JPS583144A - 静電容量値の変化検出型再生針 - Google Patents
静電容量値の変化検出型再生針Info
- Publication number
- JPS583144A JPS583144A JP10097381A JP10097381A JPS583144A JP S583144 A JPS583144 A JP S583144A JP 10097381 A JP10097381 A JP 10097381A JP 10097381 A JP10097381 A JP 10097381A JP S583144 A JPS583144 A JP S583144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- needle
- metal
- layer
- electrode
- carbide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003068 static effect Effects 0.000 title description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 50
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 27
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 27
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 241001062872 Cleyera japonica Species 0.000 claims 2
- 241001474791 Proboscis Species 0.000 claims 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- -1 hafnium nitride Chemical class 0.000 abstract description 2
- WHJFNYXPKGDKBB-UHFFFAOYSA-N hafnium;methane Chemical compound C.[Hf] WHJFNYXPKGDKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
- G11B9/06—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using record carriers having variable electrical capacitance; Record carriers therefor
- G11B9/07—Heads for reproducing capacitive information
- G11B9/075—Heads for reproducing capacitive information using mechanical contact with record carrier, e.g. by stylus
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
情報信号と対応するピットが両巻状あるいは1lfl心
円状に配夕1jされることによって形成されfC配録跡
を備えてφる情報hピ録媒体円it(ディスク) vC
おける配鱈畦上に4接して、ディスクの情報信号金紗1
谷m値の変化として耽出すことができるような電#Ii
都を端え九靜電容電値の食化慣出型再生−rを使用して
、ディスクのtllHg号の仇出しを行なう静電容量値
の変化検出型の情報口d@再生方式は、光学式、その他
幾多の型式のt′#報記録再生方式に比べて浸れた特徴
を備えて−るために、その実用化研究が推進されて来て
、今や実用化の域にまで引通している。
円状に配夕1jされることによって形成されfC配録跡
を備えてφる情報hピ録媒体円it(ディスク) vC
おける配鱈畦上に4接して、ディスクの情報信号金紗1
谷m値の変化として耽出すことができるような電#Ii
都を端え九靜電容電値の食化慣出型再生−rを使用して
、ディスクのtllHg号の仇出しを行なう静電容量値
の変化検出型の情報口d@再生方式は、光学式、その他
幾多の型式のt′#報記録再生方式に比べて浸れた特徴
を備えて−るために、その実用化研究が推進されて来て
、今や実用化の域にまで引通している。
ところで、靜電容菫値の変化検出型の情報記録杏生方弐
においては、察ディスクからの情報信号の胱出しに尚り
、ディスクが娯内陶を有する形態のもの(矛1図(a)
図)であっても、あるいは案内婢を廟していない形態の
もの(第1図(b)図)であっても、その倒れの形態の
ものであっても、ディスク面と摺接した状態で使用され
る再生針が必要とされるが、再生針は再生動作時にディ
スク面とのf1ソ接によって次fiIK 9粍して行く
から、長期間にわたって再生動作の可能な再生針(長寿
命の再生針)を得るためKは、再生針の素材として耐摩
耗性を有する尚硬度材料(高硬度耐摩耗性祠科)が用い
られなければならないことは消熱である。
においては、察ディスクからの情報信号の胱出しに尚り
、ディスクが娯内陶を有する形態のもの(矛1図(a)
図)であっても、あるいは案内婢を廟していない形態の
もの(第1図(b)図)であっても、その倒れの形態の
ものであっても、ディスク面と摺接した状態で使用され
る再生針が必要とされるが、再生針は再生動作時にディ
スク面とのf1ソ接によって次fiIK 9粍して行く
から、長期間にわたって再生動作の可能な再生針(長寿
命の再生針)を得るためKは、再生針の素材として耐摩
耗性を有する尚硬度材料(高硬度耐摩耗性祠科)が用い
られなければならないことは消熱である。
、1−1図(a) 、 (b)図は#電容倉値の変化検
出型再生針の一例のものの斜視図であって、との第1図
(a)。
出型再生針の一例のものの斜視図であって、との第1図
(a)。
(1))図において1#i耐摩耗性を有する一硬度材料
で作られた再生針本体、2社摺接面、6け[極付層形成
面上に付Nされた電極である。靜電容菫値の変化検出型
再生針は、それの1秦[&I2がディスクDの面に摺接
された状態でディスク面に省f4される電極乙の肩部に
より記録跡中の情@1信号を、仔篭答tmの変化として
挽出すという再生動作を行なうものであるから、再生針
による再生動作が良好に行なわれる丸めには再生針本体
1のIIC他付着形成面に付着された電極3の端部が常
に摺接面2に現われている状態となされていなければな
らず、そのためKは′#L極付着形成面に対して大きな
付肴強I&を以って耐雄耗性を有する電極が付着形成さ
れていることが必要とされる。
で作られた再生針本体、2社摺接面、6け[極付層形成
面上に付Nされた電極である。靜電容菫値の変化検出型
再生針は、それの1秦[&I2がディスクDの面に摺接
された状態でディスク面に省f4される電極乙の肩部に
より記録跡中の情@1信号を、仔篭答tmの変化として
挽出すという再生動作を行なうものであるから、再生針
による再生動作が良好に行なわれる丸めには再生針本体
1のIIC他付着形成面に付着された電極3の端部が常
に摺接面2に現われている状態となされていなければな
らず、そのためKは′#L極付着形成面に対して大きな
付肴強I&を以って耐雄耗性を有する電極が付着形成さ
れていることが必要とされる。
を有する高硬度伺料が便用されていると共に、再生針本
体のt他付涜形成110ic対して大きな付層強度で耐
Jl1粍性を有する電極が付層形成されているものが必
要とされるのであるが、I!it摩耗性を有する高硬度
材料として艮〈知られているダイヤモンドは、それに耐
摩耗性を有する[他物′X會大きな付層強度で付層させ
ることが回着であり、従来、ダイヤモンドを再生針本体
の素材に用いてI#寛容を値の変化検出型再生針を作る
際は、電極材料としてダイヤモンドとの間で比較的に大
酉な付層強度を示すような導電性′a質を選択使用して
導電膜1*涜させるようにしたり、あるいは#、を性物
質をイオン打込法によってダイヤモンド内に注入して4
に+−を形成させるなどの手段が採られて来ている。
体のt他付涜形成110ic対して大きな付層強度で耐
Jl1粍性を有する電極が付層形成されているものが必
要とされるのであるが、I!it摩耗性を有する高硬度
材料として艮〈知られているダイヤモンドは、それに耐
摩耗性を有する[他物′X會大きな付層強度で付層させ
ることが回着であり、従来、ダイヤモンドを再生針本体
の素材に用いてI#寛容を値の変化検出型再生針を作る
際は、電極材料としてダイヤモンドとの間で比較的に大
酉な付層強度を示すような導電性′a質を選択使用して
導電膜1*涜させるようにしたり、あるいは#、を性物
質をイオン打込法によってダイヤモンド内に注入して4
に+−を形成させるなどの手段が採られて来ている。
しかしながら、ダイヤモンドとの間の付7f強度が比較
的に大きな24電物質であると1てS択された例えばハ
フニウム、チタンなどの導電性物質をリング法、もしく
はイオンブレーティング法などのような、いわゆるドラ
イメッキ伝によって4眠性薄膜を付漕形成彎させても、
充分に満足すべきm*耗性を有する電極を得ることは困
瘉であシ、また、導電性物質をイオン打込法によシダイ
ヤモンド内1c′eE人して導電層を形成させても、そ
の導電I−だけKよっては低い電気抵抗値を有する電極
を構成することは内緒であり、イオンの打込与によって
低い電気抵抗値を有する!極を構成させようとすると、
ダイヤモンド結晶に格子欠陥を生じさせてダイヤモンド
がもろくなり、再生針の使用中にダイヤモンドに第2図
G)図に示すような欠けが生じるなどの問題が生じる。
的に大きな24電物質であると1てS択された例えばハ
フニウム、チタンなどの導電性物質をリング法、もしく
はイオンブレーティング法などのような、いわゆるドラ
イメッキ伝によって4眠性薄膜を付漕形成彎させても、
充分に満足すべきm*耗性を有する電極を得ることは困
瘉であシ、また、導電性物質をイオン打込法によシダイ
ヤモンド内1c′eE人して導電層を形成させても、そ
の導電I−だけKよっては低い電気抵抗値を有する電極
を構成することは内緒であり、イオンの打込与によって
低い電気抵抗値を有する!極を構成させようとすると、
ダイヤモンド結晶に格子欠陥を生じさせてダイヤモンド
がもろくなり、再生針の使用中にダイヤモンドに第2図
G)図に示すような欠けが生じるなどの問題が生じる。
また、既述したドライメッキ法によってダイヤモンドに
チタン、あるいはハフニウムのような金属の#磯を付層
させて電極を構成した再生針においては、電極3が軟ら
かな金貞であることKよp。
チタン、あるいはハフニウムのような金属の#磯を付層
させて電極を構成した再生針においては、電極3が軟ら
かな金貞であることKよp。
再生針の使用時Kt極肩端部摩耗して′A−2図0))
図示のような状態となった9、あるいは、電極の構成物
質の金属が比較的低い温度でm−するものであるために
、再生針の使用中に11極とディスクDとの間に生じる
放電圧よって第2図(c)図示のよう〈電極3が損傷さ
れることが起こシ、長寿命な再生針を得ることは困鑓で
あった。
図示のような状態となった9、あるいは、電極の構成物
質の金属が比較的低い温度でm−するものであるために
、再生針の使用中に11極とディスクDとの間に生じる
放電圧よって第2図(c)図示のよう〈電極3が損傷さ
れることが起こシ、長寿命な再生針を得ることは困鑓で
あった。
本発明は、既述した従来の再生針における諸間龜点の生
じない静[芥fi値の変化検出型再生針を提供すること
全目的としてなされたものであり、以下、本発明の峰電
柊瀘値の変化構出型再生針の具体的内容を株付図面を1
照して詳細に説明する。
じない静[芥fi値の変化検出型再生針を提供すること
全目的としてなされたものであり、以下、本発明の峰電
柊瀘値の変化構出型再生針の具体的内容を株付図面を1
照して詳細に説明する。
26図は、本発明の靜翫容t filの変化構出型再生
νtの一実施態体のものの斜視図であり、また、第4図
岐第3図にホす再生針の電極部の構成を下す縦哨4a面
図である。
νtの一実施態体のものの斜視図であり、また、第4図
岐第3図にホす再生針の電極部の構成を下す縦哨4a面
図である。
第3図及び第4図において、Aは再生針本体において電
懐付着形成面が設けられている高M度訂#1托性拐*=
+部分であシ、以下の実施例、では上記の部汁Aとして
ダイヤモンド全相すているものとされている。
懐付着形成面が設けられている高M度訂#1托性拐*=
+部分であシ、以下の実施例、では上記の部汁Aとして
ダイヤモンド全相すているものとされている。
1・6図及び第4図において、BけダイヤモンドAIC
収けられた電極付層形成面4に付層された金属の傅ノー
であり、まだ、0は前記した金属の博ノーB上に刊櫂さ
れた金属の電化物または金属の炭化物の薄層である。
収けられた電極付層形成面4に付層された金属の傅ノー
であり、まだ、0は前記した金属の博ノーB上に刊櫂さ
れた金属の電化物または金属の炭化物の薄層である。
前記した金属の薄層Bを構成するのに用いられる金属と
しては、例えば、チタン、あるいはハフニウムのように
、ダイヤモンドを構成している炭素との間で合金化層を
形成しうるものが用いられる。
しては、例えば、チタン、あるいはハフニウムのように
、ダイヤモンドを構成している炭素との間で合金化層を
形成しうるものが用いられる。
また、前記した金属の41曽B上eこ付着形成される金
属の電化物の薄層0または金属の炭化物の博J曽Cは、
前記した金属の薄層Bt−構成する金属と窒素との化合
物、または前記した金属の薄1mBを構成する金属と炭
素との化合物によって構成されるのであり、前記した金
属の4層Bが例えばチタン、あるいはハフニウムであっ
た場合には、薄層0は窒化チタンまたは電化ハフニウム
、もしくは、炭化チタンまたけ炭化ハフニウムによって
構成されるのである。
属の電化物の薄層0または金属の炭化物の博J曽Cは、
前記した金属の薄層Bt−構成する金属と窒素との化合
物、または前記した金属の薄1mBを構成する金属と炭
素との化合物によって構成されるのであり、前記した金
属の4層Bが例えばチタン、あるいはハフニウムであっ
た場合には、薄層0は窒化チタンまたは電化ハフニウム
、もしくは、炭化チタンまたけ炭化ハフニウムによって
構成されるのである。
そして、このような構成を有する再生針は、ダイヤモン
ドA[おけるvL他付着形成面4に対して、チタン、あ
るいはハフニウムなとの金輌忙、真全蒸溜法、イオンス
パッタリング法、イオンブレーティング法などのような
いわゆるドライAツキ法の適用により薄層Bを形成させ
た仮に、前記の金属の薄層B上に、クイカル番バキュー
ムーデポジット法(OVD法)によシ、前記した金属の
窒化物筐たは炭化物の薄層Oを付着形成させることによ
って容易に製作することができるのである。
ドA[おけるvL他付着形成面4に対して、チタン、あ
るいはハフニウムなとの金輌忙、真全蒸溜法、イオンス
パッタリング法、イオンブレーティング法などのような
いわゆるドライAツキ法の適用により薄層Bを形成させ
た仮に、前記の金属の薄層B上に、クイカル番バキュー
ムーデポジット法(OVD法)によシ、前記した金属の
窒化物筐たは炭化物の薄層Oを付着形成させることによ
って容易に製作することができるのである。
第4図は、ダイヤモンドムにおける電極付着形成面4上
に、いわゆるドライメツ−#法忙よって金属の薄層Bを
付着形成させた後に、前記した金属の薄層B上にOVD
法によって金属の電化物または金属の炭化物の薄層Cを
付層形成させた場合におけるダイヤモンドAと金属の4
J*Bとの付着の態様、及び金属の薄層Bと金属の窒、
化物または炭化物の薄層0との付着の態様を示す図であ
って、この第4図において、Baはダイヤモンドムと金
属との合金層(ダイヤモンドの炭素と金属との共有IJ
i域)であυ、また、第4図中のObは金属と金属の窒
化物または炭化物との合金層(金属と、金属の窒化物ま
たは炭化物との共有領域)1に示している。
に、いわゆるドライメツ−#法忙よって金属の薄層Bを
付着形成させた後に、前記した金属の薄層B上にOVD
法によって金属の電化物または金属の炭化物の薄層Cを
付層形成させた場合におけるダイヤモンドAと金属の4
J*Bとの付着の態様、及び金属の薄層Bと金属の窒、
化物または炭化物の薄層0との付着の態様を示す図であ
って、この第4図において、Baはダイヤモンドムと金
属との合金層(ダイヤモンドの炭素と金属との共有IJ
i域)であυ、また、第4図中のObは金属と金属の窒
化物または炭化物との合金層(金属と、金属の窒化物ま
たは炭化物との共有領域)1に示している。
このように1本発明の再生針においては、ダイヤモンド
ムの電極付層形成面4上に付着形成される電極6が、ダ
イヤ峰ンドムとに対して合金層Baを介して良好な付層
状態を示す金属の澤M4Bと、前記の金属の薄層BK対
して合金層obを介して良好な付層状態を示す金属の窒
化物または炭化物の層0との積層構造として構成されて
φるρ為ら、ダイヤモンドムの電極付層形成面4と電極
6との付層の状態は艮好なものとなされ、再生針の使用
中における電極の剥離を良好に防止できる。
ムの電極付層形成面4上に付着形成される電極6が、ダ
イヤ峰ンドムとに対して合金層Baを介して良好な付層
状態を示す金属の澤M4Bと、前記の金属の薄層BK対
して合金層obを介して良好な付層状態を示す金属の窒
化物または炭化物の層0との積層構造として構成されて
φるρ為ら、ダイヤモンドムの電極付層形成面4と電極
6との付層の状態は艮好なものとなされ、再生針の使用
中における電極の剥離を良好に防止できる。
また、チタンの電化物あるいは炭化物、またはハフニウ
ムのilを化物ある鱒は炭化物などは、何れも良好な導
電性と高融点を有し、かつ、高いI11度を示す物質で
あるから、本発明の再生針の電極は耐J111粍性VC
vkれ、かつ、電極に放電が生じても電極が損湯される
こともなく、長寿命な再生針を容易に提供できる。
ムのilを化物ある鱒は炭化物などは、何れも良好な導
電性と高融点を有し、かつ、高いI11度を示す物質で
あるから、本発明の再生針の電極は耐J111粍性VC
vkれ、かつ、電極に放電が生じても電極が損湯される
こともなく、長寿命な再生針を容易に提供できる。
25図は、本発明の再生針の他の冥施悲様のもののM@
gJIrln図であシ、この第5図に不す再生針では、
ダイヤモンドムにおける電極付層形成面上に1合金層B
aを介して金属の薄層BIi付漕付層、次いで、前記の
金属の薄層B1上に合金/1110b+を介して金属の
電化物または金属の縦化物の薄層01を付着させ、さら
に、合金層Ob!を介して金属の薄層B2を付着させ、
さらに筐た合金層0bsf介して金属の窒化物または炭
化物の薄層02を付着させて宵、極6が構成されている
。
gJIrln図であシ、この第5図に不す再生針では、
ダイヤモンドムにおける電極付層形成面上に1合金層B
aを介して金属の薄層BIi付漕付層、次いで、前記の
金属の薄層B1上に合金/1110b+を介して金属の
電化物または金属の縦化物の薄層01を付着させ、さら
に、合金層Ob!を介して金属の薄層B2を付着させ、
さらに筐た合金層0bsf介して金属の窒化物または炭
化物の薄層02を付着させて宵、極6が構成されている
。
なお、本発明の実施に当っては、金属の薄層Bと金輌の
窒化物または金属の炭化物の薄層0とを、順次交互に多
数回繰火兄し積層して電極6が構成されるようにしても
よいのである。また、電極6の厚さは11E檎6を構成
している積層のノー数とは無関係に所定の値例えば20
00〜60叩オンダストロームになされるべきものであ
る。
窒化物または金属の炭化物の薄層0とを、順次交互に多
数回繰火兄し積層して電極6が構成されるようにしても
よいのである。また、電極6の厚さは11E檎6を構成
している積層のノー数とは無関係に所定の値例えば20
00〜60叩オンダストロームになされるべきものであ
る。
次に、前記した本発明の再生針におけや電極60S分の
製作法の1例について説明する。
製作法の1例について説明する。
まず、素材となるダイヤモンドAの洗浄を完全に行ない
、また、ターゲット及び電子銃内の金属からの漸ガス出
しを行なう。次に1ベルジヤ内のカス出しを光分釦付な
う0次いで、ダイヤモンドAの電極付層形成面に対して
ボンバードまたは逆スパツタを行なって、その面を光分
圧クリーニングする。
、また、ターゲット及び電子銃内の金属からの漸ガス出
しを行なう。次に1ベルジヤ内のカス出しを光分釦付な
う0次いで、ダイヤモンドAの電極付層形成面に対して
ボンバードまたは逆スパツタを行なって、その面を光分
圧クリーニングする。
久いで、ベルジャ内に99.9係以上の純度のアルゴン
ガスを導入して、イオンスパッタリング法またはイオン
ブレーティング法によりチタン、またはハフ;ラムの薄
層をダイヤモンドAに何者形成δせる。
ガスを導入して、イオンスパッタリング法またはイオン
ブレーティング法によりチタン、またはハフ;ラムの薄
層をダイヤモンドAに何者形成δせる。
前記の工程により付層された金属の博/d Bの膜厚が
所冨の1直(種層のノー数によってJ4なるが、50〜
500オングストロームの範曲内の所定の値)となった
時に、依々に@、累ガスまたはアセチレンガスを尋人し
てOVD法による層膜を行ない、膜厚が所定の値1c運
した時に層膜動作を停止すると第4図示のような槓増栴
造の電極6が得られる。
所冨の1直(種層のノー数によってJ4なるが、50〜
500オングストロームの範曲内の所定の値)となった
時に、依々に@、累ガスまたはアセチレンガスを尋人し
てOVD法による層膜を行ない、膜厚が所定の値1c運
した時に層膜動作を停止すると第4図示のような槓増栴
造の電極6が得られる。
また、前記したアルゴンガス林囲気中における層膜動作
と、i1累ガスあるいはアセチレンガス4曲気中におけ
るN膜励作とを、順次交互に複数回m返えすことによp
1金為の樗JIBと金−の電化gtJ箇たは炭化物の薄
層とが銅久父!Lに積層された状態の一億6が傅られる
ことは明ら〃為である。
と、i1累ガスあるいはアセチレンガス4曲気中におけ
るN膜励作とを、順次交互に複数回m返えすことによp
1金為の樗JIBと金−の電化gtJ箇たは炭化物の薄
層とが銅久父!Lに積層された状態の一億6が傅られる
ことは明ら〃為である。
金−の窒化物または炭化物の薄層とが順次交互に種層さ
れた状態の電極6が侍られることは明らかである。
れた状態の電極6が侍られることは明らかである。
金属の窒化物または炭化物の結晶は柱状Mj晶となるか
ら、金属の窒化物または炭化物の薄層0は摩札に対して
は強くても剥離に対して問題の生じることがあるが、′
#を憧6が多層栴造となされることにより、 JjTT
紀の問題は良好に解決されうる。
ら、金属の窒化物または炭化物の薄層0は摩札に対して
は強くても剥離に対して問題の生じることがあるが、′
#を憧6が多層栴造となされることにより、 JjTT
紀の問題は良好に解決されうる。
以上、詳細に説明したところから刷らルなように、本発
明の静電容重値の変化供出型再生針は、再生針本体にお
ける高11iI!置酎筆耗性材料の部分に設けられた電
極付層形成面に、剥離し帷く、かつ、耐摩耗性1C浚れ
、かつ、放電によっても横部し−い構成の電極を構成さ
せ得ることができるので、本発明によれば既述した従来
の再生針における諸欠点がすべて良好に解消された再生
針を容易に提供することができる。
明の静電容重値の変化供出型再生針は、再生針本体にお
ける高11iI!置酎筆耗性材料の部分に設けられた電
極付層形成面に、剥離し帷く、かつ、耐摩耗性1C浚れ
、かつ、放電によっても横部し−い構成の電極を構成さ
せ得ることができるので、本発明によれば既述した従来
の再生針における諸欠点がすべて良好に解消された再生
針を容易に提供することができる。
第1図Ca) 、 (+))図は靜嘔答皺僅の裳化演出
型再生針の斜視図、第2図(ω〜(0)図は従来の再生
針の問題点?I−説明するための阿生針の斜視図、第6
図は本発明の再生針の一実aaatt−ボす斜視図、第
4図及び第5図は本発明の再生針の各異なる実施態様の
もののll1c憔部分の構成?r:ボすための叫生針の
縦断11411面図である。 ム・・・ダイヤモンド、B、Bl、Ba・・・金栖の4
ノー、0 、01.02・・・金属の窒化物または炭化
物の薄層、Ba 、 Bat 、 Ob 、 Obt
〜Obs ・−合金層、特許出願人 日本ビクター株式
会社 手続補正書(自発) 昭和56年12月7 日 特許庁長官島田春樹殿 静電容量値の変化検出型再生針 3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 4、代理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄I
補正の内容 明細書オ8頁第18行「バキュー4」
を「ベーノや−」に補正する。
型再生針の斜視図、第2図(ω〜(0)図は従来の再生
針の問題点?I−説明するための阿生針の斜視図、第6
図は本発明の再生針の一実aaatt−ボす斜視図、第
4図及び第5図は本発明の再生針の各異なる実施態様の
もののll1c憔部分の構成?r:ボすための叫生針の
縦断11411面図である。 ム・・・ダイヤモンド、B、Bl、Ba・・・金栖の4
ノー、0 、01.02・・・金属の窒化物または炭化
物の薄層、Ba 、 Bat 、 Ob 、 Obt
〜Obs ・−合金層、特許出願人 日本ビクター株式
会社 手続補正書(自発) 昭和56年12月7 日 特許庁長官島田春樹殿 静電容量値の変化検出型再生針 3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 4、代理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄I
補正の内容 明細書オ8頁第18行「バキュー4」
を「ベーノや−」に補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、情報信号と対応するビットの配列によって形成され
た記録跡を有する情報記録媒体円盤における記録跡に摺
接し、前記の記録跡中の情報信号を静電容量値の変化に
応じた11気肯の変化として取出しつるような電極部を
備えている静電容量値の変化検出型再生針であって、再
生針本体における4層硬度耐摩耗性材料の部分圧設けら
れた電挽付着形成面に、前記した/IaJ硬度制摩れ軽
材料の榊成物質と合金化する金属の薄層を合金層を介し
て付層1−を合金層を介して付層形成させて電慣部を榊
成した静電容量値の変化検出型再生針 2、再生針本体における高硬度耐摩耗性材料の部分に設
けられた電極付層形成面上に金属の4層と。 その金属の電化吻ま九は炭化物の薄層とが順次父互に核
数層設けられてt他部を構成してなる特許請求の範囲第
1項記載の静電容量イ1の変化検出型再生針 &再生針本体における高ii1!度耐摩枕性材料として
ダイヤモンドを用いた特許請求の範17111第1項1
載の#寛容tgの変化検出型再生針 4、電惚都に用いられる金属がチタンまたはハ7ニウム
である特許請求の範囲第1項記載の靜電答jll値の変
化検出型再生針
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10097381A JPS583144A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 静電容量値の変化検出型再生針 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10097381A JPS583144A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 静電容量値の変化検出型再生針 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583144A true JPS583144A (ja) | 1983-01-08 |
Family
ID=14288286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10097381A Pending JPS583144A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | 静電容量値の変化検出型再生針 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583144A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6184474A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Toyota Motor Corp | 自動変速機の油圧制御装置 |
| EP0884557A3 (en) * | 1997-06-09 | 1999-08-04 | Hewlett-Packard Company | Conductive micro-probe and memory device |
-
1981
- 1981-06-29 JP JP10097381A patent/JPS583144A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6184474A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Toyota Motor Corp | 自動変速機の油圧制御装置 |
| EP0884557A3 (en) * | 1997-06-09 | 1999-08-04 | Hewlett-Packard Company | Conductive micro-probe and memory device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2572745B2 (ja) | 耐摩耗・耐腐触性の磁気記録膜の作成方法 | |
| EP0584707A2 (en) | Laminate and wear-resistant thin-film magnetic head assembly formed thereon | |
| JPS583144A (ja) | 静電容量値の変化検出型再生針 | |
| JPS6250887B2 (ja) | ||
| JPS62122714A (ja) | 精密成形用複製金型 | |
| CN109722637B (zh) | 润滑涂层及其制备方法 | |
| WO1982004158A1 (fr) | Support d'enregistrement magnetique | |
| JPS62183022A (ja) | 耐摩耗性磁気記録体 | |
| EP0399747A3 (en) | Substrate used for magnetic disk and magnetic recording medium using the substrate | |
| JPH0490125A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPS61216109A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH07129924A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0336021A (ja) | 高硬度スタンパ及びその製造方法 | |
| JPS57169944A (en) | Recording or reproducing element | |
| JPS6470917A (en) | Recording medium | |
| JPH0256712A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS6057533A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0464920A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の炭素質保護膜およびその成膜方法 | |
| JPS61211807A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6151619A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2955639B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS6256571B2 (ja) | ||
| JPS6242330B2 (ja) | ||
| JPS62293511A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2785650B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用保護層 |