わす、 のシリル化合物を、一般式 %式%() 式中 R3およびR4は前述゛の意味を有し、そして R1は置換されていてもよいアルキルまたはフェニル基
を表わす、 のアセタールと、一般式 式中 R9、R10、R11、R12お↓びR13は、同一で
あるかあるいは異なり、1〜8個の炭素原子を有するア
ルキル基を表わし、そしてXHF5Os、CF m C
Ot、ClO3、BF、、CHaSOsまたはCFs 
(CFt )nsol (式中nは0、i、2.3捷た
は4である)を表わす、 の触媒の存在下に適当な溶媒中で、反応させることを特
徴とする方法、が提供される。 出発物質として使用する式(■)のシリル化合物は、そ
れら自体既知である(なかでもり、Bi−Ann、Ch
em、 739. 185 (1970)参照)。 本発明の方法によって製造される式(T)の好ましい1
,1′−ジアセタール類は、各記号が次の意味を有する
ものである: R1およびR1は、同一であるかあるいは異なり、1〜
6個の炭素原子を有する脂肪族の飽和または不飽和の炭
化水素基((保護された)oH1好1しくけ】〜4個の
炭素原子を有する、0−アルキル、好ましくは1〜4個
の炭素原子を有する、アルコキシカルボニルおよびフェ
ニルから選ばれた1〜6個、特に1〜3個の置換基で置
換されていてもよい)を表わし、あるいは R1およびR1は一緒に、すぐ上に述べたように置換さ
れていてもよい、好ましくは3または4個の炭素原子を
有するアルキレン基を表わし、R11は置換されていて
もよい1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を表わし
、 R″は1〜6個の炭素原子を有する置換されていてもよ
い0−アルキル基、棟たけ1〜6個の炭素原子を有する
置換されていてもよい飽和または不飽和の脂肪族基を表
わす(R’およびR4についての好ましい置換基は、好
今しくはR1およびR1について述べたもの、および)
・ロゲンかう選ばれた、1〜6個、−ことに1〜3個の
置換基である)。 式(m)の好ましい出発物質は、各記号が次の意味を有
するものである: R3およびR4はそれらの基について上に述べた意味を
有し、そして R5は1〜10個、好ましくは1〜6個の炭素原子を有
する置換されていてもよいアルキル基、あるいはハロゲ
ン、ニトロまたは0−アルキル(好ましく1〜4個°の
炭素1q子を有する)で置換されていてもよいフェニル
基を表わす。 式
【)l)の好ましい出発物費は、各記号が次の意味を
有するものである: R1およびR2はこれらの基について上に述べた意味を
有し、そして R6、R?およびR8は、同一であるかあるいは異なり
、1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、ことにメチ
ル基を表わす。 式(TV)または(lの好せしい触媒は、R″、R”、
R”またはR”およびR1aが、同一であるかあるいは
異なり、1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、こと
にメチル基を表わし、そしてXが前述の意味を有し、こ
とにCF、So、を表わすものである。 とくに好壕しくは、基R11、R? 、R8、RGI、
R”XR”、R”オヨ0. R” (7)tヘテtri
 l −f−ル基ヲ表わす。 本発明のとくに好ましい方法において、化合物(II)
は、一般式(Vl) 式中Rl 9〜R”は、同一であるかあるい(徒髭なり
、OH基の保護基を表わす、 の化合物を表わす。 最も好1しくけ、基ORI Q〜OR2′および基CH
t  OR” ”は基本の環系と一緒にグルコースの立
体配置にある。 慣用の保護基、たとえば、アセチル、ベンジルオキシカ
ルボニル、ベンジルまたはトリチルは、前述の(保護さ
れた)OH置換上の適当なOH保誇基である。 この反応を実施するとき、式fn)のシリル化合物を好
ましくは等モル#捷たけ過剰量の式(1旧の化合物と反
鼠させる。好ヰしくけ、式(11)のシリル化合物に関
して約10分の1当量の式(1v)または(V)の触媒
を使用する。 本発明による反応に好ましい溶媒は、CH,CI、、C
HCl1、アセトニトリル、ジエチルエーテル寸たはテ
トラヒドロフランである。 この反応は広い温度範囲、好ましくは一80℃〜100
℃の温度において実施する。この反応を一80℃〜−4
0℃の温度範囲において実施するとき、式(Ilの化合
物はC−1の立体配置を保持して生成し、これに対して
O℃〜100℃において反転が起こる。 実施例 以下の反応式は、下に表にする反応を示す。説明および
表は、式の下の数字を参照する。式は単一化合物を定義
しない場合、個々の化合物は数字および下の場合文字に
より表わされる。それらの個々の化合物の同定は、表1
に示されている。 //′ /′ /′ 、、、、− // 遊離体1      遊離体2 \ 上および下において、使用する略号は次の意味を有する
。 Me =メチル Ac =アセチル Bn =ベンジル ph =フェニル R”#R”は、以後の説明を参照。 生成物 (示した特定の基の意味をもつ遊離体から得られる) (3)H 151R’“ 生成物(3)2よび(4)の製造に使用するアセタール
(2)の代わりに、それぞれアルデヒド(11)および
メチル−トリメチルシリルエーテル(12)を使用でき
るfT、’psunoda et al、、  Tet
rahedronLettprs 1980. 135
7)。 このようにして得られた化合物(3)および(4)の収
率は、表2に記載するものに匹敵するか、あるいはそれ
よりもすぐれる。 R−CHOCHI −0−8i I CH,)。 (n)          (12> Rの例はCH2CnHs、n  CnHt 、CH2O
CH3およびCH,Clである。 一般的手順 2 atの乾燥CH2Cl、中の0.25ミリモルのシ
リル化合物(11,0,25S 17モルのアルデヒド
冒11)および0.35 ミlJ・1−ルのメチルート
1ツメチルエチル−ノリルエーテル(12)の溶液に、
CH,CI 。 中のトリメチルシリル−トリフルオロメタンスルホネー
トの0.1モルの溶液の0.2−を、−70℃で不活性
雰囲気のもとに加える。この混合物を20〜60時間こ
の温度でかきまぜる。この反応eよ、シリカゲルおよび
溶離剤としてヘキサン/酢酸エチル1 : 1 (v/
v)を用いるDC1’ζより監視できる。 たとえば、トリメチルシリルグルツースに基づいて約0
.5モル当葉のアセトンを加えると、アセタール化にお
いて反応速度を有意に増加することができることをさら
に発見した。 反応は、次の手順Vこ従って実施した。 A) ジクロロメタン中のトリメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルホネートの0.1モル溶液の0.21aJ
fi’、3”の無水ジクロロメタン中の0.25ミリモ
ルのシリル化合物11または7)および0.50ミリモ
ルのアセタール12)の溶液に、−70℃で不活性ガス
雰囲気のもとに加え、そしてこの混合物をこの温度にお
いて20〜60時間かき脣ぜる。反応の程程を、シリカ
ゲルの薄−4・クロマトグラフィー(移動相:ヘキサン
/酢酸エチル1:1)によって追跡することができる。 B) ジクロロメタン中のトリメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルホネートの0.1モル溶液の0.1dを、
5II/の無水ジクロロメタン中の0.25ミリモルの
シリル化合物(11および0.50ミリモルのアセター
ル(2)の溶液に、0℃で不活性ガス雰囲気のもとに加
え、そしてこの混合物をこの温度で4〜16時間かきま
ぜる。反応の過程はシリカゲルの薄層クロマトグラフィ
ー(移動相:ヘキサン/酢酸エチル1:l)によシ追跡
することができる。 C) ジクロロメタン中のトリメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルネートの0..1モル溶液の0.2”k、
3−の無水ジクロロメタン中の10511v(0,25
モル)のシリル化合物(1a)および53.0〜(o、
sosリモル)のメチルオルトホルメート(2i)の溶
液に、−30℃で不活性ガス雰囲気のもとに加え、そし
てこの混合物をこの温度にて(1ぼ40時間かき捷ぜる
。仕上げた後、(3h)と(6)との混合物の70WI
gが得られる。 D)  42.1v(0,2ミリモル)の(9)を84
.0IIv(0,2ミリモル)の(1)(α、/混合物
)と、方法C)に従い、反応させる(反応時間6日間)
。 93.8■(89チ)の異性体のグルコシド(10)が
得られる。この生成物を実物との比較により同定する。 仕上げ 反応混合物を仕上げるために、0.IWJのトリエチル
アミンを加え、そしてこの混合物を飽和N a HCO
*溶液とNaC1溶液で洗浄し、Na1SO4/ Na
1CO,(1: 1 )で乾燥する。溶媒を真空蒸発し
た後、得られた生成物はほとんど単一物質から成り、そ
してシリカゲルのクロマトグラフ(−によりさらに精製
できる。 Z)C−1における立体配置を決定するために、テトラ
アセテート類(3および4)を、メタノール/ナトリウ
ムメタノラードを用いて、遊離のグルコシド類に加溶媒
分解した。 下表2に、使用した遊離体、手順、収率、生成物および
それらの特性を示す。 表 2(続き) 1m+2d   B   1−0−(1’−メトキシブ
チル)   51−2 、3 、4 、6−テトラ−0
−アセチルーα−D−グルコビラノ ース(4C) (60MHz 、CDCl、): 0.80−1.60 (m、7H。 2’−H,3’ −H,4’−H)、 1.92 (s 、3H,CHI)、 1.94 (s 、3H,CHI)、 1.96 (s 、3H,CHm)、 2.00 (s 、3H,CHm)、 3.23および3゜34(2@。 3H,OCR,)、3.89− 4.26 (m 、3H,5−H。 6−H)、4.45−5.60 (m j 5HI 1 ’  Hl ]  H1表 2
  (続き) 遊離体 方法    生 成 物    収率篩)Z 
 1−0− (1’ 、3’ 、3’ −トリメトキシ
グロビル) 一α−D−グルコビラノ ース 分  4灯 ’H−NMR(δ=Oppm)        IR計
算値 実測値+100MHz、D6−7七トン/ D、O)  :  1.92−2.1 7  (m 。 2)1.2’−H)、 3.32(s。 6H、OCH,)、3.38も・よび 3.42  (2s  、3H,OCR,)、この下な
いし3.82+m、6H。 6−H)、4.26fs、4H。 Or()、4.49−4.88 (m 、 2H。 1’−H,3’−H)、5,02および5.12(2d
、J=、(,75)(z、)l。 】−H)’ 表 2  (続き) 遊離体 方法    生 成 物    収率(憾)1
a+2f   A   1−0− (1’ 、2’−ジ
メトキ   77シエチル)−2,3,4,6 一チトラー0−アセチルーβ −D−グルコビラノース (3e) 分析 1B−NMRfδ=oppm>    IR計算値 実
1m1l (if(60MHz、CDCl、> : 2.00 (s 、3H,CHI)、 2.02 (s 、3H、CH8)、 2.03 (s 、3H,CHs)、 2.04 (s、3H,cHB)、 3.33−3.47 +m、8H。 2’−H、OCH,j、3.56 −3.s 9 (m 、I H,5−H)、4.07−
4.36 (m、2H。 6−H)、4.70−5.21 (m 、 5H+ 1−Hr 1’−H+表 2 (続
き) ]a+2g   B   1−0− (2’−りl:1
cI−1’    82−メトキシエチル)−2゜ 3.4.6−チトラー0− アセチル−α−D−グルコ ビラノース(4f) Zl−0−(2’−クロロ−1′ 一メトキシエチル)−α−D −グルコビラノース 分  析 イ100MHz、CDCl、):     (フィルム
):1、.98 Is 、3H2CHs)、2980.
29502.01 (s、3B、CHs)、((J()
2.02 (s 、 3H,CH,)、    286
01アセタ2.05 (s、3H,CH,)、   −
ル)17503.37−3.59 (m、5H,+co
)2’−I(、OCR,)、4.01 −4.29 (m、3H,5−H。 6−(3)、4.62−5.58 (m、5H+ l−H+ 1’−H+ 2−H,3−H,4−H) (60MHz、D6−7+トン/ D、01 : 3.33−3.1’+6(m、8H,2
−H+2’−H2 3−H,4−H,5−H,6−H)、 3.50および3.53(2s。 3HIOCHs)、4.25 (s。 4H,OH)、4.56−5.01 (m、IH+ 1’−H)、5.19 および5.21(2d、J= 3.75Hz、IH,1−H)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 式中 R1およびR2は、同一であるかあるいは異なり、置換
    されていてもよい脂肪族の飽和または不飽和の炭化水素
    基を表わし、 R1およびR2は1つの炭素原子を越えて互いに結合す
    ることができ、 Raは置換されていてもよいアルキル基を表わし、そし
    て R′は置換されていてもよい0−アルキル基または置換
    されていてもよい飽和または不飽和の脂肪族基を表わす
    、 の1,1′−ジアセタールを製造するにあたり、一般式 式中 R1′およびR”ti前述の意味を有し、そして R6、R7およびR8は、同一であるかあるいは異なり
    、置換されていてもよい1〜8個の炭素原子のアルギル
    基を表わす、のシリル化合物を、一般式 式中 BBおよびR4は前述の意味を有し、そして Rltは置換されていてもよいアルキルまたはフェニル
    基を表わす、 のアセタールと、一般式 (1 式中 R” 、R10、R” 、R”およびRIBは、同一で
    あるかあるいは異なり、]〜8個の炭素原子を有するア
    ルキル基を表わし、そしてXはFSO3、CF、Co、
    、CIO,SBF、、  ’CHsSOsまたはCF 
    * (CF t ) n  S Q s ’式中nは0
    .1.2.3または4である)を表わす、 の触媒の存在下に適当な溶媒中で、反応させることを特
    徴とする方法。 2、  R1およびR2は、同一であるかあるいは異な
    り、1〜6個の炭素原子を有する脂肪族の飽和または不
    飽和の炭化水素基((保饅された)OH,O−アルキル
    、アルコキシカルボニルおよびフェニルから選ばねた1
    〜6個の置換基で置換されていてもよい)を表わし、あ
    るいはR1およびRtけ一緒に、すぐ上に述べたように
    置換されていてもよい、3また/d 4 イυ1の炭素
    原子を有するアルキレン基を表わし、 R1は1〜6個の炭素原子を有するアルキル基(RIお
    よびR2についてすぐ上に述べた置換基およびハロゲン
    から選ばれた1〜6個の置換基で置換されていてもよい
    )を表わし、 R4は1〜6個の炭素原子を有する置換されていてもよ
    いO−アルキル基、または1〜6個の炭素原子を有する
    飽和または不飽和の脂肪族基(R’およびRtについて
    すぐ上に述べた置換基およびハロゲンから選ばれた1〜
    6個の置換基で置換されていてもよい)を表わす、 式(nの化合物を製造する特許請求の範囲第1項記載の
    方法。 3、  XはCF、So、を表わす特許請求の範囲第1
    または2項記載の方法。 4、R’  、 R) 、 R’  、  R’  、
     R”、R” 、RltおよびR18はメチル基を表わ
    す特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の方法。 5、反応を一80℃〜100℃の温度において実施する
    特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の方法。 6、使用する溶媒はCHt C12、CHe I * 
    1  アセトニトリル、ジエチルエーテルまたはテトラ
    ヒドロフランである特許請求の範囲第1〜5項のいずれ
    かに記載の方法。 7、式(IT)のシリル化合物を等モル量または過剰量
    の式(TI)のアセタールと反応させる特許請求の範囲
    第1〜6項のいずれかに記載の方法。 8、式(U)のシリル化合物に関して約10分の1当量
    の式(rV)または(V)の触媒を加える特許請求の範
    囲第1〜7項のいずれかに記載の方法。 9、実施例により製造された式(Hの化合物のいずれか
    1つに関して実施例に実質的に言己載される特許請求の
    範囲第1項記載の方法。 10、特許請求の範囲第1〜9項のいずれかに記載の方
    法によって製造された特許請求の範囲第1項記載の式(
    ilの1,1′−ジアセタール。
JP57120708A 1981-07-17 1982-07-13 1,1′−ジアセタ−ル類の製造法 Pending JPS5823637A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19813128271 DE3128271A1 (de) 1981-07-17 1981-07-17 Verfahren zur herstellung von 1,1'-diacetalen
DE31282717 1981-07-17

Publications (1)

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JPS5823637A true JPS5823637A (ja) 1983-02-12

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ID=6137128

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JP57120708A Pending JPS5823637A (ja) 1981-07-17 1982-07-13 1,1′−ジアセタ−ル類の製造法

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US (1) US4524202A (ja)
EP (1) EP0070444B1 (ja)
JP (1) JPS5823637A (ja)
AT (1) ATE9477T1 (ja)
DE (2) DE3128271A1 (ja)

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