JPS5831361Y2 - 膜抵抗器 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は膜延抗器に閣するものである。

膜抵抗器は、例えばセラミック基板上に形成され膜抵抗
回路網を構成する一構成素子である。

この実現性の手段として従来良く用いられているのは、
抵抗、膜を印刷技術を用いて前記基板上に形成する方法
や、抵抗膜を前記基板上に形成し、写真蝕刻技術等４を
用いて膜抵抗回路網となす方法等があった。

、。こＡらいずれ？、方法を使用するにしても形成され
た膜抵抗器はその抵抗膜の膜厚の変動および抵抗膜自身
の製造に起因する抵抗率の変動はさけがたいものであっ
た。

このことは、抵抗回路網を寥現す、４ ｊ：、４．！；
は個、夕の１暉抵抗を形成した。

後、に、各々の膜抵抗を所要の抵抗値精度に納めるため
の調部が必要□となるこトを意味している。

さらに、近年になって、装置等の高精度化、高品質化の
要求等（４伴ない膜抵抗回路網も必然的に：高精度な膜
抵抗器を構成素子として含むものが増大している。

このため前記した抵抗膜自体の厚さや抵抗率の変動を吸
収するだけではなく、所要の抵抗値精度内に納める調整
が増加しているのもいなめない。

かよ、うな時代の要求に対し、従来用いられていた膜抵
抗器調整装置は調整機械を人間が作動させる方法が大半
であった。

このため膜抵抗器の調整に多大の時間を要することにな
り、膜抵抗回路網を製造する上で重大な欠点となってい
た。

最近になって、エレクトロニクスの進歩はこのような欠
点に対し一つの解決方法を与えている。

コンピュータ技術の進歩と自動制御技術の進歩は今まで
人間により監視していた膜抵抗器の抵抗値を検出し、と
れを調整装置へと送り出す廁痴信号に変換してなる自動
調整装置の完成に結びついた。

更・に、レーザ等を用いた機械的または熱的調整装置の
出現は膜抵抗器の調、整時間や、短縮に大いなる貢献を
なしたといえよう。

しかしながら、前記自動調整装置はその装置価格が高価
なため、膜抵抗回路網の調整時間を極力短縮する必要が
あるのは明らかであろう。

前記目標を遠戚するため、膜抵抗器の調整方法を検討し
てみると、膜抵抗器には特有の重大な欠点がある；とを
理解するのであろ・う。

すなわち膜抵抗器の調整（よ、一般的に、その幅方向の
抵抗膜を機械的または熱的串たはそρ他の方法で切断し
膜抵抗器の抵抗幅を調整することにより所要の抵抗値に
調整する方法をとっている。

すると、膜抵抗の幅を切断する速度を一定とすれば、切
り進むに従がい、単位時間当りの抵抗値変化は増大する
ため、膜抵抗の所要の精度により膜抵抗器の調整速度す
なわち抵尊膜の切断淳度は制限される。

。このことは調整時間の増大を意味し、調整装置にとっ
て重大な欠点となる。

前記調整速度と膜抵抗精度との関係を図を用□いて詳細
に説明する。

第１図は従来の膜抵抗器の１例の平面嗜である。

膜抵抗器は基板１０の上に導体１１と導体１２とぞの間
に抵抗膜１３を設けることにより構成される。

前記膜抵抗器を切断線１４により抵抗膜１３の端面１５
から切断しながら調整する場合を考える。

１ここ□で膜抵抗１・１３の幅をＷとじて長さをＬとし
、単位面積当り・の抵抗値（以↑この抵抗値全シニト抵
抗と称する）を’Ｒｓとする。

□こめとき調整前の睦抵□抗器の抵抗値Ｒは、
□式（１）より求まる。

ここで膜抵抗器の所要の抵抗値をＲＴとし；精１度を±
ｒＴと・ｆる。

０７鰭線１４の単位時間当りの動く距離を△Ｗ′とする
と、 式（２）を満足す’９ｎが調整時間を表ムしている。

しかし、前記の如く、抵抗膜１３のシート抵抗Ｒ５は製
造条件等で変動するだめ、その最大値をＲ８Ｍとするど
、精度±ｒ□丁から△Ｗ’ｉ、′；１：□； □式
（３）を満足じなければならない。

このため△Ｗはなる式（４）を満足しなければならない
ことになる。

このように抵抗膜１３めシート抵抗に５の最大値’Ｒｓ
Ｊこより調整速度・ゐｆ限・矩″き庇てＣ１うたあＪ膜
抵抗１の調整時間には大ぎθｆ６ｊ１’ｖ’が□あるこ
とにな衣Ｌ′□ざらに第１１・、図□に示し恐゛線量流
１６ｂ如□き電流の□回り込み現象も表１われるため前
記□しまた説明をさち′（ト・複雑なもめ□とし七いる
ン／１１ □′ □本考案は上記欠点を゛除去し、短
時間そ・所要め抵抗精度に調整すること力呵能な膜抵抗
器を提供量る・ものである。

１．１ ・ ・・−・″ 醪本考案は、□絶縁基板上に
導体膜を談は七或も□膜抵抗器におい□で、該膜抵抗器
めに部に抵抗膜幅が伺−で互い１９座きめ異な″る・・
膜□抵抗・部′夢：″少く′とＳ□、も２本数列・に設
け□た並列艙抵゛抗群を具備じ、詠並ウリ膜抵抗群の一
部を抵抗値の調整用としている・ことを特徴とする。

本考案を実施例により説明する。

第２図は本考案の膜抵抗器の第１の実施例の平面図であ
る。

絶縁基板２０上に導体２１と導体２２とを設けその間に
抵抗膜幅Ｗで互に長さの異なる５本の抵抗２３．２４，
２５，２６．２７を設ける。

これらの抵□玩勿〜２７の長さをそれぞれｌ ｒ、 ｌ
２． ｌ ３． ｌ ４． ｌ ５とする。

このときの並列抵抗之３→７の粧抗値Ｒｊは、シート抵
抗Ｒ５とするとき、次式で与えられる。

ここで、各々の抵抗の長さｌ、は、 なる式（６）および式（７）を満足するように形成され
ている。

式（５）５式（６）および弐（７）がら膜抵抗：器は、
その初期値Ｒ１および調整の最大値Ｒ５、およびステッ
プ抵抗変化値Ｒ５Ｔはヰ１れ遁゛□れ：”、 ＩＩ’ｌ
ｌ□’、、’： １１１．ｌ ′Ｉ″ＩＩ’、ｌ□な
る式（８）９式（９）および式（１０）より□楚まる。

また弐山）、□（９）お□よび式（１０）より、 １
□′なる弐・（１１）が成立するごとは容易に癲耐
ｌできよつ。

′ □−□ごあ第′１の実施例め゛
膜抵抗器の鯛黒１よ：以′Ｔ″のように行う。

まず、導体２「と１導体２′２罰の抵抗値ＲＭを側条す
゛るしこの拭絖４ｆｉ、’Ｒ＝”を長’（ｇ’）！こ花
人ｔぞシート抵抗Ｒ５を求めるよシー十抵抗Ｒ５が求ま
れ□ば式（１□０）よりステップ抵玩変化値Ｒ５Ｊ’求
″圭邑がら、膜峨抗盛の所要ア１鉦杭値Ｒ１と精通壬ｒ
’＋ｉｒ）、なる式（１２）を満足する整数ｍを求めれ
ば、並列抵抗２３から２７の内、並列抵抗２７からｍ本
日まで切断すれば調整が終了する。

このように、本考案の第１の実施例の膜抵抗器の調整は
、■回の測定と計算処理により行なわれるため、調整は
きわめて短時間で所要の抵抗値精度に行なえる。

なお、第１の実施例は並列抵抗が５本の例で説明を行な
っているが、これは特に５本である必要はなく、膜抵抗
器の抵抗値および精度や抵抗膜のシート抵抗の変動より
決めるのが良い。

上記第１の実施例は所望の抵抗値が低いときに適してい
る。

第３図は本考案の膜抵抗器の第２の実施例の平面図であ
る。

絶縁基板３０の上に導体３１，３２．３３を設け、導体
３１と３２との間に高抵抗の膜抵抗３４を設け、導体３
２と３３との間に第１の実施例と同様の並列抵抗群３５
を設ける。

このように構成された膜抵抗器は所望の抵抗値が高いと
きに適している。

この膜抵抗器の調査は以下のように行う。

まず導体３１と導体３２間に形成された膜抵抗３４を調
整する膜抵抗３４の調整は連続的でも良いしステップ状
に調整してもよい。

膜抵抗３４の調整値が膜抵抗器の所要の抵抗値Ｒ□およ
び精度±ｒ□の近くに来た段階で膜抵抗３４の調整を中
止し、並列抵抗膜群３５の調整を始める。

並列抵抗膜群は前記の如く群を構成する抵抗を一本切断
する際のステップ抵抗変化値Ｒ５Ｔが既知であるから膜
抵抗３４の調整値と膜抵抗器の所要の抵抗値より容易に
切断本数が決定される。

このように、本考案の第２の実施例は比較的高い抵抗値
の膜抵抗の調整が容易にきわめて短時間で所要の精度内
に納めることができる。

以上詳細に説明した如く、本考案による膜抵抗器を用い
れば、きわめて短時間で所要の抵抗値精度に調整するこ
とが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の膜抵抗器の１例の平面図、第２図は本考
案の膜抵抗器の第１の実施例の平面図、第３図は本考案
の膜抵抗器の第２の実施例の平面図。 １０．２０．３０・・・・・・絶縁基板、１１．１２，
２１．２２，３１．３２゜３３・・・・・・導体、１３
．３４・・・・・・抵抗膜、１４・・・・・・切断線、
１５・・・・・・抵抗膜の側面、１６・・・・・・線電
流、２３．２４，２５，２６゜２７・・・・・・並列抵
抗膜、３５・・・・・・並列抵抗膜群。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 第■の導体と、該第１の導体と離間して配さた第２の導
   体であって該第１の導体と対向する端部が階段状に該第
   １の導体方向に突出した第２の導体と、該第２の導体の
   階段部と該第１の導体との間に並行に設けられかつ長さ
   の異なる複数の膜抵抗部とを有することを特徴とする膜
   抵抗器。